JPH11257502A - 極低温用両止り仕切弁 - Google Patents
極低温用両止り仕切弁Info
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- JPH11257502A JPH11257502A JP5676998A JP5676998A JPH11257502A JP H11257502 A JPH11257502 A JP H11257502A JP 5676998 A JP5676998 A JP 5676998A JP 5676998 A JP5676998 A JP 5676998A JP H11257502 A JPH11257502 A JP H11257502A
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- JP
- Japan
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- valve
- low temperature
- pipe
- primary
- disk hole
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 系外に配管を分岐させなくとも弁室内等に溜
まった低温ガスを逃がすことができ、かつ、単体でダブ
ルシールすることのできる極低温用両止り仕切弁を提供
する。 【解決手段】 低温配管2に接続される弁箱3に流路を
仕切る弁体4をスライド自在に設け、その弁体4の上流
側と下流側の流路に弁座7,9を形成した極低温用両止
り仕切弁1において、上記弁体4に弁箱3の弁室11内
に溜まった低温ガスを上流側流路に戻すディスクホール
14を設けると共にそのディスクホール14に逆止弁1
5を設けたものである。
まった低温ガスを逃がすことができ、かつ、単体でダブ
ルシールすることのできる極低温用両止り仕切弁を提供
する。 【解決手段】 低温配管2に接続される弁箱3に流路を
仕切る弁体4をスライド自在に設け、その弁体4の上流
側と下流側の流路に弁座7,9を形成した極低温用両止
り仕切弁1において、上記弁体4に弁箱3の弁室11内
に溜まった低温ガスを上流側流路に戻すディスクホール
14を設けると共にそのディスクホール14に逆止弁1
5を設けたものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低温配管に設ける
両止り仕切弁に関するものである。
両止り仕切弁に関するものである。
【0002】
【従来の技術】LNG及びLN2 などの極低温液を移送
する低温配管に設けられる仕切弁は、移送する液の性質
上完全かつ確実な閉止を求められ、両止り仕切弁を用い
る場合が多い。
する低温配管に設けられる仕切弁は、移送する液の性質
上完全かつ確実な閉止を求められ、両止り仕切弁を用い
る場合が多い。
【0003】図4に示すように、この両止り仕切弁46
は、閉弁時には流路40を横断して仕切ると共に開弁時
には弁室41内にスライド移動して流路40を開ける弁
体42と、その弁体42を挟む流路40の上流側(一次
側)と下流側(二次側)にそれぞれ形成された弁座4
3,43とを有するものである。弁室41は、弁座43
の外周側にリング状に形成されており、弁体42の上下
方向のスライド移動を許容するようになっている。
は、閉弁時には流路40を横断して仕切ると共に開弁時
には弁室41内にスライド移動して流路40を開ける弁
体42と、その弁体42を挟む流路40の上流側(一次
側)と下流側(二次側)にそれぞれ形成された弁座4
3,43とを有するものである。弁室41は、弁座43
の外周側にリング状に形成されており、弁体42の上下
方向のスライド移動を許容するようになっている。
【0004】また、特に極低温液を扱うものであるた
め、閉弁時に弁室41内に残った極低温液が外部からの
浸入熱によって気化し、異常昇圧して弁箱44を破損す
るのを防ぐために弁体42には弁室41から弁体42の
上流側に通じるディスクホール45が形成されている。
め、閉弁時に弁室41内に残った極低温液が外部からの
浸入熱によって気化し、異常昇圧して弁箱44を破損す
るのを防ぐために弁体42には弁室41から弁体42の
上流側に通じるディスクホール45が形成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一次側
と二次側とでダブルシール(両止り)できることから一
般的に信頼性が高いといわれている両止り仕切弁46
に、上述のようなディスクホール45を形成するため、
構造上はダブルシールであっても機能上はシングルシー
ル(片止り)となってしまうという課題がある。
と二次側とでダブルシール(両止り)できることから一
