JPH11281576A - 結晶内のフォトルミネッセンス計測装置 - Google Patents
結晶内のフォトルミネッセンス計測装置Info
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- JPH11281576A JPH11281576A JP37507698A JP37507698A JPH11281576A JP H11281576 A JPH11281576 A JP H11281576A JP 37507698 A JP37507698 A JP 37507698A JP 37507698 A JP37507698 A JP 37507698A JP H11281576 A JPH11281576 A JP H11281576A
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Abstract
ス計測装置を提供する。 【解決手段】レーザ投射光学系1と、レーザ光2を直径
3〜20μに絞る集光レンズ4と、前記レーザ光2によ
る前記被検体結晶3内の発生光を受光する対物レンズ5
及び結像レンズ7及び撮像素子8からなる受光光学系9
と、前記対物レンズ5と前記結像レンズ7の間に設けた
蛍光のみを透過させる狭帯域透過フィルタ6と、前記撮
像素子8からの画像情報を処理する画像処理装置10
と、必要な情報を制御するコンピュータ11と、前記レ
ーザ投射光学系1を取付けたレーザ移動ステージ13及
び前記被検体結晶3を取付けた被検物体移動ステージ1
4と、該レーザ移動ステージ13及び該被検物体移動ス
テージ14の移動を制御するステージコントローラ12
とからなる。
Description
からなる被検体結晶のフォトルミネッセンス計測装置に
関する。
定をする方法としては、フォトルミネッセンス(photolu
minescence) 測定法がある。シリコン(Si)給晶の場合、
アルゴンAr(488.514nm) あるいはヘリウムリオンHe
−Neレーザ(633nm) を用いたフォトルミネッセンス法
が知られている。図1は、このようなArまたはHe−
Neレーザ光Aを被検体結晶Bに上方から投射し、発生
する蛍光を顕微鏡下で分光測定する従来技術にかかるフ
ォトルミネッセンス測定器を示す。図1において、水平
方向から投射されたArまたはHe−Neレーザ光Aは
ハーフミラーCによって90度方向を変えられ、対物レ
ンズDによって被検体結晶B上に集光する。被検体結晶
Bに投射されたレーザ光Aによって励起された発光セン
ターが発する蛍光はハーフミラーCを上方に透過し、分
光器Eに設けられたピンホールまたはスリットFに結像
レンズGにより結像し、分光器E内に設けられた回折格
子Hによって回折した蛍光はピンホールまたはスリット
Nより受光素子Iに導かれ、その周波数分布に従って素
子上に分布する。制御コンピュータJは受光素子Iの受
光像を解析するとともに、ステージコントローラKを制
御し、被検体結晶Bを2次元的に動かして発生する蛍光
の分布を画像表示装置Lに表示する。Mはステージであ
る。フォトルミネッセンス法に関する他の先行技術とし
ては、レーザによって欠陥の散乱像あるいは蛍光像を得
るものとして、特開昭54−109488号、特開昭6
2−119446号各公報等がある。また、YAGレー
ザによってシリコン結晶内の欠陥の散乱像を得るものと
して、特開昭61−21365号公報がある。また、関
連技術としてK. Moriya and T. ogawa, Jpn.J.Appl.Phy
s., 22(1983)L207、特開平1−182739号公報、特
開平2−203254号公報、特開平1−314953
号公報、特開昭61−76939号公報、特開昭63−
221234号公報、特開平3−269347号公報、
特開平3−29336号公報、特開昭53−12037
0号公報、特開昭63−18250号公報がある。
ォトルミネッセンス計測法は、Ar・He−Neレーザ
Aを被検体結晶Bに上方から照射することによって行な
われているが、これらのレーザ光源は波長が比較的短
く、結晶内部に十分到達することができないため結晶表
面近傍(約1〜2μ)しか測定できない。また、結晶の
表面では表面再結合準位(Surface Recombination Cente
r)が生じており、本来の結晶内部構造とは異なる状態と
なっている。従って、表面近傍の測定しかできない従来
技術では正確な結晶内部物性の測定は期待できない。ま
た、被検体結晶Bがシリコン結晶であるときは、IG(I
ntrinsic Gettering) 処理等が施されているから、ウエ
ハの深さ方向に欠陥が分布している。このような深さ方
向の欠陥の分布測定は、結晶を劈開して断面形状を観察
しても、やはり断面の影響が出てしまい、正確な測定は
できない。そこで、本願発明は、結晶の内部まで測定で
