JPH11269147A - ２−スルホニルピリジン誘導体の製造方法 - Google Patents
２−スルホニルピリジン誘導体の製造方法Info
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- JPH11269147A JPH11269147A JP32365398A JP32365398A JPH11269147A JP H11269147 A JPH11269147 A JP H11269147A JP 32365398 A JP32365398 A JP 32365398A JP 32365398 A JP32365398 A JP 32365398A JP H11269147 A JPH11269147 A JP H11269147A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２−スルホニルピリジン誘導体を、温和な条
件下に収率よく、工業的に有利に製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 で示されるα，β−不飽和カルボニル化合物を、一般式
（II） 【化２】 で示されるスルホニルシアニドと反応させることを特徴
とする一般式（III） 【化３】
件下に収率よく、工業的に有利に製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 で示されるα，β−不飽和カルボニル化合物を、一般式
（II） 【化２】 で示されるスルホニルシアニドと反応させることを特徴
とする一般式（III） 【化３】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２−スルホニルピ
リジン誘導体の製造方法に関する。本発明により製造さ
れる２−スルホニルピリジン誘導体は、医薬、農薬など
の合成原料として、例えばクロロニコチニル系殺虫剤の
合成中間体として有用な５−アミノメチル−２−クロロ
ピリジン、パーキンソン氏病治療薬として臨床開発が進
められているラザベミドの合成中間体である２，５−ジ
クロロピリジンや、２−ヒドロキシピリジンなどの医薬
中間体の合成原料として有用である（特開平１−２１３
２６３号公報、特開平９−１１８６６６号公報、特開平
１０−１３９７６０号公報および特開平９−５９２５４
号公報参照）。
リジン誘導体の製造方法に関する。本発明により製造さ
れる２−スルホニルピリジン誘導体は、医薬、農薬など
の合成原料として、例えばクロロニコチニル系殺虫剤の
合成中間体として有用な５−アミノメチル−２−クロロ
ピリジン、パーキンソン氏病治療薬として臨床開発が進
められているラザベミドの合成中間体である２，５−ジ
クロロピリジンや、２−ヒドロキシピリジンなどの医薬
中間体の合成原料として有用である（特開平１−２１３
２６３号公報、特開平９−１１８６６６号公報、特開平
１０−１３９７６０号公報および特開平９−５９２５４
号公報参照）。
【０００２】
【従来の技術】最近、ピリジン骨格を有する生理活性物
質が数多く発見されている。これらの化合物の合成中間
体として有用な２−スルホニルピリジン誘導体の製造方
法としては、(1)スルホニルシアニドとアシロキシブタ
ジエン誘導体とを反応させる方法（特開平９−１１８６
６６号公報参照）、(2)ｐ−トルエンスルホニルシアニ
ドと１−エトキシ−２−メチルブタジエンとを反応させ
る方法［シンセシス（Synthesis)、６２３頁（１９８９
年）および国際出願公開ＷＯ９８／１１０７１号参
照］、(3)２−ハロゲノピリジンをアルカリ金属のチオ
ラートと反応させ、スルフェニルピリジンへ誘導した
後、順次酸化することにより合成する方法［ジャーナル
オブ ザ ケミカル ソサイエティー パーキン ト
ランスアクション１(Journal of the Chemical Society
Perkin Transaction 1)、１８３９頁（１９８４年）］
などが知られている。
質が数多く発見されている。これらの化合物の合成中間
体として有用な２−スルホニルピリジン誘導体の製造方
法としては、(1)スルホニルシアニドとアシロキシブタ
ジエン誘導体とを反応させる方法（特開平９−１１８６
６６号公報参照）、(2)ｐ−トルエンスルホニルシアニ
ドと１−エトキシ−２−メチルブタジエンとを反応させ
る方法［シンセシス（Synthesis)、６２３頁（１９８９
年）および国際出願公開ＷＯ９８／１１０７１号参
照］、(3)２−ハロゲノピリジンをアルカリ金属のチオ
ラートと反応させ、スルフェニルピリジンへ誘導した
後、順次酸化することにより合成する方法［ジャーナル
オブ ザ ケミカル ソサイエティー パーキン ト
ランスアクション１(Journal of the Chemical Society
Perkin Transaction 1)、１８３９頁（１９８４年）］
などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
(1)および(2)の方法は、熱的に不安定なジエン化合物の
使用が必須であること、上記(3)の方法は工程数が多
く、目的物の収率が低いことなどの問題点を有してお
り、２−スルホニルピリジン誘導体の工業的に有利な製
造方法とは言い難い。しかして、本発明の目的は、２−
スルホニルピリジン誘導体を、温和な条件下に収率よ
く、工業的に有利に製造し得る方法を提供することにあ
る。
(1)および(2)の方法は、熱的に不安定なジエン化合物の
使用が必須であること、上記(3)の方法は工程数が多
く、目的物の収率が低いことなどの問題点を有してお
り、２−スルホニルピリジン誘導体の工業的に有利な製
造方法とは言い難い。しかして、本発明の目的は、２−
スルホニルピリジン誘導体を、温和な条件下に収率よ
く、工業的に有利に製造し得る方法を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、 一般式（Ｉ）
目的は、 一般式（Ｉ）
【０００５】
【化５】
【０００６】（式中、Ｒ1は水素原子、置換基を有して
いてもよいアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2お
よびＲ3はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基を
有していてもよいアルキル基またはアリール基を表し、
Ｒ4は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシル基、アル
キルチオ基、シアノ基、アシロキシ基、アルコキシカル
ボニル基、保護された置換されていてもよいアミノ基、
置換基を有していてもよいアルキル基またはアリール基
を表し、Ｒ2とＲ3またはＲ3とＲ4は一緒になって−(Ｃ
Ｈ2)ｎ−（式中、ｎは３または４を表す。）を表しても
よい。）で示されるα，β−不飽和カルボニル化合物
［以下、α，β−不飽和カルボニル化合物（Ｉ）と略記
する］を、一般式（II）
いてもよいアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2お
よびＲ3はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基を
有していてもよいアルキル基またはアリール基を表し、
Ｒ4は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシル基、アル
キルチオ基、シアノ基、アシロキシ基、アルコキシカル
ボニル基、保護された置換されていてもよいアミノ基、
置換基を有していてもよいアルキル基またはアリール基
を表し、Ｒ2とＲ3またはＲ3とＲ4は一緒になって−(Ｃ
Ｈ2)ｎ−（式中、ｎは３または４を表す。）を表しても
よい。）で示されるα，β−不飽和カルボニル化合物
［以下、α，β−不飽和カルボニル化合物（Ｉ）と略記
する］を、一般式（II）
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｒ5は置換基を有していてもよい
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表す。）で示されるスルホニルシアニド［以
下、スルホニルシアニド（II）と略記する］と反応させ
ることを特徴とする一般式（III）
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表す。）で示されるスルホニルシアニド［以
下、スルホニルシアニド（II）と略記する］と反応させ
ることを特徴とする一般式（III）
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は
前記定義のとおりである。）で示される２−スルホニル
ピリジン誘導体［以下、２−スルホニルピリジン誘導体
（III）と略記する］の製造方法、および 一般式（III-1）
前記定義のとおりである。）で示される２−スルホニル
ピリジン誘導体［以下、２−スルホニルピリジン誘導体
（III）と略記する］の製造方法、および 一般式（III-1）
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、Ｒ5は前記定義のとおりであ
る。）で示される２−スルホニルピリジン誘導体を提供
することにより達成される。
る。）で示される２−スルホニルピリジン誘導体を提供
することにより達成される。
【００１３】
【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4およびＲ5がそれぞれ表すアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシ
ル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基が挙げられ
る。これらのアルキル基は置換基を有していてもよく、
かかる置換基としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアル
コキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基
などの三置換シリルオキシ基；ニトロ基などが挙げられ
る。
Ｒ4およびＲ5がそれぞれ表すアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシ
ル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基が挙げられ
る。これらのアルキル基は置換基を有していてもよく、
かかる置換基としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアル
コキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基
などの三置換シリルオキシ基；ニトロ基などが挙げられ
る。
【００１４】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5がそれぞれ
表すアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル
基などが挙げられる。これらのアリール基は置換基を有
していてもよく、かかる置換基としては、例えば塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子などのハロゲン
原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など
のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ
基；ニトロ基；フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基な
どのアリール基などの置換基などが挙げられる。
表すアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル
基などが挙げられる。これらのアリール基は置換基を有
していてもよく、かかる置換基としては、例えば塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子などのハロゲン
原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など
のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ
基；ニトロ基；フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基な
どのアリール基などの置換基などが挙げられる。
【００１５】Ｒ4が表すアルコキシル基としては、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、フェノキシ基などが挙げられ、アルキルチオ基とし
ては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、
ブチルチオ基などが挙げられ、アシロキシ基としては、
例えばアセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイ
ルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基
などの脂肪族または芳香族アシロキシ基などが挙げら
れ、アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカ
ルボニル基などが挙げられ、保護された置換されていて
もよいアミノ基としては、例えばアセチル基、ベンゾイ
ル基、ベンゼンスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル基などの保護基で保護された、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのアルキル基などで置換
されていてもよいアミノ基が挙げられる。
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、フェノキシ基などが挙げられ、アルキルチオ基とし
ては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、
ブチルチオ基などが挙げられ、アシロキシ基としては、
例えばアセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイ
ルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基
などの脂肪族または芳香族アシロキシ基などが挙げら
れ、アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカ
ルボニル基などが挙げられ、保護された置換されていて
もよいアミノ基としては、例えばアセチル基、ベンゾイ
ル基、ベンゼンスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル基などの保護基で保護された、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのアルキル基などで置換
されていてもよいアミノ基が挙げられる。
【００１６】Ｒ2、Ｒ3およびＲ4がそれぞれ表すハロゲ
ン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などが挙げられる。
ン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などが挙げられる。
【００１７】Ｒ5が表すシクロアルキル基としては、例
えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基などが挙げられる。これらのシクロアルキル基は
置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、例
えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子など
のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ
基；ニトロ基；フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基な
どのアリール基などが挙げられる。
えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基などが挙げられる。これらのシクロアルキル基は
置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、例
えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子など
のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ
基；ニトロ基；フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基な
どのアリール基などが挙げられる。
【００１８】Ｒ5が表すアラルキル基としては、例えば
ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。これらの
アラルキル基は置換基を有していてもよく、かかる置換
基としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、
フッ素原子などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのアルキル基；メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアル
コキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基
などの三置換シリルオキシ基；ニトロ基；フェニル基、
ｐ−メトキシフェニル基などのアリール基などが挙げら
れる。
ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。これらの
アラルキル基は置換基を有していてもよく、かかる置換
基としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、
フッ素原子などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのアルキル基；メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアル
コキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基
などの三置換シリルオキシ基；ニトロ基；フェニル基、
ｐ−メトキシフェニル基などのアリール基などが挙げら
れる。
【００１９】本発明における反応は、通常、溶媒の存在
下に行われる。使用する溶媒としては、反応に悪影響を
与えない限り、特に限定されるものではないが、例えば
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテ
ルなどの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジメト
キシエタン、ジブチルエーテルなどのエーテル；アセト
ニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニ
トリル；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、トリクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素；ジメチルスルホキシド；またはこれらの混合溶媒
などが挙げられる。溶媒の使用量は、スルホニルシアニ
ド（II）に対し、０．１〜２００倍重量の範囲が好まし
い。
下に行われる。使用する溶媒としては、反応に悪影響を
与えない限り、特に限定されるものではないが、例えば
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテ
ルなどの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジメト
キシエタン、ジブチルエーテルなどのエーテル；アセト
ニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニ
トリル；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、トリクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素；ジメチルスルホキシド；またはこれらの混合溶媒
などが挙げられる。溶媒の使用量は、スルホニルシアニ
ド（II）に対し、０．１〜２００倍重量の範囲が好まし
い。
【００２０】反応は触媒の存在下または不存在下に行わ
れ、触媒としては酸触媒またはアンモニウム塩などが使
用される。酸触媒としては、例えばホウ酸、ホウ酸トリ
エチル、ホウ酸トリブチルなどのホウ酸エステル；リン
酸、リン酸トリブチルなどのリン酸エステル；過塩素酸
ナトリウム、過塩素酸リチウムなどの過塩素酸のアルカ
リ金属塩；ＩＲＣ−５０（オルガノ社製）などの弱酸性
イオン交換樹脂などが挙げられる。また、アンモニウム
塩としては、例えば塩化アンモニウム、塩化ベンジルト
リメチルアンモニウムなどが挙げられる。触媒の使用量
は、スルホニルシアニド（II）に対し、０．０１〜１当
量の範囲が好ましい。
れ、触媒としては酸触媒またはアンモニウム塩などが使
用される。酸触媒としては、例えばホウ酸、ホウ酸トリ
エチル、ホウ酸トリブチルなどのホウ酸エステル；リン
酸、リン酸トリブチルなどのリン酸エステル；過塩素酸
ナトリウム、過塩素酸リチウムなどの過塩素酸のアルカ
リ金属塩；ＩＲＣ−５０（オルガノ社製）などの弱酸性
イオン交換樹脂などが挙げられる。また、アンモニウム
塩としては、例えば塩化アンモニウム、塩化ベンジルト
リメチルアンモニウムなどが挙げられる。触媒の使用量
は、スルホニルシアニド（II）に対し、０．０１〜１当
量の範囲が好ましい。
【００２１】また、反応は、アルコールの存在下に行っ
てもよい。アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、イソアミルアルコ
ールなどが挙げられる。これらのアルコールの使用量
は、スルホニルシアニド（II）に対し、０．１〜２００
当量の範囲が好ましい。
てもよい。アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、イソアミルアルコ
ールなどが挙げられる。これらのアルコールの使用量
は、スルホニルシアニド（II）に対し、０．１〜２００
当量の範囲が好ましい。
【００２２】反応は、α，β−不飽和カルボニル化合物
（Ｉ）およびスルホニルシアニド（II）の混合溶液を還
流して行うことが好ましい。α，β−不飽和カルボニル
化合物（Ｉ）に対するスルホニルシアニド（II）の使用
量は特に制限されないが、α，β−不飽和カルボニル化