般的に信頼性が高いといわれている両止り仕切弁46
に、上述のようなディスクホール45を形成するため、
構造上はダブルシールであっても機能上はシングルシー
ル(片止り)となってしまうという課題がある。
【0006】また、高い閉止性を求められ、機能上にお
いてもダブルシールを行わなくてはならない場合、図5
に示すように、閉止箇所に2つの両止り仕切弁46,4
6を直列に配置してダブルシールしなくてはならず、配
管系50が複雑になってしまうと共に弁開閉時の手間が
増えるという課題がある。
いてもダブルシールを行わなくてはならない場合、図5
に示すように、閉止箇所に2つの両止り仕切弁46,4
6を直列に配置してダブルシールしなくてはならず、配
管系50が複雑になってしまうと共に弁開閉時の手間が
増えるという課題がある。
【0007】そしてさらに、2つの両止り仕切弁46,
46を用いる場合、2つの両止り仕切弁46,46の間
を接続する接続配管47に外部熱の浸入で発生する低温
ガスが溜まらないように逃がす必要がある。
46を用いる場合、2つの両止り仕切弁46,46の間
を接続する接続配管47に外部熱の浸入で発生する低温
ガスが溜まらないように逃がす必要がある。
【0008】具体的には、接続配管47に溜まった低温
ガスを上流側の低温配管2へ逃がすバイパス流路48を
設けなくてはならない。このため、複雑な配管を排して
徹底した液漏れ対策を施している低温配管2に対して系
外に分岐する配管49を設けなければならないという課
題がある。
ガスを上流側の低温配管2へ逃がすバイパス流路48を
設けなくてはならない。このため、複雑な配管を排して
徹底した液漏れ対策を施している低温配管2に対して系
外に分岐する配管49を設けなければならないという課
題がある。
【0009】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、系外に配管を分岐させなくとも弁室内等に溜まった
低温ガスを逃がすことができ、かつ、単体でダブルシー
ルすることのできる極低温用両止り仕切弁を提供するこ
とにある。
し、系外に配管を分岐させなくとも弁室内等に溜まった
低温ガスを逃がすことができ、かつ、単体でダブルシー
ルすることのできる極低温用両止り仕切弁を提供するこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、低温配管に接続される弁箱に流路を仕切る
弁体をスライド自在に設け、その弁体の上流側と下流側
の流路に弁座を形成した極低温用両止り仕切弁におい
て、上記弁体に弁箱の弁室内に溜まった低温ガスを上流
側流路に戻すディスクホールを設けると共にそのディス
クホールに逆止弁を設けたものである。
に本発明は、低温配管に接続される弁箱に流路を仕切る
弁体をスライド自在に設け、その弁体の上流側と下流側
の流路に弁座を形成した極低温用両止り仕切弁におい
て、上記弁体に弁箱の弁室内に溜まった低温ガスを上流
側流路に戻すディスクホールを設けると共にそのディス
クホールに逆止弁を設けたものである。
【0011】このようにすることにより、上流側の低温
配管から弁箱内への極低温液の流れを止めつつ、弁箱内
に溜まった低温ガスを上流側低温配管へ逃がすことがで
き、流路を弁体の上流側と下流側とでダブルシールする
ことができる。
配管から弁箱内への極低温液の流れを止めつつ、弁箱内
に溜まった低温ガスを上流側低温配管へ逃がすことがで
き、流路を弁体の上流側と下流側とでダブルシールする
ことができる。
【0012】上記逆止弁は、上流側弁体のディスクホー
ル出口にフラッパを設けて形成されるものとするとよ
く、また、ディスクホールの途中に形成されたシリンダ
と、そのシリンダ内で上下移動自在に設けられてディス
クホールを閉じるピストンとから形成されるものとして
もよい。
ル出口にフラッパを設けて形成されるものとするとよ
く、また、ディスクホールの途中に形成されたシリンダ
と、そのシリンダ内で上下移動自在に設けられてディス
クホールを閉じるピストンとから形成されるものとして
もよい。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の好適実施の形態を添付図
面に基づいて詳述する。
面に基づいて詳述する。
【0014】図2に示すように、極低温用両止り仕切弁
1は、低温配管2の一次側(上流側)配管2aと二次側
(下流側)配管2bを接続する弁箱3と、弁箱3内にス
ライド移動自在に設けられ流路を開閉自在に仕切る弁体
4と、弁体4に一端を接続されて弁体4を支承する弁棒
5と、弁棒5の他端に接続され回転されることにより弁
棒5を昇降させるハンドル6とからなる。
1は、低温配管2の一次側(上流側)配管2aと二次側
(下流側)配管2bを接続する弁箱3と、弁箱3内にス
