JPH11277451A - Polishing body - Google Patents

Polishing body

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Publication number
JPH11277451A
JPH11277451A JP7943698A JP7943698A JPH11277451A JP H11277451 A JPH11277451 A JP H11277451A JP 7943698 A JP7943698 A JP 7943698A JP 7943698 A JP7943698 A JP 7943698A JP H11277451 A JPH11277451 A JP H11277451A
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JP
Japan
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polishing
binder
ultraviolet rays
polishing layer
pattern
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7943698A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Ryomo
克己 両毛
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP7943698A priority Critical patent/JPH11277451A/en
Publication of JPH11277451A publication Critical patent/JPH11277451A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the polishing force while easily forming fine recessed and projecting parts by including the ultraviolet rays hardening resin at a specified weight percentage or more of the total quantity of the binder in the binder, and radiating the ultraviolet rays. SOLUTION: A polishing layer formed by distributing the polishing agent fine powder such as aluminum in the binder is provided on a flexible support formed of a polyester film. The binder of this polishing layer includes the ultraviolet rays hardening resin at 50 wt.% or more of the total of the binder, and the ultraviolet rays hardening resin is hardened by irradiation with the ultraviolet rays. Irradiation of the polishing layer formed on the support with the ultraviolet rays is performed over the whole surface, or performed with a pattern. As a pattern, a two-dimensional pattern or three-dimensional pattern of stripe, checkers, pyramid shape, conical shape is performed. At the time of partially hardening the polishing layer with the irradiation with the ultraviolet rays, a part, which is not hardened, is eliminated by melting, and fine recessed and projecting pattern of various shape is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨剤をバインダ
ーに分散してなる研磨層を可撓性支持体上に設けてな
り、光コネクターフェルール端面、ハードディスク基
板、シリコンウエハー、磁気ディスク、磁気テープ、磁
気ヘッド(オーディオ、ビデオ、コンピューター、デー
タ記録用)、MR磁気ヘッドの研磨等の用途に用いられ
る研磨体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing layer comprising an abrasive dispersed in a binder, provided on a flexible support, and comprising an end face of an optical connector ferrule, a hard disk substrate, a silicon wafer, a magnetic disk, and a magnetic tape. And a magnetic head (for audio, video, computer, and data recording), and a polishing body used for polishing of an MR magnetic head.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、一般の研磨体における研磨層
表面は平滑であり、被研磨体としての光コネクターフェ
ルール端面等を、上記研磨体、研磨スラリーを用いて研
磨しているが、異種材質を研磨するため端面における研
磨量などにおいて必ずしも十分な結果が得られていな
い。
2. Description of the Related Art Conventionally, the surface of a polishing layer in a general polishing body has been smooth, and the end face of an optical connector ferrule or the like as an object to be polished has been polished using the above polishing body and polishing slurry. However, a sufficient result is not necessarily obtained in terms of the amount of polishing at the end face, etc.

【0003】また、研磨テープ等の研磨体の研磨層表面
を整形して微細な凹凸を形成し、研磨において発生する
磨耗粉を上記凹部内に捕集するようにしたものがある
が、生産や形状の自由な制御が容易でなかった。
[0003] In addition, there is a type in which a polishing layer surface of a polishing body such as a polishing tape is shaped to form fine irregularities, and abrasion powder generated during polishing is collected in the concave portion. Free control of the shape was not easy.

【0004】一例としては、特開平3−202281号
に、可撓性支持体上に研磨層を形成した後、この研磨層
の表面を紫外線レーザ等の紫外線を照射してエッチング
し、微細凹凸パターンを形成した研磨テープが開示され
ている。
[0004] As an example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 3-202281 discloses that after forming a polishing layer on a flexible support, the surface of the polishing layer is etched by irradiating the surface of the polishing layer with an ultraviolet ray such as an ultraviolet laser. Is disclosed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、研磨具とし
ての砥石では、研磨を行うと砥粒が脱落して新しい砥粒
面が露出して目詰まりを解消し研磨力を維持するもので
あるが、研磨テープ、研磨シート等の研磨剤微粒子を樹
脂バインダーで分散固定してなる研磨体では、目詰まり
が発生すると研磨力が低下して使用できなくなる問題を
有する。
By the way, in a grindstone as a polishing tool, when polishing is performed, abrasive grains fall off, a new abrasive grain surface is exposed, clogging is eliminated, and polishing power is maintained. In a polishing body in which fine abrasive particles such as a polishing tape and a polishing sheet are dispersed and fixed with a resin binder, when clogging occurs, there is a problem that a polishing force is reduced and the polishing body cannot be used.

【0006】そこで、本発明は上記点に鑑みなされたも
のであって、可撓性支持体上に研磨剤微粉末とバインダ
ーからなる研磨層を設けてなる研磨テープ、研磨シート
等の研磨体における研磨力を維持できるようにした研磨
体を提供せんとするものである。
Accordingly, the present invention has been made in view of the above points, and is intended to provide a polishing body such as a polishing tape or a polishing sheet having a polishing support comprising a fine powder of an abrasive and a binder provided on a flexible support. An object of the present invention is to provide a polishing body capable of maintaining a polishing force.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体は、研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けてなり、前記バインダーが紫
外線硬化樹脂をバインダー総量の50重量%以上含み、
紫外線を照射してなることを特徴とするものである。
A polishing body according to the present invention which has solved the above-mentioned problems comprises a polishing layer comprising fine abrasive powder and a binder provided on a flexible support, wherein the binder is made of an ultraviolet curable resin. Containing 50% by weight or more of the total amount of the binder,
It is characterized by being irradiated with ultraviolet rays.

【0008】また、前記紫外線硬化樹脂によるバインダ
ーを含む研磨層表面に、紫外線で模様のあるパターンを
照射するのが好ましい。その際、前記紫外線で硬化した
部分以外の研磨層表面を除去して、例えばピラミッド状
の立体形状の模様を浮き立たせるのが好適である。
It is preferable that the surface of the polishing layer containing the binder made of the ultraviolet curing resin is irradiated with a pattern having a pattern by ultraviolet rays. At this time, it is preferable that the surface of the polishing layer other than the portion cured by the ultraviolet rays is removed so that, for example, a pyramid-shaped three-dimensional pattern is raised.

【0009】本発明の研磨体では、例えば、ウェット中
で使用したときに、酸又はアルカリ液により研磨層の表
層が自己溶解を起こし、新たな研磨面を供給して研磨力
を維持するものである。
In the polishing body of the present invention, for example, when used in a wet state, the surface layer of the polishing layer is self-dissolved by an acid or an alkali solution, and a new polishing surface is supplied to maintain the polishing power. is there.

【0010】[0010]

【発明の効果】上記のような本発明によれば、研磨層の
バインダーに紫外線硬化樹脂をバインダー総量の50重
量%以上含有させたことにより、研磨に応じて表面性状
が更新されて目詰まりの解消により良好な研磨力を維持
することができる。
According to the present invention as described above, since the binder of the polishing layer contains the ultraviolet curable resin in an amount of 50% by weight or more of the total amount of the binder, the surface properties are renewed in accordance with the polishing and the clogging is prevented. By the elimination, a favorable polishing force can be maintained.

【0011】また、紫外線の照射による硬化を部分的に
行うと、微細凹凸形状が容易に形成でき、より一層研磨
力の向上が図れ、その凹凸模様の形態の自由度も高く、
生産も容易に行える。
Further, by partially curing by irradiation with ultraviolet rays, fine irregularities can be easily formed, the polishing power can be further improved, and the degree of freedom of the irregularities can be increased.
Production is also easy.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の実施の
形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the polishing body of the present invention will be shown, and the present invention will be described in more detail.

