JPH11274392A - Manufacture of resin encapsulated semiconductor device - Google Patents
Manufacture of resin encapsulated semiconductor deviceInfo
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は樹脂封止型半導体装
置の製造方法に関するものである。The present invention relates to a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device.
【0002】[0002]
【従来の技術】樹脂封止型半導体装置では、リードフレ
ームのリードが樹脂封止などの際に変形したり、ダム漏
れ防止したり、位置ずれしないように、あらかじめリー
ド同士をタイバーで連結しておき、樹脂封止後にそれを
除去することが行われている。タイバーにはリードフレ
ームと一体に形成した金属タイバータイプ、および電気
絶縁性の樹脂で構成した樹脂タイバータイプがある。2. Description of the Related Art In a resin-encapsulated semiconductor device, the leads of a lead frame are connected to each other with tie bars in advance so that the leads do not deform during resin encapsulation, prevent a dam from leaking, or dislocate. It is common to remove it after resin sealing. The tie bar includes a metal tie bar type formed integrally with the lead frame and a resin tie bar type formed of an electrically insulating resin.
【0003】半導体装置の小型化、多ピン化に伴って、
リードフレームにおいても非常に多数のアウターリード
をもち、しかもそのピッチが0.5mm以下の非常に狭い
ものが広く使用されるようになってきている。With the miniaturization of semiconductor devices and the increase in the number of pins,
A lead frame having a very large number of outer leads and having a very narrow pitch of 0.5 mm or less has been widely used.
【0004】金属タイバータイプのリードフレームを使
用した半導体装置では、パンチを使用してそのタイバー
を切断除去するのであるが、リードの狭ピッチ化に応じ
てパンチが微細化し、それに伴って切断除去が困難にな
るだけでなく、その耐摩耗性が低下することから、パン
チによる除去は量産に適していない。このようなリード
の狭ピッチ化にも対応できるタイバーとして、樹脂で形
成する手法が開発され、使用されている。In a semiconductor device using a metal tie bar type lead frame, the tie bar is cut and removed using a punch. However, as the pitch of the leads becomes narrower, the punch becomes finer. Removal by punching is not suitable for mass production because it not only makes it difficult but also reduces its wear resistance. As a tie bar that can cope with such a narrow lead pitch, a method of forming with a resin has been developed and used.
【0005】具体的には、樹脂パッケージと一部分重な
る位置に樹脂タイバーを形成し、半導体装置完成後にお
いてもそのまま残した構造と、樹脂パッケージと重なら
ないように樹脂モールド端縁位置から外側へ若干離れた
位置に樹脂タイバーを形成しておき、モールド後に除去
してしまう方法とがある。More specifically, a resin tie bar is formed at a position that partially overlaps with the resin package, and is left as it is even after the completion of the semiconductor device, and slightly away from the edge of the resin mold so as not to overlap with the resin package. There is a method in which a resin tie bar is formed at a position where the resin tie is formed, and is removed after molding.
【0006】後者の方法では、樹脂タイバーをパンチで
砕いて割れ目を入れてからジェット水流を当てて除去す
るという方法や、レーザ光などの高エネルギー光を照射
して除去するという方法などが提案されている。In the latter method, there are proposed a method of crushing the resin tie bar with a punch to form a crack and then removing the resin tie bar by applying a jet of water, or a method of irradiating a high energy light such as a laser beam to remove the resin tie bar. ing.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところが、樹脂タイバ
ーを樹脂パッケージに部分的に重なるようにして形成
し、半導体装置完成後においても残す構造としたときに
は、タイバー部分、またはパッケージのタイバー近傍部
分にクラックを生じるおそれがあり、信頼性の面から検
討の余地が残されていた。However, when the resin tie bar is formed so as to partially overlap the resin package and is left even after the completion of the semiconductor device, cracks may occur in the tie bar portion or in the vicinity of the tie bar of the package. Therefore, there is room for consideration in terms of reliability.