ライド移動自在に設けられ流路を開閉自在に仕切る弁体
4と、弁体4に一端を接続されて弁体4を支承する弁棒
5と、弁棒5の他端に接続され回転されることにより弁
棒5を昇降させるハンドル6とからなる。
【0015】弁箱3は、一次側配管2aに一端を接続さ
れると共に他端に環状の一次側弁座7を有する一次側管
部8と、二次側配管2bに一端を接続されると共に他端
に一次側弁座7と向かい合う環状の二次側弁座9を有す
る二次側管部10と、一次側弁座7及び二次側弁座9の
外周側にリング状に形成され弁体4のスライド移動を許
容する弁室11とからなる。
れると共に他端に環状の一次側弁座7を有する一次側管
部8と、二次側配管2bに一端を接続されると共に他端
に一次側弁座7と向かい合う環状の二次側弁座9を有す
る二次側管部10と、一次側弁座7及び二次側弁座9の
外周側にリング状に形成され弁体4のスライド移動を許
容する弁室11とからなる。
【0016】一次側管部8は、一次側配管2aと同じ
径、同じ肉圧に形成されており、一端を一次側配管2a
に強固に突き合せ溶接されている。また、二次側管部1
0も同様に二次側配管2bと同じ径、同じ肉圧に形成さ
れており、一端を二次側配管2bに強固に突き合せ溶接
されている。
径、同じ肉圧に形成されており、一端を一次側配管2a
に強固に突き合せ溶接されている。また、二次側管部1
0も同様に二次側配管2bと同じ径、同じ肉圧に形成さ
れており、一端を二次側配管2bに強固に突き合せ溶接
されている。
【0017】一次側弁座7と二次側弁座9は、弁体4の
先端が着座される側(下端側)を互いに近接させて側面
視略V字状を呈しており、後述する弁体4を弁室11側
から一次側管部8と二次側管部10の間に押し込むこと
により、一次側弁座7と二次側弁座9の双方に弁体4が
着座されるようになっている。
先端が着座される側(下端側)を互いに近接させて側面
視略V字状を呈しており、後述する弁体4を弁室11側
から一次側管部8と二次側管部10の間に押し込むこと
により、一次側弁座7と二次側弁座9の双方に弁体4が
着座されるようになっている。
【0018】弁室11は、上方に位置される弁体4の退
避側(弁棒5のある側)を径方向に大きく、かつ、軸方
向に大きく形成されると共に、下方に位置される側を径
方向に小さく、かつ、軸方向に小さく形成されており、
上側から下側に向けて徐々に小さくなるように形成され
ている。
避側(弁棒5のある側)を径方向に大きく、かつ、軸方
向に大きく形成されると共に、下方に位置される側を径
方向に小さく、かつ、軸方向に小さく形成されており、
上側から下側に向けて徐々に小さくなるように形成され
ている。
【0019】図1及び図2に示すように、弁体4は、流
路と直交するように配置された厚板状のものであり、側
端及び下端の縁を略U字状に形成されている。また、弁
体4は、側面視先細の楔状に形成されており、側端及び
下端の縁に断面U字状の溝12が形成されている。
路と直交するように配置された厚板状のものであり、側
端及び下端の縁を略U字状に形成されている。また、弁
体4は、側面視先細の楔状に形成されており、側端及び
下端の縁に断面U字状の溝12が形成されている。
【0020】そして、弁体4には一次側の面13から溝
12の下部に通じるディスクホール14が形成されてお
り、ディスクホール14には一次側から弁室11への逆
流を止める逆止弁15が設けられている。具体的には、
逆止弁15はディスクホール14出口にフラッパ16を
設けてなるものである。
12の下部に通じるディスクホール14が形成されてお
り、ディスクホール14には一次側から弁室11への逆
流を止める逆止弁15が設けられている。具体的には、
逆止弁15はディスクホール14出口にフラッパ16を
設けてなるものである。
【0021】フラッパ16は、ディスクホール14出口
を拡径して形成した埋込み穴17の中に上端を回動自在
に連結して設けられたフラッパ板18と、フラッパ板1
8と弁体4の間に介設されディスクホール14を閉じる
方向にフラッパ板18を弾性的に付勢するバネ(図示せ
ず)と、埋込み穴17内に固定して設けられフラッパ板
18閉成時にフラッパ板18と埋込み穴17奥の壁面1
9との間に挟まれてシールするシール手段20とからな
る。
を拡径して形成した埋込み穴17の中に上端を回動自在
に連結して設けられたフラッパ板18と、フラッパ板1
8と弁体4の間に介設されディスクホール14を閉じる
方向にフラッパ板18を弾性的に付勢するバネ(図示せ
ず)と、埋込み穴17内に固定して設けられフラッパ板
18閉成時にフラッパ板18と埋込み穴17奥の壁面1
9との間に挟まれてシールするシール手段20とからな
る。
【0022】フラッパ板18は、埋込み穴17内に収ま
る大きさの円板状に形成されており、下端側を一次側に
若干開くように設けられている。
