JPH11277450A - Polishing body - Google Patents

Polishing body

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Publication number
JPH11277450A
JPH11277450A JP7943898A JP7943898A JPH11277450A JP H11277450 A JPH11277450 A JP H11277450A JP 7943898 A JP7943898 A JP 7943898A JP 7943898 A JP7943898 A JP 7943898A JP H11277450 A JPH11277450 A JP H11277450A
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JP
Japan
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polishing
acid
resin
binder
layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7943898A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Ryomo
克己 両毛
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH11277450A publication Critical patent/JPH11277450A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To polish while maintaining high polishing force without generating a stage difference while securing smoothness of a ferrule surface and an optical fiber surface by including a specified percentage or more of carboxymethyl nitrocellulose in the binder. SOLUTION: A polishing body has a polishing layer formed of the polishing agent and the binder including at least 50 % or more of carboxymethyl nitrocellulose in one surface of a flexible support. An undercoat layer is provided between the flexible support and the polishing layer at need, or a back layer is provided in a back surface of the support at need. Substituent degree of the nitro group of the carboxymethyl nitrocellulose is set at 1.6-2.2, and the water soluble characteristic is given to the carboxymethyl nitrocellulose. The polishing body is stuck to a rotary base of the elastic material such as rubber, and a tip of an optical connector ferrule is pushed for contact with this polishing body, and the rotary base is rotated, and the optical connector ferrule is moved for epicyclic movement for polishing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光コネクターフェ
ルール端面の研磨、特に石英ガラス、光学ガラス、シリ
カ、アルミナ、ジルコニア等のセラミック材の研磨に使
用する研磨シート、研磨ディスク等の研磨体に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing body for polishing an end face of an optical connector ferrule, and more particularly to a polishing body such as a polishing sheet and a polishing disk used for polishing a ceramic material such as quartz glass, optical glass, silica, alumina and zirconia. It is.

【0002】[0002]

【従来技術】例えば、フェルール穴に光ファイバーを挿
入固定してなる光コネクターフェルールの端面は、研磨
体、研磨スラリーを用いて研磨されているが、異種材質
を研磨するため端面における光の伝達損失などにおいて
必ずしも十分な結果が得られていない。
2. Description of the Related Art For example, the end face of an optical connector ferrule in which an optical fiber is inserted into and fixed in a ferrule hole is polished using a polishing body or a polishing slurry. Are not necessarily sufficient.

【0003】一例としては、特開平3−81708号公
報に見られるように、研磨剤を含有しないセルロース系
の樹脂フィルムに一定張力を付与し、この樹脂フィルム
の面に光コネクターフェルールの先端を押圧摺動しつ
つ、その接触部分にシリカ系の研磨剤を有するクーラン
ト液を供給して研磨するようにした遊離砥粒保持膜を用
いた研磨方法が提案されている。
As an example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-81708, a constant tension is applied to a cellulosic resin film containing no abrasive, and the tip of an optical connector ferrule is pressed against the surface of the resin film. There has been proposed a polishing method using a free-abrasive holding film in which a coolant liquid having a silica-based abrasive is supplied to a contact portion thereof while being slid and polished.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
光コネクターフェルール等の研磨体としては、ニトロセ
ルロースを使用することが有用であるが、このニトロセ
ルロースは研磨体を製造する過程において発火爆発を生
起する恐れがあり、生産管理に細心の注意を必要とす
る。
However, it is useful to use nitrocellulose as a polishing body for an optical connector ferrule or the like as described above. This requires careful attention to production control.

【0005】また、光コネクターフェルール端面には、
ガラス素材、アルミナ、ジルコニアなどの多くのセラミ
ックスを含む異種材質が含まれ、光学的な伝達損失を防
ぐためにはこれらを均一に削らねばならない。つまり、
フェルール面と光ファイバー面の平滑性を維持し、かつ
フェルール面と光ファイバー面の段差を生じないように
研磨し超低反射特性を得ることが非常に難しかった。
In addition, the end face of the optical connector ferrule has:
Various materials including various ceramics such as glass materials, alumina, and zirconia are included, and they must be uniformly cut to prevent optical transmission loss. That is,
It has been very difficult to maintain the smoothness between the ferrule surface and the optical fiber surface and polish it so as not to cause a step between the ferrule surface and the optical fiber surface to obtain ultra-low reflection characteristics.

【0006】特に、セラミック素材のフェルールとガラ
ス素材の光ファイバーとは材質差に起因する研磨特性の
差、先端を凸状球面に研磨するために、研磨体を弾性状
態に保持して研磨することなどの原因により、所望の形
状に研磨するのが困難で、研磨条件の管理等が煩雑とな
っている。
In particular, the difference in polishing characteristics between the ferrule made of a ceramic material and the optical fiber made of a glass material due to the material difference, such as polishing the polishing body while holding the polishing body in an elastic state in order to polish the tip into a convex spherical surface, etc. For this reason, it is difficult to polish into a desired shape, and management of polishing conditions and the like are complicated.

【0007】本発明は上記点に鑑みなされたものであっ
て、光コネクターフェルールの先端研磨等に好適な研磨
体を提供せんとするものである。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a polishing body suitable for polishing the tip of an optical connector ferrule.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体は、研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けるについて、前記バインダー
がカルボキシメチルニトロセルロースを50%以上含む
ことを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the polishing body of the present invention is characterized in that a polishing layer comprising fine abrasive powder and a binder is provided on a flexible support, wherein the binder comprises carboxymethyl nitrocellulose. It is characterized by containing 50% or more.

【0009】また、前記研磨体は光コネクターフェルー
ル端面研磨用として好適である。さらに、前記バインダ
ーはニトロ基の置換度が1.6〜2.2であるカルボキ
シメチルニトロセルロースを含むことが望ましい。前記
バインダーは、好ましくは水溶性を付与したカルボキシ
メチルニトロセルロースを含む。
Further, the polishing body is suitable for polishing an end face of an optical connector ferrule. Further, the binder desirably contains carboxymethylnitrocellulose having a nitro group substitution degree of 1.6 to 2.2. The binder preferably comprises carboxymethyl nitrocellulose provided with water solubility.

【0010】[0010]

【発明の効果】上記のような本発明によれば、バインダ
ーがカルボキシメチルニトロセルロースを50%以上含
むことにより、例えば、光コネクターフェルールの先端
を所望の凸状球面に、フェールール面および光ファイバ
ー面の平滑化を確保しつつ段差を生じることなく高い研
磨力を維持しながら研磨できて、光学的損失が少なく伝
達効率が向上し、その研磨処理も簡易に行える。
According to the present invention as described above, since the binder contains 50% or more of carboxymethylnitrocellulose, for example, the tip of the optical connector ferrule can be formed into a desired convex spherical surface, the ferrule surface and the optical fiber surface. Polishing can be performed while maintaining a high polishing force without generating a step while ensuring smoothness of the surface, the optical loss is reduced, the transmission efficiency is improved, and the polishing process can be easily performed.

【0011】特に、バインダーにカルボキシメチルニト
ロセルロースという水系のニトロセルロースを用いるこ
とにより、可撓性支持体に塗布する以前の研磨層塗布液
の発火爆発性は少なく、塗布後はニトロセルロースの寄
与が少ないので、取り扱いが容易となり生産管理上有利
となる。
In particular, by using carboxymethyl nitrocellulose as an aqueous nitrocellulose as a binder, the firing explosive property of the polishing layer coating solution before coating on a flexible support is small, and the contribution of nitrocellulose after coating is low. Since it is small, it is easy to handle, which is advantageous in production management.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の実施の
形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the polishing body of the present invention will be shown, and the present invention will be described in more detail.

【0013】本例の研磨体(研磨シート)は、可撓性支
持体の片面に研磨剤と少なくともカルボキシメチルニト
ロセルロースを50%以上含むバインダー等からなる研
磨層を有する。また、可撓性支持体と研磨層の間に下塗
層を、支持体の裏面にバック層を設けてもよい。
The polishing body (polishing sheet) of this embodiment has a polishing layer made of a polishing agent and a binder containing at least 50% or more of carboxymethylnitrocellulose on one surface of a flexible support. Further, an undercoat layer may be provided between the flexible support and the polishing layer, and a back layer may be provided on the back surface of the support.