【0013】本発明の研磨体は、ポリエステルフィルム
等による可撓性支持体上に、アルミナ等の研磨剤微粉末
を、バインダーに分散した研磨層を設けてなり、この研
磨層のバインダーには紫外線硬化樹脂がバインダー総量
の50重量%以上含有し、紫外線照射によって硬化させ
ている。
The polishing body of the present invention comprises a flexible support made of a polyester film or the like and a polishing layer in which fine abrasive powder such as alumina is dispersed in a binder. The cured resin contains at least 50% by weight of the total amount of the binder, and is cured by ultraviolet irradiation.

【0014】また、支持体上に形成した前記研磨層への
紫外線の照射は、全面に行うか、模様のあるパターンに
行う。その模様としては、段々模様、市松模様、ピラミ
ッド形状、コーン形状等の平面的又は立体的パターンで
行う。このように紫外線照射によって研磨層を部分的に
硬化させた際には、未硬化の部分を溶解等によって除去
し、上記各種形状の微細な凹凸パターンを形成する。
[0014] Irradiation of ultraviolet rays to the polishing layer formed on the support is performed on the entire surface or in a patterned pattern. The pattern is formed in a planar or three-dimensional pattern such as a stepped pattern, a checkered pattern, a pyramid shape, a cone shape, or the like. When the polishing layer is partially cured by the irradiation of ultraviolet rays as described above, the uncured portions are removed by dissolution or the like, and fine irregular patterns having the above-described various shapes are formed.

【0015】なお、前記支持体の厚みは5〜200μ
m、研磨層表面の中心線表面粗さRaは0.002〜10
μmとするのが好ましい。
The thickness of the support is 5 to 200 μm.
m, center line surface roughness Ra of the polishing layer surface is 0.002 to 10
It is preferably set to μm.

【0016】本発明で研磨層のバインダーとして使用す
る紫外線(UV)硬化プレポリマーは、官能基としてア
クリロイル基を1〜数個もち、紫外線により光重合モノ
マーなどとラジカル重合反応を起こし架橋、重合するも
のである。プレポリマーは骨格を構成する分子の構造に
より、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ート、オリゴアクリレート、アルキドアクリレート、ポ
リオールアクリレートなどがある。プレポリマーの分子
量は1000〜7000位のものを使用する。
The ultraviolet (UV) curable prepolymer used as a binder for the polishing layer in the present invention has one to several acryloyl groups as functional groups, and undergoes a radical polymerization reaction with a photopolymerizable monomer or the like by ultraviolet rays to be crosslinked and polymerized. Things. The prepolymer includes polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, oligoacrylate, alkyd acrylate, polyol acrylate, and the like, depending on the molecular structure of the skeleton. The prepolymer having a molecular weight of about 1,000 to 7000 is used.

【0017】前記光重合モノマーには、単官能アクリレ
ート、多官能アクリレートが用いられる。代表的モノマ
ーとしてはジエチレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートな
どがある。
As the photopolymerizable monomer, a monofunctional acrylate or a polyfunctional acrylate is used. Representative monomers include diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like.

【0018】光重合開始剤としては、イソブチルベンゾ
インエーテルなどのベンゾインエーテル類、α−アシロ
キシムエステル類、2,2−ジメトキシ−2−フェニル
アセトフェノンなどのベンジルケタール類、ジエトキシ
アセトフェノンなどのアセトフェノン誘導体、ベンゾフ
ェノンなどのケトン類、ケトン−アミン類が用いられ
る。
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin ethers such as isobutyl benzoin ether, α-acyloxime esters, benzyl ketals such as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and acetophenone derivatives such as diethoxyacetophenone. Ketones such as benzophenone and ketone-amines are used.

【0019】エネルギー照射装置としては市販のものを
使用できるが、フォトポリマーハンドブック(1989
年工業調査会発行)515頁以降に記載されている内容
を参考にできる。
As the energy irradiation device, a commercially available one can be used, but a photopolymer handbook (1989) can be used.
The contents described on pages 515 et seq. Can be referred to.

【0020】本発明の研磨層で用いられる研磨剤は、モ
ース硬度が6〜9でかつ粉体総量の60%以上を含み、
一般的に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、α−
アルミナ、γ−アルミナ、α,γ−アルミナ、熔融アル
ミナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダ
ム、人造ダイヤモンド、ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザ
クロ石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガ
ーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデ
ン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、
トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト、シリカ、ジルコニ
ア、酸化チタン、ベンガラ等で、主としてモース硬度6
以上の材料が1内至4種迄の組み合わせで使用できる。
これらの研磨剤は平均粒子サイズが0.3〜10μmの
大きさのものが使用される。これらの研磨剤は、研磨層
の場合研磨剤100重量部に対してバインダー10〜1
000重量部の範囲で用いられる。
The abrasive used in the polishing layer of the present invention has a Mohs hardness of 6 to 9 and contains 60% or more of the total amount of powder.
Generally, a material with an abrasive or polishing action,
Alumina, γ-alumina, α, γ-alumina, fused alumina, silicon carbide, chromium oxide, cerium oxide, corundum, artificial diamond, diamond, α-iron oxide, garnet, emery (main components: corundum and magnetite), garnet , Silica, silicon nitride, boron nitride, molybdenum carbide, boron carbide, tungsten carbide, titanium carbide,
Tripoly, diatomaceous earth, dolomite, silica, zirconia, titanium oxide, red iron oxide, etc.
The above materials can be used in combinations of up to four types.
These abrasives have an average particle size of 0.3 to 10 μm. In the case of a polishing layer, these abrasives have a binder of 10 to 1 with respect to 100 parts by weight of the abrasive.
It is used in the range of 000 parts by weight.

【0021】研磨剤の具体例としては、住友化学社製の
AKP1、AKP15、AKP20、AKP30、AK
P50、AKP80、Hit50、Hit100などが
挙げられる。これらについては特公昭52−28642
号、特公昭49−39402号、特開昭63−9882
8号、米国特許3687725号、米国特許30078
07号、米国特許3041196号、米国特許3293
066号、米国特許3630910号、米国特許383
3412号、米国特許4117190号、英国特許11
45349号、西独特許853211号等に記載されて
いる。
Specific examples of the abrasive include AKP1, AKP15, AKP20, AKP30, and AK manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
P50, AKP80, Hit50, Hit100 and the like. These are described in JP-B-52-28642.
No., JP-B-49-39402, JP-A-63-9882
8, U.S. Pat. No. 3,687,725, U.S. Pat.
No. 07, U.S. Pat. No. 3,041,196, U.S. Pat.
066, U.S. Pat. No. 3,630,910, U.S. Pat.
No. 3412, US Pat. No. 4,117,190, British Patent 11
No. 45349 and West German Patent No. 853211.

【0022】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、前述の紫外線硬化樹脂をバインダー総量の50
重量%以上含むが、これに加えて従来公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、可
視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。
As the binder used in the polishing layer of the present invention, the above-mentioned ultraviolet curable resin is used in an amount of 50% of the total amount of the binder.
% Or more, and in addition, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins, electron beam-curable resins, visible light-curable resins, and mixtures thereof are used.

【0023】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が200
℃以下、平均分子量が10000〜300000、重合
度が約50〜2000程度のものでより好ましくは20
0〜800程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体(セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等)、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。
As the thermoplastic resin, the softening temperature is 200
C. or lower, having an average molecular weight of 10,000 to 300,000 and a degree of polymerization of about 50 to 2,000, more preferably 20 to 2,000.
It is about 0 to 800. For example, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, vinyl chloride copolymer, vinyl chloride vinyl acetate vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinylidene copolymer, vinyl acrylonitrile copolymer, acrylic acid Ester acrylonitrile copolymer, acrylate vinylidene chloride copolymer, acrylate styrene copolymer, methacrylate acrylonitrile copolymer,
Methacrylic acid ester vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid ester styrene copolymer, urethane elastomer, nylon-silicone resin, nitrocellulose-polyamide resin, polyfucca vinyl, vinylidene chloride acrylonitrile copolymer, butadiene acrylonitrile copolymer, polyamide Resins, polyvinyl butyral, cellulose derivatives (cellulose acetate butyrate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, nitrocellulose, ethyl cellulose, methyl cellulose, propyl cellulose, methyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose,
Acetylcellulose), various synthetic rubber-based thermoplastic resins such as styrene-butadiene copolymer, polyester resin, polycarbonate resin, chlorovinyl ether acrylate copolymer, amino resin, polyamide resin, and mixtures thereof. .