る大きさの円板状に形成されており、下端側を一次側に
若干開くように設けられている。
【0023】バネは、弁室11内の気圧と一次側の液圧
が釣り合ったときにフラッパ板18を閉方向に戻すため
のものである。シール手段20は、テフロン製のソフト
シート21からなり、フラッパ板18の外径より若干小
さな外径のリング状に形成されている。
が釣り合ったときにフラッパ板18を閉方向に戻すため
のものである。シール手段20は、テフロン製のソフト
シート21からなり、フラッパ板18の外径より若干小
さな外径のリング状に形成されている。
【0024】次に作用を述べる。
【0025】弁体4を弁室11内に退避させ、極低温用
両止り仕切弁1を開いた状態で低温配管2に極低温液を
流すと、極低温液は、一次側から二次側に流れつつ弁室
11内にも満たされる。
両止り仕切弁1を開いた状態で低温配管2に極低温液を
流すと、極低温液は、一次側から二次側に流れつつ弁室
11内にも満たされる。
【0026】この状態でハンドル6を回して極低温用両
止り仕切弁1を閉じると、弁体4の一次側は一次側弁座
7に着座され、二次側も二次側弁座9に着座される。そ
して、弁室11は、二次側管部10とは完全に流路を遮
断され、一次側管部8とはディスクホール14及びディ
スクホール14出口に設けられた逆止弁15を介しての
み接続される状態となる。
止り仕切弁1を閉じると、弁体4の一次側は一次側弁座
7に着座され、二次側も二次側弁座9に着座される。そ
して、弁室11は、二次側管部10とは完全に流路を遮
断され、一次側管部8とはディスクホール14及びディ
スクホール14出口に設けられた逆止弁15を介しての
み接続される状態となる。
【0027】このため、一次側から弁室11への極低温
液の流入は完全に遮断され、弁室11から二次側への極
低温液の流入も完全に遮断され、一次側配管2aと二次
側配管2bとの間でダブルシールを行うことができる。
液の流入は完全に遮断され、弁室11から二次側への極
低温液の流入も完全に遮断され、一次側配管2aと二次
側配管2bとの間でダブルシールを行うことができる。
【0028】また、弁室11内には極低温液が残されて
いる。時間の経過と共に弁室11に外部から熱が浸入す
ると、弁室11内の極低温液は膨張乃至気化し始める。
そして、弁室11内の圧力が一次側の液圧より高くなる
と、逆止弁15を構成するフラッパ板18がバネの付勢
力に抗して一次側に回動し、逆止弁15が開くこととな
る。
いる。時間の経過と共に弁室11に外部から熱が浸入す
ると、弁室11内の極低温液は膨張乃至気化し始める。
そして、弁室11内の圧力が一次側の液圧より高くなる
と、逆止弁15を構成するフラッパ板18がバネの付勢
力に抗して一次側に回動し、逆止弁15が開くこととな
る。
【0029】このことにより、弁室11内の極低温液乃
至低温ガスは、ディスクホール14を介して一次側管部
8に放出され、弁室11内の圧力が下がる。
至低温ガスは、ディスクホール14を介して一次側管部
8に放出され、弁室11内の圧力が下がる。
【0030】弁室11内の圧力が一次側管部8より低く
なると、フラッパ板18は、バネの付勢力によって弁体
4側に戻り、一次側管部8内と弁室11内の差圧により
弁体4側に押し付けられる。このとき、フラッパ板18
と弁体4の間にはシール手段20たるソフトシート21
が挟まれており、ディスクホール14は再び完全に閉じ
られることとなる。
なると、フラッパ板18は、バネの付勢力によって弁体
4側に戻り、一次側管部8内と弁室11内の差圧により
弁体4側に押し付けられる。このとき、フラッパ板18
と弁体4の間にはシール手段20たるソフトシート21
が挟まれており、ディスクホール14は再び完全に閉じ
られることとなる。
【0031】そして、外部熱浸入による弁室11内の圧
力上昇と、弁室11内圧気の一次側への放出を繰り返
し、弁室11内に気化する極低温液がなくなると、一次
側と弁室11内の圧力は釣り合い、フラッパ16は閉じ
た状態のまま安定されることとなる。
力上昇と、弁室11内圧気の一次側への放出を繰り返
し、弁室11内に気化する極低温液がなくなると、一次
側と弁室11内の圧力は釣り合い、フラッパ16は閉じ
た状態のまま安定されることとなる。
【0032】このように、ディスクホール14に逆止弁
15を設けたため、系外にバイパス用の配管を分岐させ
なくとも弁室11内等に溜まった低温ガスを逃がすこと
ができ、かつ、単体の極低温用両止り仕切弁1で一次側
配管2aと二次側配管2bとの間をダブルシールするこ
とができる。
15を設けたため、系外にバイパス用の配管を分岐させ
なくとも弁室11内等に溜まった低温ガスを逃がすこと
ができ、かつ、単体の極低温用両止り仕切弁1で一次側
配管2aと二次側配管2bとの間をダブルシールするこ