【0014】前記カルボキシメチルニトロセルロース
は、水系硝化綿とも呼ばれ、その構造は下記化学式に示
すように、セルロース骨格の水酸基を特定量のカルボキ
シメチルエーテル基と硝酸エステル基で置換した構造を
有する高分子電解質である。また、前記カルボキシメチ
ルニトロセルロースのニトロ基の置換度が1.6〜2.
2であり、水溶性が付与されている。重量平均分子量は
2〜5万、置換度は、硝酸エステル1.6〜2.2、カ
ルボキシメチルエステル0.4〜1.0、水酸基0.1
〜1.0である。
The carboxymethyl nitrocellulose is also called aqueous nitrified cotton, and has a structure in which a hydroxyl group of a cellulose skeleton is substituted with a specific amount of a carboxymethyl ether group and a nitrate ester group as shown in the following chemical formula. It is a molecular electrolyte. The carboxymethylnitrocellulose has a nitro group substitution degree of 1.6 to 2.
2, which is water-soluble. The weight average molecular weight is 20,000 to 50,000, the degree of substitution is 1.6 to 2.2 for nitrate ester, 0.4 to 1.0 for carboxymethyl ester, and 0.1 for hydroxyl group.
~ 1.0.

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】前記研磨体は、特に、セラミック素材(例
えばZrO2)によるパイプ状のフェルールの中心穴に
ガラス素材(例えば石英)の光ファイバーを挿入固定し
てなる光コネクターフェルールの端面を段差のない平滑
な所定の曲率半径を有する凸状球面に研磨するのに好適
である。
In the polishing body, an end face of an optical connector ferrule formed by inserting and fixing an optical fiber of a glass material (for example, quartz) into a center hole of a pipe-shaped ferrule made of a ceramic material (for example, ZrO2) is made smooth without any step. It is suitable for polishing a convex spherical surface having a predetermined radius of curvature.

【0017】そして、本発明による研磨体を使用した光
コネクターフェルール先端の研磨例としては、研磨体を
ゴム等の弾性体による回転台に貼り付け、この研磨体に
光コネクターフェルールの先端を押圧接触させ、上記回
転台を回転させるとともに、光コネクターフェルールを
遊星運動させて研磨する。
As an example of polishing the tip of an optical connector ferrule using the polished body according to the present invention, the polished body is attached to a rotating table made of an elastic material such as rubber, and the polished body is pressed into contact with the tip of the optical connector ferrule. Then, the rotating table is rotated, and the optical connector ferrule is caused to move in a planetary motion to be polished.

【0018】その際、乾式でもよいが、湿式が好まし
い。湿式はクーラント水溶液を供給するのがよく、この
クーラント液中には研磨微粒子(シリカ、アルミナ等)
を含んでも良い。シリカの場合にはコロイド状シリカが
好適で、その粒子径としては0.005〜0.05μm
程度のものが望ましい。研磨時間は5〜200秒、荷重
は1〜1000gが好ましい。
At this time, a dry type may be used, but a wet type is preferred. In the wet method, it is preferable to supply an aqueous solution of a coolant, and the coolant contains abrasive fine particles (silica, alumina, etc.).
May be included. In the case of silica, colloidal silica is preferable, and the particle diameter is 0.005 to 0.05 μm.
A degree is desirable. The polishing time is preferably 5 to 200 seconds, and the load is preferably 1 to 1000 g.

【0019】前記研磨層で用いられる研磨剤は、一般的
に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、α−アルミ
ナ,γ−アルミナ,α・γ−アルミナ,熔融アルミナ,
炭化珪素,酸化クロム,コランダム,人造ダイヤモン
ド,ダイヤモンド,α−酸化鉄,窒化珪素,窒化硼素,
炭化モリブデン,炭化硼素,炭化タングステン,チタン
カーバイド,シリカ,ジルコニア,酸化チタン,酸化セ
リウム,ベンガラ,ガーネット等で、主としてモース硬
度7以上の材料が1内至4種迄の組み合わせで使用され
る。これらの研磨剤は平均粒子サイズが0.1〜50μ
mの大きさのものが使用される。これらの研磨剤は、研
磨層の場合、研磨剤100重量部に対してバインダーを
10〜1000重量部の範囲で用いられる。
The abrasive used in the polishing layer is generally a material having a polishing action or a polishing action, such as α-alumina, γ-alumina, α · γ-alumina, fused alumina,
Silicon carbide, chromium oxide, corundum, artificial diamond, diamond, α-iron oxide, silicon nitride, boron nitride,
Molybdenum carbide, boron carbide, tungsten carbide, titanium carbide, silica, zirconia, titanium oxide, cerium oxide, red iron oxide, garnet, and the like are mainly used. These abrasives have an average particle size of 0.1 to 50 μm.
A size of m is used. In the case of a polishing layer, a binder is used in an amount of 10 to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the abrasive.

【0020】これら研磨剤の具体例としては住友化学社
製のAKP1,AKP15,AKP20,AKP30,
AKP50,AKP80,Hit50,Hit100等
が挙げられる。これらについては特公昭52−2864
2号,特公昭49−39402号,特開昭63−988
28号,米国特許3687725号,米国特許3007
807号,米国特許3041196号,米国特許329
3066号,米国特許3630910号,米国特許38
33412号,米国特許4117190号,英国特許1
145349号,西独特許853211号等に記載され
ている。
Specific examples of these abrasives include AKP1, AKP15, AKP20, AKP30, and AKP1, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
AKP50, AKP80, Hit50, Hit100 and the like. These are described in JP-B-52-2864.
No. 2, JP-B-49-39402, JP-A-63-988
No. 28, U.S. Pat. No. 3,687,725, U.S. Pat.
No. 807, U.S. Pat. No. 3,041,196, U.S. Pat.
No. 3,066, U.S. Pat. No. 3,630,910, U.S. Pat.
No. 33412, US Pat. No. 4,117,190, British Patent 1
No. 145,349, West German Patent No. 853211 and the like.

【0021】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、カルボキシメチルニトロセルロースを50重量
%以上含むものであるが、これに加えて従来公知の熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹
脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの
混合物が使用される。
The binder used in the polishing layer of the present invention contains 50% by weight or more of carboxymethylnitrocellulose. In addition to this, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins, and electronic resins A line-curable resin, an ultraviolet-curable resin, a visible light-curable resin, or a mixture thereof is used.

【0022】その他の熱可塑性樹脂としては、軟化温度
が200℃以下、平均分子量が10000〜30000
0、重合度が約10〜2000程度のものでより好まし
くは50〜800程度であり、例えば塩化ビニル酢酸ビ
ニル共重合体,塩化ビニル共重合体,塩化ビニル酢酸ビ
ニルビニルアルコール共重合体,塩化ビニルビニルアル
コール共重合体,塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体,
塩化ビニルアクリロニトリル共重合体,アクリル酸エス
テルアクリロニトリル共重合体,アクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体,アクリル酸エステルスチレン共
重合体,メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体,メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体,メ
タクリル酸エステルスチレン共重合体,ウレタンエラス
トマー,ナイロン−シリコン系樹脂,ニトロセルロース
−ポリアミド樹脂,ポリフッカビニル,塩化ビニリデン
アクリロニトリル共重合体,ブタジエンアクリロニトリ
ル共重合体,ポリアミド樹脂,ポリビニルブチラール,
セルロース誘導体(セルロースアセテートブチレート,
セルロースダイアセテート,セルローストリアセテー
ト,セルロースプロピオネート,ニトロセルロース,エ
チルセルロース,メチルセルロース,プロピルセルロー
ス,メチルエチルセルロース,カルボキシメチルセルロ
ース,アセチルセルロース等),スチレンブタジエン共
重合体,ポリエステル樹脂,ポリカーボネート樹脂,ク
ロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体,アミ
ノ樹脂,ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑
性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。これらの樹
脂の例示は、特公昭37−6877号,特公昭39−1
2528号,特公昭39−19282号,特公昭40−
5349号,特公昭40−20907号,特公昭41−
9463号,特公昭41−14059号,特公昭41−
16985号,特公昭42−6428号,特公昭42−
11621号,特公昭43−4623号,特公昭43−
15206号,特公昭44−2889号,特公昭44−
17947号,特公昭44−18232号,特公昭45
−14020号,特公昭45−14500号,特公昭4
7−18573号,特公昭47−22063号,特公昭
47−22064号,特公昭47−22068号,特公
昭47−22069号,特公昭47−22070号,特
公昭47−27886号,特開昭57−133521
号,特開昭58−137133号,特開昭58−166
533号,特開昭58−222433号,特開昭59−
58642号等、米国特許4571364号,米国特許
4752530号の公報等に記載されている。
Other thermoplastic resins have a softening temperature of 200 ° C. or less and an average molecular weight of 10,000 to 30,000.
0, having a polymerization degree of about 10 to 2000, and more preferably about 50 to 800. Examples thereof include vinyl chloride vinyl acetate copolymer, vinyl chloride copolymer, vinyl chloride vinyl acetate vinyl alcohol copolymer, and vinyl chloride. Vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinylidene chloride copolymer,
Vinyl acrylonitrile chloride copolymer, acrylate acrylonitrile copolymer, acrylate vinylidene chloride copolymer, acrylate styrene copolymer, methacrylate acrylonitrile copolymer, methacrylate vinylidene chloride copolymer, methacryl Acid ester styrene copolymer, urethane elastomer, nylon-silicone resin, nitrocellulose-polyamide resin, polyfuccavinyl, vinylidene chloride acrylonitrile copolymer, butadiene acrylonitrile copolymer, polyamide resin, polyvinyl butyral,
Cellulose derivatives (cellulose acetate butyrate,
Cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, nitrocellulose, ethylcellulose, methylcellulose, propylcellulose, methylethylcellulose, carboxymethylcellulose, acetylcellulose, etc.), styrene butadiene copolymer, polyester resin, polycarbonate resin, chlorovinyl ether acrylate Various synthetic rubber-based thermoplastic resins, such as copolymers, amino resins, and polyamide resins, and mixtures thereof are used. Examples of these resins are described in JP-B-37-6877 and JP-B-39-1.
No. 2528, Japanese Patent Publication No. 39-19282, Japanese Patent Publication No. 40-
No. 5349, Japanese Patent Publication No. 40-20907, Japanese Patent Publication No. 41-
9463, JP-B-41-14059, JP-B-41-140-
No. 16985, JP-B-42-6428, JP-B-42-428
No. 11621, JP-B-43-4623, JP-B-43-
No. 15206, JP-B-44-2889, JP-B-44-
17947, JP-B-44-18232, JP-B-45
No. 14020, No. 45-14500, No. 4
7-18573, JP-B-47-22063, JP-B-47-22264, JP-B-47-22068, JP-B-47-22069, JP-B-47-22070, JP-B-47-27886, and JP-A-47-27886. 57-133521
JP-A-58-137133, JP-A-58-166
No. 533, JP-A-58-222433, JP-A-59-222.
No. 58642, and the like, US Pat. No. 4,571,364, and US Pat. No. 4,752,530.

