JPH1126364A - プロキシミティ露光装置 - Google Patents
プロキシミティ露光装置Info
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- JPH1126364A JPH1126364A JP9189272A JP18927297A JPH1126364A JP H1126364 A JPH1126364 A JP H1126364A JP 9189272 A JP9189272 A JP 9189272A JP 18927297 A JP18927297 A JP 18927297A JP H1126364 A JPH1126364 A JP H1126364A
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- JP
- Japan
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- glass substrate
- air
- unit
- temperature
- photomask
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス基板及びフォトマスクを常時所望の温
度に調節する。 【解決手段】 フォトマスクの温度調節手段はフォトマ
スクの上面方向に設けられたエアー吹き出し口であっ
て、このエアー吹き出し口から吹き出すエアーの方向を
ルーバによって可変し、フォトマスク全面にエアーを供
給するように構成されている。ガラス基板の温度調節手
段はローダユニット上でガラス基板に冷却用のクーリン
グプレートを接触させることによって、ガラス基板の温
度を調節する。また、別のガラス基板の温度調節手段は
ガラス基板をローダユニットから露光チャック上に搬送
する間に、ガラス基板の上面から冷却用のエアーをガラ
ス基板表面に吹きつけることによってガラス基板の温度
を調節する。
度に調節する。 【解決手段】 フォトマスクの温度調節手段はフォトマ
スクの上面方向に設けられたエアー吹き出し口であっ
て、このエアー吹き出し口から吹き出すエアーの方向を
ルーバによって可変し、フォトマスク全面にエアーを供
給するように構成されている。ガラス基板の温度調節手
段はローダユニット上でガラス基板に冷却用のクーリン
グプレートを接触させることによって、ガラス基板の温
度を調節する。また、別のガラス基板の温度調節手段は
ガラス基板をローダユニットから露光チャック上に搬送
する間に、ガラス基板の上面から冷却用のエアーをガラ
ス基板表面に吹きつけることによってガラス基板の温度
を調節する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イの製造工程においてガラス基板上にマスクのパターン
を形成するプロキシミティ露光装置に係り、特にガラス
基板やマスクを所望の温度に制御する方式に改良を加え
たプロキシミティ露光装置に関する。
イの製造工程においてガラス基板上にマスクのパターン
を形成するプロキシミティ露光装置に係り、特にガラス
基板やマスクを所望の温度に制御する方式に改良を加え
たプロキシミティ露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉ
ｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）は、ＣＲＴ（Ｃ
ａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）に比べて薄型化、軽
量化が可能であるため、ＣＴＶ（Ｃｏｌｏｒ Ｔｅｌｅ
ｖｉｓｉｏｎ）やＯＡ機器等のディスプレイ装置として
採用され、画面サイズも１０型以上の大形化が図られ、
より一層の高精細化及びカラー化が押し進められてい
る。液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ技術によ
りガラス基板の表面に微細なパターンを描画して作られ
る。露光装置はこの微細パターンをガラス基板上に描画
するものである。この露光装置としては、マスクパター
ンをレンズ又はミラーを用いてガラス基板上に投影する
プロジェクション方式と、マスクとガラス基板との間に
微小なギャップを設けてマスクパターンを転写するプロ
キシミティ方式とがある。プロキシミティ方式の露光装
置は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能
が劣るものの、照射光学系が非常にシンプルであり、ス
ループットが高く、装置コストから見たコストパフォー
マンスも優れており、生産性の高い量産用装置に適した
ものである。
ｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）は、ＣＲＴ（Ｃ
ａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）に比べて薄型化、軽
量化が可能であるため、ＣＴＶ（Ｃｏｌｏｒ Ｔｅｌｅ
ｖｉｓｉｏｎ）やＯＡ機器等のディスプレイ装置として
採用され、画面サイズも１０型以上の大形化が図られ、
より一層の高精細化及びカラー化が押し進められてい
る。液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ技術によ
