JPH11277416A - 被加工物保持プレート - Google Patents

被加工物保持プレート

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JPH11277416A
JPH11277416A JP8162398A JP8162398A JPH11277416A JP H11277416 A JPH11277416 A JP H11277416A JP 8162398 A JP8162398 A JP 8162398A JP 8162398 A JP8162398 A JP 8162398A JP H11277416 A JPH11277416 A JP H11277416A
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holding plate
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Shigeki Sato
佐藤  茂樹
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Naoetsu Electronics Co Ltd
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Naoetsu Electronics Co Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 センサーによる検知が確実に可能で、かつ製
品に悪影響を与えないマーキングが施されたウエハ保持
プレートを提供する。 【解決手段】 硬脆材料からなる円形のプレート1に貼
り付けられる円形テンプレート2又は円形のプレート1
の接合面側にマーキングMを施し、光センサーにより検
知可能なように円形テンプレート2を透明又は半透明の
樹脂製テンプレートとしたことにより、マーキングM部
分が硬脆プレート1とテンプレート2に挾まれて研磨面
側表面に露出せずに、光センサーにて明確に検知可能と
なる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコン半導体ウ
エハ等の薄板状被加工物を保持して研磨する被加工物保
持プレート(以下ウエハ保持プレート)に関する。詳し
くは、一定の透過率以上の樹脂製テンプレート片面に光
センサーにより検知可能なマーキングを施し、その面を
硬脆材料からなるプレートに貼り付けたウエハ保持プレ
ートに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ワックスフリー研磨は、ワックス
を用いないで被研磨物の研磨を行うことができるため、
ワックス洗浄工程を省略でき、該洗浄に必要な有機溶剤
など自然環境に有害な物質の使用を避けることができ
る。このため近年増えつつある研磨方法である。通常シ
リコン半導体ウエハ等のワックスフリー研磨には、研磨
中のウエハの保持のためにウエハ保持プレートが用いら
れる。このウエハ保持プレートは、円形硬脆材料のプレ
ートに、複数または単数の円形孔が開口された樹脂製の
円形テンプレートを貼り付け、更に該円形孔の開口底部
に貼り付けられたウエハ吸着パッドに水を含ませ、ウエ
ハを円形孔の開口底部に押圧吸着させることによってウ
エハを保持した後、ウエハ保持プレートを研磨装置に着
装し、研磨スラリーをウエハ研磨面と研磨クロスの間に
供給しながら摺擦運動させて研磨を行う。上記研磨終了
後は、研磨装置からウエハ保持プレートを取り出し、噴
射水によりプレートからウエハを剥離してウエハ収納カ
セットに収めるが、ウエハ保持プレートの大型化に伴っ
て作業者の肉体的な負担の軽減や安全面から自動化が進
み以下のような方法が実施されていた。上記研磨装置か
ら回収されたウエハ保持プレートは、ロボットアーム等
によって吸着搬送され、駆動手段に直結した回転自在な
回転台に載置される。回転台の上方には、反射型光セン
サーが設置され、テンプレートの外周部の研磨面側外面
に施されたマーキングを検知し、所定の回転をして順次
剥離対象となるウエハが噴射ノズルとウエハ収納カセッ
トを結ぶ直線上に精度良く位置する。その後、上記噴射
ノズルからの噴射水がウエハと円形孔の間隙に向け噴射
されてウエハを剥離し、シュータを介してウエハ収納カ
セットに収納していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、以上のような