【0023】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では200000以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合・付加等の
反応により分子量が無限大となるものが適している。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には、例
えばフェノール樹脂,フェノキシ樹脂,エポキシ樹脂,
ポリウレタン樹脂,ポリエステル樹脂,ポリウレタンポ
リカーボネート樹脂,尿素樹脂,メラミン樹脂,アルキ
ッド樹脂,シリコン樹脂,アクリル系反応樹脂(電子線
硬化樹脂),エポキシ−ポリアミド樹脂,ニトロセルロ
ースメラミン樹脂,高分子量ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物,メタクリル酸塩共重合
体とジイソシアネートプレポリマーの混合物,ポリエス
テルポリオールとポリイソシアネートとの混合物,尿素
ホルムアルデヒド樹脂,低分子量グリコール/高分子量
ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混
合物,ポリアミン樹脂,ポリイミン樹脂及びこれらの混
合物等である。これらの樹脂の例示は、特公昭39−8
103号,特公昭40−9779号,特公昭41−71
92号,特公昭41−8016号,特公昭41−142
75号,特公昭42−18179号,特公昭43−12
081号,特公昭44−28023号,特公昭45−1
4501号,特公昭45−24902号,特公昭46−
13103号,特公昭47−22065号,特公昭47
−22066号,特公昭47−22067号,特公昭4
7−22072号,特公昭47−22073号,特公昭
47−28045号,特公昭47−28048号,特公
昭47−28922号等の公報に記載されている。
The thermosetting resin or reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating solution, and becomes infinite by a reaction such as condensation and addition by heating and humidifying after coating and drying. Is suitable. Among these resins, those which do not soften or melt before the resin is thermally decomposed are preferable. Specifically, for example, phenol resin, phenoxy resin, epoxy resin,
Polyurethane resin, polyester resin, polyurethane polycarbonate resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, silicone resin, acrylic reaction resin (electron beam curing resin), epoxy-polyamide resin, nitrocellulose melamine resin, high molecular weight polyester resin and isocyanate resin Mixture of polymers, mixture of methacrylate copolymer and diisocyanate prepolymer, mixture of polyester polyol and polyisocyanate, urea formaldehyde resin, mixture of low molecular weight glycol / high molecular weight diol / triphenylmethane triisocyanate, polyamine resin, polyimine Resins and mixtures thereof. Examples of these resins are described in JP-B-39-8.
No. 103, Japanese Patent Publication No. 40-9779, Japanese Patent Publication No. 41-71
No. 92, JP-B-41-8016, JP-B-41-142
No. 75, JP-B-42-18179, JP-B-43-12
No. 081, Japanese Patent Publication No. 44-28023, Japanese Patent Publication No. 45-1
No. 4501, No. 45-24902, No. 46-
No. 13103, JP-B-47-2265, JP-B-47
-22066, JP-B-47-22067, JP-B-4
No. 7-22072, JP-B-47-22073, JP-B-47-28045, JP-B-47-28048, JP-B-47-28922 and the like.

【0024】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基として、カルボ
ン酸(COOM),スルフィン酸,スルフェン酸,スル
ホン酸(SO3 M),燐酸(PO(OM)(OM)),
ホスホン酸,硫酸(OSO3M),これらのエステル基
等の酸性基(MはH,アルカリ金属,アルカリ土類金
属,炭化水素基),アミノ酸類;アミノスルホン酸類,
アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類,アルキ
ルベタイン型等の両性類基,アミノ基,イミノ基,イミ
ド基,アミド基等、また、水酸基,アルコキシル基,チ
オール基,アルキルチオ基,ハロゲン基(F,Cl,B
r,I),シリル基,シロキサン基,エポキシ基,イソ
シアナト基,シアノ基,ニトリル基,オキソ基,アクリ
ル基,フォスフィン基を通常1種以上6種以内含み、各
々の官能基は樹脂1gあたり1×10-6eq〜1×10
-2eq含むことが好ましい。
These thermoplastic resins, thermosetting resins, and reactive resins have carboxylic acid (COOM), sulfinic acid, sulfenic acid, sulfonic acid (SO 3 M), and phosphoric acid (SOOM) as functional groups other than the main functional groups. PO (OM) (OM)),
Acid groups such as phosphonic acid, sulfuric acid (OSO 3 M) and ester groups thereof (M is H, alkali metal, alkaline earth metal, hydrocarbon group), amino acids, aminosulfonic acids,
Sulfuric or phosphoric acid esters of amino alcohols, amphoteric groups such as alkyl betaine type, amino groups, imino groups, imide groups, amide groups, etc .; hydroxyl groups, alkoxyl groups, thiol groups, alkylthio groups, halogen groups (F, Cl , B
r, I), usually one or more but not more than six kinds of silyl group, siloxane group, epoxy group, isocyanato group, cyano group, nitrile group, oxo group, acryl group and phosphine group, and each functional group is 1 to 1 g of resin. × 10 -6 eq to 1 × 10
-2 eq is preferred.

【0025】本発明の研磨層に用いるポリイソシアネー
トとしては、トリレンジイソシアネート,4・4’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート,ヘキサメチレンジイ
ソシアネート,キシリレンジイソシアネート,ナフチレ
ン−1・5−ジイソシアネート,o−トルイジンジイソ
シアネート,イソホロンジイソシアネート,トリフェニ
ルメタントリイソシアネート,イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類,当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物,イソシアネート類の縮合によ
って生成した2〜10量体のポリイソシアネート,ポリ
イソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基
がイソシアネートであるもの等を使用することができ
る。
Examples of the polyisocyanate used in the polishing layer of the present invention include tolylene diisocyanate, 4.4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, o-toluidine diisocyanate, and isophorone diisocyanate. , Triphenylmethane triisocyanate, isophorone diisocyanate, etc., products of said isocyanates and polyalcohols, polyisocyanates of 2-10 mer produced by condensation of isocyanates, and products of polyisocyanates and polyurethanes Those whose terminal functional groups are isocyanates can be used.