合物（Ｉ）１モルに対し、スルホニルシアニド（II）を
０．５モル〜１モルの範囲で使用することが好ましい。
また、反応温度は、０℃〜２００℃の範囲が好ましく、
８０℃〜１２０℃の範囲がより好ましい。
（Ｉ）およびスルホニルシアニド（II）の混合溶液を還
流して行うことが好ましい。α，β−不飽和カルボニル
化合物（Ｉ）に対するスルホニルシアニド（II）の使用
量は特に制限されないが、α，β−不飽和カルボニル化
合物（Ｉ）１モルに対し、スルホニルシアニド（II）を
０．５モル〜１モルの範囲で使用することが好ましい。
また、反応温度は、０℃〜２００℃の範囲が好ましく、
８０℃〜１２０℃の範囲がより好ましい。
【００２３】このようにして得られた２−スルホニルピ
リジン誘導体（III）は、通常の有機化合物の単離・精
製に用いられる方法により単離・精製することができ
る。例えば、反応混合物を濃縮、冷却することによって
再結晶により精製することができる。また、反応混合物
をそのまま濃縮し、得られる粗生成物を必要に応じて蒸
留、クロマトグラフィなどにより精製することができ
る。
リジン誘導体（III）は、通常の有機化合物の単離・精
製に用いられる方法により単離・精製することができ
る。例えば、反応混合物を濃縮、冷却することによって
再結晶により精製することができる。また、反応混合物
をそのまま濃縮し、得られる粗生成物を必要に応じて蒸
留、クロマトグラフィなどにより精製することができ
る。
【００２４】また、反応の進行に伴い水が生成するが、
これを除去しながら反応を行うことにより、高収率で２
−スルホニルピリジン誘導体（III）を得ることができ
る。水を除去する方法は特に限定されないが、水と共沸
する溶媒を使用し、溶媒と共沸させて系外に留出させる
ことにより効率よく行うことができる。また、系内にモ
レキュラーシーブスなどの、反応に悪影響を与えない脱
水剤を共存させておいてもよい。
これを除去しながら反応を行うことにより、高収率で２
−スルホニルピリジン誘導体（III）を得ることができ
る。水を除去する方法は特に限定されないが、水と共沸
する溶媒を使用し、溶媒と共沸させて系外に留出させる
ことにより効率よく行うことができる。また、系内にモ
レキュラーシーブスなどの、反応に悪影響を与えない脱
水剤を共存させておいてもよい。
【００２５】なお、原料として用いるα，β−不飽和カ
ルボニル化合物（Ｉ）およびスルホニルシアニド（II）
はいずれも公知化合物であり、容易に入手あるいは製造
することができる。例えば、α，β−不飽和カルボニル
化合物（Ｉ）はアルドール縮合反応により合成可能であ
る（例えば特開平９−５９２０１号および特開昭６３−
１３５３５６号公報参照）。また、スルホニルシアニド
（II）は対応するスルフィン酸金属塩とハロゲン化シア
ンを反応させて製造できる［オーガニック シンセシス
(Organic Synthesis)、６巻、７２７頁（１９８８年）
参照］。
ルボニル化合物（Ｉ）およびスルホニルシアニド（II）
はいずれも公知化合物であり、容易に入手あるいは製造
することができる。例えば、α，β−不飽和カルボニル
化合物（Ｉ）はアルドール縮合反応により合成可能であ
る（例えば特開平９−５９２０１号および特開昭６３−
１３５３５６号公報参照）。また、スルホニルシアニド
（II）は対応するスルフィン酸金属塩とハロゲン化シア
ンを反応させて製造できる［オーガニック シンセシス
(Organic Synthesis)、６巻、７２７頁（１９８８年）
参照］。
【００２６】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。
【００２７】実施例１ 温度計、マグネチックスターラ、ディーンシュターク型
水分定量受器および冷却管を装備した内容積５０ｍｌの
３口フラスコに、クロトンアルデヒド（２−ブテナー
ル）８．０５ｇ（１１３ｍｍｏｌ）およびベンゼンスル
ホニルシアニド９．１７ｇ（５４．９ｍｍｏｌ）を入
れ、溶媒としてトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．
５ｍｌを加え、続いて過塩素酸リチウム５８９ｍｇ
（５．５５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下とし
て内温１１０℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しな
がら１５時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却
後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷
却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィルター
で濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄
後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶とし
て、下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニルピリジ
ン１０．８ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスルホニル
シアニド基準で収率８９％）。
水分定量受器および冷却管を装備した内容積５０ｍｌの
３口フラスコに、クロトンアルデヒド（２−ブテナー
ル）８．０５ｇ（１１３ｍｍｏｌ）およびベンゼンスル
ホニルシアニド９．１７ｇ（５４．９ｍｍｏｌ）を入
れ、溶媒としてトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．
５ｍｌを加え、続いて過塩素酸リチウム５８９ｍｇ
（５．５５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下とし
て内温１１０℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しな
がら１５時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却
後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷
却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィルター
で濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄
後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶とし
て、下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニルピリジ
ン１０．８ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスルホニル
シアニド基準で収率８９％）。
【００２８】融点：９０〜９１℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:7.51-7.62(m,4H), 7.93(t,1H,J=7.9Hz), 8.04-8.11
(m,2H), 8.21(d,1H,J=7.9Hz), 8.68(d,1H,J=4.0Hz)
δ:7.51-7.62(m,4H), 7.93(t,1H,J=7.9Hz), 8.04-8.11
(m,2H), 8.21(d,1H,J=7.9Hz), 8.68(d,1H,J=4.0Hz)
【００２９】実施例２ 実施例１と同様の反応装置に、クロトンアルデヒド８．
２０ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．５５ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル
１．３３ｇ（５．７８ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰
囲気下として内温１１０℃にて攪拌し、生成する水を分
離除去しながら３時間加熱還流した。この溶液を室温ま
で冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴
中で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィ
ルターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌ
で洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶
として２−ベンゼンスルホニルピリジン１０．９ｇを得
た（純度９８％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収
率８５％）。
２０ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．５５ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル
１．３３ｇ（５．７８ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰
囲気下として内温１１０℃にて攪拌し、生成する水を分
離除去しながら３時間加熱還流した。この溶液を室温ま
で冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴
中で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィ
ルターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌ
で洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶
として２−ベンゼンスルホニルピリジン１０．９ｇを得
た（純度９８％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収
率８５％）。
【００３０】実施例３ 実施例１と同様の反応装置に、クロトンアルデヒド８．
２２ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．２２ｇ（５５．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いて過塩素酸ナトリウム６７７ｍｇ（５．５５ｍ
ｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１０
℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら１８時間
加熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの
低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析
出させた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃
以下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプ
で２時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンス
ルホニルピリジン１１．２ｇを得た（純度９８％、ベン
ゼンスルホニルシアニド基準で収率９１％）。