りガラス基板の表面に微細なパターンを描画して作られ
る。露光装置はこの微細パターンをガラス基板上に描画
するものである。この露光装置としては、マスクパター
ンをレンズ又はミラーを用いてガラス基板上に投影する
プロジェクション方式と、マスクとガラス基板との間に
微小なギャップを設けてマスクパターンを転写するプロ
キシミティ方式とがある。プロキシミティ方式の露光装
置は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能
が劣るものの、照射光学系が非常にシンプルであり、ス
ループットが高く、装置コストから見たコストパフォー
マンスも優れており、生産性の高い量産用装置に適した
ものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】プロキシミティ方式の
露光装置においては、露光エネルギーによってフォトマ
スク自体の温度が上昇し、熱膨張に応じてトータルピッ
チ精度を劣化させていた。従来は、図２のように、マス
クホルダ４の支持部材４１に設けられたエアー吹き出し
口４２からフォトマスク３の表面に温度調節用エアー
（温調エアー）を吹きつけ、フォトマスクの表面を強制
的に冷却していた。しかしながら、このようにフォトマ
スク３に対して一定方向から温調エアーを吹きつけた場
合、フォトマスク３の表面温度分布に偏りが生じ、トー
タルピッチ精度を劣化させていた。また、従来は、ガラ
ス基板１がローダから露光チャック２上に搬送されて保
持されるまでの間は何ら温度調節を行わず、露光チャッ
ク２に保持された時点で初めて露光チャック２によって
温度調節が行われるようになっていた。しかしながら、
露光チャック２に保持されてから露光が行われるまでの
数秒間に露光チャック２上でガラス基板１を所望の温度
に調節（冷却）することは困難であり、ガラス基板１の
温度調節が不十分なまま露光を行うと、トータルピッチ
精度が劣化するという問題があった。本発明は上述の点
に鑑みてなされたものであり、ガラス基板及びフォトマ
スクを常時所望の温度に調節することのできるプロキシ
ミティ露光装置を提供することを目的とする。
露光装置においては、露光エネルギーによってフォトマ
スク自体の温度が上昇し、熱膨張に応じてトータルピッ
チ精度を劣化させていた。従来は、図２のように、マス
クホルダ４の支持部材４１に設けられたエアー吹き出し
口４２からフォトマスク３の表面に温度調節用エアー
（温調エアー）を吹きつけ、フォトマスクの表面を強制
的に冷却していた。しかしながら、このようにフォトマ
スク３に対して一定方向から温調エアーを吹きつけた場
合、フォトマスク３の表面温度分布に偏りが生じ、トー
タルピッチ精度を劣化させていた。また、従来は、ガラ
ス基板１がローダから露光チャック２上に搬送されて保
持されるまでの間は何ら温度調節を行わず、露光チャッ
ク２に保持された時点で初めて露光チャック２によって
温度調節が行われるようになっていた。しかしながら、
露光チャック２に保持されてから露光が行われるまでの
数秒間に露光チャック２上でガラス基板１を所望の温度
に調節（冷却）することは困難であり、ガラス基板１の
温度調節が不十分なまま露光を行うと、トータルピッチ
精度が劣化するという問題があった。本発明は上述の点
に鑑みてなされたものであり、ガラス基板及びフォトマ
スクを常時所望の温度に調節することのできるプロキシ
ミティ露光装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】第１の発明に係るプロキ
シミティ露光装置は、露光用のフォトマスクの温度を調
節する温度調節機構を備えた露光装置において、前記温
度調節機構がフォトマスクの上面方向に設けられたエア
ー吹き出し口であって、このエアー吹き出し口から吹き
出すエアーの方向をルーバによって可変し、前記フォト
マスク全面にエアーを供給するように構成されているも
のである。エアー吹き出し口がフォトマスクの上面に設
けられているので、効率的にフォトマスクにエアーを吹
きつけることができる。また、ルーバによってエアー吹
き出し方向が可変されているので、フォトマスクの全面
に渡ってエアーを均一に吹きつけることができ、表面温
度分布の偏りのない冷却を行うことができる。第２の発
明に係るプロキシミティ露光装置は、ガラス基板をロー
ダユニット上から露光チャック上に搬送してから露光を
行う露光装置において、前記ローダユニット上で前記ガ
ラス基板に冷却用のクーリングプレートを接触させるこ
とによって、前記ガラス基板の温度を調節する温度調節
手段を備えたものである。ガラス基板を順次供給するロ
ーダユニット上でクーリングプレートをガラス基板に接
触させることで、ガラス基板を効率的に冷却することが
できる。第３の発明に係るプロキシミティ露光装置は、
ガラス基板をローダユニット上から露光チャック上に搬
送してから露光を行う露光装置において、前記ガラス基
板を前記ローダユニットから前記露光チャック上に搬送
する間に、前記ガラス基板の上面から冷却用のエアーを
前記ガラス基板表面に吹きつけることによって前記ガラ
ス基板の温度を調節する温度調節手段を備えたものであ
る。ローダから露光ユニットに搬送されるまでの間にガ
ラス基板に冷却エアーを吹きつけることによって、ガラ
ス基板を効率的に冷却することができる。第４の発明に
係るプロキシミティ露光装置は、第１、第２及び第３の