とができる。
【0033】また、逆止弁15を、フラッパ16で形成
したため、簡易な構造で確実にシールすることができ
る。
したため、簡易な構造で確実にシールすることができ
る。
【0034】そして、フラッパ16は、ディスクホール
14出口に形成した埋込み穴17内に設けるものとした
ため、一次側管部8内の極低温液の渦流などにこじ開け
られるのを防ぐことができ、安定してダブルシールを維
持することができる。
14出口に形成した埋込み穴17内に設けるものとした
ため、一次側管部8内の極低温液の渦流などにこじ開け
られるのを防ぐことができ、安定してダブルシールを維
持することができる。
【0035】また、フラッパ板18閉成時にフラッパ板
18と埋込み穴17奥の壁面19との間に挟まれてシー
ルするシール手段20を埋込み穴17内に固定して設け
たため、閉じられたフラッパ板18と弁体4の間から極
低温液が流入するのを防ぐことができ、一次側管部8と
ディスクホール14との間を確実にシールすることがで
きる。
18と埋込み穴17奥の壁面19との間に挟まれてシー
ルするシール手段20を埋込み穴17内に固定して設け
たため、閉じられたフラッパ板18と弁体4の間から極
低温液が流入するのを防ぐことができ、一次側管部8と
ディスクホール14との間を確実にシールすることがで
きる。
【0036】次に逆止弁15及びディスクホール14に
ついて変更した他の実施の形態について述べる。
ついて変更した他の実施の形態について述べる。
【0037】図3に示すように、逆止弁30は、弁室1
1と一次側管部8とを接続するディスクホール31の途
中に形成されたシリンダ32と、そのシリンダ32内に
上下移動自在に設けられたピストン33とからなる。
1と一次側管部8とを接続するディスクホール31の途
中に形成されたシリンダ32と、そのシリンダ32内に
上下移動自在に設けられたピストン33とからなる。
【0038】ディスクホール31は、弁体38の下端部
中央からほぼ鉛直に上方に延びてシリンダ32底部に接
続される入口側ホール34と、シリンダ32上部から一
次側管部8に接続される出口側ホール35とからなる。
中央からほぼ鉛直に上方に延びてシリンダ32底部に接
続される入口側ホール34と、シリンダ32上部から一
次側管部8に接続される出口側ホール35とからなる。
【0039】シリンダ32は、ディスクホール31より
大きな内径を有し入口側ホール34と略同心上に形成さ
れている。また、シリンダ32の底部には、じょうご状
に中心下方に向けて窄む弁座部36が形成されている。
大きな内径を有し入口側ホール34と略同心上に形成さ
れている。また、シリンダ32の底部には、じょうご状
に中心下方に向けて窄む弁座部36が形成されている。
【0040】ピストン33は、略円柱状に形成された重
量物からなり、下部にシリンダ32の弁座部36に密に
重なり合わされる弁部37が形成されている。
量物からなり、下部にシリンダ32の弁座部36に密に
重なり合わされる弁部37が形成されている。
【0041】作用を述べる。
【0042】閉弁方向にハンドル6を回すと、弁体38
は一次側弁座7と二次側弁座9との上に着座される。弁
室11は、二次側管部10とは完全に流路を遮断され、
一次側管部8とは逆止弁30が設けられたディスクホー
ル31を介してのみ接続される状態となる。
は一次側弁座7と二次側弁座9との上に着座される。弁
室11は、二次側管部10とは完全に流路を遮断され、
一次側管部8とは逆止弁30が設けられたディスクホー
ル31を介してのみ接続される状態となる。
【0043】外部から浸入する熱により、弁室11内に
残された極低温液が膨張乃至気化され、弁室11内の圧
力が一次側管部8内の液圧より高くなると、シリンダ3
2内のピストン33は、その差圧により上方に移動さ
れ、弁室11内の極低温液乃至低温ガスが一次側管部8
に放出される。
残された極低温液が膨張乃至気化され、弁室11内の圧
力が一次側管部8内の液圧より高くなると、シリンダ3
2内のピストン33は、その差圧により上方に移動さ
れ、弁室11内の極低温液乃至低温ガスが一次側管部8
に放出される。
【0044】そして、弁室11内の圧力が下がり、一次
側管部8内の液圧よりも低くなると、ピストン33は自
重によって降下し、弁座部36上に液密に着座される。
このようにピストン33が弁座部36上に着座される
と、一次側管部8から弁室11への極低温液の流れは遮
断されることとなり、一次側配管2aと二次側配管2b
との間をダブルシールすることができる。
側管部8内の液圧よりも低くなると、ピストン33は自
重によって降下し、弁座部36上に液密に着座される。
このようにピストン33が弁座部36上に着座される
と、一次側管部8から弁室11への極低温液の流れは遮
