JPH11265794A - El表示装置 - Google Patents
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Abstract
EL表示装置を提供する。また、電極の電気抵抗を下げ
て均一性、効率を改善したEL表示装置を提供する。 【解決手段】透光性絶縁基板上に複数の第一電極と複数
の第二電極が少なくとも発光媒体を挟持し、かつ第一電
極列と第二電極列が相互に交差して形成する画素群から
なるEL表示装置において、少なくとも画素に対応する
領域の第一電極が、少なくとも透光性絶縁基板側の光吸
収層と発光媒体側の光反射層からなり、かつ、スリット
状やドット状の光透過穴4aを有する。
Description
ルミネッセンスの略)表示装置に関する。
型、軽量、低コスト、自発光で高輝度という利点を有す
るために、次世代フラットパネルディスプレイとして期
待されている。従来のEL表示装置は、図5のように、
透光性絶縁基板上に複数の透光性第一電極と複数の第二
電極が少なくとも発光媒体を挟持し、かつ第一電極ライ
ンと第二電極ラインが相互に交差して形成する画素群か
らなる。第一電極ラインと第二電極ラインの間に電圧を
印加すると、交点の画素に対応する領域の第一電極と第
二電極の間に電流が流れ、挟持された発光媒体から発光
する。
側を向いた分は、透光性第一電極と透光性絶縁基板を透
過して、表示面から放射される。第二電極を向いた分
は、第二電極で1回反射してから発光媒体と透光性第一
電極と透光性絶縁基板を透過して、表示面から放射され
る。このように、発光のうち基板にほぼ垂直な方向を向
いた2成分が表示に利用される。
射した外光は、透光性絶縁基板と透光性第一電極と発光
媒体を透過し、第二電極で反射し、発光媒体と透光性第
一電極と透光性絶縁基板を透過して、表示面から放射さ
れる。この外光反射が、非点灯時のバックグラウンドと
なり、コントラストを低下させる原因になっている。
電体は、金属に比べて抵抗率が数桁小さい。高精細、大
画面のEL表示装置では大電流を流す必要があるが、そ
の際の電圧降下が大きく、均一性や効率の悪化が問題で
ある。
になされたものであり、外光反射を抑えて良好なコント
ラストを有するEL表示装置を提供する。また、電極の
電気抵抗を下げて均一性、効率を改善したEL表示装置
を提供する。
め、請求項1としては、透光性絶縁基板上に複数の第一
電極と複数の第二電極が少なくとも発光媒体を挟持し、
かつ第一電極列と第二電極列が相互に交差して形成する
画素群からなるEL表示装置において、少なくとも画素
に対応する領域の第一電極が、少なくとも透光性絶縁基
板側の光吸収層と発光媒体の光反射層からなり、かつ、
スリット状やドット状の光透過穴を有することを特徴と
するEL表示装置としたものである。
ト状の光透過穴を有する第一電極において、画素部での
非透過パターンの最大幅が画素の最小幅の1/1000
〜1/2であり、画素部での開口比率が5%〜60%で
あることを特徴とする請求項1に記載のEL表示装置と
したものである。
部内、または第一電極と透光性絶縁基板の間に、吸光
型、干渉型、あるいは蛍光波長変換型のカラーフィルタ
層を設けたことを特徴とする請求項1〜2のいずれかに
記載のEL表示装置としたものである。
層が、黒色樹脂層または金属不完全酸化物または金属不
完全窒化物からなり、光反射層が金属からなることを特
徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のEL表示装置
としたものである。
とも光吸収層と光反射層からなり、かつ、スリット状や
ドット状の光透過穴を有する。
分のうち、光透過領域に対応した分は、直接、表示面か
ら放射される。第一電極を向いた分のうち非透過領域に
対応した分、および、第二電極を向いた分は、第一電極
の光反射層と第二電極の間で反射を繰り返した後、第一
電極の光透過部を通って、表示面から放射される。この
ように、発光のうち基板にほぼ垂直な方向を向いた2成
分が表示に利用されることは、従来と同様である。
電極の光透過領域に対応した分は、透光性絶縁基板と発
光媒体を透過し、第二電極で反射し、発光媒体と透光性
絶縁基板を透過して、表示面から放射される。また、外
光のうち、第一電極の非透過領域に対応した分は、第一
電極の光吸収層で吸収される。従って、外光反射が低減
され、高コントラストの表示が得られる。
と、従来のコントラストはI/Rである。透光開口比率
(光透過領域の面積比率)をα(<1)とすると、透過
や反射での損失を無視すれば、本発明での発光強度は
I、外光反射はαRとなり、コントラストはI/αRに
改善される。即ち、発光強度をほぼ保ちながら、外光反
射を低減できるため、コントラストが改善される。
穴は、少なくとも画素に対応する領域に形成する。
ト状の光透過穴を有する第一電極において、画素部での
非透過パターンの最大幅が画素の最小幅の1/1000
〜1/2であり、画素部での開口比率が5%〜60%で