発明に記載された温度調節手段の少なくとも２つを組み
合わせて構成されたものである。このように各発明を適
宜組み合わせることによってガラス基板及びフォトマス
クを常時所望の温度に調節することができるようにな
る。なお、第２の発明と第３の発明を組み合わせること
によってより効率的にガラス基板を冷却することができ
る。
シミティ露光装置は、露光用のフォトマスクの温度を調
節する温度調節機構を備えた露光装置において、前記温
度調節機構がフォトマスクの上面方向に設けられたエア
ー吹き出し口であって、このエアー吹き出し口から吹き
出すエアーの方向をルーバによって可変し、前記フォト
マスク全面にエアーを供給するように構成されているも
のである。エアー吹き出し口がフォトマスクの上面に設
けられているので、効率的にフォトマスクにエアーを吹
きつけることができる。また、ルーバによってエアー吹
き出し方向が可変されているので、フォトマスクの全面
に渡ってエアーを均一に吹きつけることができ、表面温
度分布の偏りのない冷却を行うことができる。第２の発
明に係るプロキシミティ露光装置は、ガラス基板をロー
ダユニット上から露光チャック上に搬送してから露光を
行う露光装置において、前記ローダユニット上で前記ガ
ラス基板に冷却用のクーリングプレートを接触させるこ
とによって、前記ガラス基板の温度を調節する温度調節
手段を備えたものである。ガラス基板を順次供給するロ
ーダユニット上でクーリングプレートをガラス基板に接
触させることで、ガラス基板を効率的に冷却することが
できる。第３の発明に係るプロキシミティ露光装置は、
ガラス基板をローダユニット上から露光チャック上に搬
送してから露光を行う露光装置において、前記ガラス基
板を前記ローダユニットから前記露光チャック上に搬送
する間に、前記ガラス基板の上面から冷却用のエアーを
前記ガラス基板表面に吹きつけることによって前記ガラ
ス基板の温度を調節する温度調節手段を備えたものであ
る。ローダから露光ユニットに搬送されるまでの間にガ
ラス基板に冷却エアーを吹きつけることによって、ガラ
ス基板を効率的に冷却することができる。第４の発明に
係るプロキシミティ露光装置は、第１、第２及び第３の
発明に記載された温度調節手段の少なくとも２つを組み
合わせて構成されたものである。このように各発明を適
宜組み合わせることによってガラス基板及びフォトマス
クを常時所望の温度に調節することができるようにな
る。なお、第２の発明と第３の発明を組み合わせること
によってより効率的にガラス基板を冷却することができ
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を添
付図面に従って説明する。図１は本発明に係るプロキシ
ミティ露光装置の概略構成を示す図である。図では、ガ
ラス基板の冷却に関するローダユニット５及び基板搬送
ユニット６、並びにフォトマスクの冷却に関するアライ
メントステージユニット７について示し、他の部分につ
いては省略している。ローダユニット５はガラス基板１
Ａを順次供給するものであり、インライン対応ローラコ
ンベア方式を採用している。なお、カセットタイプ方式
でもよいことはいうまでもない。ローダユニット５に
は、水冷のローダクーリングプレート５１が設けられて
いる。ローダクーリングプレート５１はローダユニット
５内を上下方向に移動して、上昇時にガラス基板１Ａに
接触して、ガラス基板１Ａの温度調節すなわち冷却を行
うようになっている。このローダユニット５におけるロ
ーダクーリングプレート５１の詳細については後述す
る。
付図面に従って説明する。図１は本発明に係るプロキシ
ミティ露光装置の概略構成を示す図である。図では、ガ
ラス基板の冷却に関するローダユニット５及び基板搬送
ユニット６、並びにフォトマスクの冷却に関するアライ
メントステージユニット７について示し、他の部分につ
いては省略している。ローダユニット５はガラス基板１
Ａを順次供給するものであり、インライン対応ローラコ
ンベア方式を採用している。なお、カセットタイプ方式
でもよいことはいうまでもない。ローダユニット５に
は、水冷のローダクーリングプレート５１が設けられて
いる。ローダクーリングプレート５１はローダユニット
５内を上下方向に移動して、上昇時にガラス基板１Ａに
接触して、ガラス基板１Ａの温度調節すなわち冷却を行
うようになっている。このローダユニット５におけるロ
ーダクーリングプレート５１の詳細については後述す
る。
【０００６】基板搬送ユニット６はＸ・θ・Ｚの３軸で
構成されており、ローダユニット５上のガラス基板１Ａ
を基板搬送ユニット６の上部に設けられた基板センタリ
ングユニット９に搬送し、基板センタリングユニット９
上でセンタリング位置決めされたガラス基板１Ｂを露光
チャック２上に搬送する。基板搬送ユニット６のＸ・θ
軸はリニアモータで駆動し、Ｚ軸はサーボモータで駆動
するようになっている。ここで、Ｘ軸はローダユニット
５からアライメントステージユニット７に向かう方向が
＋Ｘ方向であり、逆が−Ｘ方向である。なお、基板搬送
ユニット６の詳細については後述する。基板搬送ユニッ
ト６及び基板センタリングユニット９の上部には、恒温
送風ユニット（ＨＥＰＡユニット）８が設けられてい
る。恒温送風ユニット８は、設定温度±０．１°Ｃに調
整されたエアーを０．１２μｍの粒子を集塵可能なフィ
ルタを通してガラス基板１Ｂにダウンフローし、露光チ
ャック２に搬送される前のガラス基板１Ｂの温度調整す