【0008】一方、樹脂パッケージ形成後に樹脂タイバ
ーを除去する方法には、樹脂パッケージに信頼性を低下
させるような影響を及ぼさないという利点がある。とこ
ろが、加工面では、樹脂モールド時に生じたパッケージ
のバリと樹脂タイバーとを別個に除去するため、その除
去に多くの工数を要する。On the other hand, the method of removing the resin tie bar after the formation of the resin package has an advantage that it does not affect the resin package such that the reliability is reduced. However, on the processing side, since the burr of the package and the resin tie bar generated at the time of resin molding are separately removed, many steps are required for the removal.
【0009】本発明は、樹脂パッケージの信頼性を損な
うことなく、樹脂パッケージのバリと樹脂タイバーとを
同時に除去することができる方法を提供しようとするも
のである。An object of the present invention is to provide a method capable of simultaneously removing burrs and a resin tie bar of a resin package without impairing the reliability of the resin package.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置の製造方法においては、リードフレームのリード
同士を樹脂パッケージ形成領域外にて連結する樹脂タイ
バーを形成し、リードフレームへの半導体チップの搭載
とその樹脂封止をしてから、有機溶剤中に所定時間浸漬
して、樹脂タイバーを選択的に溶解除去する。そして、
有機溶剤に対してパッケージ形成のための樹脂がタイバ
ー形成のための樹脂に比べて難溶性とする。In a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention, a resin tie bar for connecting leads of a lead frame outside a resin package forming region is formed, and a semiconductor is mounted on the lead frame. After mounting the chip and sealing the resin, the chip is immersed in an organic solvent for a predetermined time to selectively dissolve and remove the resin tie bar. And
The resin for forming the package is less soluble in the organic solvent than the resin for forming the tie bar.
【0011】タイバーとパッケージを構成する樹脂を上
述のように選択することで、パッケージが有機溶剤によ
るダメージを受けることなく樹脂タイバーが選択的に除
去される。そして、樹脂パッケージのバリは薄く、小片
状であることから、樹脂タイバー除去の際にこのバリも
溶解除去される。By selecting the tie bar and the resin constituting the package as described above, the resin tie bar is selectively removed without the package being damaged by the organic solvent. Since the burr of the resin package is thin and small, the burr is also dissolved and removed when the resin tie bar is removed.
【0012】さらにまた、上述の方法において、樹脂タ
イバー形成にポリエーテルアミド樹脂、ポリエーテルイ
ミド樹脂、ポリエーテルアミドイミド樹脂、またはアク
リル樹脂を、また、樹脂パッケージ形成にエポキシ樹脂
をそれぞれ使用し、さらに有機溶剤としてジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、m−クレゾール、ピ
リジン、またはシクロヘキサノを使用することで、樹脂
タイバー除去の選択性がより高められる。Further, in the above-mentioned method, a polyetheramide resin, a polyetherimide resin, a polyetheramideimide resin, or an acrylic resin is used for forming a resin tie bar, and an epoxy resin is used for forming a resin package. By using dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, m-cresol, pyridine, or cyclohexano as the organic solvent, the selectivity of resin tie bar removal is further enhanced.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の方法の実施の形態
について図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0014】図1(a)に示すように、まず、鉄ニッケ
ル合金たとえば58Fe/42Ni合金の薄板を、所定
のパターンにエッチングしまたは金型を使用して打抜き
加工するなどして、リードフレーム1を作製する。この
例のリードフレーム1では、その枠体2の中央部分に半
導体チップが搭載されるダイパッド3が配されている。
ダイパッド3はその四隅部分と枠体2とをそれぞれ連結
する吊りリード4で枠体2に保持される。また、枠体2
からダイパッド3の各四辺へ向かって多数本のアウター
リード5が延設され、さらに、その端部からアウターリ
ード5と一体に形成されたインナーリード6がダイパッ
ド3へ向かって延び、先端部分がダイパッド3の近傍に
位置する。As shown in FIG. 1A, first, a thin plate of an iron-nickel alloy, for example, a 58Fe / 42Ni alloy is etched into a predetermined pattern or punched by using a die, etc. Is prepared. In the lead frame 1 of this example, a die pad 3 on which a semiconductor chip is mounted is arranged in a central portion of the frame 2.