【0024】これらの樹脂の例示は、特公昭37−68
77号、特公昭39−12528号、特公昭39−19
282号、特公昭40−5349号、特公昭40−20
907号、特公昭41−9463号、特公昭41−14
059号、特公昭41−16985号、特公昭42−6
428号、特公昭42−11621号、特公昭43−4
623号、特公昭43−15206号、特公昭44−2
889号、特公昭44−17947号、特公昭44−1
8232号、特公昭45−14020号、特公昭45−
14500号、特公昭47−18573号、特公昭47
−22063号、特公昭47−22064号、特公昭4
7−22068号、特公昭47−22069号、特公昭
47−22070号、特公昭47−27886号、特開
昭57−133521、特開昭58−137133、特
開昭58−166533、特開昭58−222433、
特開昭59−58642等、米国特許4571364
号、米国特許4752530号の公報等に記載されてい
る。
Examples of these resins are described in JP-B-37-68.
No. 77, JP-B-39-12528, JP-B-39-19
No. 282, No. 40-5349, No. 40-20
No. 907, JP-B-41-9463, JP-B-41-14
No. 059, JP-B-41-16985, JP-B-42-6
No. 428, JP-B-42-11621, JP-B-43-4
No. 623, JP-B-43-15206, JP-B-44-2
No. 889, No. 44-17947, No. 44-1
No. 8232, No. 45-14020, No. 45-
14500, JP-B-47-18573, JP-B-47
-22063, JP-B-47-2264, JP-B-4
7-22068, JP-B-47-22069, JP-B-47-22070, JP-B-47-27886, JP-A-57-133521, JP-A-58-137133, JP-A-58-166533, and JP-A-58-166533. 58-222433,
JP-A-59-58642 and the like, U.S. Pat.
And U.S. Pat. No. 4,752,530.

【0025】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では200000以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂(電子線硬
化樹脂)、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジ
オール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。
The thermosetting resin or the reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating liquid, and becomes infinite by a reaction such as condensation and addition by heating and humidifying after coating and drying. Is preferred. Among these resins, those which do not soften or melt before the resin is thermally decomposed are preferable. Specifically, for example, a phenol resin, a phenoxy resin, an epoxy resin, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyurethane polycarbonate resin, a urea resin, a melamine resin, an alkyd resin, a silicone resin, an acrylic reaction resin (an electron beam curing resin), and an epoxy-polyamide Resin, nitrocellulose melamine resin, mixture of high molecular weight polyester resin and isocyanate prepolymer, mixture of methacrylate copolymer and diisocyanate prepolymer, mixture of polyester polyol and polyisocyanate, urea formaldehyde resin, low molecular weight glycol / high molecular weight A diol / triphenylmethane triisocyanate mixture, a polyamine resin, a polyimine resin, and mixtures thereof.

【0026】これらの樹脂の例示は特公昭39−810
3号、特公昭40−9779号、特公昭41−7192
号、特公昭41−8016号、特公昭41−14275
号、特公昭42−18179号、特公昭43−1208
1号、特公昭44−28023号、特公昭45−145
01号、特公昭45−24902号、特公昭46−13
103号、特公昭47−22065号、特公昭47−2
2066号、特公昭47−22067号、特公昭47−
22072号、特公昭47−22073号、特公昭47
−28045号、特公昭47−28048号、特公昭4
7−28922号等の公報に記載されている。
Examples of these resins are described in JP-B-39-810.
No. 3, JP-B-40-9779, JP-B-41-7192
No., JP-B-41-8016, JP-B-41-14275
No., JP-B-42-18179, JP-B-43-1208
No. 1, Japanese Patent Publication No. 44-28023, Japanese Patent Publication No. 45-145
No. 01, JP-B-45-24902, JP-B-46-13
103, JP-B-47-2265, JP-B-47-2
No. 2066, JP-B-47-22067, JP-B-47-
22072, JP-B-47-22073, JP-B-47
-28045, JP-B-47-28048, JP-B-4
It is described in publications such as 7-28922.

【0027】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸(COOM)、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸(SO3M)、燐酸(PO(OM)(OM))、ホスホ
ン酸、硫酸(OSO3M)、及びこれらのエステル基等
の酸性基(MはH、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基)、アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基(F、Cl、Br、
I)、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常1種以上6種以内含み、各々
の官能基は樹脂1gあたり1×10-6eq〜1×10-2
eq含むことが好ましい。
These thermoplastic resins, thermosetting resins, and reactive resins have carboxylic acid (COOM), sulfinic acid, sulfenic acid, sulfonic acid (SO 3 M), phosphoric acid (PO (OM) (OM)), phosphonic acid, sulfuric acid (OSO 3 M), and acidic groups such as ester groups thereof (M is H, an alkali metal, an alkaline earth metal,
Hydrocarbon groups), amino acids; aminosulfonic acids, sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, amphoteric groups such as alkyl betaine, amino groups, imino groups, imide groups,
An amide group, etc., a hydroxyl group, an alkoxyl group, a thiol group, an alkylthio group, a halogen group (F, Cl, Br,
I) a silyl group, a siloxane group, an epoxy group, an isocyanato group, a cyano group, a nitrile group, an oxo group, an acryl group, and a phosphine group. -6 eq ~ 1 × 10 -2
It is preferable to include eq.

【0028】本発明の研磨層に用いるポリイソシアネー
トとしては、トリレンジイソシアネート、4・4’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレ
ン−1・5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類、当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、イソシアネート類の縮合によ
って生成した2〜10量体のポリイソシアネート、ポリ
イソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基
がイソシアネートであるもの等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は100
〜20000のものが好適である。
As the polyisocyanate used in the polishing layer of the present invention, tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, o-toluidine diisocyanate, isophorone diisocyanate Isocyanates such as triphenylmethane triisocyanate and isophorone diisocyanate, products of the isocyanates and polyalcohols, polyisocyanates of 2 to 10-mers produced by condensation of isocyanates, and products of polyisocyanates and polyurethanes Those whose terminal functional groups are isocyanates can be used. The average molecular weight of these polyisocyanates is 100
Those of 20,000 are preferred.

【0029】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートL、コロネートHL、コ
ロネート2030、コロネート2031、ミリオネート
MR、ミリオネートMTL(以上日本ポリウレタン社
製)、タケネートD−102、タケネートD−110
N、タケネートD−200、タケネートD−202、タ
ケネート300S、タケネート500(以上武田薬品社
製)、スミジュールT−80、スミジュール44S、ス
ミジュールPF、スミジュールL、スミジュールN、デ
スモジュールL、デスモジュールIL、デスモジュール
N、デスモジュールHL、デスモジュールT65、デス
モジュール15、デスモジュールR、デスモジュールR
F、デスモジュールSL、デスモジュールZ4273
(以上住友バイエル社製)等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。
Commercially available trade names of these polyisocyanates include Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, Millionate MTL (all manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), Takenate D-102, and Takenate D-110.
N, Takenate D-200, Takenate D-202, Takenate 300S, Takenate 500 (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Sumidur T-80, Sumidur 44S, Sumidur PF, Sumidur L, Sumidur N, Desmodur L , Death module IL, death module N, death module HL, death module T65, death module 15, death module R, death module R
F, death module SL, death module Z4273
(Manufactured by Sumitomo Bayer Co., Ltd.), and these can be used alone or in combination of two or more by utilizing the difference in curing reactivity.