なわち冷却を行うようになっている。また、基板搬送ユ
ニット６の上側にはアライメントステージユニット７に
搬送前のガラス基板１Ｂのセンタリングを行う基板セン
タリングユニット９が設けられている。この基板センタ
リングユニット９は、ガラス基板の多品種に対応してお
り、パルスモータ駆動方式によって、Ｙ軸方向における
ガラス幅の切り換えを自動で行ってセンタリングを行え
るように構成されている。
構成されており、ローダユニット５上のガラス基板１Ａ
を基板搬送ユニット６の上部に設けられた基板センタリ
ングユニット９に搬送し、基板センタリングユニット９
上でセンタリング位置決めされたガラス基板１Ｂを露光
チャック２上に搬送する。基板搬送ユニット６のＸ・θ
軸はリニアモータで駆動し、Ｚ軸はサーボモータで駆動
するようになっている。ここで、Ｘ軸はローダユニット
５からアライメントステージユニット７に向かう方向が
＋Ｘ方向であり、逆が−Ｘ方向である。なお、基板搬送
ユニット６の詳細については後述する。基板搬送ユニッ
ト６及び基板センタリングユニット９の上部には、恒温
送風ユニット（ＨＥＰＡユニット）８が設けられてい
る。恒温送風ユニット８は、設定温度±０．１°Ｃに調
整されたエアーを０．１２μｍの粒子を集塵可能なフィ
ルタを通してガラス基板１Ｂにダウンフローし、露光チ
ャック２に搬送される前のガラス基板１Ｂの温度調整す
なわち冷却を行うようになっている。また、基板搬送ユ
ニット６の上側にはアライメントステージユニット７に
搬送前のガラス基板１Ｂのセンタリングを行う基板セン
タリングユニット９が設けられている。この基板センタ
リングユニット９は、ガラス基板の多品種に対応してお
り、パルスモータ駆動方式によって、Ｙ軸方向における
ガラス幅の切り換えを自動で行ってセンタリングを行え
るように構成されている。
【０００７】アライメントステージユニット７は、露光
チャック２、チルティングＺステージ１０及びガラス基
板アライメントステージ１１、並びに図示していないプ
リアライメントなどで構成される。露光チャック２は基
板搬送用ユニット６によって搬送されたガラス基板１を
吸着保持する。チルティングＺステージ１０は露光チャ
ック２を平行に昇降する粗動ステージと、ガラス基板１
をチルティングしてプロキシミティギャップ制御を行う
３点接触型のチルト駆動モータとから構成される。ガラ
ス基板アライメントステージ１１は、Ｘ・Ｙ・θ軸を駆
動して、フォトマスク３に対してガラス基板１をアライ
メントする。なお、この実施の形態では、アライメント
の前に、エッジ検出センサ（図示せず）を用いてガラス
基板のエッジを非接触で検出し、その検出位置に基づい
て、ガラス基板アライメントステージ１１を駆動させて
プリアライメントを行うようになっている。フォトマス
ク３はその外周全体に渡って設けられた吸着型のマスク
ホルダ４によって下側から吸着保持されている。フォト
マスク３の上側には、その表面に温度調節用エアー（温
調エアー）を吹きつけてフォトマスク３を強制的に冷却
するためのルーバ方式のエアー吹き出し口１２が設けら
れている。このルーバ方式のエアー吹き出し口１２は、
フォトマスク３の表面を均一に冷却するためにその吹き
出し量（風量）やルーバの移動速度などの種々の要因に
よって制御されている。プリアライメントは、エッジ検
出センサ（図示せず）でガラス基板のエッジを非接触で
検出し、その検出位置に基づいて、ガラス基板アライメ
ントステージ１１を駆動させてプリアライメントを行
う。なお、このアライメントステージユニット７には、
フォトマスク３を所定位置に位置決めするＸ・Ｙ・θ軸
を駆動するマスクベースユニットが存在するがこれにつ
いては図示を省略してある。また、このアライメントス
テージユニット７には図示してない露光ユニットからの
紫外線をガラス基板１Ｃ上のフォトマスク３に照射する
ための光学系などが存在する。
チャック２、チルティングＺステージ１０及びガラス基
板アライメントステージ１１、並びに図示していないプ
リアライメントなどで構成される。露光チャック２は基
板搬送用ユニット６によって搬送されたガラス基板１を
吸着保持する。チルティングＺステージ１０は露光チャ
ック２を平行に昇降する粗動ステージと、ガラス基板１
をチルティングしてプロキシミティギャップ制御を行う
３点接触型のチルト駆動モータとから構成される。ガラ
ス基板アライメントステージ１１は、Ｘ・Ｙ・θ軸を駆
動して、フォトマスク３に対してガラス基板１をアライ
メントする。なお、この実施の形態では、アライメント
の前に、エッジ検出センサ（図示せず）を用いてガラス
基板のエッジを非接触で検出し、その検出位置に基づい
て、ガラス基板アライメントステージ１１を駆動させて
プリアライメントを行うようになっている。フォトマス
ク３はその外周全体に渡って設けられた吸着型のマスク
ホルダ４によって下側から吸着保持されている。フォト
マスク３の上側には、その表面に温度調節用エアー（温
調エアー）を吹きつけてフォトマスク３を強制的に冷却
するためのルーバ方式のエアー吹き出し口１２が設けら
れている。このルーバ方式のエアー吹き出し口１２は、
フォトマスク３の表面を均一に冷却するためにその吹き
出し量（風量）やルーバの移動速度などの種々の要因に
よって制御されている。プリアライメントは、エッジ検
出センサ（図示せず）でガラス基板のエッジを非接触で
検出し、その検出位置に基づいて、ガラス基板アライメ