【0026】これらポリイソシアネート類の平均分子量
は100〜20000のものが好適である。これらポリ
イソシアネートの市販されている商品名としては、コロ
ネートL,コロネートHL,コロネート2030,コロ
ネート2031,ミリオネートMR,ミリオネートMT
L(日本ポリウレタン社製),タケネートD−102,
タケネートD−110N,タケネートD−200,タケ
ネートD−202,タケネート300S,タケネート5
00(武田薬品社製),スミジュールT−80,スミジ
ュール44S,スミジュールPF,スミジュールL,ス
ミジュールN,デスモジュールL,デスモジュールI
L,デスモジュールN,デスモジュールHL,デスモジ
ュールT65,デスモジュール15,デスモジュール
R,デスモジュールRF,デスモジュールSL,デスモ
ジュールZ4273(住友バイエル社製)等があり、こ
れらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若し
くはそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。また、硬化反応を促進する目的で、水酸基(ブタン
ジオール,ヘキサンジオール,分子量が1000〜10
000のポリウレタン,水等),アミノ基(モノメチル
アミン,ジメチルアミン,トリメチルアミン等)を有す
る化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネート
等の触媒を併用することもできる。これらの水酸基やア
ミノ基を有する化合物は多官能であることが望ましい。
これらポリイソシアネートは研磨層、バック層ともバイ
ンダー樹脂とポリイソシアネートの総量100重量部あ
たり2〜70重量部で使用することが好ましく、より好
ましくは5〜50重量部である。これらの例示は特開昭
60−131622号,特開昭61−74138号等の
公報において示されている。
The average molecular weight of these polyisocyanates is preferably from 100 to 20,000. Commercially available trade names of these polyisocyanates include Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, and Millionate MT.
L (manufactured by Nippon Polyurethane), Takenate D-102,
Takenate D-110N, Takenate D-200, Takenate D-202, Takenate 300S, Takenate 5
00 (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Sumidur T-80, Sumidur 44S, Sumidur PF, Sumidur L, Sumidur N, Death Module L, Death Module I
L, Death Module N, Death Module HL, Death Module T65, Death Module 15, Death Module R, Death Module RF, Death Module SL, Death Module Z4273 (manufactured by Sumitomo Bayer Co., Ltd.), and the like. Can be used in combination of two or more utilizing the difference between the two. In order to accelerate the curing reaction, a hydroxyl group (butanediol, hexanediol, having a molecular weight of 1,000 to 10
000, polyurethane, water, etc.), a compound having an amino group (monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, etc.), a metal oxide catalyst, or a catalyst such as iron acetylacetonate. It is desirable that these compounds having a hydroxyl group or an amino group are polyfunctional.
These polyisocyanates are preferably used in an amount of 2 to 70 parts by weight, more preferably 5 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the total amount of the binder resin and the polyisocyanate in both the polishing layer and the back layer. Examples of these are disclosed in JP-A-60-131622 and JP-A-61-74138.

【0027】これらのバインダーの単独又は組み合わさ
れたものが使われ、ほかに添加剤が加えられる。添加剤
としては分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、酸化防
止剤、溶剤等が加えられる。なお、バック層の粉末剤と
バインダーの混合割合は、重量比で微粉末100重量部
に対してバインダー8〜400重量部の範囲で使用され
る。
[0027] These binders may be used alone or in combination, and other additives may be added. Additives include dispersants, lubricants, abrasives, antistatic agents, antioxidants, solvents and the like. The mixing ratio of the powder and the binder in the back layer is in the range of 8 to 400 parts by weight of the binder with respect to 100 parts by weight of the fine powder.

【0028】本発明の研磨層に使用される粉末状潤滑剤
としては、グラファイト,二硫化モリブデン,窒化硼
素,弗化黒鉛,炭酸カルシウム,硫酸バリウム,酸化珪
素,酸化チタン,酸化亜鉛,酸化錫,二硫化タングステ
ン等の無機微粉末,アクリルスチレン系樹脂微粉末,ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末,メラミン系樹脂微粉末,
ポリオレフイン系樹脂微粉末,ポリエステル系樹脂微粉
末,ポリアミド系樹脂微粉末,ポリイミド系樹脂微粉
末,ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。
The powdery lubricant used in the polishing layer of the present invention includes graphite, molybdenum disulfide, boron nitride, graphite fluoride, calcium carbonate, barium sulfate, silicon oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and the like. Inorganic fine powder such as tungsten disulfide, acrylic styrene resin fine powder, benzoguanamine resin fine powder, melamine resin fine powder,
Resin fine powders such as polyolefin resin fine powder, polyester resin fine powder, polyamide resin fine powder, polyimide resin fine powder, and polyfucker ethylene resin fine powder.

【0029】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル(ジアルキルポリシロキサン,ジアルコキシポ
リシロキサン,フェニルポリシロキサン,フルオロアル
キルポリシロキサン(信越化学社製KF96,KF69
等)),脂肪酸変性シリコンオイル,フッ素アルコー
ル,ポリオレフィン(ポリエチレンワックス,ポリプロ
ピレン等),ポリグリコール(エチレングリコール,ポ
リエチレンオキシドワックス等),テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス,ポリテトラフルオログリコー
ル,パーフルオロアルキルエーテル,パーフルオロ脂肪
酸,パーフルオロ脂肪酸エステル,パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル,パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル,パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル,パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物,アルキル硫酸エステル,アルキルス
ルホン酸エステル,アルキルホスホン酸トリエステル,
アルキルホスホン酸モノエステル,アルキルホスホン酸
ジエステル,アルキル燐酸エステル,琥珀酸エステル等
の有機酸および有機酸エステル化合物,トリアザインド
リジン,テトラアザインデン,ベンゾトリアゾール,ベ
ンゾトリアジン,ベンゾジアゾール,EDTA等の窒素
・硫黄を含む複素(ヘテロ)環化合物,炭素数10〜4
0の一塩基性脂肪酸と炭素数2〜40個の一価のアルコ
ールもしくは二価のアルコール,三価のアルコール,四
価のアルコール,六価のアルコールのいずれか1つもし
くは2つ以上とからなる脂肪酸エステル類,炭素数10
個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して
炭素数が11〜70個となる一価〜六価のアルコールか
らなる脂肪酸エステル類,炭素数8〜40の脂肪酸或い
は脂肪酸アミド類,脂肪酸アルキルアミド類,脂肪族ア
ルコール類も使用できる。
As the organic compound-based lubricant, silicone oil (dialkyl polysiloxane, dialkoxy polysiloxane, phenyl polysiloxane, fluoroalkyl polysiloxane (KF96, KF69 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Etc.), fatty acid-modified silicone oil, fluorine alcohol, polyolefin (polyethylene wax, polypropylene, etc.), polyglycol (ethylene glycol, polyethylene oxide wax, etc.), tetrafluoroethylene oxide wax, polytetrafluoroglycol, perfluoroalkyl ether, perfluoro Fatty acid, perfluoro fatty acid ester, perfluoroalkyl sulfate, perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl benzene sulfonate, perfluoroalkyl phosphate, and other compounds containing fluorine or silicon, alkyl sulfate, alkyl sulfonate , Alkyl phosphonic acid triesters,
Organic acids and organic acid ester compounds such as alkyl phosphonic acid monoesters, alkyl phosphonic acid diesters, alkyl phosphate esters, succinate esters, etc .; triazaindolizine, tetraazaindene, benzotriazole, benzotriazine, benzodiazole, EDTA, etc. Heterocyclic compound containing nitrogen and sulfur, C10-4
0 monobasic fatty acids and any one or more of monohydric alcohols having 2 to 40 carbon atoms or dihydric alcohols, trihydric alcohols, tetrahydric alcohols, and hexahydric alcohols Fatty acid esters, C10
Fatty acid esters of monohydric to hexahydric alcohols having a total of 11 to 70 carbon atoms in total with at least one monobasic fatty acid and the number of carbon atoms of the fatty acid; a fatty acid or fatty acid amide having 8 to 40 carbon atoms , Fatty acid alkylamides and aliphatic alcohols can also be used.

【0030】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル,カプリル酸オクチル,ラウリン酸エチ
ル,ラウリン酸ブチル,ラウリン酸オクチル,ミリスチ
ン酸エチル,ミリスチン酸ブチル,ミリスチ酸オクチ
ル,ミリスチン酸2エチルヘキシル,パルミチン酸エチ
ル,パルミチン酸ブチル,パルミチン酸オクチル,パル
ミチン酸2エチルヘキシル,ステアリン酸エチル,ステ
アリン酸ブチル,ステアリン酸イソブチル,ステアリン
酸オクチル,ステアリン酸2エチルヘキシル,ステアリ
ン酸アミル,ステアリン酸イソアミル,ステアリン酸2
エチルペンチル,ステアリン酸2ヘキシルデシル,ステ
アリン酸イソトリデシル,ステアリン酸アミド,ステア
リン酸アルキルアミド,ステアリン酸ブトキシエチル,
アンヒドロソルビタンモノステアレート,アンヒドロソ
ルビタンジステアレート,アンヒドロソルビタントリス
テアレート,アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト,オレイルオレート,オレイルアルコール,ラウリル
アルコール,モンタンワックス,カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。
Specific examples of these compounds include butyl caprylate, octyl caprylate, ethyl laurate, butyl laurate, octyl laurate, ethyl myristate, butyl myristate, octyl myristate, 2-ethylhexyl myristate, Ethyl palmitate, butyl palmitate, octyl palmitate, 2 ethylhexyl palmitate, ethyl stearate, butyl stearate, isobutyl stearate, octyl stearate, 2 ethylhexyl stearate, amyl stearate, isoamyl stearate, 2 stearic acid
Ethylpentyl, 2-hexyldecyl stearate, isotridecyl stearate, stearic acid amide, alkyl stearic acid, butoxyethyl stearate,
Anhydrosorbitan monostearate, anhydrosorbitan distearate, anhydrosorbitan tristearate, anhydrosorbitan tetrastearate, oleyl oleate, oleyl alcohol, lauryl alcohol, montan wax, carnauba wax, etc., used alone or in combination it can.