【0030】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
(ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が100
0〜10000のポリウレタン、水等)、アミノ基(モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等)を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量10
0重量部あたり2〜70重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは5〜50重量部である。これらの例
示は特開昭60−131622号、特開昭61−741
38号等の公報において示されている。
For the purpose of accelerating the curing reaction, a hydroxyl group (butanediol, hexanediol, having a molecular weight of 100
A compound having an amino group (such as monomethylamine, dimethylamine, or trimethylamine), a metal oxide catalyst, or a catalyst such as iron acetylacetonate can also be used in combination. It is desirable that these compounds having a hydroxyl group or an amino group are polyfunctional. These polyisocyanates have a total amount of binder resin and polyisocyanate of 10 in the polishing layer and the back layer.
It is preferably used in an amount of 2 to 70 parts by weight per 0 parts by weight, more preferably 5 to 50 parts by weight. Examples of these are disclosed in JP-A-60-131622 and JP-A-61-741.
No. 38 and the like.

【0031】その他、研磨層中には各種の機能を持った
化合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤
滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤
等が加えられる。
In addition, compounds having various functions are added to the polishing layer as additives. For example, a dispersant, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, a fungicide, a coloring agent, a solvent, and the like are added.

【0032】本発明の研磨層に使用される粉末状潤滑剤
としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼
素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪
素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、
ポリオレフイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉
末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉
末、ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。
The powdery lubricant used in the polishing layer of the present invention includes graphite, molybdenum disulfide, boron nitride, graphite fluoride, calcium carbonate, barium sulfate, silicon oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and the like. Inorganic fine powder such as tungsten disulfide, acrylic styrene resin fine powder, benzoguanamine resin fine powder, melamine resin fine powder,
There are resin fine powders such as polyolefin resin fine powder, polyester resin fine powder, polyamide resin fine powder, polyimide resin fine powder, and polyhooker ethylene resin fine powder.

【0033】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン(信越化学社製KF96、KF69
等))、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等)、ポリグリコール(エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等)、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸及び有機酸エステル化合物、トリアザインドリ
ジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾトリアジン、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒素・
硫黄を含む複素(ヘテロ)環化合物、炭素数10〜40
の一塩基性脂肪酸と炭素数2〜40個の一価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか1つもしく
は2つ以上とからなる脂肪酸エステル類、炭素数10個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が11〜70個となる一価〜六価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数8〜40の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アル
コール類も使用できる。
As the organic compound-based lubricant, silicone oil (dialkyl polysiloxane, dialkoxy polysiloxane, phenyl polysiloxane, fluoroalkyl polysiloxane (KF96, KF69 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
)), Fatty acid-modified silicone oil, fluoroalcohol, polyolefin (polyethylene wax, polypropylene, etc.), polyglycol (ethylene glycol, polyethylene oxide wax, etc.), tetrafluoroethylene oxide wax, polytetrafluoroglycol, perfluoroalkyl ether, perfluoro Fatty acids, perfluoro fatty acid esters, perfluoroalkyl sulfates, perfluoroalkyl sulfonates, perfluoroalkylbenzene sulfonates, perfluoroalkyl phosphates, and other compounds containing fluorine or silicon, alkyl sulfates, alkyl sulfonates , Alkyl phosphonic acid triester,
Organic acids and organic acid ester compounds such as alkyl phosphonic acid monoesters, alkyl phosphonic acid diesters, alkyl phosphates, succinates, etc., triazaindolizine, tetraazaindene, benzotriazole, benzotriazine, benzodiazole, EDTA, etc. nitrogen·
Heterocyclic compound containing sulfur, having 10 to 40 carbon atoms
Consisting of a monobasic fatty acid of formula (I) and any one or more of monohydric or dihydric alcohols having 2 to 40 carbon atoms, trihydric alcohol, tetrahydric alcohol, and hexahydric alcohol Esters, fatty acid esters of monohydric to hexavalent alcohols having a total of 11 to 70 carbon atoms in total with monobasic fatty acids having 10 or more carbon atoms and carbon atoms of the fatty acids, 8 to 40 carbon atoms And fatty acid amides, fatty acid alkyl amides and aliphatic alcohols.

【0034】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸2エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸2エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸2
エチルペンチル、ステアリン酸2ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。
Specific examples of these compounds include butyl caprylate, octyl caprylate, ethyl laurate, butyl laurate, octyl laurate, ethyl myristate, butyl myristate, octyl myristate, 2-ethylhexyl myristate, Ethyl palmitate, butyl palmitate, octyl palmitate, 2 ethylhexyl palmitate, ethyl stearate, butyl stearate, isobutyl stearate, octyl stearate, 2 ethyl hexyl stearate, amyl stearate, isoamyl stearate, 2 stearic acid
Ethylpentyl, 2-hexyldecyl stearate, isotridecyl stearate, stearic acid amide, alkyl stearate, butoxyethyl stearate,
Anhydrosorbitan monostearate, anhydrosorbitan distearate, anhydrosorbitan tristearate, anhydrosorbitan tetrastearate, oleyl oleate, oleyl alcohol, lauryl alcohol, montan wax, carnauba wax, etc. used alone or in combination it can.

【0035】また本発明に使用される潤滑剤としては、
潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用でき、防
錆剤として知られている酸化防止剤(アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、EDTA等の金属キレート剤)、錆どめ剤(ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコール
等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー100重量部に対して
0.01〜30重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては、特公昭43−23889号、特公昭48−24
041号、特公昭48−18482号、特公昭44−1
8221、特公昭47−28043号、特公昭57−5
6132、特開昭59−8136号、特開昭59−81
39号、特開昭61−85621号、米国特許3423
233号、米国特許3470021号、米国特許349
2235号、米国特許3497411号、米国特許35
23086号、米国特許3625760号、米国特許3
630772号、米国特許3634253号、米国特許
3642539号、米国特許3687725号、米国特
許4135031号、米国特許4497864号、米国
特許4552794号、アイビーエムテクニカル ディ
スクロジャーブリテン(IBM Technical
Disclosure Bulletin)Vol.
9,No7,p779(1966年12月)、エレクト
ロニク(ELEKTRONIK)1961年No12,
p380、化学便覧,応用編,p954−967,19
80年丸善株発行等に記載されている。
The lubricant used in the present invention includes:
Lubricating oil additives can be used alone or in combination. Antioxidants known as rust inhibitors (metal chelates such as alkylphenol, benzotriazine, tetraazaindene, sulfamide, guanidine, nucleic acid, pyridine, amine, hydroquinone, EDTA, etc.) Agents), rust inhibitors (naphthenic acid, alkenyl succinic acid, phosphoric acid, dilauryl phosphate, etc.), oil agents (rapeseed oil, lauryl alcohol, etc.), extreme pressure agents (dibenzyl sulfide, tricresyl phosphate, tributyl) Phosphite, etc.), detergents / dispersants, viscosity index improvers, pour point depressants, foaming agents and the like. These lubricants are added in the range of 0.01 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. These are described in JP-B-43-23889 and JP-B-48-24.
No. 041, JP-B-48-18482, JP-B-44-1
8221, JP-B-47-28043, JP-B-57-5
6132, JP-A-59-8136, JP-A-59-81
39, JP-A-61-85621, U.S. Pat.
No. 233, U.S. Pat.
No. 2235, U.S. Pat. No. 3,497,411, U.S. Pat.
No. 23086, U.S. Pat. No. 3,625,760, U.S. Pat.
No. 630772, US Pat. No. 3,634,253, US Pat. No. 3,642,539, US Pat. No. 3,687,725, US Pat. No. 4,350,311, US Pat. No. 4,497,864, US Pat. No. 4,552,794, IBM Technical Disclosure Britain (IBM Technical)
Disclosure Bulletin) Vol.
9, No7, p779 (December 1966), ELEKTRONIK 1961 No12,
p380, Handbook of Chemistry, Advanced Edition, p954-967, 19
It is described in 1980 Maruzen Issuance.

