JPH1126517A - 半導体装置の検査方法 - Google Patents
半導体装置の検査方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワイヤーボンド接合不良検査電流、検査電圧
を制御することができる。 【解決手段】 2つの端子4,7間に接続された半導体
装置9内のダイオード5等の導通素子を利用してワイヤ
ーボンド接合不良検査を行う。上記の構成によれば、半
導体装置9内の導通素子を利用してワイヤーボンド接合
不良検査を行うので、検査電圧を下げることができると
ともに、半導体装置9内のワイヤーボンド接合不良検査
電流経路を制御することにより半導体装置9を破壊する
ことがない。このため、半導体装置9の微細化に伴う低
耐圧化においても、半導体装置9を破壊することなく正
常にワイヤーボンド接合不良の検査を行うことができ
る。
を制御することができる。 【解決手段】 2つの端子4,7間に接続された半導体
装置9内のダイオード5等の導通素子を利用してワイヤ
ーボンド接合不良検査を行う。上記の構成によれば、半
導体装置9内の導通素子を利用してワイヤーボンド接合
不良検査を行うので、検査電圧を下げることができると
ともに、半導体装置9内のワイヤーボンド接合不良検査
電流経路を制御することにより半導体装置9を破壊する
ことがない。このため、半導体装置9の微細化に伴う低
耐圧化においても、半導体装置9を破壊することなく正
常にワイヤーボンド接合不良の検査を行うことができ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、特に半導体装置
内の回路を利用し、ワイヤーボンド工程におけるワイヤ
ーボンド接合不良を検査することができる半導体装置の
検査方法に関するものである。
内の回路を利用し、ワイヤーボンド工程におけるワイヤ
ーボンド接合不良を検査することができる半導体装置の
検査方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2および図3は従来のワイヤーボンド
工程におけるワイヤーボンド接合不良の検査方法を示
し、図2はワイヤーボンドが正常に行われた時の説明
図、図3はワイヤーボンド接合不良が発生した時の説明
図である。図2において、11は検査装置、12はキャ
ピラリー、13は金線、14は半導体装置、15はリー
ドフレームである。次にワイヤーボンド接合不良の検査
方法について、図2を用いて説明する。
工程におけるワイヤーボンド接合不良の検査方法を示
し、図2はワイヤーボンドが正常に行われた時の説明
図、図3はワイヤーボンド接合不良が発生した時の説明
図である。図2において、11は検査装置、12はキャ
ピラリー、13は金線、14は半導体装置、15はリー
ドフレームである。次にワイヤーボンド接合不良の検査
方法について、図2を用いて説明する。
【0003】まず半導体装置14に金線13をワイヤー
ボンドを行ったのち、検査装置11より検査電流Cを印
加する。図2に示すように、正常にワイヤーボンドが行
われた場合は、検査電流Cは金線13を導通し、半導体
装置14を貫通し、リードフレーム15より流れ出る。
また図3に示すように、ワイヤーボンド接合不良Dが発
生した場合は、検査電流Cは流れない。
ボンドを行ったのち、検査装置11より検査電流Cを印
加する。図2に示すように、正常にワイヤーボンドが行
われた場合は、検査電流Cは金線13を導通し、半導体
装置14を貫通し、リードフレーム15より流れ出る。
また図3に示すように、ワイヤーボンド接合不良Dが発
生した場合は、検査電流Cは流れない。
【0004】従来のワイヤーボンド接合不良の検査方法
は、前述したように検査電流Cの導通の可否によりワイ
ヤーボンド接合不良の判定を行っているが、図2に示す
ように半導体装置14の表面から裏面に貫通電流を流す
ため、高検査電圧をかける必要があり、かつ半導体装置
14内において検査電流Cの経路は制御されていなかっ
た。
は、前述したように検査電流Cの導通の可否によりワイ
ヤーボンド接合不良の判定を行っているが、図2に示す
ように半導体装置14の表面から裏面に貫通電流を流す
ため、高検査電圧をかける必要があり、かつ半導体装置
14内において検査電流Cの経路は制御されていなかっ
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の半
導体装置の検査方法は、半導体装置14内において高検
査電圧をかけ、検査電流経路の制御を行わないでワイヤ
ーボンド接合不良の検査を行うため、半導体装置の微細
化に伴う低耐圧化により、検査電圧、検査電流により半
導体装置を破壊する可能性が生じてきた。
導体装置の検査方法は、半導体装置14内において高検
査電圧をかけ、検査電流経路の制御を行わないでワイヤ
ーボンド接合不良の検査を行うため、半導体装置の微細
化に伴う低耐圧化により、検査電圧、検査電流により半
導体装置を破壊する可能性が生じてきた。
【0006】したがって、この発明の目的は、上記従来
の問題を解決するもので、ワイヤーボンド接合不良検査
電流、検査電圧を制御することができる半導体装置の検
査方法を提供することである。