【0031】また本発明に使用される潤滑剤としては、
いわゆる潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用
でき、防錆剤として知られている酸化防止剤(アルキル
フェノール,ベンゾトリアジン,テトラアザインデン,
スルファミド,グアニジン,核酸,ピリジン,アミン,
ヒドロキノン,EDTA等の金属キレート剤),錆どめ
剤(ナフテン酸,アルケニルコハク酸,燐酸,ジラウリ
ルフォスフェート等),油性剤(ナタネ油,ラウリルア
ルコール等),極圧剤(ジベンジルスルフィド,トリク
レジルフォスフェート,トリブチルホスファイト等),
清浄分散剤,粘度指数向上剤,流動点降下剤,泡どめ剤
等がある。これらの潤滑剤はバインダー100重量部に
対して0.01〜30重量部の範囲で添加される。これ
らについては、特公昭43−23889号,特公昭48
−24041号,特公昭48−18482号,特公昭4
4−18221号,特公昭47−28043号,特公昭
57−56132号,特開昭59−8136号,特開昭
59−8139号,特開昭61−85621号,米国特
許3423233号,米国特許3470021号,米国
特許3492235号,米国特許3497411号,米
国特許3523086号,米国特許3625760号,
米国特許3630772号,米国特許3634253
号,米国特許3642539号,米国特許368772
5号,米国特許4135031号,米国特許44978
64号,米国特許4552794号、アイビーエムテク
ニカル ディスクロジャーブリテン(IBM Tech
nical Disclosure Bulleti
n)Vol.9,No7,p779(1966年12
月)、エレクトロニク(ELEKTRONIK)196
1年No12,p380、「化学便覧(応用編)」p9
54−967,1980年丸善社発行等に記載されてい
る。
The lubricant used in the present invention includes:
So-called lubricating oil additives can be used alone or in combination. Antioxidants (alkylphenol, benzotriazine, tetraazaindene,
Sulfamide, guanidine, nucleic acid, pyridine, amine,
Metal chelating agents such as hydroquinone and EDTA), rust inhibitors (naphthenic acid, alkenyl succinic acid, phosphoric acid, dilauryl phosphate, etc.), oil agents (rapeseed oil, lauryl alcohol, etc.), extreme pressure agents (dibenzyl sulfide, Tricresyl phosphate, tributyl phosphite, etc.),
There are cleaning dispersants, viscosity index improvers, pour point depressants, foaming agents and the like. These lubricants are added in the range of 0.01 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. These are described in JP-B-43-23889 and JP-B-48.
-24041, JP-B-48-18482, JP-B-4
No. 4-18221, JP-B-47-28043, JP-B-57-56132, JP-A-59-8136, JP-A-59-8139, JP-A-61-85621, U.S. Pat. No. 3,423,233, U.S. Pat. No. 3470021, US Pat. No. 3,492,235, US Pat. No. 3,497,411, US Pat. No. 3,230,086, US Pat. No. 3,625,760,
U.S. Pat. No. 3,630,772, U.S. Pat. No. 3,634,253
No. 3,642,539, US Pat. No. 3,687,772.
5, U.S. Pat. No. 4,350,031, U.S. Pat.
No. 64, U.S. Pat. No. 4,552,794, IBM Technical Disclosure Bulletin (IBM Tech)
Nical Disclosure Bulleti
n) Vol. 9, No7, p779 (1966 December 12)
Mon), Electronic (ELEKTRONIK) 196
1 year No12, p380, "Chemical Handbook (Application)" p9
54-967, published by Maruzensha in 1980.

【0032】本発明に使用する研磨剤の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸,カプリン酸,ラウリン酸,ミ
リスチン酸,パルミチン酸,ステアリン酸,オレイン
酸,エライジン酸,リノール酸,リノレン酸,ステアロ
ール酸,ベヘン酸,マレイン酸,フタル酸等の炭素数2
〜40個の脂肪酸(R1COOH,R1は炭素数1〜39
個のアルキル基,フェニル基,アラルキル基),前記の
脂肪酸のアルカリ金属(Li,Na,K,NH4 +等)ま
たはアルカリ土類金属(Mg,Ca,Ba等),Cu,
Pb等からなる金属石鹸(オレイン酸銅),脂肪酸アミ
ド;レシチン(大豆油レシチン)等が使用される。この
他に炭素数4〜40の高級アルコール(ブタノール,オ
クチルアルコール,ミリスチルアルコール,ステアリル
アルコール)及びこれらの硫酸エステル,スルホン酸,
フェニルスルホン酸,アルキルスルホン酸,スルホン酸
エステル,燐酸モノエステル,燐酸ジエステル,燐酸ト
リエステル,アルキルホスホン酸,フェニルホスホン
酸,アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール,ポリエチレンオキサイド,スルホ琥珀
酸,スルホ琥珀酸金属塩,スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー100重量部に対し
て0.005〜20重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨剤や非研磨微粉末の表面に予
め被着させても良く、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭39−28369号,
特公昭44−17945号,特公昭44−18221
号,特公昭48−7441号,特公昭48−15001
号,特公昭48−15002号,特公昭48−1636
3号,特公昭49−39402号,米国特許33879
93号,同3470021号等において示されている。
As the dispersant and dispersing aid of the abrasive used in the present invention, caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, linolenic acid, C2 of stearic acid, behenic acid, maleic acid, phthalic acid, etc.
40 to 40 fatty acids (R 1 COOH, R 1 has 1 to 39 carbon atoms)
Alkyl groups, phenyl groups, aralkyl groups), alkali metals (Li, Na, K, NH 4 +, etc.) or alkaline earth metals (Mg, Ca, Ba, etc.), Cu,
Metal soap (copper oleate) made of Pb or the like, fatty acid amide, lecithin (soybean oil lecithin) and the like are used. In addition, higher alcohols having 4 to 40 carbon atoms (butanol, octyl alcohol, myristyl alcohol, stearyl alcohol) and their sulfates, sulfonic acids,
Phenylsulfonic acid, alkylsulfonic acid, sulfonic ester, phosphoric monoester, phosphoric diester, phosphoric triester, alkylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, amine compounds and the like can also be used. In addition, polyethylene glycol, polyethylene oxide, sulfosuccinic acid, metal salts of sulfosuccinic acid, sulfosuccinate, and the like can also be used. One or more of these dispersants are usually used, and one kind of the dispersant is added in an amount of 0.005 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. Regarding the method of using these dispersants, the dispersants may be previously adhered to the surface of the abrasive or the non-abrasive fine powder, or may be added during dispersion.
Such a product is disclosed, for example, in JP-B-39-28369,
JP-B-44-17945, JP-B-44-18221
No., JP-B-48-7441, JP-B-48-15001
No., JP-B-48-15002, JP-B-48-1636
No. 3, JP-B-49-39402, U.S. Pat.
Nos. 93 and 3470021.

【0033】本発明に用いる防黴剤としては、2−(4
−チアゾリル)−ベンズイミダゾール,N−(フルオロ
ジクロロメチルチオ)−フタルイミド,10・10’−
オキシビスフェノキサルシン,2・4・5・6テトラク
ロロイソフタロニトリル,P−トリルジヨードメチルス
ルホン,トリヨードアリルアルコール,ジヒドロアセト
酸,フェニルオレイン酸水銀,酸化ビス(トリブチル
錫),サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」1972年工学図
書、「化学と工業」32,904(1979)等におい
て示されている。
The fungicides used in the present invention include 2- (4
-Thiazolyl) -benzimidazole, N- (fluorodichloromethylthio) -phthalimide, 10.10'-
Oxybisphenoxalcin, 2.4.5.5.6 tetrachloroisophthalonitrile, P-tolyldiiodomethylsulfone, triiodoallyl alcohol, dihydroacetoacid, mercury phenyloleate, bis (tributyltin) oxide, saltylani There are rides. Such a substance is described in, for example, "Microbial Disaster and Prevention Technology", Engineering Book, 1972, "Chemistry and Industry", 32, 904 (1979).

【0034】上記研磨層には帯電防止剤としてカーボン
ブラックを含有してもよく、例えば、ゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック等を用いることができる。その比表面積は5〜5
00m2 /g、DBP吸油量は10〜400ml/10
0g、pHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タッ
プ密度は0.1〜1g/cm2 であるのが好ましい。こ
のカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット
社製:BLACKPEARLS 2000,1300,
1000,900,800,700、三菱化成工業社
製:650B,950B,3250B,850,90
0,960,980,1000,2300,2400,
2600等が挙げられる。また、カーボンブラックを分
散剤等で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したも
のを用いることもできる。
The above-mentioned polishing layer may contain carbon black as an antistatic agent. For example, furnace black for rubber, thermal for rubber, black for color, acetylene black and the like can be used. Its specific surface area is 5-5
00m 2 / g, DBP oil absorption 10-400ml / 10
It is preferable that 0 g, the pH is 2 to 10, the water content is 0.1 to 10%, and the tap density is 0.1 to 1 g / cm 2 . Specific examples of this carbon black include: BLACKPEARLS 2000, 1300, manufactured by Cabot Corporation.
1000, 900, 800, 700, manufactured by Mitsubishi Kasei Kogyo: 650B, 950B, 3250B, 850, 90
0,960,980,1000,2300,2400,
2600 and the like. In addition, carbon black that has been subjected to surface treatment with a dispersant or the like or graphitized with a resin can also be used.

