JPH11250498A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JPH11250498A
JPH11250498A JP10045905A JP4590598A JPH11250498A JP H11250498 A JPH11250498 A JP H11250498A JP 10045905 A JP10045905 A JP 10045905A JP 4590598 A JP4590598 A JP 4590598A JP H11250498 A JPH11250498 A JP H11250498A
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JP
Japan
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film
recording
phase change
recording film
metal
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JP10045905A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Abiko
透 安孫子
Kazutomo Miyata
一智 宮田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent changes in the compsn. of a phase transition material in a recording film as much as possible by forming a metal film comprising a material containing elements selected from a phase transition material on the surface of a recording film facing to a substrate or on the surface opposite to this surface. SOLUTION: A first dielectric film 3, a recording film 4, a metal film 5, a second dielectric film 6, a light reflecting film 7 and a protective film 8 are formed in this order on a substrate 2. The metal film 5 consists of a metal material containing elements selected from structural elements of the phase transition material which forms the recording film 4, and elements having tendency to segregate and decrease in the phase transition material which constitutes the recording film 4 when recording is repeated. When the phase transition material in the recording film 4 is Ag-In-Sb-Te, metal film 5 is preferably made of Sb. Even when segregation is produced in the phase transition material due to the inhomogeneous temp. distribution in the recording film 4 to render the compsn. distribution inhomogeneous, the metal element in the fused metal film 5 compensates the loss.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光線の照射により
結晶状態と非結晶状態との間の相変化が生じる相変化材
料からなる記録膜が基板上に形成され、この記録膜にレ
ーザ光を照射することにより相変化を生じさせて光学的
に情報信号の記録消去を行う光記録媒体に関する。特
に、本発明は、記録膜の相変化材料がAgを含有するも
のに関し、その耐久性を向上した光記録媒体に係る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recording film made of a phase-change material in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state is caused by irradiation of a light beam, formed on a substrate. The present invention relates to an optical recording medium that optically records and erases information signals by causing a phase change by irradiation. In particular, the present invention relates to a recording film containing Ag as a phase change material, and relates to an optical recording medium having improved durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録媒体としては、例えば、光線の照
射により結晶状態と非結晶状態との間の相変化が生じる
相変化材料からなる記録膜が基板上に形成されてなる相
変化型光記録媒体がある。この相変化型光記録媒体は、
光線の照射により記録膜に相変化が生じてこの記録膜上
に情報信号が記録されるものである。
2. Description of the Related Art As an optical recording medium, for example, a phase change type optical recording medium comprising a recording film made of a phase change material which undergoes a phase change between a crystalline state and an amorphous state upon irradiation with a light beam is formed on a substrate. There is a recording medium. This phase change type optical recording medium is
A phase change occurs in the recording film due to the irradiation of the light beam, and an information signal is recorded on the recording film.

【0003】具体的には、この相変化型光記録媒体50
は、図6に示すように、基板51上に第1の誘電体膜5
2、記録膜53、第2の誘電体膜54、光反射膜55、
保護膜56が順次形成されてなる。
More specifically, this phase-change optical recording medium 50
Is, as shown in FIG. 6, a first dielectric film 5 on a substrate 51.
2, recording film 53, second dielectric film 54, light reflecting film 55,
The protection film 56 is formed sequentially.