きるフォトルミネッセンス計測装置を提供するものであ
る。また、前記フォトルミネッセンス計測法において
は、発光粒子の放射寿命((Life Time) を測定すること
が重要である。放射寿命の測定は、通常は、図2に示す
ように、投射光としてパルスレーザあるいは、パルス光
源を用い、受光したパルス光の減衰状況を評価すること
によって行なわれるのが一般的である。また、放射寿命
の他の測定方法として、励起エネルギーとして半導体レ
ーザ光を入射し、マイクロウェーブによって励起子の減
衰を観察する方法もある。しかし、パルスレーザを用い
た測定系は複雑、高価である。また、結晶内部まで到達
するような吸収の少ない励起光によって発生する蛍光
は、極めて暗いので、測定可能な強度の蛍光を得ようと
すれば尖頭値(エネルギー強度)の高いパルスレーザを
使用せねばならず、結晶そのものにダメージを与えるお
それがある。そこで、本願発明は、パルスレーザ源を使
用せずに蛍光の寿命測定を行ない得る装置を提供するこ
とにある。また、図1に示す従来例では、観察用光学系
で波長分散型の分光器Eを使用しているが、分光器Eは
暗く、微弱な蛍光の測定には不向きである。また、光学
系としても高価で規模的に大きくなる。そこで、本願発
明は分光器Eを使用せず、簡略な光学系で測定可能なフ
ォトルミネッセンス測定器を提供することにある。
aとこれと直交する入射側面3bを有する被検体結晶3
と、該被検体結晶3に対して前記入射側面3bから水平
に内部に入射するか又は前記結晶表面3aに対して前記
結晶表面3aから斜めの角度で内部に入射する結晶内透
過可能な波長のレーザ光2を発生するレーザ投射光学系
1と、前記レーザ光2を直径3〜20μに絞る集光レン
ズ4と、前記レーザ光2による前記被検体結晶3内の発
生光を受光する対物レンズ5及び結像レンズ7及び撮像
素子8からなる受光光学系9と、前記対物レンズ5と前
記結像レンズ7の間に設けた蛍光のみを透過させる帯域
透過特性を備えた狭帯域透過フィルタ6と、前記撮像素
子8からの画像情報を処理する画像処理装置10と、必
要な情報を制御するコンピュータ11と、前記レーザ投
射光学系1を取付けたレーザ移動ステージ13及び前記
被検体結晶3を取付けた被検物体移動ステージ14と、
該レーザ移動ステージ13及び該被検物体移動ステージ
14の移動を制御するステージコントローラ12とから
なる結晶内のフォトルミネッセンス計測装置としたもの
である。また、前記レーザ投射光学系1内には偏光素子
15を、前記受光光学系9内には偏光素子16を設けた
フォトルミネッセンス計測装置としたものである。
おいて、1はレーザ光2を水平に照射するレーザ投射光
学系であり、後述する偏光素子15と集光レンズ4を有
する。3は被検体結晶、3aは被検体結晶3の結晶表
面、3bはこれと直交する入射側面である。被検体結晶
3の結晶表面3a上には対物レンズ5を、間隔を置いて
結像レンズ7を設け、対物レンズ5と結像レンズ7の間
に帯域透過特性を備えた狭帯域透過フィルタ6と偏光素
子16とを設け、結像レンズ7によって結像する位置に
撮像素子8を設ける。9は受光光学系、10は撮像素子
8によってピックアップされた画像情報を処理する画像
処理装置、11は必要な情報を制御するコンピュータで
ある。前記レーザ投射光学系1はレーザ移動ステージ1
3上に載置され、前記被検体結晶3は被検体結晶移動ス
テージ14上に載置され、レーザ移動ステージ13及び
被検体結晶移動ステージ14はステージコントローラ1
2で制御される。
ズ4、対物レンズ5、結像レンズ7、狭帯域透過フィル
タ6、撮像素子8、画像処理装置10、コンピュータ1
1、レーザ移動ステージ13、被検体結晶移動ステージ
14、ステージコントローラ12、偏光素子15、16
は図3と同様であるが、レーザ投射光学系1と被検体結
晶3は相違する。即ち、レーザ投射光学系1は被検体結
晶3に対して、結晶表面3aから観測する場合の例で、
入射角60〜77度(θ=13〜30度)で入射し、結
晶表面3aで下方に屈折し、屈折角(α)16度程度で
結晶内部に進入する。入射したレーザ光2の一部の成分
は結晶表面で反射するから、この反射光が撮像素子8に
入らないような方向(β=10〜35度)から観察する
ように構成する。
光2を直径3〜20μに絞って集光する。前記狭帯域透
過フィルタ6は、被検体結晶3内で投射レーザ光2によ
って励起されたキャリアが発生する蛍光のみを散乱光か
ら選択、透過せしめる峡帯域特性を有する。シリコンの
場合、発生する蛍光の波長は0.9〜2ミクロンである
から、前記狭帯域透過フィルタ6はこの帯域に対して透
過特性を有していればよい。
のレーザ移動ステージ13、あるいは被検体結晶3を移
動させるための被検体結晶移動ステージ14を制御する
ステージコントローラで、蛍光の発光状態を2次元的に
観察するためにステージコントローラ12がレーザ光源
2と被検体結晶3の位置を2次元的に制御し、得られた