【0035】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト,変性グラファイト,
カーボンブラックグラフトポリマー,酸化錫−酸化アン
チモン,酸化錫,酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキ
レンオキサイド系,グリセリン系,グリシドール系,多
価アルコール,多価アルコールエステル,アルキルフェ
ノールEO付加体等のノニオン界面活性剤;高級アルキ
ルアミン類,環状アミン,ヒダントイン誘導体,アミド
アミン,エステルアミド,第四級アンモニウム塩類,ピ
リジンそのほかの複素環類,ホスホニウムまたはスルホ
ニウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸,スルホ
ン酸,ホスホン酸,燐酸,硫酸エステル基,ホスホン酸
エステル,燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン
界面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸類,アミノ
アルコールの硫酸または燐酸エステル類,アルキルベタ
イン型等の両性界面活性剤等が使用される。
As the antistatic agent other than carbon black used in the present invention, graphite, modified graphite,
Conductive powders such as carbon black graft polymer, tin oxide-antimony oxide, tin oxide, titanium oxide-tin oxide-antimony oxide; natural surfactants such as saponin; alkylene oxide-based, glycerin-based, glycidol-based, polyhydric alcohol, Nonionic surfactants such as polyhydric alcohol esters and alkylphenol EO adducts; higher alkylamines, cyclic amines, hydantoin derivatives, amidoamines, ester amides, quaternary ammonium salts, pyridine and other heterocycles, phosphoniums and sulfoniums Anionic surfactants containing acidic groups such as carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, phosphoric acid, sulfate group, phosphonate ester, phosphate group; amino acids; aminosulfonic acids, sulfuric acid of amino alcohol Other phosphoric esters, amphoteric surfactants such as alkyl betaine type and the like are used.

【0036】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭60−28025号,米
国特許2271623号,同2240472号,同22
88226号,同2676122号,同2676924
号,同2676975号,同2691566号,同27
27860号,同2730498号,同2742379
号,同2739891号,同3068101号,同31
58484号,同3201253号,同3210191
号,同3294540号,同3415649号,同34
41413号,同3442654号,同3475174
号,同3545974号,西独特許公開(OLS)19
42665号,英国特許1077317号,同1198
450号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』(槇書店1972年版);A.W.ベイリ
著『サーフエス アクティブ エージェンツ』(インタ
ーサイエンス パブリケーション コーポレイテッド1
985年版);T.P.シスリー著『エンサイクロペデ
ィア オブ サーフエスアクティブ エージェンツ,第
2巻』(ケミカルパブリシュカンパニー1964年
版);『界面活性剤便覧』第六刷(産業図書株式会社,
昭和41年12月20日);丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房(1968)等の成書に記載されている。
Some of the examples of the surfactant compound which can be used as the antistatic agent are described in JP-A-60-28025, US Pat. Nos. 2,271,623, 2,224,472, and 22.
No. 88226, No. 2676122, No. 2676924
Nos. 2,676,975, 2,691,566,27
27860, 2730498, 2742379
Nos. 2739891, 3068101, 31
No. 58484, No. 3201253, No. 32010191
Nos. 3,294,540, 3,415,649 and 34
41413, 3444254, 3475174
No. 3,545,974, West German Patent Publication (OLS) 19
No. 42665, British Patent Nos. 1077317, 1198
No. 450, Ryohei Oda et al., "Synthesis of Surfactants and Their Applications" (Maki Shoten, 1972 edition); W. "Surfes Active Agents" by Beili (Interscience Publication Corporation 1
985); P. Encyclopedia of Surfactive Agents, Vol. 2 (Chemical publishing company, 1964 edition) by Sisley; Surfactant Handbook, 6th printing (Sangyo Tosho Co., Ltd.,
December 20, 1966); Hideo Marumo, "Antistatic Agent"
It is described in written books such as Koshobo (1968).

【0037】これらの界面活性剤は単独または混合して
添加しても良い。研磨層における、これらの界面活性剤
の使用量は、研磨剤100重量部当たり0.01〜10
重量部である。またバック層での使用量はバインダー1
00重量部当たり0.01〜30重量部である。これら
は帯電防止剤として用いられるものであるが、時として
そのほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗
布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用さ
れる場合もある。
These surfactants may be added alone or as a mixture. The amount of these surfactants used in the polishing layer is 0.01 to 10 per 100 parts by weight of the polishing agent.
Parts by weight. The amount used in the back layer is binder 1
It is 0.01 to 30 parts by weight per 00 parts by weight. These are used as antistatic agents, but are sometimes applied for other purposes such as improvement of dispersion, improvement of lubricity, coating aid, wetting agent, curing accelerator, and dispersion accelerator. .

【0038】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン,メチルエチ
ルケトン,メチルイソブチルケトン,シクロヘキサノ
ン,イソホロン,テトラヒドロフラン等のケトン系;メ
タノール,エタノール,プロパノール,ブタノール,イ
ソブチルアルコール,イソプロピルアルコール,メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系;酢酸メチル,
酢酸エチル,酢酸ブチル,酢酸イソブチル,酢酸イソプ
ロピル,乳酸エチル,酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系;ジエチルエーテル,テトラヒドロフ
ラン,グリコールジメチルエーテル,グリコールモノエ
チルエーテル,ジオキサンなどのエーテル系;ベンゼ
ン,トルエン,キシレン,クレゾール,クロルベンゼ
ン,スチレンなどのタール系(芳香族炭化水素);メチ
レンクロライド,エチレンクロライド,四塩化炭素,ク
ロロホルム,エチレンクロルヒドリン,ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素,N・N−ジメチルホルムアルデ
ヒド,ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以
下の量で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等)を含んでもよい。
As the organic solvent used in the dispersion, kneading and coating of the present invention, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone and tetrahydrofuran in any ratio; methanol, ethanol, propanol and butanol Alcohols such as, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, methylcyclohexanol; methyl acetate,
Ester systems such as ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate and glycol monoethyl ether; ether systems such as diethyl ether, tetrahydrofuran, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether and dioxane; benzene, toluene, xylene, Tar-based (aromatic hydrocarbons) such as cresol, chlorobenzene, and styrene; chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, ethylene chlorohydrin, and dichlorobenzene; N / N-dimethylformaldehyde , Hexane and the like can be used. These solvents are generally used in two or more kinds at an arbitrary ratio. In addition, trace amounts of impurities (polymerization of the solvent itself, water,
Raw material components).

【0039】これらの溶剤は研磨塗布液の合計固形分1
00重量部に対して50〜20000重量部で用いられ
る。好ましい研磨塗布液の固形分率は5〜60重量%で
ある。有機溶媒の代わりに水系溶媒(水,アルコール,
アセトン等)を使用することもできる。
These solvents have a total solid content of 1 in the polishing coating solution.
It is used in an amount of 50 to 20,000 parts by weight based on 00 parts by weight. The preferred solid content of the polishing coating solution is 5 to 60% by weight. Instead of an organic solvent, an aqueous solvent (water, alcohol,
Acetone, etc.) can also be used.

【0040】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗
布・乾燥する。この支持体は可撓性を有し、厚みが50
〜300μm程度である。素材としては、ポリエチレン
テレフタレート,ポリエチレンナフタレート等のポリエ
ステル類,ポリプロピレン等のポリオレフイン類,セル
ローストリアセテート,セルロースダイアセテート等の
セルロース誘導体,ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂
類,ポリカーボネート,ポリイミド,ポリアミド,ポリ
スルホン等のプラスチックのほかにアルミニウム,銅等
の金属,ガラス等のセラミックス等も使用できる。これ
らの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズ
マ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処
理、アルカリ処理を行ってもよい。これら支持体に関し
ては、例えば西独特許3338854A,特開昭59−
116926号,特開昭61−129731号,米国特
許4388368号;三石幸夫著『繊維と工業』31巻
p50〜55,1975年などに記載されている。これ
ら支持体の中心線平均表面粗さRaは0.001〜5.
0μmが好ましい。またこれら支持体のヤング率(F5
値)は目的に応じて、幅方向、長手方向とも2〜30Kg
/mm2(1Kg/m2=9.8Pa)を選択することができ
る。
The polishing layer is formed by dissolving in an organic solvent any combination of the above-mentioned compositions and the like, and applying and drying the solution on a support as a coating solution. This support is flexible and has a thickness of 50
About 300 μm. Examples of the material include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polypropylene, cellulose derivatives such as cellulose triacetate and cellulose diacetate, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polycarbonate, polyimide, polyamide, and polysulfone. In addition to the above plastics, metals such as aluminum and copper, and ceramics such as glass can also be used. Prior to coating, these supports may be subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, undercoating treatment, heat treatment, dust removal treatment, metal deposition treatment, and alkali treatment. Regarding these supports, see, for example, West German Patent 3,338,854A, JP-A-59-5959.
No. 116926, JP-A-61-129731, U.S. Pat. No. 4,388,368; Yukio Mitsuishi, Textile and Industry, vol. 31, p. 50-55, 1975, etc. The center line average surface roughness Ra of these supports is 0.001-5.
0 μm is preferred. In addition, the Young's modulus (F5
Value) is 2 to 30 kg in both the width and longitudinal directions depending on the purpose.
/ Mm 2 (1 kg / m 2 = 9.8 Pa).