ントステージ１１を駆動させてプリアライメントを行
う。なお、このアライメントステージユニット７には、
フォトマスク３を所定位置に位置決めするＸ・Ｙ・θ軸
を駆動するマスクベースユニットが存在するがこれにつ
いては図示を省略してある。また、このアライメントス
テージユニット７には図示してない露光ユニットからの
紫外線をガラス基板１Ｃ上のフォトマスク３に照射する
ための光学系などが存在する。
【０００８】図３は、エアー吹き出し口１２がアライメ
ントステージユニット７上でフォトマスク３の温度調節
をどのように行うかを説明するための図である。図３
（Ａ）は図３（Ｂ）のＡ−Ａ線の断面図であり、図３
（Ｂ）は図３（Ａ）の上面図である。エアー吹き出し口
１２は図２のようにマスクホルダ４の支持部材４１とは
別個に設けられており、矢印Ｌ１から矢印Ｌ２の範囲で
エアーがフォトマスク３に供給されるように吹き出し口
１２自体がルーバ方式で回転するように構成されてい
る。このとき、矢印Ｌ１と矢印Ｌ２との間では、エアー
吹き出し口１２からフォトマスク３表面に到達するまで
の距離がそれぞれ異なるので、エアー吹き出し口１２か
ら一定の風量でエアーを吹き出す場合には、エアー吹き
出し口１２の回転速度すなわちルーバの移動速度を制御
する必要がある。すなわち、矢印Ｌ１付近では速いスピ
ードでルーバを移動し、矢印Ｌ２付近では遅いスピード
でルーバを移動する。また、ルーバの移動速度を一定に
する場合には、エアー吹き出し口１２から吹き出すエア
ー量を制御する必要がある。矢印Ｌ１付近ではエアー吹
き出し量を少なくし、矢印Ｌ２付近ではエアー吹き出し
量を多くする。なお、矢印Ｌ１と矢印Ｌ２の間における
吹き出し量は、両端吹き出し量を線型補間したものを用
いればよい。この実施の形態では、フォトマスク３の形
状は正方形であり、マスクホルダ４はその正方形の外周
に沿って配置されている。露光チャック２はこのマスク
ホルダ４の内壁面に対向した形状である。ガラス基板１
も同じく正方形である。フォトマスク３の四隅には長方
形のギャップ窓５ａ〜８ａが設けられている。ギャップ
窓５ａ〜８ａはフォトマスク３のパターン用クロームの
存在しない部分である。フォトマスク３の上面側には、
ギャップ窓５ａ及び６ａに対応して設けられたギャップ
検出器と、フォトマスク３とガラス基板１とに設けられ
たアライメントパターンからの反射光に基づいて両者の
位置合わせ（高精度アライメント）を行うアライメント
検出器とを備えているが、本発明の説明とは直接関係な
いのでここでは省略してある。
ントステージユニット７上でフォトマスク３の温度調節
をどのように行うかを説明するための図である。図３
（Ａ）は図３（Ｂ）のＡ−Ａ線の断面図であり、図３
（Ｂ）は図３（Ａ）の上面図である。エアー吹き出し口
１２は図２のようにマスクホルダ４の支持部材４１とは
別個に設けられており、矢印Ｌ１から矢印Ｌ２の範囲で
エアーがフォトマスク３に供給されるように吹き出し口
１２自体がルーバ方式で回転するように構成されてい
る。このとき、矢印Ｌ１と矢印Ｌ２との間では、エアー
吹き出し口１２からフォトマスク３表面に到達するまで
の距離がそれぞれ異なるので、エアー吹き出し口１２か
ら一定の風量でエアーを吹き出す場合には、エアー吹き
出し口１２の回転速度すなわちルーバの移動速度を制御
する必要がある。すなわち、矢印Ｌ１付近では速いスピ
ードでルーバを移動し、矢印Ｌ２付近では遅いスピード
でルーバを移動する。また、ルーバの移動速度を一定に
する場合には、エアー吹き出し口１２から吹き出すエア
ー量を制御する必要がある。矢印Ｌ１付近ではエアー吹
き出し量を少なくし、矢印Ｌ２付近ではエアー吹き出し
量を多くする。なお、矢印Ｌ１と矢印Ｌ２の間における
吹き出し量は、両端吹き出し量を線型補間したものを用
いればよい。この実施の形態では、フォトマスク３の形
状は正方形であり、マスクホルダ４はその正方形の外周
に沿って配置されている。露光チャック２はこのマスク
ホルダ４の内壁面に対向した形状である。ガラス基板１
も同じく正方形である。フォトマスク３の四隅には長方
形のギャップ窓５ａ〜８ａが設けられている。ギャップ
窓５ａ〜８ａはフォトマスク３のパターン用クロームの
存在しない部分である。フォトマスク３の上面側には、
ギャップ窓５ａ及び６ａに対応して設けられたギャップ
検出器と、フォトマスク３とガラス基板１とに設けられ
たアライメントパターンからの反射光に基づいて両者の
位置合わせ（高精度アライメント）を行うアライメント
検出器とを備えているが、本発明の説明とは直接関係な
いのでここでは省略してある。
【０００９】図４は、ガラス基板１を供給するローダユ
ニット５の詳細を示す図である。図４（Ａ）はローダユ
ニット５の上面図を示し、図４（Ｂ）及び図４（Ｃ）は
図４（Ａ）のＡ−Ａ線断面図を示し、図４（Ｄ）及び図
４（Ｅ）は図４（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図を示す。ローダ
ユニット５上にはガラス基板１を搬送するローラ３Ａ〜
３Ｇ、４Ａ〜４Ｄ、５Ａ〜５Ｇが支持部材３０、４６〜
４９、５０を介して設けられている。ローラ３Ａ〜３
Ｇ、５Ａ〜５Ｇは、それぞれテンションベルト（図示せ
ず）によって駆動されるようになっている。ローダクー
リングプレート５１は、ローラ４Ａ〜４Ｄに対応した部
分に開口を有し、ローダユニット５上で図４（Ｂ）及び