の問題を解決するもので、ワイヤーボンド接合不良検査
電流、検査電圧を制御することができる半導体装置の検
査方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この問題を解決するため
に、この発明の請求項1記載の半導体装置の検査方法
は、2つの端子間に接続された半導体装置内の導通素子
を利用してワイヤーボンド接合不良検査を行うことを特
徴とする。上記の構成によれば、半導体装置内の導通素
子を利用してワイヤーボンド接合不良検査を行うので、
検査電圧を下げることができるとともに、半導体装置内
のワイヤーボンド接合不良検査電流経路を制御すること
により半導体装置を破壊することがない。このため、半
導体装置の微細化に伴う低耐圧化においても、半導体装
置を破壊することなく正常にワイヤーボンド接合不良の
検査を行うことができる。
に、この発明の請求項1記載の半導体装置の検査方法
は、2つの端子間に接続された半導体装置内の導通素子
を利用してワイヤーボンド接合不良検査を行うことを特
徴とする。上記の構成によれば、半導体装置内の導通素
子を利用してワイヤーボンド接合不良検査を行うので、
検査電圧を下げることができるとともに、半導体装置内
のワイヤーボンド接合不良検査電流経路を制御すること
により半導体装置を破壊することがない。このため、半
導体装置の微細化に伴う低耐圧化においても、半導体装
置を破壊することなく正常にワイヤーボンド接合不良の
検査を行うことができる。
【0008】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態の半導体装
置の検査方法を図1に基づいて説明する。図1はこの発
明の実施の形態の半導体装置の検査方法を示す概念図で
ある。図1において、1は検査装置で、キャピラリー2
を介して半導体装置9からの検査電流Aが入力され、ま
た半導体装置9へ検査電流Bを出力する。キャピラリー
2は、端子4,7,8にワイヤーボンドを行い金線3を
接続する。また、半導体装置9は、ワイヤーボンド接合
不良検査を行うための検査電流A,B、検査電圧を制御
できるようにダイオード5、MOSトランジスタ6が配
置されて回路が形成されている。10はグラウンドであ
る。
置の検査方法を図1に基づいて説明する。図1はこの発
明の実施の形態の半導体装置の検査方法を示す概念図で
ある。図1において、1は検査装置で、キャピラリー2
を介して半導体装置9からの検査電流Aが入力され、ま
た半導体装置9へ検査電流Bを出力する。キャピラリー
2は、端子4,7,8にワイヤーボンドを行い金線3を
接続する。また、半導体装置9は、ワイヤーボンド接合
不良検査を行うための検査電流A,B、検査電圧を制御
できるようにダイオード5、MOSトランジスタ6が配
置されて回路が形成されている。10はグラウンドであ
る。
【0009】つぎに、上記半導体装置の検査方法につい
て説明する。半導体装置の製造工程のワイヤーボンド工
程において、ワイヤーボンド接合不良検査を行う。図1
に示すように、最初に、端子7をワイヤーボンド接合不
良検査を行わないでワイヤーボンドを行う。次に端子4
をワイヤーボンド接合不良検査を行いながらワイヤーボ
ンドを行う。その時、グラウンド10より出力された検
査電流Aは端子7より、半導体装置9に印加される。半
導体装置9内に印加された検査電流Aは、ダイオード
5、端子4、金線3を導通し、検査装置1に入力され
る。
て説明する。半導体装置の製造工程のワイヤーボンド工
程において、ワイヤーボンド接合不良検査を行う。図1
に示すように、最初に、端子7をワイヤーボンド接合不
良検査を行わないでワイヤーボンドを行う。次に端子4
をワイヤーボンド接合不良検査を行いながらワイヤーボ
ンドを行う。その時、グラウンド10より出力された検
査電流Aは端子7より、半導体装置9に印加される。半
導体装置9内に印加された検査電流Aは、ダイオード
5、端子4、金線3を導通し、検査装置1に入力され
る。
【0010】また、端子8がワイヤーボンドされている
場合は、次に示す検査方法でもワイヤーボンド接合不良
検査が可能である。すなわち、検査装置1より出力され
た検査電流Bは、金線3を導通し半導体装置9に印加さ
れる。半導体装置9内に印加された検査電流Bは、ダイ
オード5を導通し、端子8より半導体装置9外に出力さ
れる。
場合は、次に示す検査方法でもワイヤーボンド接合不良
検査が可能である。すなわち、検査装置1より出力され
た検査電流Bは、金線3を導通し半導体装置9に印加さ
れる。半導体装置9内に印加された検査電流Bは、ダイ
オード5を導通し、端子8より半導体装置9外に出力さ
れる。
【0011】上記のように1番目の端子7または8のワ
イヤーボンドを行い、2番目の端子4からワイヤーボン
ド接合不良検査を行い、検査装置1に入力される検査電
流Aまたは半導体装置9外に出力される検査電流Bの有
無により良、不良の判定を行う。また、他の端子も同様
に半導体装置9内のダイオード、抵抗等の導通素子を利
用して検査を行うことができる。
イヤーボンドを行い、2番目の端子4からワイヤーボン
ド接合不良検査を行い、検査装置1に入力される検査電
流Aまたは半導体装置9外に出力される検査電流Bの有