断されることとなり、一次側配管2aと二次側配管2b
との間をダブルシールすることができる。
【0045】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を奏する。
な優れた効果を奏する。
【0046】(1)弁室内等に溜まった低温ガスを逃が
しつつ単独の仕切弁でダブルシールすることができる。
しつつ単独の仕切弁でダブルシールすることができる。
【0047】(2)低温配管の複雑化を避けることがで
きる。
きる。
【図1】本発明の好適実施の形態を示す極低温用両止り
仕切弁の要部拡大図である。
仕切弁の要部拡大図である。
【図2】極低温用両止り仕切弁の全体図である。
【図3】他の実施の形態を示す極低温用両止り仕切弁の
要部拡大図である。
要部拡大図である。
【図4】従来の極低温用両止り仕切弁の要部拡大図であ
る。
る。
【図5】従来の低温配管の要部拡大配管図である。
1 極低温用両止り仕切弁 2 低温配管 3 弁箱 4 弁体 7 弁座(一次側弁座) 9 弁座(二次側弁座) 11 弁室 14 ディスクホール 15 逆止弁 16 フラッパ 30 逆止弁 31 ディスクホール 32 シリンダ 33 ピストン 37 弁体
Claims (3)
- 【請求項1】 低温配管に接続される弁箱に流路を仕切
る弁体をスライド自在に設け、その弁体の上流側と下流
側の流路に弁座を形成した極低温用両止り仕切弁におい
て、上記弁体に弁箱の弁室内に溜まった低温ガスを上流
側流路に戻すディスクホールを設けると共にそのディス
クホールに逆止弁を設けたことを特徴とする極低温用両
止り仕切弁。 - 【請求項2】 上記逆止弁が、上流側弁体のディスクホ
ール出口にフラッパを設けて形成される請求項1に記載
の極低温用両止り仕切弁。 - 【請求項3】 上記逆止弁が、ディスクホールの途中に
形成されたシリンダと、そのシリンダ内で上下移動自在
に設けられてディスクホールを閉じるピストンとから形
成される請求項1に記載の極低温用両止り仕切弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5676998A JPH11257502A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | 極低温用両止り仕切弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5676998A JPH11257502A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | 極低温用両止り仕切弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11257502A true JPH11257502A (ja) | 1999-09-21 |
Family
ID=13036702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5676998A Pending JPH11257502A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | 極低温用両止り仕切弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11257502A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008019883A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-31 | Toho Gas Co Ltd | 極低温用小口径止め弁 |
CN108533557A (zh) * | 2018-07-02 | 2018-09-14 | 长沙理工大学 | 一种压力控制系统 |
-
1998
- 1998-03-09 JP JP5676998A patent/JPH11257502A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008019883A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-31 | Toho Gas Co Ltd | 極低温用小口径止め弁 |
CN108533557A (zh) * | 2018-07-02 | 2018-09-14 | 长沙理工大学 | 一种压力控制系统 |
CN108533557B (zh) * | 2018-07-02 | 2019-09-06 | 长沙理工大学 | 一种压力控制系统 |
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