あることを特徴とする請求項1に記載のEL表示装置と
したものである。
合、近くで観測するとパターンが見えてしまう。しか
し、表示装置の画素の大きさは観測者との距離を想定し
て決められているので、画素の大きさが大きい場合には
非透過パターンの幅が大きくても気にならない。即ち、
第一電極の非透過パターンの最適幅には、画素の幅に依
存する相対的な関係がある。細かすぎるパターンは、工
程を難しくするので、非透過パターンの最大幅は、画素
の最小幅の1/1000〜1/2が望ましく、さらには
1/100〜1/10が望ましい。
示までの反射回数が多くなり、損失によって輝度が落ち
てしまう。このことから、非透過パターンの幅は0.5
μm〜50μmが望ましい。
たらすことから、開口比率が大きいと改善効果が小さく
なる。また、開口比率が小さいと、表示までの反射回数
が大きくなり、損失が増加して輝度が小さくなる。これ
らより、開口比率は、5%〜60%が望ましく、さらに
は10%〜40%が望ましい。
部内、または第一電極と透光性絶縁基板の間に、吸光
型、干渉型、あるいは蛍光波長変換型のカラーフィルタ
層を設けたことを特徴とする請求項1〜2のいずれかに
記載のEL表示装置としたものである。
り、さらにコントラストを向上することができ、1種類
の発光媒体を用いても容易にフルカラーあるいはマルチ
カラーのEL表示装置を提供できる。
層が、黒色樹脂層または金属不完全酸化物または金属不
完全窒化物からなり、光反射層が金属からなることを特
徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のEL表示装置
としたものである。
いられる黒色樹脂や、CrOX /Cr層のような金属不
完全酸化物、GaNX のような金属不完全窒化物等を用
いることができる。光反射層としては、Ag、Al、C
o、Cr、Mo、Nb、Pd、Pt、Rh、Sn、T
a、Ti等の金属、またはこれらの金属元素を一成分以
上含む合金等が使用できる。特にAgやAlは、可視域
で反射率が高く、好適な材料である。
用いると、同じ開口比率でも配線抵抗をより低減できる
ので好ましい。
性絶縁基板としては、ガラス基板、プラスチック基板等
が使用できる。
0−ジアリールアントラセン誘導体、サリチル酸塩、ピ
レン、コロネン、ペリレン、ルブレン、テトラフェニル
ブタジエン、9,10−ビス(フェニルエチニル)アン
トラセン、8−キノリノラートリチウム、トリス(8−
キノリノラート)アルミニウム錯体、トリス(5,7−
ジクロロ,8−キノリノラート)アルミニウム錯体、ト
リス(5−クロロ−8−キノリノラート)アルミニウム
錯体、ビス(8−キノリノラート)亜鉛錯体、トリス
(5−フルオロ−8−キノリノラート)アルミニウム錯
体、トリス(4−メチル−5−トリフルオロメチル−8
−キノリノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メ
チル−5−シアノ−8−キノリノラート)アルミニウム
錯体、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8
−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェ
ノラート]アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−
シアノ−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェ
ニル)フェノラート]アルミニウム錯体、トリス(8−
キノリノラート)スカンジウム錯体、ビス[8−(パラ
ートシル)アミノキノリン]亜鉛錯体およびカドミウム
錯体、1,2,3,4−テトラフェニルシクロペンタジ
エン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−2,
5−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、あ
るいは特開平4−31488号公報、米国特許5141
671号、同4769292号で言及されている蛍光物
質やN,N’ジアリール置換ピロロピロール化合物等が
あげられる。
1、図2に示す。
4aが形成されている。第一電極4と透光性絶縁基板1
の間には、カラーフィルタ2を設けてある。
4に示す。
ってカラーフィルタ2を形成し、オーバーコート層3で
覆う(図3(a)参照)。次に、0.2μmのCrOx
/Crの積層膜5、6を成膜する(図3(b)参照)。
そして、既存のフォトエッチング技術即ちフォトレジス
トパターン形成とウェットエッチングによって、幅1m
mのストライプかつ幅20μm、開口比率40%のスリ
ット状光透過穴4aを有する形状に加工する(図3
(c)参照)。
とにより、導電性および光反射性を向上する(図3
(d)参照)。
4(e)参照)。発光媒体8としては、正孔輸送層9を
0.07μm、電子輸送性発光層10を 0.07μm
積層した。そして、第二電極11としてAlLiを0.