無により良、不良の判定を行う。また、他の端子も同様
に半導体装置9内のダイオード、抵抗等の導通素子を利
用して検査を行うことができる。
【0012】以上のように本実施の形態によれば、半導
体装置9内の導通素子を用いることにより、検査電圧を
下げることが出来るようになり、かつ半導体装置9内の
ワイヤーボンド接合不良検査電流経路を制御することに
より、半導体装置9を破壊することなく、ワイヤーボン
ド接合不良の検査を行うことができる。
体装置9内の導通素子を用いることにより、検査電圧を
下げることが出来るようになり、かつ半導体装置9内の
ワイヤーボンド接合不良検査電流経路を制御することに
より、半導体装置9を破壊することなく、ワイヤーボン
ド接合不良の検査を行うことができる。
【0013】
【発明の効果】この発明の半導体装置の検査方法によれ
ば、2つの端子間に接続された半導体装置内の導通素子
を利用してワイヤーボンド接合不良検査を行うので、検
査電圧を下げることができるとともに、半導体装置内の
ワイヤーボンド接合不良検査電流経路を制御することに
より半導体装置を破壊することがない。このため、半導
体装置の微細化に伴う低耐圧化においても、半導体装置
を破壊することなく正常にワイヤーボンド接合不良の検
査を行うことができる。
ば、2つの端子間に接続された半導体装置内の導通素子
を利用してワイヤーボンド接合不良検査を行うので、検
査電圧を下げることができるとともに、半導体装置内の
ワイヤーボンド接合不良検査電流経路を制御することに
より半導体装置を破壊することがない。このため、半導
体装置の微細化に伴う低耐圧化においても、半導体装置
を破壊することなく正常にワイヤーボンド接合不良の検
査を行うことができる。
【図1】この発明の実施の形態の半導体装置の検査方法
を示す概念図である。
を示す概念図である。
【図2】従来の半導体装置の検査方法でワイヤーボンド
が正常に行われたときの説明図である。
が正常に行われたときの説明図である。
【図3】従来の半導体装置の検査方法でワイヤーボンド
接合不良が生じたときの説明図である。
接合不良が生じたときの説明図である。
1 検査装置 2 キャピラリー 3 金線 4 端子 5 ダイオード(導通素子) 6 MOSトランジスタ 7 端子 8 端子 9 半導体装置 10 グラウンド 11 検査装置 12 キャピラリー 13 金線 14 半導体装置 15 リードフレーム
Claims (1)
- 【請求項1】 2つの端子間に接続された半導体装置内
の導通素子を利用してワイヤーボンド接合不良検査を行
うことを特徴とする半導体装置の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9175533A JPH1126517A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | 半導体装置の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9175533A JPH1126517A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | 半導体装置の検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1126517A true JPH1126517A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=15997744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9175533A Pending JPH1126517A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | 半導体装置の検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1126517A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003059981A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-28 | Denso Corp | ワイヤボンディング評価方法とそれに用いる評価用治具 |
-
1997
- 1997-07-01 JP JP9175533A patent/JPH1126517A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003059981A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-28 | Denso Corp | ワイヤボンディング評価方法とそれに用いる評価用治具 |
JP4599776B2 (ja) * | 2001-08-09 | 2010-12-15 | 株式会社デンソー | ワイヤボンディング評価方法とそれに用いる評価用治具 |
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