画像情報から2次元的な撮像情報を解析する。
させる前記偏光素子15、あるいは受光される散乱光を
偏光させる前記偏光素子16は、回転させて所要の偏光
状態を得ることによって発生する蛍光の偏光依存性を調
べることができる。偏光素子15、16を調整して散乱
強度の最も小さくなる方位に合わせれば、微弱な蛍光を
検出し易くすることができる。図3の例では、紙面に平
行な偏光方向(電界方向)のとき、微小析出物(直径<
λ/10 )からの散乱強度が小さくなる。なお、散乱光と
蛍光では偏光依存性が異なる。一般に、散乱光は方向依
存性が強いが、蛍光は方向依存性か低い傾向がある。従
って、蛍光を観察するときには散乱光の弱くなる偏光方
向に設定し、散乱光を観察するときには強くなる偏光方
向とすれば、適切な測定をすることができる。
6の表面には、干渉膜が塗布されており、狭帯域透過フ
ィルタ6を適宜回転させれば、みかけ上干渉膜厚さが変
り、透過中心波長を可変とすることができる。従って、
狭帯域透過フィルタ6面と光軸との角度を変化させれ
ば、透過中心波長を変化させることができるので、蛍光
の発生状態の波長依存性を調べることができる。対物レ
ンズ5として、無限遠補正したものを用いれば、対物レ
ンズ5と結像レンズ7の間は平行ビームとなり(図4で
は省略)、干渉狭帯域透過フィルタ6を入れるのに都合
がよい。また、干渉狭帯域透過フィルタ6を傾けても、
像の横ずれは起こらない。図7は干渉狭帯域透過フィル
タ6を光軸に対して傾けた場合の透過光の中心波長の変
化を示す図、図8は中心波長を変化させた場合のピーク
透過率及び半値幅の変化の様子を示す図である。なお、
波長可変レーザを用いれば、容易に蛍光の波長依存佐を
測定できることは当然である。
た際の、蛍光の発生状態を模式的に示した図である。図
6は発生した蛍光の広がり(L)及び蛍光の強度(I)
を、横軸に被検物表面からのレーザ光の進入深さを取っ
て示した図であり、このL、Iを結晶表面からの深さの
関数として求めることによって、励起キャリアの寿命(L
ife Time) を深さの関数として評価することができる。
ここで、蛍光像の広がり(L)は蛍光強度が1/eにな
る位置等によって計算する。
は、アインシュタインの関係式より、次のように表わさ
れる。 Dn=μekBT/e, Dp=μpkBT/e kBはボルツマン定数、Tは温度、eは電荷、μe は電子
の移動度、μp は正孔の移動度である。また、少数キャ
リアの再結合寿命(τ)は次式で与えられる。 τ-1=Nr・S・vth ここに、Nrは再結合中心の密度、Sは捕獲断面積、v
thは少数キャリアの熱速度である。結論として、励起さ
れた少数キャリアが距離R進むとその存在確率は、 EXP(−R/M) となる。ここで、キャリアの拡散距離(M)と再結合寿
命(τ)の間には、 M=√(Dn τ) の関係があるから、蛍光強度分布の広がり(L)か測定
できればキャリアの拡散距離(M)が求まる。即ち、蛍
光強度が1/eになる位置がMに相当する。
る入射側面3bを有する被検体結晶3と、該被検体結晶
3に対して前記入射側面3bから水平に内部に入射する
か又は前記結晶表面3aに対して前記結晶表面3aから
斜めの角度で内部に入射する結晶内透過可能な波長のレ
ーザ光2を発生するレーザ投射光学系1と、前記レーザ
光2を直径3〜20μに絞る集光レンズ4と、前記レー
ザ光2による前記被検体結晶3内の発生光を受光する対
物レンズ5及び結像レンズ7及び撮像素子8からなる受
光光学系9と、前記対物レンズ5と前記結像レンズ7の
間に設けた蛍光のみを透過させる帯域透過特性を備えた
狭帯域透過フィルタ6と、前記撮像素子8からの画像情
報を処理する画像処理装置10と、必要な情報を制御す
るコンピュータ11と、前記レーザ投射光学系1を取付
けたレーザ移動ステージ13及び前記被検体結晶3を取
付けた被検物体移動ステージ14と、該レーザ移動ステ
ージ13及び該被検物体移動ステージ14の移動を制御
するステージコントローラ12とからなる結晶内のフォ
トルミネッセンス計測装置としたから、結晶表面3aと
これと直交する入射側面3bから水平に内部に入射させ
るか又は前記結晶表面3aに対して前記結晶表面3aか
ら斜めの角度で内部に入射させ、かつ結晶内透過可能な
波長のレーザ光2を用いたので、結晶内によく透過し、
内部の観察が良好に行なえる。また、前記レーザ光2は
直径3〜20μに絞って集光してあるので、蛍光をよく
観察できる。また、発生光を受光する対物レンズ5と結
像レンズ7の間に蛍光のみを透過させる帯域透過特性を
備えた狭帯域透過フィルタ6を設けたから、蛍光を良好
に観察できる。また、前記レーザ投射光学系1を取付け
たレーザ移動ステージ13及び前記被検体結晶3を取付
けた被検物体移動ステージ14と、該レーザ移動ステー
ジ13及び該被検物体移動ステージ14の移動を制御す
るステージコントローラ12を有するから、レーザ投射