【0036】本発明に使用する研磨剤の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数2
〜40個の脂肪酸(R1COOH、R1は炭素数1〜39
個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基)、前記の
脂肪酸のアルカリ金属(Li、Na、K、NH4 +等)又
はアルカリ土類金属(Mg、Ca、Ba等)、Cu、P
b等からなる金属石鹸(オレイン酸銅)、脂肪酸アミ
ド;レシチン(大豆油レシチン)等が使用される。この
他に炭素数4〜40の高級アルコール(ブタノール、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール)及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、
フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸
エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀
酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー100重量部に対し
て0.005〜20重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨剤や非研磨微粉末の表面に予
め被着させてもよく、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭39−28369号、
特公昭44−17945号、特公昭44−18221
号、特公昭48−7441号、特公昭48−15001
号、特公昭48−15002号、特公昭48−1636
3号、特公昭49−39402号、米国特許33879
93号、同3470021号等において示されている。
The abrasive dispersant and dispersing aid used in the present invention include caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, linolenic acid, C2 of stearic acid, behenic acid, maleic acid, phthalic acid, etc.
40 pieces of fatty acids (R 1 COOH, R 1 is a carbon number 1 to 39
Alkyl groups, phenyl groups, aralkyl groups), alkali metals (Li, Na, K, NH 4 +, etc.) or alkaline earth metals (Mg, Ca, Ba, etc.) of the above fatty acids, Cu, P
metal soap (copper oleate), fatty acid amide, lecithin (soybean oil lecithin) or the like composed of b. In addition, higher alcohols having 4 to 40 carbon atoms (butanol, octyl alcohol, myristyl alcohol, stearyl alcohol) and their sulfates, sulfonic acids,
Phenylsulfonic acid, alkylsulfonic acid, sulfonic acid ester, phosphoric acid monoester, phosphoric diester, phosphoric triester, alkylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, amine compounds and the like can also be used. Further, polyethylene glycol, polyethylene oxide, sulfosuccinic acid, metal sulfosuccinate, sulfosuccinate, and the like can also be used. One or more of these dispersants are usually used, and one kind of the dispersant is added in an amount of 0.005 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. Regarding the method of using these dispersants, the dispersants may be previously adhered to the surface of the abrasive or non-abrasive fine powder, or may be added during dispersion.
Such a thing is, for example, JP-B-39-28369,
JP-B-44-17945, JP-B-44-18221
No., JP-B-48-7441, JP-B-48-15001
No., JP-B-48-15002, JP-B-48-1636
No. 3, JP-B-49-39402, U.S. Pat.
Nos. 93 and 3470021.

【0037】本発明に用いる防黴剤としては、2−(4
−チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フルオロ
ジクロロメチルチオ)−フタルイミド、10・10’−
オキシビスフェノキサルシン、2・4・5・6テトラク
ロロイソフタロニトリル、P−トリルジヨードメチルス
ルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブチル
錫)、サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」1972年工学図
書、「化学と工業」32,904(1979)等におい
て示されている。
The fungicides used in the present invention include 2- (4
-Thiazolyl) -benzimidazole, N- (fluorodichloromethylthio) -phthalimide, 10.10'-
Oxybisphenoxalcin, 2,4,5.6 tetrachloroisophthalonitrile, P-tolyldiiodomethylsulfone, triiodoallyl alcohol, dihydroacetoacid, mercury phenyloleate, bis (tributyltin) oxide, saltylani There are rides. Such a substance is described in, for example, "Microbial Disaster and Prevention Technology", Engineering Book, 1972, "Chemistry and Industry", 32, 904 (1979).

【0038】本発明に用いる帯電防止剤としては、カー
ボンブラックが使用でき、例えば、ゴム用ファーネス、
ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク等を用いることができる。その比表面積は5〜500
2 /g、DBP吸油量は10〜400ml/100
g、pHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ
密度は0.1〜1g/cm2 であるのが好ましい。この
カーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社
製:BLACKPEARLS 2000,1300,1
000,900,800,700、三菱化成工業社製:
650B,950B,3250B,850,900,9
60,980,1000,2300,2400,260
0等があげられる。また、カーボンブラックを分散剤等
で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したものを用
いることもできる。
As the antistatic agent used in the present invention, carbon black can be used.
Thermal for rubber, black for color, acetylene black and the like can be used. Its specific surface area is 5-500
m 2 / g, DBP oil absorption 10-400 ml / 100
g, pH 2-10, water content 0.1-10%, tap density 0.1-1 g / cm 2 . As a specific example of this carbon black, BLACKPEARLS 2000, 1300, 1 manufactured by Cabot Corporation
000,900,800,700, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation:
650B, 950B, 3250B, 850, 900, 9
60,980,1000,2300,2400,260
0 and the like. In addition, carbon black that has been subjected to surface treatment with a dispersant or the like or graphitized with a resin can also be used.

【0039】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト、変性グラファイト、
カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールEO付加体等のノニオン界面活性剤;高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。
As the antistatic agent other than carbon black used in the present invention, graphite, modified graphite,
Conductive powders such as carbon black graft polymer, tin oxide-antimony oxide, tin oxide, titanium oxide-tin oxide-antimony oxide; natural surfactants such as saponin; alkylene oxide-based, glycerin-based, glycidol-based, polyhydric alcohol, Nonionic surfactants such as polyhydric alcohol esters and alkylphenol EO adducts; higher alkylamines, cyclic amines, hydantoin derivatives, amidoamines, esteramides, quaternary ammonium salts, pyridine and other heterocycles, phosphoniums and sulfoniums Anionic surfactants containing acidic groups such as carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, phosphoric acid, sulfate ester group, phosphonate ester, phosphate ester group; amino acids; aminosulfonic acids, sulfuric acid of amino alcohol or Phosphoric esters, amphoteric surfactants such as alkyl betaine type and the like are used.

【0040】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭60−28025号、米
国特許2271623号、同2240472号、同22
88226号、同2676122号、同2676924
号、同2676975号、同2691566号、同27
27860号、同2730498号、同2742379
号、同2739891号、同3068101号、同31
58484号、同3201253号、同3210191
号、同3294540号、同3415649号、同34
41413号、同3442654号、同3475174
号、同3545974号、西独特許公開(OLS)19
42665号、英国特許1077317号、同1198
450号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』(槇書店1972年版);A.W.ベイリ
著『サーフエス アクテイブ エージエンツ』(インタ
ーサイエンス パブリケーション コーポレイテッド1
985年版);T.P.シスリー著『エンサイクロペデ
ィア オブ サーフエスアクティブ エージェンツ,第
2巻』(ケミカルパブリシュカンパニー1964年
版);『界面活性剤便覧』第六刷(産業図書株式会社,
昭和41年12月20日);丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房(1968)等に記載されている。
Some examples of the surfactant compounds which can be used as the antistatic agent are described in JP-A-60-28025, US Pat. Nos. 2,271,623, 2,224,472, and 22.
88226, 2676122, 2676924
Nos. 2,676,975, 2,691,566,27
27860, 2730498, 2742379
Nos. 2739891, 3068101, 31
No. 58484, No. 3201253, No. 32010191
Nos. 3,294,540, 3,415,649 and 34
No. 41413, No. 3444254, No. 3475174
No. 3,545,974, West German Patent Publication (OLS) 19
No. 42665, British Patent Nos. 1077317 and 1198
No. 450, Ryohei Oda et al., "Synthesis of Surfactants and Their Applications" (Maki Shoten, 1972 edition); W. "Surfes Active Age Entities" by Beili (Interscience Publication Corporation 1
985); P. Encyclopedia of Surfactive Agents, Vol. 2 (Chemical publishing company, 1964 edition) by Sisley; Surfactant Handbook, 6th printing (Sangyo Tosho Co., Ltd.,
December 20, 1966); Hideo Marumo, "Antistatic Agent"
Koshobo (1968) and the like.