【0041】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、
分散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80℃)など
は適宜設定することができる。研磨塗布液の調製には通
常の混練機、例えば、二本ロールミル,三本ロールミ
ル,ボールミル,ペブルミル,トロンミル,サンドグラ
インダー,ツェグバリ(Szegvari)アトライタ
ー,高速インペラー,分散機,高速ストーンミル,高速
度衝撃ミル,ディスパー,ニーダー,高速ミキサー,リ
ボンブレンダー,コニーダー,インテンシブミキサー,
タンブラー,ブレンダー,ディスパーザー,ホモジナイ
ザー,単軸スクリュー押出し機,二軸スクリュー押出し
機,及び超音波分散機などを用いることができる。通
常、分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、
連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、
T.C.PATTON著(テー.シー.パットン)“P
aint Flow and Pigment Dis
persion”(ペイントフロー アンド ピグメン
ト ディスパージョン)1964年,John Wil
ey & Sons社発行(ジョン ウイリー アンド
サンズ))や田中信一著『工業材料』25巻37(1
977)などや当該書籍の引用文献に記載されている。
これら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よ
く進めるため、球相当径で10cmφ〜0.05mmφ
の径のスチールボール,スチールビーズ,セラミツクビ
ーズ,ガラスビーズ,有機ポリマービーズを用いること
ができる。またこれら材料は球形に限らない。また、米
国特許第2581414号及び同第2855156号な
どの明細書にも記載がある。本発明においても上記の書
籍や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて
混練分散を行い研磨塗布液を調製することができる。
The method of dispersion and kneading is not particularly limited, and the order of addition of each component (resin, powder, lubricant, solvent, etc.)
The addition position during dispersion / kneading, the dispersion temperature (0 to 80 ° C.) and the like can be appropriately set. For preparation of the polishing coating solution, a usual kneading machine, for example, a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, a pebble mill, a tron mill, a sand grinder, a Szegvari attritor, a high-speed impeller, a disperser, a high-speed stone mill, and a high-speed Impact mill, disperser, kneader, high-speed mixer, ribbon blender, co-kneader, intensive mixer,
Tumblers, blenders, dispersers, homogenizers, single screw extruders, twin screw extruders, ultrasonic dispersers, and the like can be used. Usually, dispersing / kneading is provided with a plurality of these dispersing / kneading machines,
Process continuously. For more information on kneading and dispersing technology,
T. C. PATTON (T.C.Patton) "P
aint Flow and Pigment Dis
version "(Paint Flow and Pigment Dispersion), 1964, John Wil
ey & Sons (John Wiley and Sons)) and Shinichi Tanaka, Industrial Materials, Vol. 25, 37 (1
977) and the cited reference of the book.
In order to efficiently promote dispersion and kneading as an auxiliary material for these dispersion and kneading, the equivalent diameter of the sphere is 10 cmφ to 0.05 mmφ.
Steel balls, steel beads, ceramic beads, glass beads, and organic polymer beads having the following diameters can be used. These materials are not limited to spherical shapes. It is also described in specifications such as U.S. Patent Nos. 2,581,414 and 2,855,156. Also in the present invention, a polishing coating solution can be prepared by kneading and dispersing according to the method described in the above book or the cited document of the book.

【0042】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を1〜20000センチ
ストークス(25℃)に調整し、エアードクターコータ
ー,ブレードコーター,エアナイフコーター,スクイズ
コーター,含浸コーター,リバースロールコーター,ト
ランスファーロールコーター,グラビアコーター,キス
コーター,キヤストコーター,スプレイコーター,ロッ
ドコーター,正回転ロールコーター,カーテンコータ
ー,押出コーター,バーコーター,リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』253頁〜2
77頁(昭和46.3.20.発行)等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗層あるいは支持体と
の密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層の多層構成は、同時多層塗布、逐次多層
塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭57
−123532号公報,特公昭62−37451号公
報,特開昭59−142741号公報,特開昭59−1
65239号公報の明細書等に示されている。
As a method of applying the above-mentioned coating liquid for a polishing layer on a support, the viscosity of the coating liquid is adjusted to 1 to 20,000 centistokes (25 ° C.), and an air doctor coater, a blade coater, an air knife coater, and a squeeze are used. Coater, impregnation coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss coater, cast coater, spray coater, rod coater, forward rotation roll coater, curtain coater, extrusion coater, bar coater, lip coater, etc., and other methods are available. It is also possible to provide specific descriptions of these in “Coating Engineering” published by Asakura Shoten, pages 253 to 2
This is described in detail on page 77 (issued in 1963, 1963). The order of application of these coating liquids can be arbitrarily selected, and a corona discharge treatment or the like may be performed before the application of the desired liquid to improve the adhesion to the undercoat layer or the support. The multilayer structure of the polishing layer may be a simultaneous multilayer coating, a sequential multilayer coating, or the like. These are described, for example, in
JP-1235232, JP-B-62-37451, JP-A-59-142741 and JP-A-59-1.
No. 65239, and the like.

【0043】このような方法により、支持体上に約1〜
200μmほどで塗布された研磨液を必要により直ちに
30〜160℃で多段階で乾燥処理を施したのち、形成
した研磨層を0.05〜10μmの厚みに乾燥する。こ
のときの支持体の搬送速度は、通常10m/分〜900
m/分で行われ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を20℃
〜130℃で制御し、塗布膜の残留溶剤量を0.1〜4
0mg/m2 とする。また必要により表面平滑化加工を
施し研磨層もしくはバック層の中心線平均表面粗さを
0.001〜0.3μm(カットオフ0.25mm)と
し、所望の形状に裁断したりして、本発明の研磨体を製
造する。これらの製造方法は粉体の予備処理・表面処
理、混練・分散、塗布・乾燥、平滑処理、熱処理、EB
処理、表面研磨処理、裁断、巻き取りの工程を連続して
行うことが望ましい。
By such a method, about 1 to about
If necessary, the polishing liquid applied at about 200 μm is immediately subjected to drying treatment at 30 to 160 ° C. in multiple stages, and then the formed polishing layer is dried to a thickness of 0.05 to 10 μm. The conveying speed of the support at this time is usually 10 m / min to 900
m / min, and drying temperature is 20 ° C in multiple drying zones.
~ 130 ° C and the amount of residual solvent in the coating film is 0.1 ~ 4
0 mg / m 2 . Further, if necessary, the surface of the polishing layer or the backing layer is subjected to a surface smoothing process so that the center line average surface roughness of the polishing layer or the backing layer is 0.001 to 0.3 μm (cutoff 0.25 mm) and cut into a desired shape. Is manufactured. These production methods include powder pretreatment / surface treatment, kneading / dispersion, coating / drying, smoothing treatment, heat treatment, EB
It is desirable that the steps of treatment, surface polishing, cutting, and winding are performed continuously.