光学系1と被検体結晶3を2次元に移動させることによ
り、2次元に観察できる。また、レーザ投射光学系1内
には偏光素子15を、前記受光光学系9内には偏光素子
16を設けたから、偏光素子15、16を回転させて所
要の偏光状態を得ることによって発生する蛍光の偏光依
存性を調べることができる。
を示す説明図。
変化を示す図。
透過率、半値幅の相関を示す図。
晶、3a…被検体結晶3の結晶表面、3b…側面、4…
集光レンズ、5…対物レンズ、6…狭帯域透過フィル
タ、7…結像レンズ、8…撮像素子、9…受光光学系、
10…画像処理装置、11…コンピュータ、12…ステ
ージコントローラ、13…レーザ移動ステージ、14…
被検体結晶移動ステージ、15、16…偏光素子。
Claims (2)
- 【請求項1】 結晶表面3aとこれと直交する入射側面
3bを有する被検体結晶3と、該被検体結晶3に対して
前記入射側面3bから水平に内部に入射するか又は前記
結晶表面3aに対して前記結晶表面3aから斜めの角度
で内部に入射する結晶内透過可能な波長のレーザ光2を
発生するレーザ投射光学系1と、前記レーザ光2を直径
3〜20μに絞る集光レンズ4と、前記レーザ光2によ
る前記被検体結晶3内の発生光を受光する対物レンズ5
及び結像レンズ7及び撮像素子8からなる受光光学系9
と、前記対物レンズ5と前記結像レンズ7の間に設けた
蛍光のみを透過させる帯域透過特性を備えた狭帯域透過
フィルタ6と、前記撮像素子8からの画像情報を処理す
る画像処理装置10と、必要な情報を制御するコンピュ
ータ11と、前記レーザ投射光学系1を取付けたレーザ
移動ステージ13及び前記被検体結晶3を取付けた被検
物体移動ステージ14と、該レーザ移動ステージ13及
び該被検物体移動ステージ14の移動を制御するステー
ジコントローラ12とからなる結晶内のフォトルミネッ
センス計測装置。 - 【請求項2】 請求項1において、前記レーザ投射光学
系1内には偏光素子15を、前記受光光学系9内には偏
光素子16を設けたフォトルミネッセンス計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP37507698A JP3275022B2 (ja) | 1998-12-11 | 1998-12-11 | 結晶内のフォトルミネッセンス計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP37507698A JP3275022B2 (ja) | 1998-12-11 | 1998-12-11 | 結晶内のフォトルミネッセンス計測装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Family Applications (1)
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JP37507698A Expired - Fee Related JP3275022B2 (ja) | 1998-12-11 | 1998-12-11 | 結晶内のフォトルミネッセンス計測装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3275022B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002181710A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 蛍光検出測定装置 |
CN111504958A (zh) * | 2020-03-09 | 2020-08-07 | 哈尔滨工业大学 | 一种软脆光学晶体加工表层荧光性缺陷检测方法 |
CN113720773A (zh) * | 2020-07-30 | 2021-11-30 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 激光晶体的检测装置、系统、方法及图像处理方法 |
CN114235836A (zh) * | 2021-12-16 | 2022-03-25 | 深圳市壹倍科技有限公司 | 一种用于半导体缺陷检测的系统 |
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---|---|---|---|---|
TWI662273B (zh) * | 2018-08-20 | 2019-06-11 | 友達晶材股份有限公司 | 缺陷檢測設備及缺陷檢測方法 |
-
1998
- 1998-12-11 JP JP37507698A patent/JP3275022B2/ja not_active Expired - Fee Related
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