２２ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．２２ｇ（５５．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いて過塩素酸ナトリウム６７７ｍｇ（５．５５ｍ
ｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１０
℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら１８時間
加熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの
低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析
出させた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃
以下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプ
で２時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンス
ルホニルピリジン１１．２ｇを得た（純度９８％、ベン
ゼンスルホニルシアニド基準で収率９１％）。
【００３１】実施例４ 実施例１と同様の反応装置に、クロトンアルデヒド１
０．１６ｇ（１４５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニ
ルシアニド１０．０９ｇ（６０．４ｍｍｏｌ）を入れ、
溶媒としてトルエン１５ｍｌを添加した後、窒素雰囲気
下として内温１１０℃にて攪拌し、生成する水を分離除
去しながら１５時間加熱還流した。この溶液を室温まで
冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中
で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィル
ターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌで
洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶と
して２−ベンゼンスルホニルピリジン９．１１ｇを得た
（純度９０％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率
６２％）。
０．１６ｇ（１４５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニ
ルシアニド１０．０９ｇ（６０．４ｍｍｏｌ）を入れ、
溶媒としてトルエン１５ｍｌを添加した後、窒素雰囲気
下として内温１１０℃にて攪拌し、生成する水を分離除
去しながら１５時間加熱還流した。この溶液を室温まで
冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中
で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィル
ターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌで
洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶と
して２−ベンゼンスルホニルピリジン９．１１ｇを得た
（純度９０％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率
６２％）。
【００３２】実施例５ 実施例１と同様の反応装置に、チグリンアルデヒド（ｔ
ｒａｎｓ−２−メチル−２−ブテナール）８．４０ｇ
（１００ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド
８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてト
ルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを添加した
後、窒素雰囲気下として内温１１０℃にて攪拌し、生成
する水を分離除去しながら３時間加熱還流した。この溶
液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除
去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させた。この結晶を
グラスフィルターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエ
ン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、
無色の結晶として、下記の物性を有する２−ベンゼンス
ルホニル−５−メチルピリジン１０．５ｇを得た（純度
９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率８８
％）。
ｒａｎｓ−２−メチル−２−ブテナール）８．４０ｇ
（１００ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド
８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてト
ルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを添加した
後、窒素雰囲気下として内温１１０℃にて攪拌し、生成
する水を分離除去しながら３時間加熱還流した。この溶
液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除
去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させた。この結晶を
グラスフィルターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエ
ン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、
無色の結晶として、下記の物性を有する２−ベンゼンス
ルホニル−５−メチルピリジン１０．５ｇを得た（純度
９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率８８
％）。
【００３３】融点：１１７〜１１８℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:2.40(s,3H), 7.52-7.60(m,3H), 7.70(dd,1H,J=1.8H
z,8.6Hz), 8.03-8.07(m,2H), 8.09(d,1H,J=8.6Hz),8.50
(d,1H,J=1.8Hz)
δ:2.40(s,3H), 7.52-7.60(m,3H), 7.70(dd,1H,J=1.8H
z,8.6Hz), 8.03-8.07(m,2H), 8.09(d,1H,J=8.6Hz),8.50
(d,1H,J=1.8Hz)
【００３４】実施例６ 実施例１と同様の反応装置に、クロトンアルデヒド８．
２０ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．５５ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてホウ酸トリブチル１．３３ｇ（５．７８ｍｍ
ｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１０℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら３時間加熱
還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出さ
せた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下
に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２
時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホ
ニルピリジン１１．３ｇを得た（純度９９％、ベンゼン
スルホニルシアニド基準で収率８９％）。
２０ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．５５ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてホウ酸トリブチル１．３３ｇ（５．７８ｍｍ
ｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１０℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら３時間加熱
還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出さ
せた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下
に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２
時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホ
ニルピリジン１１．３ｇを得た（純度９９％、ベンゼン
スルホニルシアニド基準で収率８９％）。
【００３５】実施例７ 実施例１と同様の反応装置に、クロトンアルデヒド８．
２０ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．５５ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してジイソプロピルエーテル１５ｍｌおよびブタノール
１．５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル１．３３ｇ
（５．７８ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下とし
て内温８３℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しなが
ら２０時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、
溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却し
て結晶を析出させた。この結晶をグラスフィルターで濾
過し、５℃以下に冷却したイソプロピルエーテル１０ｍ
ｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結
晶として２−ベンゼンスルホニルピリジン１１．９ｇを
得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で
収率９４％）。
２０ｇ（１１５ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．５５ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してジイソプロピルエーテル１５ｍｌおよびブタノール
１．５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル１．３３ｇ
（５．７８ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下とし