【0041】これらの界面活性剤は単独又は混合して添
加してもよい。研磨体における、これらの界面活性剤の
使用量は、研磨剤100重量部当たり0.01〜10重
量部である。またバック層での使用量はバインダー10
0重量部当たり0.01〜30重量部である。これらは
帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそ
のほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。
These surfactants may be added alone or as a mixture. The amount of these surfactants used in the abrasive body is 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the abrasive. The amount used in the back layer is 10 binders.
It is 0.01 to 30 parts by weight per 0 parts by weight. These are used as antistatic agents, but are sometimes applied for other purposes such as improvement of dispersion, improvement of lubricity, coating aid, wetting agent, curing accelerator, and dispersion accelerator. .

【0042】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系;メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系;酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系;ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系(芳香族炭化水素);メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、N・N−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等が使用できる。またこれら溶媒は通常
任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以下の量
で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、原料成
分等)を含んでもよい。有機溶媒の代わりに水系溶媒
(水、アルコール、アセトン等)を使用することもでき
る。
As the organic solvent used in the dispersion, kneading and coating of the present invention, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone and tetrahydrofuran in any ratio; methanol, ethanol, propanol and butanol , Isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, alcohols such as methylcyclohexanol; methyl acetate,
Ester systems such as ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate and glycol monoethyl ether; ether systems such as diethyl ether, tetrahydrofuran, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether and dioxane; benzene, toluene, xylene, Tar-based (aromatic hydrocarbons) such as cresol, chlorobenzene, and styrene; chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, ethylene chlorohydrin, and dichlorobenzene; NN-dimethylformaldehyde , Hexane and the like can be used. These solvents are generally used in two or more kinds at an arbitrary ratio. Further, a trace amount of impurities (polymer of the solvent itself, moisture, raw material components, etc.) may be contained in an amount of 1% by weight or less. An aqueous solvent (water, alcohol, acetone, etc.) can be used instead of the organic solvent.

【0043】研磨層組成の分散、混練の方法には特に制
限はなく、また各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑
剤、溶媒等)、分散・混練中の添加位置、分散温度(0
〜80℃)などは適宜設定することができる。研磨塗料
の調製には通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三
本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、
サンドグラインダー、ツェグバリ(Szegvari)
アトライター、高速インペラー、分散機、高速ストーン
ミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミ
キサー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブ
ミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、
ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スク
リュー押し出し機、及び超音波分散機などを用いること
ができる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を
複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術
の詳細は、T.C.PATTON著(テー.シー.パット
ン)“Paint Flow and Pigment Dispersion ”(ペイン
ト フロー アンド ピグメント ディスパージョン)
1964年,John Wiley & Sons社発行(ジョン ウイ
リー アンド サンズ))や田中信一著『工業材料』2
5巻37(1977)などや当該書籍の引用文献に記載
されている。これら分散、混練の補助材料として分散・
混練を効率よく進めるため、球相当径で10cmφ〜
0.05mmφの径のスチールボール、スチールビー
ズ、セラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービ
ーズを用いることができる。またこれら材料は球形に限
らない。また、米国特許第2581414号及び同第2
855156号などの明細書にも記載がある。本発明に
おいても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載さ
れた方法に準じて混練分散を行い研磨層塗布液を調製す
ることができる。
The method of dispersing and kneading the polishing layer composition is not particularly limited, and the order of addition of each component (resin, powder, lubricant, solvent, etc.), the addition position during dispersing and kneading, and the dispersion temperature (0
To 80 ° C.) can be appropriately set. For the preparation of the abrasive paint a usual kneading machine, for example, a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, a pebble mill, a tron mill,
Sand grinder, Szegvari
Attritors, high-speed impellers, dispersers, high-speed stone mills, high-speed impact mills, dispersers, kneaders, high-speed mixers, ribbon blenders, co-kneaders, intensive mixers, tumblers, blenders, dispersers,
A homogenizer, a single screw extruder, a twin screw extruder, an ultrasonic disperser, and the like can be used. Usually, a plurality of these dispersing and kneading machines are provided for dispersing and kneading, and the treatment is continuously performed. For details of the technique relating to kneading and dispersion, see "Paint Flow and Pigment Dispersion" by TC Patton (TC Patton).
1964, published by John Wiley & Sons (John Wiley and Sons), Shinichi Tanaka, Industrial Materials 2
Vol. 5, 37 (1977) and the references cited in the book. Dispersion and kneading as auxiliary materials for dispersion and kneading
In order to promote kneading efficiently, the equivalent ball diameter is 10cmφ ~
Steel balls, steel beads, ceramic beads, glass beads, and organic polymer beads having a diameter of 0.05 mmφ can be used. These materials are not limited to spherical shapes. In addition, U.S. Pat.
It is also described in the specification such as 855156. Also in the present invention, the coating liquid for the polishing layer can be prepared by kneading and dispersing according to the method described in the above-mentioned book or the literature cited therein.

【0044】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗
布・乾燥する。又は、他の方法としては加熱溶融状態で
支持体とともに研磨層を同時押し出し(共押し出し)を
行うか、支持体を押し出し成膜した後に、その上側に研
磨層を塗設し、その後、120〜160℃で配向延伸
し、冷却し巻き取るようにしてもよい。延伸は縦横単独
か縦横両方に行う。
The polishing layer is formed by dissolving in an organic solvent any combination of the above-mentioned compositions and the like, and applying and drying a coating solution on a support. Alternatively, as another method, the polishing layer is simultaneously extruded together with the support in a heated and melted state (co-extrusion), or the support is extruded to form a film, and then the polishing layer is coated on the upper side thereof, and then the coating is applied to the support. The film may be oriented and stretched at 160 ° C., cooled, and wound. Stretching is performed either vertically or horizontally or both vertically and horizontally.

【0045】前記支持体は可撓性を有し、素材としては
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフ
イン類、セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビ
ニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリア
ミド、ポリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニ
ウム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス、紙等も使
用できる。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放
電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処
理、金属蒸着処理、アルカリ処理を行ってもよい。これ
ら支持体に関しては、例えば、西独特許3338854
A、特開昭59−116926号、特開昭61−129
731号、米国特許4388368号;三石幸夫著、
『繊維と工業』31巻,p50〜55,1975年など
に記載されている。またこれら支持体のヤング率(F5
値)は目的に応じて、幅方向、長手方向とも2〜30K
g/mm2 (1Kg/m2 =9.8Pa)を選択するこ
とができる。
The support is flexible and may be made of a polyester such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, a polyolefin such as polypropylene, a cellulose derivative such as cellulose triacetate or cellulose diacetate, or a polyvinyl chloride or the like. In addition to plastics such as vinyl resins, polycarbonate, polyimide, polyamide, and polysulfone, metals such as aluminum and copper, ceramics such as glass, and paper can also be used. Prior to coating, these supports may be subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, undercoating treatment, heat treatment, dust removal treatment, metal deposition treatment, and alkali treatment. Regarding these supports, for example, German Patent 3,338,854
A, JP-A-59-116926, JP-A-61-129
No. 731; U.S. Pat. No. 4,388,368;
"Textile and Industry", vol. 31, p. 50-55, 1975. In addition, the Young's modulus (F5
Value) is 2 to 30K in both the width direction and the longitudinal direction according to the purpose.
g / mm 2 (1 kg / m 2 = 9.8 Pa) can be selected.