【0004】このような相変化型光記録媒体50の記録
膜53を構成する相変化材料の主成分としては、例え
ば、Ge−Te、Ge−Te−Sb、In−Sb−T
e、Ge−Sn−Te、Ag−In−Sb−Te等のい
わゆるカルコゲン系合金材料が知られている。特に、特
開昭62−53886号、特開昭63−225934
号、特開平3−80635号及び特公平8−32482
号公報では、高速結晶化の向上を目的として、Ge−S
b−Teの組成比を特定した材料が開示されている。ま
た、特開平4−232779号及び特開平6−1662
68号公報では、耐久性の向上を目的として、Ag−I
n−Sb−Teの組成比を特定した材料が開示されてい
る。
The main components of the phase change material constituting the recording film 53 of such a phase change type optical recording medium 50 are, for example, Ge-Te, Ge-Te-Sb, In-Sb-T
So-called chalcogen-based alloy materials such as e, Ge-Sn-Te, Ag-In-Sb-Te are known. In particular, JP-A-62-53886 and JP-A-63-225934.
No. JP-A-3-80635 and JP-B-8-32482.
In the gazette of Japanese Patent Application Laid-open No.
A material in which the composition ratio of b-Te is specified is disclosed. Also, JP-A-4-232779 and JP-A-6-1662.
No. 68 discloses an Ag-I for improving durability.
A material having a specified composition ratio of n-Sb-Te is disclosed.

【0005】さらに、特開平5−144083号公報で
は、耐久性の向上を目的として、記録膜53と誘電体膜
54との間に酸化膜を設けることが報告されている。ま
た、特開平6−36352号公報では、記録膜53の材
料としてGeを含有するカルコゲン化合物を用いた光記
録媒体を対象とし、この記録膜53と誘電体膜54との
間に熱拡散層としてSi又はGe或いはこれら両元素を
含む膜厚1〜5nmの金属膜を設けることにより、耐久
性が向上することが報告されている。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 5-140883 reports that an oxide film is provided between the recording film 53 and the dielectric film 54 for the purpose of improving durability. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-36352 is directed to an optical recording medium using a chalcogen compound containing Ge as a material of the recording film 53, and a heat diffusion layer between the recording film 53 and the dielectric film 54. It has been reported that durability is improved by providing a metal film having a film thickness of 1 to 5 nm containing Si or Ge or both elements.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したA
g−In−Sb−Te等のAgを含有するカルコゲン材
料(以下、Ag系カルコゲン化合物と称する。)を相変
化材料として用いた相変化型光記録媒体は、Ge−Te
等のGeを含有するカルコゲン材料(以下、Ge系カル
コゲン化合物と称する。)を相変化材料として用いた相
変化型光記録媒体よりも、記録再生可能な線速度が低い
が、その一方、より効果的に消去が行えて消去率がより
高く、しかも信号振幅がより大きくとれるという利点が
ある。
The above-mentioned A
A phase-change optical recording medium using a chalcogen material containing Ag (hereinafter, referred to as an Ag-based chalcogen compound) such as g-In-Sb-Te as a phase-change material is Ge-Te.
And the like, the recording / reproducing linear velocity is lower than that of a phase change type optical recording medium using a chalcogen material containing Ge (hereinafter, referred to as a Ge-based chalcogen compound) as a phase change material. There is an advantage that erasing can be performed efficiently, the erasing rate is higher, and the signal amplitude can be larger.

【0007】ところが、このAg系カルコゲン化合物を
用いた相変化型光記録媒体は、高線速度化や高密度化に
十分対応するような信号特性を得ることができず、ま
た、記録耐久性が不十分であり、従来開示されている方
法によっても十分な改善が図られていない。特に、この
Ag系カルコゲン化合物を用いた相変化型光記録媒体
は、記録消去を繰り返すと、一連の信号を書き終えた領
域終端から記録膜が破れたり、初期の記録膜の特性が保
持できずにエラーが発生したり、記録信号に忠実な再生
信号が得られないといった現象、いわゆる繰り返し劣化
現象が非常に生じやすいという大きな欠点がある。
However, the phase change type optical recording medium using the Ag-based chalcogen compound cannot obtain signal characteristics sufficiently corresponding to high linear velocity and high density, and has poor recording durability. It is insufficient, and sufficient improvement has not been achieved by the methods disclosed in the related art. In particular, in a phase-change optical recording medium using this Ag-based chalcogen compound, when recording and erasing are repeated, the recording film is broken from the end of the area where a series of signals have been written, or the initial characteristics of the recording film cannot be maintained. However, there is a major drawback in that an error occurs or a reproduction signal faithful to a recording signal cannot be obtained, that is, a so-called repetitive deterioration phenomenon is very likely to occur.