て内温８３℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しなが
ら２０時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、
溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却し
て結晶を析出させた。この結晶をグラスフィルターで濾
過し、５℃以下に冷却したイソプロピルエーテル１０ｍ
ｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結
晶として２−ベンゼンスルホニルピリジン１１．９ｇを
得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で
収率９４％）。
【００３６】実施例８ 実施例１と同様の反応装置に、チグリンアルデヒド８．
４０ｇ（１００ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してブタノール１５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチ
ル１．１５ｇ（５．００ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素
雰囲気下として内温１１８℃にて攪拌し、生成する水を
分離除去しながら４時間加熱還流した。この溶液を室温
まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷
浴中で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフ
ィルターで濾過し、５℃以下に冷却したイソプロピルエ
ーテル１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥
し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホニル−５−メ
チルピリジン９．８１ｇを得た（純度９９％、ベンゼン
スルホニルシアニド基準で収率８３％）。
４０ｇ（１００ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してブタノール１５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチ
ル１．１５ｇ（５．００ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素
雰囲気下として内温１１８℃にて攪拌し、生成する水を
分離除去しながら４時間加熱還流した。この溶液を室温
まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷
浴中で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフ
ィルターで濾過し、５℃以下に冷却したイソプロピルエ
ーテル１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥
し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホニル−５−メ
チルピリジン９．８１ｇを得た（純度９９％、ベンゼン
スルホニルシアニド基準で収率８３％）。
【００３７】実施例９ 実施例１と同様の反応装置に、クロトンアルデヒド８．
０７ｇ（１１３ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．６９ｇ（５８．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてリン酸トリブチル１．４５ｇ（５．８０ｍｍ
ｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１６℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら４時間加熱
還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出さ
せた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下
に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２
時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホ
ニルピリジン１１．３ｇを得た（純度９９％、ベンゼン
スルホニルシアニド基準で収率８８％）。
０７ｇ（１１３ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド９．６９ｇ（５８．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてリン酸トリブチル１．４５ｇ（５．８０ｍｍ
ｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１６℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら４時間加熱
還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出さ
せた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下
に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２
時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホ
ニルピリジン１１．３ｇを得た（純度９９％、ベンゼン
スルホニルシアニド基準で収率８８％）。
【００３８】実施例１０ 実施例１と同様の反応装置に、チグリンアルデヒド９．
００ｇ（１０７ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてホウ酸０．３０ｇ（４．８５ｍｍｏｌ）を添
加した後、窒素雰囲気下として内温１１９℃にて攪拌
し、生成する水を分離除去しながら４時間加熱還流し
た。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を
減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させた。
この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下に冷却
したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真
空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホニル−
５−メチルピリジン１１．１ｇを得た（純度９９％、ベ
ンゼンスルホニルシアニド基準で収率９４％）。
００ｇ（１０７ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてホウ酸０．３０ｇ（４．８５ｍｍｏｌ）を添
加した後、窒素雰囲気下として内温１１９℃にて攪拌
し、生成する水を分離除去しながら４時間加熱還流し
た。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を
減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させた。
この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下に冷却
したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真
空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホニル−
５−メチルピリジン１１．１ｇを得た（純度９９％、ベ
ンゼンスルホニルシアニド基準で収率９４％）。
【００３９】実施例１１ 実施例１と同様の反応装置に、チグリンアルデヒド４．
２９ｇ（５１．１ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニル
シアニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒
としてトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを
加え、続いてホウ酸トリブチル１．１５ｇ（５．００ｍ
ｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１９
℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら６時間加
熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低
沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出
させた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以
下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで
２時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスル
ホニル−５−メチルピリジン１０．５ｇを得た（純度９
９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率８９
％）。
２９ｇ（５１．１ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニル
シアニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒
としてトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを
加え、続いてホウ酸トリブチル１．１５ｇ（５．００ｍ
ｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１９
℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら６時間加
熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低
沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出
させた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以
下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで
２時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスル
ホニル−５−メチルピリジン１０．５ｇを得た（純度９
９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率８９
％）。
【００４０】実施例１２ 実施例１と同様の反応装置に、セネシオンアルデヒド
（３−メチル−２−ブテナール）９．００ｇ（１０７ｍ
ｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド８．３５ｇ
（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン１５
ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加え、続いてホウ酸
０．３０ｇ（４．８５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰
囲気下として内温１１９℃にて攪拌し、生成する水を分
離除去しながら３時間加熱還流した。この溶液を室温ま
で冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴
中で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィ
ルターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌ
で洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶
として、下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−
４−メチルピリジン８．５０ｇを得た（純度９９％、ベ
ンゼンスルホニルシアニド基準で収率７２％）。
（３−メチル−２−ブテナール）９．００ｇ（１０７ｍ
ｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド８．３５ｇ
（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン１５
ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加え、続いてホウ酸
０．３０ｇ（４．８５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰
囲気下として内温１１９℃にて攪拌し、生成する水を分
離除去しながら３時間加熱還流した。この溶液を室温ま
で冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴
中で冷却して結晶を析出させた。この結晶をグラスフィ
ルターで濾過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌ
で洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶
として、下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−
４−メチルピリジン８．５０ｇを得た（純度９９％、ベ
ンゼンスルホニルシアニド基準で収率７２％）。
【００４１】融点：１２８〜１２９℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:2.47(s,3H), 7.25(dd,1H,J=1.6Hz,4.8Hz), 7.53-7.6
2(m,3H), 8.04-8.08(m,2H), 8.10(d,1H,J=1.6Hz),8.52
(d,1H,J=4.8Hz)
δ:2.47(s,3H), 7.25(dd,1H,J=1.6Hz,4.8Hz), 7.53-7.6
2(m,3H), 8.04-8.08(m,2H), 8.10(d,1H,J=1.6Hz),8.52
(d,1H,J=4.8Hz)
【００４２】実施例１３ 実施例１と同様の反応装置に、チグリンアルデヒド９．
００ｇ（１０７ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてホウ酸トリブチル０．５７ｇ（２．４８ｍｍ
ｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１９℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら７時間加熱
還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出さ
せた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下
に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２
時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホ
ニル−５−メチルピリジン８．５０ｇを得た（純度９９
％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率７２％）。
００ｇ（１０７ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシ
アニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加
え、続いてホウ酸トリブチル０．５７ｇ（２．４８ｍｍ
ｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１９℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら７時間加熱
還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出さ
せた。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下
に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２
時間真空乾燥し、無色の結晶として２−ベンゼンスルホ
ニル−５−メチルピリジン８．５０ｇを得た（純度９９
％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率７２％）。
【００４３】実施例１４ 実施例１と同様の反応装置に、メシチルオキシド（４−
メチル−３−ペンテン−２−オン）９．８０ｇ（１００
ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド８．３５
ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン１
５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加え、続いてホウ
酸トリブチル１．１５ｇ（５．００ｍｍｏｌ）を添加し
た後、窒素雰囲気下として内温１１６℃にて攪拌し、生
成する水を分離除去しながら１０時間加熱還流した。こ
の溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下
に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させた。この結
晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下に冷却したト
ルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥
し、無色の結晶として、下記の物性を有する２−ベンゼ
ンスルホニル−４，６−ジメチルピリジン６．１４ｇを
得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で
収率４９％）。
メチル−３−ペンテン−２−オン）９．８０ｇ（１００
ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド８．３５
ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン１
５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌを加え、続いてホウ
酸トリブチル１．１５ｇ（５．００ｍｍｏｌ）を添加し
た後、窒素雰囲気下として内温１１６℃にて攪拌し、生
成する水を分離除去しながら１０時間加熱還流した。こ
の溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下
に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させた。この結
晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下に冷却したト
ルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時間真空乾燥
し、無色の結晶として、下記の物性を有する２−ベンゼ
ンスルホニル−４，６−ジメチルピリジン６．１４ｇを
得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で
収率４９％）。
【００４４】融点：１０６〜１０７℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:2.41(s,3H)，2.50(s,3H)，7.09(s,1H)，7.49-7.62
(m,3H), 7.83(s,1H), 8.08(d,2H)
δ:2.41(s,3H)，2.50(s,3H)，7.09(s,1H)，7.49-7.62
(m,3H), 7.83(s,1H), 8.08(d,2H)
【００４５】実施例１５ 実施例１と同様の反応装置に、２−クロロ−２−ブテナ
ール１１．２ｇ（１０７ｍｍｏｌ）およびベンゼンスル
ホニルシアニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入
れ、溶媒としてトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．
５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル１．３０ｇ
（５．６５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下とし
て内温１２１℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しな
がら７時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、
溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却し
て結晶を析出させた。この結晶をグラスフィルターで濾
過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、
真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶として、下
記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−５−クロロ
ピリジン８．８７ｇを得た（純度９８％、ベンゼンスル
ホニルシアニド基準で収率６９％）。
ール１１．２ｇ（１０７ｍｍｏｌ）およびベンゼンスル
ホニルシアニド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入
れ、溶媒としてトルエン１５ｍｌおよびブタノール１．
５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル１．３０ｇ
（５．６５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下とし
て内温１２１℃にて攪拌し、生成する水を分離除去しな
がら７時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、
溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却し
て結晶を析出させた。この結晶をグラスフィルターで濾
過し、５℃以下に冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、
真空ポンプで２時間真空乾燥し、無色の結晶として、下
記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−５−クロロ
ピリジン８．８７ｇを得た（純度９８％、ベンゼンスル
ホニルシアニド基準で収率６９％）。
【００４６】融点：１５４〜１５５℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:7.50-7.68(m,4H), 7.89(dd,1H,J=2.3Hz,8.0Hz), 8.0
2-8.09(m,1H), 8.16(d,1H,J=8.0Hz), 8.60(d,1H,J=2.3H
z)
δ:7.50-7.68(m,4H), 7.89(dd,1H,J=2.3Hz,8.0Hz), 8.0
2-8.09(m,1H), 8.16(d,1H,J=8.0Hz), 8.60(d,1H,J=2.3H
z)
【００４７】実施例１６ 温度計、メカニカルスターラ、滴下漏斗を装備した内容
積５００ｍｌの３口フラスコに、オキシ塩化リン１００
ｍｌ（１６４．５ｇ、１．０７ｍｏｌ）を加えて０℃に
冷却し、攪拌しながらＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１
２０ｍｌを１時間かけて滴下した。内温を０℃に維持し
て２時間攪拌し、この反応混合液に３−ペンタノン１０
０ｍｌ（ ８５．３ｇ、０．９９ｍｏｌ）を１時間かけ
て滴下した。滴下終了後、内温を室温まで上昇させてさ
らに２時間攪拌したのち、反応混合液を５００ｇの氷に
滴下した。この混合物を分液して有機層を分離し、水層
を酢酸エチル２００ｍｌで２回抽出した。抽出液と先の
有機層とを合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧下に除去し、３−クロロ−２−メチル−２−ペ
ンテナールを得た（ １３１．２ｇ、ほぼ１００％収
率）。次に、実施例１と同様の反応装置に、上記で得た
３−クロロ−２−メチル−２−ペンテナール１３．２５
ｇ（１００ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニ
ド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒として
トルエン１５ｍｌおよびブタノール０．７ｍｌを加え、
続いてホウ酸トリブチル１．１５ｇ（５．００ｍｍｏ
ｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１２２℃に
て攪拌し、生成する水を分離除去しながら４時間加熱還
流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成
分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させ
た。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下に
冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時
間真空乾燥し、淡黄色の結晶として、下記の物性を有す
る２−ベンゼンスルホニル−４−クロロ−３，５−ジメ
チルピリジン１３．０９ｇを得た（純度９９％、ベンゼ
ンスルホニルシアニド基準で収率９３％）。
積５００ｍｌの３口フラスコに、オキシ塩化リン１００
ｍｌ（１６４．５ｇ、１．０７ｍｏｌ）を加えて０℃に
冷却し、攪拌しながらＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１
２０ｍｌを１時間かけて滴下した。内温を０℃に維持し
て２時間攪拌し、この反応混合液に３−ペンタノン１０
０ｍｌ（ ８５．３ｇ、０．９９ｍｏｌ）を１時間かけ
て滴下した。滴下終了後、内温を室温まで上昇させてさ
らに２時間攪拌したのち、反応混合液を５００ｇの氷に
滴下した。この混合物を分液して有機層を分離し、水層
を酢酸エチル２００ｍｌで２回抽出した。抽出液と先の
有機層とを合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧下に除去し、３−クロロ−２−メチル−２−ペ
ンテナールを得た（ １３１．２ｇ、ほぼ１００％収
率）。次に、実施例１と同様の反応装置に、上記で得た
３−クロロ−２−メチル−２−ペンテナール１３．２５
ｇ（１００ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニ
ド８．３５ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒として
トルエン１５ｍｌおよびブタノール０．７ｍｌを加え、
続いてホウ酸トリブチル１．１５ｇ（５．００ｍｍｏ
ｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１２２℃に
て攪拌し、生成する水を分離除去しながら４時間加熱還
流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成
分を減圧下に除去し、氷浴中で冷却して結晶を析出させ
た。この結晶をグラスフィルターで濾過し、５℃以下に
冷却したトルエン１０ｍｌで洗浄後、真空ポンプで２時
間真空乾燥し、淡黄色の結晶として、下記の物性を有す
る２−ベンゼンスルホニル−４−クロロ−３，５−ジメ
チルピリジン１３．０９ｇを得た（純度９９％、ベンゼ
ンスルホニルシアニド基準で収率９３％）。
【００４８】融点：９１〜９２℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:2.38(s,3H)，2.79(s,3H)，7.53-7.68(m,3H), 7.97-
8.00(m,2H)，8.20(s,1H)
δ:2.38(s,3H)，2.79(s,3H)，7.53-7.68(m,3H), 7.97-
8.00(m,2H)，8.20(s,1H)
【００４９】実施例１７ 温度計、マグネチックスターラ、ディーンシュターク型
水分定量受器および冷却管を装備した内容積２５ｍｌの
３口フラスコに３−メチル−１−フェニル−２−ブテン
−１−オン０．９６ｇ（６．００ｍｍｏｌ）およびベン
ゼンスルホニルシアニド０．８４ｇ（５．００ｍｍｏ
ｌ）を入れ、溶媒としてトルエン５ｍｌおよびブタノー
ル０．５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル０．１２
ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下と
して内温１１２℃にて攪拌し、生成する水を分離除去し
ながら８時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却
後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、得られた粗
生成物を酢酸エチル５ｍｌで再結晶し、無色の結晶とし
て、下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−４−
メチル−６−フェニルピリジン０．４２ｇを得た（純度
９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率２８
％）。
水分定量受器および冷却管を装備した内容積２５ｍｌの
３口フラスコに３−メチル−１−フェニル−２−ブテン
−１−オン０．９６ｇ（６．００ｍｍｏｌ）およびベン
ゼンスルホニルシアニド０．８４ｇ（５．００ｍｍｏ
ｌ）を入れ、溶媒としてトルエン５ｍｌおよびブタノー
ル０．５ｍｌを加え、続いてホウ酸トリブチル０．１２
ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下と
して内温１１２℃にて攪拌し、生成する水を分離除去し
ながら８時間加熱還流した。この溶液を室温まで冷却
後、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去し、得られた粗
生成物を酢酸エチル５ｍｌで再結晶し、無色の結晶とし
て、下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−４−
メチル−６−フェニルピリジン０．４２ｇを得た（純度
９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率２８
％）。
【００５０】融点：１７０〜１７１℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:2.54(s,3H), 7.42-7.46(m,3H), 7.51-7.61(m,3H),
7.67(s,1H), 7.90-7.95(m,3H), 8.14(dd,2H,J=1.7Hz,8.
4Hz)
δ:2.54(s,3H), 7.42-7.46(m,3H), 7.51-7.61(m,3H),
7.67(s,1H), 7.90-7.95(m,3H), 8.14(dd,2H,J=1.7Hz,8.
4Hz)
【００５１】実施例１８ 温度計、マグネチックスターラ、ディーンシュターク型
水分定量受器および冷却管を装備した内容積２５ｍｌの
３口フラスコに３−フェニル−２−ブテナール０．９３
ｇ（６．３６ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシア
ニド０．９９ｇ（５．９１ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒とし
てトルエン５ｍｌおよびブタノール０．５ｍｌを加え、
続いてホウ酸トリブチル０．１４ｇ（０．５９ｍｍｏ
ｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１２℃に
て攪拌し、生成する水を分離除去しながら２時間加熱還
流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成
分を減圧下に除去した。得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／４）により精製し、無色の結晶として、下記
の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−４−フェニル
ピリジン１．２０ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスル
ホニルシアニド基準で収率７１％）。
水分定量受器および冷却管を装備した内容積２５ｍｌの
３口フラスコに３−フェニル−２−ブテナール０．９３
ｇ（６．３６ｍｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシア
ニド０．９９ｇ（５．９１ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒とし
てトルエン５ｍｌおよびブタノール０．５ｍｌを加え、
続いてホウ酸トリブチル０．１４ｇ（０．５９ｍｍｏ
ｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として内温１１２℃に
て攪拌し、生成する水を分離除去しながら２時間加熱還
流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成