The die pad 3 is held on the frame 2 by suspending leads 4 connecting the four corners thereof and the frame 2 respectively. Also, frame 2
A number of outer leads 5 are extended from each of the four sides of the die pad 3, and inner leads 6 formed integrally with the outer leads 5 extend toward the die pad 3 from the ends thereof, and the tip portion is a die pad. 3 is located in the vicinity.
【0015】このリードフレーム1の形成工程では、ア
ウターリード5間やインナーリード6間にある金属部分
をすべて除去し、それらを連結するような金属部材を残
さない。In the step of forming the lead frame 1, all the metal parts between the outer leads 5 and between the inner leads 6 are removed, and a metal member for connecting them is not left.
【0016】次に、リードフレーム1における樹脂モー
ルド境界線7に沿って、この境界線7に囲まれた樹脂モ
ールド領域の外側の領域に所定の間隔Gをもって、細帯
状の樹脂タイバー8を付与形成して、アウターリード5
をインナーリード6側の端部で連結する。Next, along the resin mold boundary line 7 of the lead frame 1, a narrow band-shaped resin tie bar 8 is formed at a predetermined interval G in a region outside the resin mold region surrounded by the boundary line 7. And outer lead 5
At the end on the inner lead 6 side.
【0017】樹脂タイバー形成に使用する樹脂として
は、ポリエーテルアミド樹脂、ポリエーテルイミド樹
脂、またはポリエーテルアミドイミド樹脂を使用するこ
とができる。これら樹脂はリードフレーム1に対する接
着性がエポキシ樹脂のそれに比べて低い。そして、これ
ら樹脂のうちポリエーテルアミドイミド樹脂が、比較的
低い粘度で塗布しやすく、強度も高いことから、実使用
上の利点の大きい材料である。As the resin used for forming the resin tie bar, a polyether amide resin, a polyether imide resin, or a polyether amide imide resin can be used. These resins have lower adhesiveness to the lead frame 1 than epoxy resin. Among these resins, polyether amide imide resin is a material having a great advantage in practical use because it is easy to apply with relatively low viscosity and has high strength.
【0018】タイバー用樹脂の付与には、ディスペンサ
を使用し、それを移動させながら未硬化樹脂を所定の幅
で塗布する方法や、スクリーン印刷法などを適用する。For applying the tie bar resin, a dispenser is used, and a method of applying an uncured resin with a predetermined width while moving the dispenser, a screen printing method, or the like is applied.
【0019】樹脂タイバー8の厚みは、図1(b)に示
すように、リードフレーム1のそれと同じか、それより
やや厚めとする。その幅Wは、樹脂モールドの際に発生
するバリの押圧力に抗して変形したりまたは移動したり
しない程度であればよい。実験によれば幅Wは0.3〜
1.0mmの範囲内が好ましい。間隔Gについては、この
例では幅Wの約1/2とした。樹脂タイバー8が樹脂パ
ッケージと重なるように形成されると、樹脂パッケージ
内にクラックが発生するおそれが大きいことから、間隔
Gを設けておくことが望ましい。As shown in FIG. 1B, the thickness of the resin tie bar 8 is equal to or slightly larger than that of the lead frame 1. The width W may be such that it does not deform or move against the pressing force of the burr generated during resin molding. According to the experiment, the width W is from 0.3 to
It is preferably within the range of 1.0 mm. In this example, the interval G is set to about 1/2 of the width W. If the resin tie bar 8 is formed so as to overlap with the resin package, a crack is likely to occur in the resin package. Therefore, it is desirable to provide the gap G.