図４（Ｃ）に示すように上下方向（Ｚ軸方向）に移動可
能な構成になっている。また、図示していないが、ロー
ダクーリングプレート５１内部には冷却水を循環するた
めの配管が設けられている。従って、ガラス基板１がこ
のローダユニット５に搬送された時点では、図４（Ｂ）
のようにローダクーリングプレート５１はガラス基板１
の下側に位置しているが、ガラス基板１がローダユニッ
ト５の所定位置に位置決めされた時点で図４（Ｃ）のよ
うにローダクーリングプレート５１が上昇し、ガラス基
板１を少し持ち上げるようになっている。なお、図４
（Ａ）、図４（Ｂ）及び図４（Ｄ）では、基板搬送ユニ
ット６の搬送用アーム６１を点線で示してある。この搬
送用アーム６１は、コの字型をしており、ガラス基板１
とローダクーリングプレート５１とローラ４６〜４９に
よって囲まれる空間に進入して、ガラス基板１を持ち上
げ、基板センタリングユニット９に搬送する。
ニット５の詳細を示す図である。図４（Ａ）はローダユ
ニット５の上面図を示し、図４（Ｂ）及び図４（Ｃ）は
図４（Ａ）のＡ−Ａ線断面図を示し、図４（Ｄ）及び図
４（Ｅ）は図４（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図を示す。ローダ
ユニット５上にはガラス基板１を搬送するローラ３Ａ〜
３Ｇ、４Ａ〜４Ｄ、５Ａ〜５Ｇが支持部材３０、４６〜
４９、５０を介して設けられている。ローラ３Ａ〜３
Ｇ、５Ａ〜５Ｇは、それぞれテンションベルト（図示せ
ず）によって駆動されるようになっている。ローダクー
リングプレート５１は、ローラ４Ａ〜４Ｄに対応した部
分に開口を有し、ローダユニット５上で図４（Ｂ）及び
図４（Ｃ）に示すように上下方向（Ｚ軸方向）に移動可
能な構成になっている。また、図示していないが、ロー
ダクーリングプレート５１内部には冷却水を循環するた
めの配管が設けられている。従って、ガラス基板１がこ
のローダユニット５に搬送された時点では、図４（Ｂ）
のようにローダクーリングプレート５１はガラス基板１
の下側に位置しているが、ガラス基板１がローダユニッ
ト５の所定位置に位置決めされた時点で図４（Ｃ）のよ
うにローダクーリングプレート５１が上昇し、ガラス基
板１を少し持ち上げるようになっている。なお、図４
（Ａ）、図４（Ｂ）及び図４（Ｄ）では、基板搬送ユニ
ット６の搬送用アーム６１を点線で示してある。この搬
送用アーム６１は、コの字型をしており、ガラス基板１
とローダクーリングプレート５１とローラ４６〜４９に
よって囲まれる空間に進入して、ガラス基板１を持ち上
げ、基板センタリングユニット９に搬送する。
【００１０】図５及び図６は基板搬送ユニット６の詳細
を示す図である。図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、ガラス
基板１をローダユニット５から基板センタリングユニッ
ト９に搬送する状態を示す図であり、図５（Ａ）がその
上面図を、図５（Ｂ）がその側面図を示す。なお、図５
（Ａ）及び図５（Ｂ）で点線で示された搬送用アーム６
１はＸ軸リニアモータ６２の駆動によって案内溝６３に
沿ってローダユニット５側に移動した状態を示すもので
ある。この場合、搬送用アーム６１のコの字型の先端部
分は前述のようにガラス基板１とローダクーリングプレ
ート５１とローラ３Ａ〜３Ｇ，４Ａ〜４Ｄ，５Ａ〜５Ｇ
によって囲まれる空間に進入する。Ｚ軸サーボモータ６
６の駆動によって搬送用アーム６１は上昇してガラス基
板１をアーム上に積載する。次にＸ軸リニアモータ６２
の駆動によって搬送用アーム６１は、図５（Ａ）及び図
５（Ｂ）のように基板センタリングユニット９側に移動
する。基板センタリングユニット９によってガラス基板
１のセンタリングが終了したら、今度は基板搬送ユニッ
ト６はガラス基板１をアライメントステージユニット７
に搬送する。図５（Ｃ）は、基板搬送ユニット６のθ軸
リニアモータ６５の駆動によって反時計方向に９０度回
転した状態を示す上面図である。図６（Ａ）は、図５
（Ｃ）の状態からさらに反時計方向に９０度回転し、Ｘ
軸リニアモータ６２の駆動によって露光チャック２側に
ガラス基板１を搬送した状態を示す上面図であり、図６
（Ｂ）はその側面図である。搬送用アーム６１は、露光
チャック２に設けられた逃げ溝に進入するので、両者が
干渉することはない。従って、図６（Ｂ）の側面図に示
すように、搬送用アーム６１のコの字型のアーム先端の
下側部分は露光チャック２内に進入しているかのように
なっている。この状態でＺ軸サーボモータ６４を駆動し
て搬送用アーム６１を下降することによって、図６
（Ｃ）のようにガラス基板１は、露光チャック２上に吸
着保持される。以上のような一連の処理を経て、ガラス
基板１はローダユニット５上から露光チャック２上に移
動される。そして、このような搬送過程でガラス基板１
はローダクーリングプレート５１及び恒温送風ユニット
（ＨＥＰＡユニット）８によって所定温度に冷却され
る。また、フォトマスク３はルーバ方式のエアー吹き出
し口１２によって均一に冷却される。
を示す図である。図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、ガラス
基板１をローダユニット５から基板センタリングユニッ
ト９に搬送する状態を示す図であり、図５（Ａ）がその
上面図を、図５（Ｂ）がその側面図を示す。なお、図５
（Ａ）及び図５（Ｂ）で点線で示された搬送用アーム６