テンプレートの外周部の研磨面側外面に施されたマーキ
ングを反射型光センサーで検知することによってウエハ
の位置を制御する従来の方法では、次のような問題が発
生していた。ウエハ保持プレートの外周部に施されるマ
ーキングは、ウエハ研磨面側のテンプレート表面に描画
または刻印された一定面積を持つ矩形または円形状等の
単純幾何学形状であり、テンプレート面とは一定以上の
明暗差を有している。このマーキング部分がセンサーに
検知された時点で保持プレートを載置した回転台が所定
の位置で停止し、剥離対象ウエハの位置決めを精度良く
行うことが可能となる。ところがウエハ研磨面側のテン
プレート表面にマーキングが描画または刻印されている
ため、マーキングが描画されている場合はウエハの研磨
の度に研磨クロスによって擦られ、次第にマーキングは
消失してしまいセンサーによる検知の機能を果たさなく
なってしまう。完全に消失しないまでもテンプレート表
面との明暗差がなくなってきた場合には回転台駆動系の
誤動作の可能性も出てくる。また、マーキング自体が研
磨中にスラリーに溶出し、コンタミネーションの問題が
発生する惧れがある。
【0004】以上記述した問題に鑑み、確実にセンサー
によって検知され、本案のウエハ位置決め機能を確実に
果すとともに、製品に悪影響を与えないマーキングが施
されたウエハ保持プレートを提供することを課題とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明のうち請求項1記載の発明は、薄板状の
被加工物を保持して該被加工物の研磨を行うための、硬
脆材料からなる円形のプレートに複数または単数の円形
孔が開口された樹脂製の円形テンプレートを貼り付けた
被加工物保持プレートにおいて、前記円形テンプレート
又は円形のプレートの接合面側にマーキングを施し、光
センサーからの反射光を確実に検知できるように円形テ
ンプレートを透明又は半透明の樹脂製テンプレートとし
たことを特徴とするものである。請求項2記載の発明
は、請求項1記載の発明の構成に、前記樹脂製テンプレ
ートの厚さを、0.5mm以上1.8mm以下とし、可視光透
過率を20%以上とした構成を加え、マーキング部と周
囲の明暗差を光センサーからの反射光により確実にとら
えることを特徴とする。請求項3記載の発明は、請求項
1または2記載の発明の構成に、前記光センサーは可視
光またはレーザーまたは赤外線を対象とし、その波長を
300nmから0.5mmの範囲とした構成を加えたことを
特徴とする。
【0006】
【作用】請求項1の発明に係わる作用は、硬脆材料から
なる円形のプレートに貼り付けられる円形テンプレート
又は円形のプレートの接合面側にマーキングを施し、光
センサーにより検知可能なように円形テンプレートを透
明又は半透明の樹脂製テンプレートとしたことにより、
マーキング部分が硬脆プレートとテンプレートに挾まれ
て研磨面側表面に露出せずに、光センサーにて確実に検
知可能となり、かつ従来のようにテンプレート表面に描
画したときのように研磨中マーキング部分がスラリーに
溶出し、コンタミネーションによる製品への悪影響もな
い。請求項2の発明は、請求項1記載の構成に対して、
前記樹脂製テンプレートの厚さを、0.5mm以上1.8mm
以下とし、可視光透過率を20%以上とした構成を追加
したので、光の減衰が小さく、マーキング部と周囲の明
暗差を光センサーからの反射光により確実にとらえる作
用がある。請求項3の発明は、請求項1または2記載の
構成に対して、前記光センサーが可視光またはレーザー
または赤外線を対象とし、その波長を300nmから0.
5mmの範囲とした構成を追加したので、通常の大きさの
マーキング部分であれば確実にとらえることができ、テ
ンプレート及び硬脆プレートの材質や表面粗さ等によら
ず好適に作動させることが可能となる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。図1及び図2は、本発明に係わるウエ
ハ保持プレートPの断面図及び平面図である。(但し、
本図は説明のため研磨時の状態とは天地逆に示してあ
る)保持プレートPは、ガラスなどの硬脆材料からなる
円形のべースプレート1(厚さ20mm)上に、内径が1
51mmの円形孔(ホール)2aを6個開設した円形のテ
ンプレート2を接着する。この円形テンプレート2は、
可視光透過率が20%以上の樹脂によって厚さ0.5mm
から1.8mmに製造される。本実施例の場合には、可視
光透過率が50%程度のエポキシ樹脂によって厚さ1.