【0020】樹脂タイバー8の形成後、ダイパッド3に
半導体チップを公知の方法で取付け、その電極パッドと
インナーリード6の先端部分とを金細線などで接続して
から、モールド金型に装填して、樹脂モールド境界線7
で囲まれた領域を合成樹脂たとえばエポキシ樹脂で封止
して、図2に示すように、半導体チップ、それを搭載し
たダイパッド3、インナーリード6ならびにそれらと半
導体チップとを電気的に接続する導線を一体に被覆す
る。さらに、工業用水で湯洗してから、リンスする。After the resin tie bar 8 is formed, a semiconductor chip is attached to the die pad 3 by a known method, and the electrode pad and the tip of the inner lead 6 are connected by a thin gold wire or the like, and then loaded into a mold. , Resin mold boundary line 7
2 is sealed with a synthetic resin such as an epoxy resin, and as shown in FIG. 2, a semiconductor chip, a die pad 3 on which the semiconductor chip is mounted, an inner lead 6, and a conductive wire for electrically connecting the semiconductor chip to the semiconductor chip. Are integrally coated. Furthermore, it is rinsed with hot water with industrial water.
【0021】これによって、樹脂パッケージ9の四辺に
並行に配置された樹脂タイバー8を備え、リードフレー
ム1の枠体に保持された状態の半導体装置10が得られ
る。Thus, the semiconductor device 10 having the resin tie bars 8 arranged in parallel on the four sides of the resin package 9 and held by the frame of the lead frame 1 is obtained.
【0022】次に、図3に示すように、この半導体装置
10を、リードフレーム1を含めて有機溶剤11中に浸
漬する。この浸漬処理によって、樹脂タイバー8や樹脂
パッケージ9のバリを除去する。なお、図3において、
12は液槽である。Next, as shown in FIG. 3, the semiconductor device 10 including the lead frame 1 is immersed in an organic solvent 11. By this immersion treatment, burrs on the resin tie bar 8 and the resin package 9 are removed. In FIG. 3,
Reference numeral 12 denotes a liquid tank.
【0023】有機溶剤としては、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N
−メチル−2−ピロリドン、m−クレゾール、ピリジ
ン、またはシクロヘキサノンを使用することができる。
これらのうち、N−メチル−2−ピロリドンが、毒性が
低く、取り扱いやすいことから実際的である。Examples of the organic solvent include dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N
-Methyl-2-pyrrolidone, m-cresol, pyridine or cyclohexanone can be used.
Of these, N-methyl-2-pyrrolidone is practical because of its low toxicity and easy handling.
【0024】この例では、溶剤としてN−メチル−2−
ピロリドンを使用し、その温度を60〜90℃の範囲内
とし、浸漬時間を3〜5分とした。溶剤温度が60℃よ
りも低かったり、あるいは浸漬時間が3分よりも短かっ
たりしたときには、樹脂タイバー8がすべて除去されず
に、リードフレーム1に付着した状態で残存してしまう
おそれがある。また、溶剤温度が高すぎたり、あるいは
浸漬時間が長すぎたりしたときには、樹脂パッケージ9
そのものが溶剤によってダメージを受け、表面が変色す
るなど変質するおそれが大きくなることから、溶剤温度
については90℃以下、浸漬時間については5分以下と
することが望ましい。In this example, N-methyl-2-
Pyrrolidone was used, the temperature was in the range of 60 to 90 ° C., and the immersion time was 3 to 5 minutes. When the solvent temperature is lower than 60 ° C. or the immersion time is shorter than 3 minutes, there is a possibility that the resin tie bar 8 is not completely removed and remains in a state attached to the lead frame 1. If the solvent temperature is too high or the immersion time is too long, the resin package 9
The solvent itself is damaged by the solvent, and the surface is more likely to change in quality such as discoloration. Therefore, the solvent temperature is preferably 90 ° C. or less, and the immersion time is preferably 5 minutes or less.
【0025】樹脂パッケージ9のバリについても、上述
の溶剤温度、浸漬時間での浸漬処理によって除去するこ
とができる。The burrs of the resin package 9 can also be removed by the immersion treatment at the above-mentioned solvent temperature and immersion time.