3μm厚だけ、マスク蒸着によって第一電極パターンと
交差するストライプ状に形成する(図4(f)参照)。
最後に、全面に封止層12を形成する(図4(g)参
照)。
べて輝度はやや減少したものの、コントラストがおよそ
1.5倍に向上した。
mm、開口率50%の条件下で、非透過パターン幅を1
μm、10μm、100μm、500μmと変えて作製
した。これらは、画素幅に対応する第一電極幅の1/1
000〜1/2である。いずれの場合にも、コントラス
ト向上効果が見られた。ただし、1μmの場合は高精度
のパターニング技術を要し、それ以上細かくする意味が
ない。また、500μmの場合には非透過パターンが目
視できるようになり、それ以上荒いと画質を低下させ
る。
過パターン幅100μmの条件下で、開口率を1%、5
%、10%、20%、40%、60%、80%と変えて
作製した。5%〜60%において、コントラスト向上効
果が見られた。開口率1%では輝度低下が著しく、開口
率80%では外光反射の低減効果が弱く、いずれもコン
トラストは向上しなかった。
を有する第一電極を用いることにより、外光反射を抑え
て良好なコントラストを有するEL表示装置を提供でき
る。また、電気抵抗を低減でき、均一性、効率を改善し
たEL表示装置を提供できる。
る。
ある。
ある。
る。
Claims (4)
- 【請求項1】透光性絶縁基板上に複数の第一電極と複数
の第二電極が少なくとも発光媒体を挟持し、かつ第一電
極列と第二電極列が相互に交差して形成する画素群から
なるEL表示装置において、少なくとも画素に対応する
領域の第一電極が、少なくとも透光性絶縁基板側の光吸
収層と発光媒体側の光反射層からなり、かつ、スリット
状やドット状の光透過穴を有することを特徴とするEL
表示装置。 - 【請求項2】前記スリット状やドット状の光透過穴を有
する第一電極において、画素部での非透過パターンの最
大幅が画素の最小幅の1/1000〜1/2であり、画
素部での開口比率が5%〜60%であることを特徴とす
る請求項1に記載のEL表示装置。 - 【請求項3】前記第一電極の光透過部内、または第一電
極と透光性絶縁基板の間に、吸光型、干渉型、あるいは
蛍光波長変換型のカラーフィルタ層を設けたことを特徴
とする請求項1〜2のいずれかに記載のEL表示装置。 - 【請求項4】前記第一電極の光吸収層が、黒色樹脂層ま
たは金属不完全酸化物または金属不完全窒化物からな
り、光反射層が金属からなることを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載のEL表示装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005051045A1 (ja) * | 2003-10-27 | 2005-06-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 発光素子 |
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JP2015011140A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタ形成基板および有機el表示装置 |
KR20170122343A (ko) * | 2016-04-26 | 2017-11-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 색변환 패널 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN111384100A (zh) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 乐金显示有限公司 | 显示装置 |
-
1998
- 1998-03-18 JP JP06866198A patent/JP3601290B2/ja not_active Expired - Fee Related
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