１はＸ軸リニアモータ６２の駆動によって案内溝６３に
沿ってローダユニット５側に移動した状態を示すもので
ある。この場合、搬送用アーム６１のコの字型の先端部
分は前述のようにガラス基板１とローダクーリングプレ
ート５１とローラ３Ａ〜３Ｇ，４Ａ〜４Ｄ，５Ａ〜５Ｇ
によって囲まれる空間に進入する。Ｚ軸サーボモータ６
６の駆動によって搬送用アーム６１は上昇してガラス基
板１をアーム上に積載する。次にＸ軸リニアモータ６２
の駆動によって搬送用アーム６１は、図５（Ａ）及び図
５（Ｂ）のように基板センタリングユニット９側に移動
する。基板センタリングユニット９によってガラス基板
１のセンタリングが終了したら、今度は基板搬送ユニッ
ト６はガラス基板１をアライメントステージユニット７
に搬送する。図５（Ｃ）は、基板搬送ユニット６のθ軸
リニアモータ６５の駆動によって反時計方向に９０度回
転した状態を示す上面図である。図６（Ａ）は、図５
（Ｃ）の状態からさらに反時計方向に９０度回転し、Ｘ
軸リニアモータ６２の駆動によって露光チャック２側に
ガラス基板１を搬送した状態を示す上面図であり、図６
（Ｂ）はその側面図である。搬送用アーム６１は、露光
チャック２に設けられた逃げ溝に進入するので、両者が
干渉することはない。従って、図６（Ｂ）の側面図に示
すように、搬送用アーム６１のコの字型のアーム先端の
下側部分は露光チャック２内に進入しているかのように
なっている。この状態でＺ軸サーボモータ６４を駆動し
て搬送用アーム６１を下降することによって、図６
（Ｃ）のようにガラス基板１は、露光チャック２上に吸
着保持される。以上のような一連の処理を経て、ガラス
基板１はローダユニット５上から露光チャック２上に移
動される。そして、このような搬送過程でガラス基板１
はローダクーリングプレート５１及び恒温送風ユニット
（ＨＥＰＡユニット）８によって所定温度に冷却され
る。また、フォトマスク３はルーバ方式のエアー吹き出
し口１２によって均一に冷却される。
【００１１】
【発明の効果】本発明のプロキシミティ露光装置によれ
ば、ガラス基板及びフォトマスクを常時所望の温度に調
節することができるという効果がある。
ば、ガラス基板及びフォトマスクを常時所望の温度に調
節することができるという効果がある。
【図１】 本発明に係るプロキシミティ露光装置の概略
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図２】 エアー吹き出し口がアライメントステージユ
ニット上でフォトマスクの温度調節をどのように行うか
を説明するための図である。
ニット上でフォトマスクの温度調節をどのように行うか
を説明するための図である。
【図３】 エアー吹き出し口がアライメントステージユ
ニット上でフォトマスクの温度調節をどのように行うか
を説明するための図である。
ニット上でフォトマスクの温度調節をどのように行うか
を説明するための図である。
【図４】 ガラス基板を保持するローダユニットの詳細
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図５】 基板搬送ユニットの詳細構成を示す図であ
る。
る。
【図６】 基板搬送ユニットの詳細構成を示す別の図で
ある。
ある。
１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…ガラス基板、２…露光チャッ
ク、３…マスク、４…マスクホルダ、５ａ〜８ａ…ギャ
ップ窓、５…ローダユニット、６…基板搬送ユニット、
７…アライメントステージユニット、８…恒温送風ユニ
ット（ＨＥＰＡユニット）、９…基板センタリングユニ
ット、１０…チルティングＺステージ、１１…ガラス基
板アライメントステージ、１２…エアー吹き出し口、５
１…ローダクーリングプレート、６１…搬送用アーム、
３Ａ〜３Ｇ，４Ａ〜４Ｄ，５Ａ〜５Ｇ…ローラ、３０，
４６〜４９，５０…支持部材
ク、３…マスク、４…マスクホルダ、５ａ〜８ａ…ギャ
ップ窓、５…ローダユニット、６…基板搬送ユニット、
７…アライメントステージユニット、８…恒温送風ユニ
ット（ＨＥＰＡユニット）、９…基板センタリングユニ
ット、１０…チルティングＺステージ、１１…ガラス基
板アライメントステージ、１２…エアー吹き出し口、５
１…ローダクーリングプレート、６１…搬送用アーム、
３Ａ〜３Ｇ，４Ａ〜４Ｄ，５Ａ〜５Ｇ…ローラ、３０，
４６〜４９，５０…支持部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 峯岸 学 東京都渋谷区東３丁目16番３号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 大塚 知夫 東京都渋谷区東３丁目16番３号 日立電子 エンジニアリング株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 露光用のフォトマスクの温度を調節する
温度調節手段を備えたプロキシミティ露光装置におい
て、 前記温度調節手段がフォトマスクの上面方向に設けられ
たエアー吹き出し口であって、このエアー吹き出し口か
ら吹き出すエアーの方向をルーバによって可変し、前記
フォトマスク全面にエアーを供給するように構成されて
いることを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 【請求項２】 ガラス基板をローダユニット上から露光