【0026】また、超音波振動子を使用して有機溶剤1
1に超音波振動を印加することで、樹脂タイバー8等の
除去をより効果的なものとすることができる。Further, an organic solvent 1 is prepared by using an ultrasonic vibrator.
By applying the ultrasonic vibration to 1, the removal of the resin tie bar 8 and the like can be made more effective.
【0027】上述の除去処理を終えてから、必要に応じ
て工業水またはそれと同等以上の純度の水で洗浄し、有
機溶剤を洗い流す。After completion of the above-mentioned removal treatment, the organic solvent is washed away with industrial water or water having a purity equal to or higher than that, if necessary.
【0028】樹脂タイバー8および樹脂バリを除去した
後、リードフレーム1を公知の方法で所定の形状に打ち
抜き加工して、図4に示す半導体装置を完成する。After the resin tie bar 8 and the resin burrs are removed, the lead frame 1 is stamped into a predetermined shape by a known method to complete the semiconductor device shown in FIG.
【0029】[0029]
【発明の効果】本発明の製造方法は、リードフレームの
リード同士を樹脂パッケージ形成領域外にて樹脂タイバ
ーで連結し、半導体チップを樹脂パッケージで封止して
から、有機溶剤中に所定時間浸漬して、樹脂パッケージ
に溶剤による実質的なダメージを与えることなく除去す
るので、リードフレームを変形させることなく、また樹
脂パッケージによる封止の信頼性を低下させることなく
樹脂タイバーを容易に除去することができる。According to the manufacturing method of the present invention, the leads of the lead frame are connected to each other with a resin tie bar outside the resin package forming area, the semiconductor chip is sealed with the resin package, and then immersed in an organic solvent for a predetermined time. The resin package is removed without causing any substantial damage to the resin package by the solvent, so that the resin tie bar can be easily removed without deforming the lead frame and without reducing the sealing reliability of the resin package. Can be.
【0030】また、樹脂除去と同時に、樹脂パッケージ
形成時に生じた樹脂バリを除去することができるので、
樹脂バリ除去のための工程を特に付加する必要性もな
く、実施が容易で、狭リードピッチの半導体装置を安価
に製造することができる。Further, since the resin burr generated during the formation of the resin package can be removed simultaneously with the resin removal,
There is no need to add a step for removing resin burrs, and it is easy to implement and a semiconductor device with a narrow lead pitch can be manufactured at low cost.
【0031】さらにまた、上述の方法において、樹脂タ
イバー形成にポリエーテルアミド樹脂、ポリエーテルイ
ミド樹脂、またはポリエーテルアミドイミド樹脂を、ま
た、樹脂パッケージ形成にエポキシ樹脂をそれぞれ使用
し、さらに有機溶剤としてジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル
−2−ピロリドン、m−クレゾール、ピリジン、または
シクロヘキサノンを使用することで、樹脂タイバーとバ
リの除去を一連の製造ラインにおいて確実にかつ選択的
に除去することができる。Further, in the above-mentioned method, a polyether amide resin, a polyether imide resin, or a polyether amide imide resin is used for forming a resin tie bar, and an epoxy resin is used for forming a resin package. Use of dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, m-cresol, pyridine, or cyclohexanone to reliably and selectively remove resin tie bars and burrs in a series of production lines can do.
【図1】(a)は本発明にかかる半導体装置の製造方法
の実施の形態の一例を説明するための、樹脂タイバーを
形成したリードフレームの一部分を示す平面図 (b)は同リードフレームの要部断面図FIG. 1A is a plan view showing a part of a lead frame on which a resin tie bar is formed for explaining an example of an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention; FIG. Main part sectional view
【図2】本発明にかかる半導体装置の製造方法の実施の
形態の一例を説明するための、樹脂モールド後の状態を
示す要部斜視図FIG. 2 is an essential part perspective view showing a state after resin molding, for describing an example of an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention;
【図3】本発明にかかる半導体装置の製造方法の実施の
形態の一例における溶剤への浸漬処理工程を説明するた
めの図FIG. 3 is a view for explaining a immersion treatment step in a solvent in an example of an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention.