【0044】このように作製した研磨体を所定の形状に
裁断または打ち抜く。これ以前の工程において研磨体の
バーニッシュおよびまたはクリーニングを行うことが望
ましい。バーニッシュは研磨体を具体的にサファイア
刃,剃刀刃,超硬材料刃,ダイアモンド刃,セラミック
ス刃のような硬い材料により研磨体表面の突起部分をそ
ぎおとし平滑にする。これら材料のモース硬度は8以上
が好ましいが特に制限はなく突起を除去できるものであ
れば良い。これら材料の形状は特に刃である必要はな
く、角型,丸型,ホイール(回転する円筒形状の周囲に
これらの材質を付与しても良い)のような形状でも使用
できる。また研磨体のクリーニングは、研磨体表面の汚
れや余分な潤滑剤を除去する目的で研磨体表層を不織布
などで研磨層面をワイピングすることにより行う。この
ようなワイピングの材料としては例えば日本バイリーン
製の各種バイリーンや東レ製のトレシー,エクセーヌ,
商品名キムワイプ,富士写真フィルム製各種研磨テー
プ,また不織布はナイロン製不織布,ポリエステル製不
織布,レーヨン製不織布,アクリロニトリル製不織布,
混紡不織布など,ティッシュペーパー等が使用できる。
これらは例えば特公昭46−39309号,特公昭58
−46768号,特開昭56−90429号,特公昭5
8−46767号,特開昭63−259830号,特開
平1−201824号等にも記載されている。
The polished body thus produced is cut or punched into a predetermined shape. It is desirable to burnish and / or clean the abrasive body in an earlier step. The burnisher uses a hard material such as a sapphire blade, a razor blade, a cemented carbide blade, a diamond blade, or a ceramic blade to scrape off the protrusions on the surface of the polishing body. The Mohs hardness of these materials is preferably 8 or more, but is not particularly limited as long as protrusions can be removed. The shape of these materials does not need to be a blade in particular, and may be a shape such as a square shape, a round shape, or a wheel (these materials may be provided around a rotating cylindrical shape). The cleaning of the abrasive body is performed by wiping the surface of the abrasive body with a nonwoven fabric or the like in order to remove dirt or excess lubricant on the surface of the abrasive body. Examples of such wiping materials include various types of Vilene manufactured by Nippon Vilene, Toraysee, Exeine, manufactured by Toray.
Trade name: Kimwipe, various polishing tapes made by Fuji Photo Film, and nonwoven fabrics: nylon nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric, rayon nonwoven fabric, acrylonitrile nonwoven fabric,
Tissue paper, such as a blended nonwoven fabric, can be used.
These are, for example, JP-B-46-39309 and JP-B-58
No. 46768, JP-A-56-90429, Japanese Patent Publication No. 5
No. 8-46767, JP-A-63-259830, JP-A-1-201824 and the like.

【0045】本発明に使用される研磨剤、バインダー、
添加剤(潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等)、溶剤及び支持体(下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい)或いはその製法に関しては、特公昭
56−26890号等に記載されている研磨体の製造方
法等を参考にできる。
The abrasive, binder and binder used in the present invention
Additives (lubricants, dispersants, antistatic agents, surface treatment agents, carbon black, abrasives, light-blocking agents, antioxidants, antifungal agents, etc.), solvents and supports (undercoat layer, back layer, under back) (It may have a coating layer) or the production method thereof can be referred to the production method of a polishing body described in JP-B-56-26890 and the like.

【0046】[0046]

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示
し、その研磨特性を評価する。なお実施例中の「部」と
あるのは「重量部」のことである。
EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be shown below, and their polishing characteristics will be evaluated. In the examples, “parts” means “parts by weight”.

【0047】<実施例1〜5>本例の研磨体は、下記組
成Aを均一に混練分散し、粘度調整した研磨塗布液を、
厚みが75μmのポリエチレンテレフタレートによる支
持体上に2〜50μm厚さとなるようにバーコート塗布
・乾燥して研磨層を形成し、試料Xを得た。実施例1〜
5では、下記表1に示すように研磨層の塗布厚みを変更
している。
<Examples 1 to 5> A polishing body of the present example was prepared by uniformly kneading and dispersing the following composition A and adjusting the viscosity of the polishing composition.
A polishing layer was formed by applying and drying a bar coat to a thickness of 2 to 50 μm on a support made of polyethylene terephthalate having a thickness of 75 μm to obtain a sample X. Example 1
In No. 5, the coating thickness of the polishing layer was changed as shown in Table 1 below.

【0048】上記研磨体(研磨シート)を、直径200
mmのディスク形状に打ち抜き、ゴム製回転盤上に貼り
付け、この回転盤を100rpmで回転させながら、光
コネクターフェールールをその上で遊星運動させ先端を
研磨層に接触させて研磨を30秒行った。供給したクー
ラント液は、粒径10nmのコロイダルシリカを含有す
るシリカスラリーを用いた。
The above-mentioned abrasive body (abrasive sheet) was prepared by
mm, and affixed on a rubber turntable. The turntable was rotated at 100 rpm, and the optical connector ferrule was made to perform planetary motion on the ferrule to bring the tip into contact with the polishing layer to perform polishing for 30 seconds. Was. As the supplied coolant, a silica slurry containing colloidal silica having a particle diameter of 10 nm was used.

【0049】上記研磨体における研磨層塗布厚みと、フ
ェルール面と光ファイバー面との段差の測定結果、研磨
した光コネクターフェルールの光損失の測定結果を、表
1に示す。上記光損失(dB)は、光ファイバーの研磨
面の反射で生じる伝達光量のロス量を測定したもので、
表面の平滑性等を評価でき、dB値が大きいほど伝達ロ
スが少なく良好な伝達状態を示すものである。
Table 1 shows the thickness of the polishing layer applied to the above-mentioned polished body, the measurement results of the step between the ferrule surface and the optical fiber surface, and the measurement results of the optical loss of the polished optical connector ferrule. The light loss (dB) is a value obtained by measuring a loss amount of a transmitted light amount caused by reflection on a polished surface of an optical fiber.
The smoothness and the like of the surface can be evaluated. The larger the dB value, the smaller the transmission loss and the better the transmission state.

【0050】<比較例1〜4>表1には比較例1〜4の
テスト結果も同様に示す。この比較例は、それぞれ組成
の異なる研磨体を使用し、いずれにおいても研磨層のバ
インダーにはカルボキシメチルニトロセルロースを含有
していない。
<Comparative Examples 1-4> Table 1 also shows the test results of Comparative Examples 1-4. In this comparative example, polishing bodies having different compositions were used, and in each case, the binder of the polishing layer did not contain carboxymethylnitrocellulose.

【0051】 〔塗布液組成:A〕 研磨剤(アルミナ:不二見研磨材製WA8000) 30部 バインダー(水溶性カルボキシメチルニトロセルロース :硝化度11.1%、置換度2) 10部 バインダー(ウレタンエマルジョンHW140 :大日本インキ社製) 20部 溶剤(アルコール水溶液) 60部[Coating liquid composition: A] Abrasive (alumina: WA8000 manufactured by Fujimi Abrasives) 30 parts Binder (water-soluble carboxymethylnitrocellulose: nitrification degree 11.1%, substitution degree 2) 10 parts Binder (urethane emulsion HW140) Dainippon Ink Co., Ltd.) 20 parts Solvent (alcohol aqueous solution) 60 parts

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】上記表1の結果、本発明実施例1〜5によ
るものでは、光損失が59〜60dBと良好な値であ
り、段差も3〜5μmと小さな値となっている。これに
対して、バインダーとしてカルボキシメチルニトロセル
ロースを含んでいない比較例1,2,4の研磨体による
光コネクターフェルールの研磨では、光損失は48〜5
3dBであると共に、先端の段差が6〜25nmと大き
な値となっている。また、比較例3は研磨剤を含有して
いないセルロース膜に研磨剤含有のスラリーを使用して
研磨したものであり、段差は2nmと小さいが光損失は
55dBと本発明実施例によるものより伝達効率が低く
なっている。
As a result of the above Table 1, in Examples 1 to 5 of the present invention, the light loss is as good as 59 to 60 dB, and the step is as small as 3 to 5 μm. On the other hand, when the optical connector ferrule was polished with the polished bodies of Comparative Examples 1, 2, and 4 containing no carboxymethylnitrocellulose as a binder, the light loss was 48-5.
It is 3 dB, and the step at the tip is a large value of 6 to 25 nm. In Comparative Example 3, a cellulose film containing no abrasive was polished using an abrasive-containing slurry. The step was as small as 2 nm, but the light loss was 55 dB, which was higher than that of the embodiment of the present invention. Efficiency is low.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けてなる研磨体において、 前記バインダーがカルボキシメチルニトロセルロースを
50%以上含むことを特徴とする研磨体。
1. A polishing body having a polishing layer comprising fine abrasive powder and a binder provided on a flexible support, wherein the binder contains 50% or more of carboxymethylnitrocellulose.
【請求項2】 前記研磨体は光コネクターフェルール端
面研磨用であることを特徴とする請求項1に記載の研磨
体。
2. The polishing body according to claim 1, wherein the polishing body is for polishing an end face of an optical connector ferrule.
【請求項3】 前記バインダーはニトロ基の置換度が
1.6〜2.2であるカルボキシメチルニトロセルロー
スを含むことを特徴とする請求項1に記載の研磨体。
3. The polishing body according to claim 1, wherein the binder contains carboxymethylnitrocellulose having a nitro group substitution degree of 1.6 to 2.2.
【請求項4】 前記バインダーは水溶性を付与したカル
ボキシメチルニトロセルロースを含むことを特徴とする
請求項1に記載の研磨体。
4. The polishing body according to claim 1, wherein the binder contains carboxymethylnitrocellulose provided with water solubility.
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