チャック上に搬送してから露光を行うプロキシミティ露
光装置において、 前記ローダユニット上で前記ガラス基板に冷却用のクー
リングプレートを接触させることによって、前記ガラス
基板の温度を調節する温度調節手段を備えたことを特徴
とするプロキシミティ露光装置。 - 【請求項３】 ガラス基板をローダユニット上から露光
チャック上に搬送してから露光を行うプロキシミティ露
光装置において、 前記ガラス基板を前記ローダユニットから前記露光チャ
ック上に搬送する間に、前記ガラス基板の上面から冷却
用のエアーを前記ガラス基板表面に吹きつけることによ
って前記ガラス基板の温度を調節する温度調節手段を備
えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 【請求項４】 請求項１、２及び３に記載の温度調節手
段の少なくとも２つを組み合わせて構成されたことを特
徴とするプロキシミティ露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9189272A JPH1126364A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | プロキシミティ露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9189272A JPH1126364A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | プロキシミティ露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1126364A true JPH1126364A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=16238548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9189272A Pending JPH1126364A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | プロキシミティ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1126364A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009258197A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板吸着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP2011248381A (ja) * | 2011-08-29 | 2011-12-08 | Asahikogyosha Co Ltd | ガラス基板温調用ノズル構造 |
| JP2012027047A (ja) * | 2010-05-21 | 2012-02-09 | Asahi Kogyosha Co Ltd | ガラス基板温調用ノズル構造 |
| US10394139B2 (en) | 2016-04-04 | 2019-08-27 | Asml Holding N.V. | Patterning device cooling apparatus |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP9189272A patent/JPH1126364A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009258197A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板吸着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP2012027047A (ja) * | 2010-05-21 | 2012-02-09 | Asahi Kogyosha Co Ltd | ガラス基板温調用ノズル構造 |
| JP2011248381A (ja) * | 2011-08-29 | 2011-12-08 | Asahikogyosha Co Ltd | ガラス基板温調用ノズル構造 |
| US10394139B2 (en) | 2016-04-04 | 2019-08-27 | Asml Holding N.V. | Patterning device cooling apparatus |
| US10642166B2 (en) | 2016-04-04 | 2020-05-05 | Asml Holding N.V. | Patterning device cooling apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040413 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040614 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060516 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070116 |