分を減圧下に除去した。得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／４）により精製し、無色の結晶として、下記
の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−４−フェニル
ピリジン１．２０ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスル
ホニルシアニド基準で収率７１％）。
【００５２】融点：１４５〜１４６℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:7.49-7.70(m,9H), 8.11(m,2H), 8.43(d,1H,J=2.0H
z), 8.69(d,1H,J=5.0Hz)
δ:7.49-7.70(m,9H), 8.11(m,2H), 8.43(d,1H,J=2.0H
z), 8.69(d,1H,J=5.0Hz)
【００５３】実施例１９ 内容積５ｍｌのフラスコに、シクロヘキシリデンアセト
アルデヒド１０６ｍｇ（純度８４％、０．７２ｍｍｏ
ｌ）、ベンゼンスルホニルシアニド１２０ｍｇ（０．７
２ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリブチル１７ｍｇ（０．０７２
ｍｍｏｌ）、１−ブタノール１１ｍｇ（０．１４ｍｍｏ
ｌ）および脱水剤としてモレキュラーシーブス−４Ａ
（３１０ｍｇ）を入れ、溶媒としてトルエン１．５ｍｌ
を加えた後、内温１１０℃にて１４時間加熱した。この
溶液を室温まで冷却後、モレキュラーシーブスをろ別
し、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去した。得られた
粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：
酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製し、黄色結晶と
して、下記の物性を有する１−ベンゼンスルホニル−
5，6，7，8−テトラヒドロイソキノリン３１ｍｇを得た
（ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率１６％）。
アルデヒド１０６ｍｇ（純度８４％、０．７２ｍｍｏ
ｌ）、ベンゼンスルホニルシアニド１２０ｍｇ（０．７
２ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリブチル１７ｍｇ（０．０７２
ｍｍｏｌ）、１−ブタノール１１ｍｇ（０．１４ｍｍｏ
ｌ）および脱水剤としてモレキュラーシーブス−４Ａ
（３１０ｍｇ）を入れ、溶媒としてトルエン１．５ｍｌ
を加えた後、内温１１０℃にて１４時間加熱した。この
溶液を室温まで冷却後、モレキュラーシーブスをろ別
し、溶媒などの低沸成分を減圧下に除去した。得られた
粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：
酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製し、黄色結晶と
して、下記の物性を有する１−ベンゼンスルホニル−
5，6，7，8−テトラヒドロイソキノリン３１ｍｇを得た
（ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率１６％）。
【００５４】融点：１０９〜１１２℃1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, TMS, ppm),
δ:1.80−1.86(m,4H),2.80−2.84(m，2H)，3.26−3.31
(m，2H)，7.10(d,1H, J=4.7Hz), 7.55-7.64(m,3H), 7.9
7−8.01(m,2H), 8.17(d,1H,J=4.7Hz)
δ:1.80−1.86(m,4H),2.80−2.84(m，2H)，3.26−3.31
(m，2H)，7.10(d,1H, J=4.7Hz), 7.55-7.64(m,3H), 7.9
7−8.01(m,2H), 8.17(d,1H,J=4.7Hz)
【００５５】実施例２０ 温度計、マグネチックスターラ、ディーンシュターク型
水分定量受器および冷却管を装備した内容積１００ｍｌ
の３口フラスコに、４−アセトキシ−２−メチル−２−
ブテナール５．０ｇ（３９．６ｍｍｏｌ）、ベンゼンス
ルホニルシアニド７．０５ｇ（３９．６ｍｍｏｌ）、ホ
ウ酸トリブチル０．９１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）および１
−ブタノール（０．５９ｇ、７．９ｍｍｏｌ）を入れ、
溶媒としてトルエン２０ｍｌを加えた後、内温１０８℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら２２時間加
熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低
沸成分を減圧下に除去した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／３）で精製し、褐色の油状物として、下記の
物性を有する３−アセトキシ−２−ベンゼンスルホニル
−５−メチルピリジン２．６２ｇを得た（ベンゼンスル
ホニルシアニド基準で収率２４％）。
水分定量受器および冷却管を装備した内容積１００ｍｌ
の３口フラスコに、４−アセトキシ−２−メチル−２−
ブテナール５．０ｇ（３９．６ｍｍｏｌ）、ベンゼンス
ルホニルシアニド７．０５ｇ（３９．６ｍｍｏｌ）、ホ
ウ酸トリブチル０．９１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）および１
−ブタノール（０．５９ｇ、７．９ｍｍｏｌ）を入れ、
溶媒としてトルエン２０ｍｌを加えた後、内温１０８℃
にて攪拌し、生成する水を分離除去しながら２２時間加
熱還流した。この溶液を室温まで冷却後、溶媒などの低
沸成分を減圧下に除去した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／３）で精製し、褐色の油状物として、下記の
物性を有する３−アセトキシ−２−ベンゼンスルホニル
−５−メチルピリジン２．６２ｇを得た（ベンゼンスル
ホニルシアニド基準で収率２４％）。
【００５６】1Ｈ−ＮＭＲスペクトル(270MHz, CDCl3, T
MS, ppm), δ:2.40(s,3H), 2.42(s，3H)，7.36(d,1H,J=
1.0Hz), 7.50-7.65(m,3H), 8.00−8.03(m,2H), 8.33(d,
1H,J=1.0Hz)
MS, ppm), δ:2.40(s,3H), 2.42(s，3H)，7.36(d,1H,J=
1.0Hz), 7.50-7.65(m,3H), 8.00−8.03(m,2H), 8.33(d,
1H,J=1.0Hz)
【００５７】
【発明の効果】２−スルホニルピリジン誘導体を、温和
な条件下に収率よく、工業的に有利に製造し得る方法が
提供される。
な条件下に収率よく、工業的に有利に製造し得る方法が
提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅沼 五朗 岡山県倉敷市酒津2045番地の１ 株式会社 クラレ内
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子、置換基を有していてもよいア
ルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3はそれ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよ
いアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ4は水素原
子、ハロゲン原子、アルコキシル基、アルキルチオ基、
シアノ基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、保
護された置換されていてもよいアミノ基、置換基を有し
ていてもよいアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2
とＲ3またはＲ3とＲ4は一緒になって−(ＣＨ2)ｎ−（式
中、ｎは３または４を表す。）を表してもよい。）で示
されるα，β−不飽和カルボニル化合物を、一般式（I
I） 【化２】 （式中、Ｒ5は置換基を有していてもよいアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表
す。）で示されるスルホニルシアニドと反応させること
を特徴とする一般式（III） 【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は前記定義のと
おりである。）で示される２−スルホニルピリジン誘導
体の製造方法。 - 【請求項２】 生成する水を除去しながら反応を行う請
求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 一般式（III-1） 【化４】 （式中、Ｒ5は置換基を有していてもよいアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表
す。）で示される２−スルホニルピリジン誘導体。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32365398A JP4241975B2 (ja) | 1998-01-26 | 1998-11-13 | ２−スルホニルピリジン誘導体の製造方法 |
| US09/236,444 US6197962B1 (en) | 1998-01-26 | 1999-01-25 | Method for producing 2-sulfonylpyridine derivatives and method for producing 2-{[(2-pyridyl)methyl]thio}-1H-benzimidazole derivatives |
| KR10-1999-0002234A KR100396431B1 (ko) | 1998-01-26 | 1999-01-25 | 2-술포닐피리딘 유도체 및 2-[((2-피리딜)메틸)티오]-1ｈ-벤즈이 |
| ES99101402T ES2200411T3 (es) | 1998-01-26 | 1999-01-26 | Procedimiento de produccion de derivados 2-sulfonilpiridina y proced imiento para producir derivados 2-((2 - piridil)metil)tio)-1h-bencimidazol. |
| EP99101402A EP0931790B1 (en) | 1998-01-26 | 1999-01-26 | Method for producing 2-sulfonylpyridine derivates and method for producing 2-( (2-pyridyl)methyl)thio)-1H-benzimidazole derivates |
| CN99102712A CN1115333C (zh) | 1998-01-26 | 1999-01-26 | 生产2－磺酰基吡啶衍生物和生产2－{[（2－吡啶基）甲基]硫基}－1h－苯并咪唑衍生物的方法 |
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