5mmに形成されている。上記円形孔2aには、その内径
より1〜2mm小さい径のウエハ吸着パッド3(厚さ1m
m)が接着されている。
【0008】更に、前記テンプレート2又は円形のべー
スプレート1におけるウエハ保持面側の外周部には、幅
3mm、長さ5mmの黒色のマーキングMが施されている。
このマーキングMは、該マーキングMが施された部分
と、それ以外の部分との反射光の変化によって、該マー
キングMが施された部分の検知がセンサーで行われるよ
うにするものであり、本実施例の場合には、上記テンプ
レート2をべースプレート1に接着する前に、該テンプ
レート2の接着面側に描画される。
【0009】光センサー(図示せず)の発光部から照射
された可視光(波長700nm程度の赤色系)は、テンプ
レート2を透過し(一部はテンプレート2の表面で反
射)、該テンプレート2とべースプレート1の境界面ま
で届き反射する。この反射光は、テンプレート2のほぼ
同一経路を透過し、光センサーの受光部に入射する。こ
の時、円形テンプレート2は厚さ1.5mmで可視光透過
率50%であることから、光センサーは反射光の変化を
確実に検知することができる。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のうち請求
項1記載の発明は、硬脆材料からなる円形のプレートに
貼り付けられる円形テンプレート又は円形のプレートの
接合面側にマーキングを施し、光センサーにより検知可
能なように円形テンプレートを透明又は半透明の樹脂製
テンプレートとしたことにより、マーキング部分が硬脆
プレートとテンプレートに挾まれて研磨面側表面に露出
せずに、光センサーにて確実に検知可能となるので、ウ
エハ位置決め機能を確実に果たすとともに、製品に悪影
響を与えないマーキングが施されたウエハ保持プレート
を提供できる。従って、マーキングをテンプレート表面
に描画した従来のもののように、研磨中にマーキング部
分がクロスに擦られて消失することがなく、かつ従来の
ようにテンプレート表面に描画したときのように研磨中
マーキング部分がスラリーに溶出し、コンタミネーショ
ンによる製品への悪影響もなく、長期に亙り使用できて
経済的である。
【0011】請求項2の発明は、請求項1の発明の効果
に加えて、樹脂製テンプレートの厚さを、0.5mm以上
1.8mm以下とし、可視光透過率を20%以上としたの
で、光の減衰が小さく、マーキング部と周囲の明暗差を
光センサーからの反射光により確実にとらえることがで
き、保持プレートの位置決めを支障なく行うことができ
る。
【0012】請求項3の発明は、請求項1または2の発
明の効果に加えて、光センサーが可視光またはレーザー
または赤外線を対象とし、その波長を300nmから0.
5mmの範囲としたので、テンプレート及び硬脆プレート
の材質や表面粗さ等によらず、広範囲大きさ、形状のマ
ーキングに対応でき、安価で好適なセンサーを選択し、
確実に作動させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例を示すウエハ保持プレート
の断面図である。
【図2】 同平面図である。
【符号の説明】
W 被加工物(ウエハ) M マーキン
グ 1 プレート(べースプレート) 2 テンプレ
ート 2a 円形孔

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 薄板状の被加工物(W)を保持して該被
    加工物(W)の研磨を行うための、硬脆材料からなる円
    形のプレート(1)に複数または単数の円形孔(2a)
    が開口された樹脂製の円形テンプレート(2)を貼り付
    けた被加工物保持プレートにおいて、 前記円形テンプレート(2)又は円形のプレート(1)
    の接合面側にマーキング(M)を施し、光センサーによ
    り検知可能なように円形テンプレート(2)を透明又は
    半透明の樹脂製テンプレートとしたことを特徴とする被
    加工物保持プレート。
  2. 【請求項2】 前記樹脂製テンプレートの厚さを、0.
    5mm以上1.8mm以下とし、可視光透過率を20%以上
    とした請求項1記載の被加工物保持プレート。
  3. 【請求項3】 前記光センサーは可視光またはレーザー
    または赤外線を対象とし、その波長を300nmから0.
    5mmの範囲とした請求項1または2記載の被加工物保持
    プレート。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008093723A (ja) * 2006-10-13 2008-04-24 Pulstec Industrial Co Ltd レーザ微細加工装置
JP2017159382A (ja) * 2016-03-08 2017-09-14 スピードファム株式会社 平面研磨装置及びキャリア
JP2017189849A (ja) * 2016-04-14 2017-10-19 スピードファム株式会社 平面研磨装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008093723A (ja) * 2006-10-13 2008-04-24 Pulstec Industrial Co Ltd レーザ微細加工装置
JP2017159382A (ja) * 2016-03-08 2017-09-14 スピードファム株式会社 平面研磨装置及びキャリア
JP2017189849A (ja) * 2016-04-14 2017-10-19 スピードファム株式会社 平面研磨装置

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