【0046】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を1〜20000センチ
ストークス(25℃)に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』253頁〜2
77頁(昭和46.3.20.発行)等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗層あるいは支持体と
の密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層の多層構成は、同時多層塗布、逐次多層
塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭57
−123532号公報、特公昭62−37451号公
報、特開昭59−142741号公報、特開昭59−1
65239号公報の明細書等に示されている。
As a method of applying the above-mentioned coating solution for a polishing layer on a support, the viscosity of the coating solution is adjusted to 1 to 20,000 centistokes (25 ° C.), and an air doctor coater, a blade coater, an air knife coater, a squeeze Coater, impregnated coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss coater, cast coater, spray coater, rod coater, forward rotation roll coater, curtain coater, extrusion coater, bar coater, lip coater, etc. can be used, other methods It is also possible to provide specific descriptions of these in “Coating Engineering” published by Asakura Shoten, pages 253 to 2
This is described in detail on page 77 (issued in 1963, 1963). The order of application of these coating liquids can be arbitrarily selected, and a corona discharge treatment or the like may be performed before the application of the desired liquid to improve the adhesion to the undercoat layer or the support. The multilayer structure of the polishing layer may be a simultaneous multilayer coating, a sequential multilayer coating, or the like. These are described, for example, in
-123532, JP-B-62-37451, JP-A-59-142741 and JP-A-59-1.
No. 65239, and the like.

【0047】このような方法により、支持体上に約1〜
200μmほどで塗布された研磨液を必要により直ちに
20〜130℃で多段階で乾燥処理を施し、研磨層を
0.05〜10μmの厚みに乾燥する。続いて、紫外線
照射を所定のパターンで行い、必要に応じて未硬化部分
を除去する。そして、所望の形状に裁断したりして、本
発明の研磨体を製造する。これらの製造方法は粉体の予
備処理・表面処理、混練・分散、塗布・乾燥、平滑処
理、熱処理、EB処理、表面研磨処理、裁断、巻き取り
の工程を連続して行うことが望ましい。
By such a method, about 1 to about
The polishing liquid applied at about 200 μm is immediately subjected to a drying treatment at 20 to 130 ° C. in multiple stages as needed, and the polishing layer is dried to a thickness of 0.05 to 10 μm. Subsequently, ultraviolet irradiation is performed in a predetermined pattern to remove uncured portions as necessary. Then, the abrasive body of the present invention is manufactured by cutting into a desired shape. In these production methods, it is desirable that the steps of powder preliminary treatment / surface treatment, kneading / dispersion, coating / drying, smoothing treatment, heat treatment, EB treatment, surface polishing treatment, cutting, and winding are continuously performed.

【0048】研磨体が研磨テープの場合には、作製した
研磨テープを裁断したあと所望のプラスチックや金属の
リールに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前の工
程において研磨テープその他の研磨体をバーニッシュ及
び/又はクリーニングすることが望ましい。バーニッシ
ュは研磨体の表面粗度と研磨力を制御するために具体的
にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド
刃、セラミックス刃のような硬い材料により研磨面の突
起部分をそぎおとし均一にもしくは平滑にする。これら
材料のモース硬度は8以上が好ましいが特に制限はなく
突起を除去できるものであれば良い。これら材料の形状
は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホイール(回
転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与しても良
い)のような形状でも使用できる。また研磨体のクリー
ニングは、研磨体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する
目的で研磨体表層を不織布などでワイピングすることに
より行う。このようなワイピングの材料としては、例え
ば日本バイリーン社製の各種バイリーンや東レ社製のト
レシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フィ
ルム社製の各種研磨体、また不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリ
ロニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペー
パー等が使用できる。これらは例えば特公昭46−39
309号、特公昭58−46768号、特開昭56−9
0429号、特公昭58−46767号、特開昭63−
259830号、特開平1−201824号等にも記載
されている。
When the polishing body is a polishing tape, the produced polishing tape is cut and wound around a desired plastic or metal reel. It is desirable to burnish and / or clean the abrasive tape or other abrasive body immediately before or before winding. Burnishes are designed to control the surface roughness and polishing power of the polished body.Specifically, the protrusions on the polished surface are cut with a hard material such as a sapphire blade, a razor blade, a carbide blade, a diamond blade, or a ceramic blade. Make it even or smooth. The Mohs hardness of these materials is preferably 8 or more, but is not particularly limited as long as protrusions can be removed. The shape of these materials does not need to be a blade in particular, and shapes such as a square shape, a round shape, and a wheel (these materials may be provided around a rotating cylindrical shape) can be used. The cleaning of the abrasive body is performed by wiping the surface layer of the abrasive body with a nonwoven fabric or the like in order to remove dirt and excess lubricant on the surface of the abrasive body. Such wiping materials include, for example, various types of Vilene manufactured by Japan Vilene Co., Ltd., Toraysee, Ecseine manufactured by Toray Industries, Kimwipe, various types of abrasives manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. Tissue paper, such as nonwoven fabric made of rayon, nonwoven fabric made of acrylonitrile, and blended nonwoven fabric can be used. These are described, for example, in JP-B-46-39.
No. 309, JP-B-58-46768, JP-A-56-9
No. 0429, JP-B-58-46767, JP-A-63-463.
No. 259830, JP-A-1-201824 and the like.

【0049】本発明に使用される研磨剤、バインダー、
添加剤(潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等)、溶剤及び支持体(下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい)或いはその製法に関しては、特公昭
56−26890号等に記載されている製造方法等を参
考にできる。
The abrasives, binders and binders used in the present invention
Additives (lubricants, dispersants, antistatic agents, surface treatment agents, carbon black, abrasives, light-blocking agents, antioxidants, antifungal agents, etc.), solvents and supports (undercoat layer, back layer, under back) (It may have a coating layer) or the production method thereof can be referred to the production method described in JP-B-56-26890 or the like.

【0050】[0050]

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。
EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be shown below.
Evaluate its properties. In the examples, "parts" indicates "parts by weight".

【0051】<実施例1〜3>下記組成Aを均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を、厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートによる
支持体上に、厚みが5μmとなるよう塗布し、乾燥さ
せ、紫外線を照射して硬化させた後、所望の大きさに切
り出して研磨体の試料を作製した。
<Examples 1 to 3> The following composition A was uniformly kneaded and dispersed, the viscosity was adjusted, and a coating solution for a polishing layer mixed with a curing agent was coated on a 75 μm-thick polyethylene terephthalate support. It was applied to a thickness of 5 μm, dried, cured by irradiating ultraviolet rays, and then cut into a desired size to prepare a sample of a polished body.

【0052】各実施例1〜3は、下記表1に示すよう
に、紫外線の照射パターンによる模様が異なるものであ
り、実施例1では0.1mm幅の市松模様で、実施例2で
は0.1mm幅のピラミッド模様であり、実施例3では全
面紫外線硬化による研磨層を形成している。なお、実施
例1及び2では未硬化部分の研磨層の表層は除去して凹
凸形状を設けている。
As shown in Table 1 below, each of Examples 1 to 3 has a different pattern depending on the irradiation pattern of ultraviolet rays. In Example 1, a checkerboard pattern having a width of 0.1 mm was used. It has a pyramid pattern with a width of 1 mm. In Example 3, the polishing layer is formed by UV curing on the entire surface. In Examples 1 and 2, the surface layer of the polishing layer in the uncured portion was removed to provide an uneven shape.