【図4】(a)は本発明による半導体装置の平面図 (b)はその側面図4A is a plan view of a semiconductor device according to the present invention, and FIG.
1 リードフレーム 2 枠体 3 ダイパッド 4 吊りリード 5 アウターリード 6 インナーリード 7 樹脂モールド境界線 8 樹脂タイバー 9 樹脂パッケージ 10 半導体装置 11 有機溶剤 12 液槽 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lead frame 2 Frame 3 Die pad 4 Suspension lead 5 Outer lead 6 Inner lead 7 Resin mold boundary line 8 Resin tie bar 9 Resin package 10 Semiconductor device 11 Organic solvent 12 Liquid tank
Claims (3)
ードとを備えたリードフレームの、前記リード同士を樹
脂パッケージ形成領域外にて連結する樹脂タイバーを形
成する第1の工程、前記リードフレームの所定位置に半
導体チップを配してから、前記樹脂パッケージ形成領域
に樹脂パッケージを形成して少なくとも前記半導体チッ
プを封止して、前記リードフレームの前記枠体に前記リ
ードによって保持された半導体装置を作製する第2の工
程、前記半導体装置を有機溶剤中に浸漬して、前記樹脂
タイバーを選択的に溶解除去する第3の工程、ならび
に、前記樹脂タイバーの除去後、前記リードフレームの
所定箇所を切断する第4の工程を備え、前記有機溶剤に
対して前記パッケージ形成のための樹脂が前記タイバー
形成のための樹脂に比べて難溶性である樹脂封止型半導
体装置の製造方法。A first step of forming a resin tie bar for connecting a lead outside a resin package forming region of a lead frame including a frame and a lead having one end connected to the frame; After arranging a semiconductor chip at a predetermined position of the lead frame, a resin package is formed in the resin package forming region to seal at least the semiconductor chip, and is held by the lead in the frame of the lead frame. A second step of fabricating the semiconductor device, a third step of immersing the semiconductor device in an organic solvent, and selectively dissolving and removing the resin tie bar, and after removing the resin tie bar, A fourth step of cutting a predetermined portion of the resin, wherein the resin for forming the package is smaller than the resin for forming the tie bar with respect to the organic solvent. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device which is hardly soluble in all.
脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルアミドイミ
ド樹脂、またはアクリル樹脂で形成し、樹脂パッケージ
をエポキシ樹脂で形成した後、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メ
チル−2−ピロリドン、m−クレゾール、ピリジン、ま
たはシクロヘキサノンに浸漬して前記樹脂タイバーを除
去する請求項1記載の樹脂封止型半導体装置の製造方
法。2. A resin tie bar is formed of a polyether amide resin, a polyether imide resin, a polyether amide imide resin, or an acrylic resin, and a resin package is formed of an epoxy resin.
The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein the resin tie bar is removed by immersion in dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, m-cresol, pyridine, or cyclohexanone.
ドンを使用し、その温度を60〜90℃の範囲内とし、
浸漬時間を3〜5分とした請求項1または2記載の樹脂
封止型半導体装置の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein N-methyl-2-pyrrolidone is used as an organic solvent, and the temperature is in the range of 60 to 90 ° C.
3. The method according to claim 1, wherein the immersion time is 3 to 5 minutes.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7216798A JPH11274392A (en) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | Manufacture of resin encapsulated semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7216798A JPH11274392A (en) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | Manufacture of resin encapsulated semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11274392A true JPH11274392A (en) | 1999-10-08 |
Family
ID=13481423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7216798A Pending JPH11274392A (en) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | Manufacture of resin encapsulated semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11274392A (en) |
-
1998
- 1998-03-20 JP JP7216798A patent/JPH11274392A/en active Pending
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