【0053】上記実施例の研磨体によって、研磨試験を
行い、スチール球の相対磨耗量の測定を行った結果を下
記表1に示す。相対磨耗量は、5mmφのスチール球を荷
重300mgで、500mm掃引した磨耗試験を行ったとき
の、スチール球の磨耗量を後述の比較例1の測定値を1
00としてそれぞれの磨耗量を相対値で示している。
A polishing test was performed using the polished body of the above example, and the relative wear of the steel balls was measured. The results are shown in Table 1 below. The relative abrasion amount was determined by measuring the abrasion amount of a steel ball of a 5 mmφ steel ball at a load of 300 mg and a 500 mm sweep test by a wear value of Comparative Example 1 described below.
00 is shown as a relative value for each wear amount.

【0054】<比較例1>表1には、比較例1の研磨体
による同様の研磨テストを行った結果を併記している。
この比較例1は、研磨層のバインダーが熱硬化樹脂によ
る例で、研磨層の厚みは5μmである。
<Comparative Example 1> Table 1 also shows the results of the same polishing test performed on the polished body of Comparative Example 1.
Comparative Example 1 is an example in which the binder of the polishing layer is a thermosetting resin, and the thickness of the polishing layer is 5 μm.

【0055】表1の結果から、本発明実施例1〜3によ
る研磨体では、相対磨耗量すなわち研磨力が大きく、特
に実施例1及び2の凹凸模様を形成したものでの研磨力
が特に高くなっている。
From the results shown in Table 1, the polished bodies according to Examples 1 to 3 of the present invention have a large relative abrasion amount, that is, a large polishing power, and particularly the polishing powers of Examples 1 and 2 in which the concavo-convex pattern is formed are particularly high. Has become.

【0056】 [研磨層用塗布液組成:A] 研磨剤(アルミナ:不二見研磨材製WA8000) 100部 バインダー(不飽和ポリエステル樹脂) 18部 バインダー(スチレン) 6部 硬化剤(イソプロピルベンゾインエーテル) 1部 溶剤(メチルエチルケトン) 150部 アノン 50部[Coating solution composition for polishing layer: A] Abrasive (alumina: WA8000 manufactured by Fujimi Abrasives) 100 parts Binder (unsaturated polyester resin) 18 parts Binder (styrene) 6 parts Curing agent (isopropylbenzoin ether) 1 Parts Solvent (methyl ethyl ketone) 150 parts Anone 50 parts

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】<実施例4〜6>下記組成Bを均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を、厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートによる
支持体上に、厚みが30μmとなるよう塗布し、乾燥さ
せ、紫外線を5秒間照射して硬化させた後、所望の大き
さに切り出して研磨体の試料を作製した。
<Examples 4 to 6> The following composition B was uniformly kneaded and dispersed, the viscosity was adjusted, and a coating solution for a polishing layer mixed with a curing agent was coated on a 75 μm-thick polyethylene terephthalate support. It was applied to a thickness of 30 μm, dried, cured by irradiating ultraviolet rays for 5 seconds, and then cut into a desired size to prepare a sample of a polished body.

【0059】各実施例4〜6は、下記表2に示すよう
に、紫外線の照射パターンによる模様が異なるものであ
り、実施例4では0.2mm幅の市松模様で、実施例5で
は0.2mm幅のピラミッド模様であり、実施例6では全
面紫外線硬化による研磨層を形成している。なお、実施
例4及び5では未硬化部分は除去して凹凸形状を設けて
いる。
As shown in Table 2 below, each of Examples 4 to 6 has a different pattern depending on the irradiation pattern of ultraviolet rays. In Example 4, a checkerboard pattern having a width of 0.2 mm was used. It has a pyramid pattern with a width of 2 mm. In Example 6, the polishing layer is formed by UV curing on the entire surface. In Examples 4 and 5, the uncured portion was removed to provide an uneven shape.

【0060】上記実施例の研磨体によって、前記と同様
の条件で研磨試験を行い、スチール球の相対磨耗量の測
定を行った結果を下記表2に示す。なお、後述の比較例
2の測定値を100としてそれぞれの磨耗量を相対値で
示している。
A polishing test was performed on the polished body of the above example under the same conditions as described above, and the relative wear of the steel balls was measured. The results are shown in Table 2 below. In addition, each wear amount is shown as a relative value with the measured value of Comparative Example 2 described later as 100.

【0061】<比較例2>表2には、比較例2の研磨体
による同様の研磨テストを行った結果を併記している。
比較例2は、研磨層のバインダーが熱硬化樹脂による例
で、研磨層の厚みは30μmである。
<Comparative Example 2> Table 2 also shows the results of a similar polishing test performed on the polished body of Comparative Example 2.
Comparative Example 2 is an example in which the binder of the polishing layer is a thermosetting resin, and the thickness of the polishing layer is 30 μm.

【0062】表2の結果から、本発明実施例4〜6によ
る研磨体では、相対磨耗量すなわち研磨力が大きく、特
に実施例4及び実施例5の模様を形成したものでの研磨
力が高くなっている。
From the results shown in Table 2, the polished bodies according to Examples 4 to 6 of the present invention have a large relative abrasion amount, that is, a large abrasive power, and particularly, the abrasive power obtained by forming the patterns of Examples 4 and 5 is high. Has become.

【0063】 [研磨層用塗布液組成:B] 研磨剤(アルミナ:不二見研磨材製WA400) 100部 バインダー(トリプロピレングリコールジアクリレート) 15部 バインダー(ペンタエリスリトールアクリレート) 2部 硬化剤(2,2−ジエトキシアセトフェノン) 1部 溶剤(メチルエチルケトン) 150部[Composition of Polishing Layer Coating Solution: B] Abrasive (Alumina: WA400 made by Fujimi Abrasives) 100 parts Binder (tripropylene glycol diacrylate) 15 parts Binder (pentaerythritol acrylate) 2 parts Curing agent (2 2-Diethoxyacetophenone) 1 part Solvent (methyl ethyl ketone) 150 parts

【0064】[0064]

【表2】 [Table 2]

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けた研磨体において、 前記バインダーが紫外線硬化樹脂をバインダー総量の5
0重量%以上含み、紫外線を照射してなることを特徴と
する研磨体。
1. A polishing body provided with a polishing layer comprising fine abrasive powder and a binder on a flexible support, wherein the binder comprises an ultraviolet-curable resin in an amount of 5% of the total amount of the binder.
A polishing body containing at least 0% by weight and irradiated with ultraviolet rays.
【請求項2】 前記紫外線硬化樹脂によるバインダーを
含む研磨層表面に、紫外線で模様のあるパターンを照射
し部分的に硬化させたことを特徴とする請求項1に記載
の研磨体。
2. The polishing body according to claim 1, wherein the surface of the polishing layer containing a binder made of the ultraviolet curable resin is partially cured by irradiating a pattern having a pattern with ultraviolet rays.
【請求項3】 前記紫外線で硬化した部分以外の研磨層
表面を除去して模様を浮き立たせたことを特徴とする請
求項2に記載の研磨体。
3. The polishing body according to claim 2, wherein the pattern is raised by removing the surface of the polishing layer other than the portion cured by the ultraviolet rays.
【請求項4】 前記模様がピラミッド状の立体形状であ
ることを特徴とする請求項3に記載の研磨体。
4. The polishing body according to claim 3, wherein the pattern is a pyramid-shaped three-dimensional shape.
JP7943698A 1998-03-26 1998-03-26 Polishing body Withdrawn JPH11277451A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004209556A (en) * 2002-12-27 2004-07-29 Kyocera Corp Optical connector ferrule, method for manufacturing the same, diamond abrasive film used therein, and optical fiber fixing device
CN103978446A (en) * 2014-05-21 2014-08-13 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 Device and method for rapidly molding grinding tool with regularly arranged abrasive material

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CN103978446A (en) * 2014-05-21 2014-08-13 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 Device and method for rapidly molding grinding tool with regularly arranged abrasive material

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