【0008】この繰り返し劣化現象は、次に示すような
理由により生じるものである。
This repeated deterioration phenomenon occurs for the following reason.

【0009】相変化型光記録媒体では、レーザ光の照射
により記録膜が昇温され溶融状態を経て記録が行われ
る。このとき、記録膜は、レーザ光が照射された領域が
結晶状態から非結晶状態に相変化して情報信号が記録さ
れる。
In a phase-change optical recording medium, the recording film is heated by laser light irradiation, and recording is performed through a molten state. At this time, in the recording film, a region irradiated with the laser beam changes from a crystalline state to an amorphous state, and an information signal is recorded.

【0010】このような記録が繰り返されると、レーザ
照射による記録膜の温度分布が不均一となり、この不均
一な温度分布によって、記録膜の構成元素が記録トラッ
ク方向に拡散移動して、記録膜の構成元素が局所的に濃
縮されて増加したり又は希釈されて減少したりする現
象、いわゆる偏析が生じる。
When such recording is repeated, the temperature distribution of the recording film due to the laser irradiation becomes non-uniform, and due to the non-uniform temperature distribution, the constituent elements of the recording film diffuse and move in the direction of the recording track, and A phenomenon in which the constituent elements are locally concentrated and increased or diluted and decreased, so-called segregation occurs.

【0011】この記録膜の構成材料の偏析は、結晶状態
及び非結晶状態における相変化条件を変化させてしま
い、結果的に、初期の記録膜の組成に適した記録条件で
は記録再生が困難となって、繰り返し劣化現象を引き起
こす。
[0011] The segregation of the constituent materials of the recording film changes the phase change conditions in the crystalline state and the non-crystalline state. As a result, it is difficult to perform recording and reproduction under the recording conditions suitable for the initial composition of the recording film. , Causing repeated deterioration.

【0012】特に、記録膜の相変化材料がAg系カルコ
ゲン化合物である相変化型光記録媒体では、この繰り返
し劣化現象が非常に生じやすいため、繰り返し記録耐久
性の向上が強く求められている。
Particularly, in a phase change type optical recording medium in which the phase change material of the recording film is an Ag-based chalcogen compound, since the repetitive deterioration phenomenon is very likely to occur, improvement of the repetitive recording durability is strongly demanded.

【0013】そこで、本発明は、従来の実情に鑑みて提
案されたものであり、記録膜の相変化材料にAgを含有
するカルコゲン化合物を用いているとともに、繰り返し
記録耐久性の向上が図られ、記録再生特性に優れた光記
録媒体を提供することを目的とする。
In view of the above, the present invention has been proposed in view of the conventional situation, and uses a chalcogen compound containing Ag as a phase change material of a recording film, and achieves an improvement in repeated recording durability. It is another object of the present invention to provide an optical recording medium having excellent recording and reproducing characteristics.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために完成された本発明に係る光記録媒体は、光線の照
射により結晶状態と非結晶状態との間で相変化が生じる
相変化材料からなる記録膜を基板上に備えるものであ
り、この記録膜に光線を照射することにより相変化を生
じさせて情報信号が記録膜に記録されるものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An optical recording medium according to the present invention, which has been completed to achieve the above-mentioned object, comprises a phase-change material which undergoes a phase change between a crystalline state and an amorphous state upon irradiation with a light beam. A recording film made of is formed on a substrate, and a light beam is applied to the recording film to cause a phase change to record an information signal on the recording film.

【0015】特に、本発明に係る光記録媒体は、上記記
録膜が少なくともAgを含有する相変化材料からなり、
この記録膜の基板と対向する側の面又はこの面とは反対
側の面の少なくともいずれかの面上に上記相変化材料か
ら選ばれた元素を含有する材料からなる金属膜が形成さ
れていることを特徴とするものである。
In particular, in the optical recording medium according to the present invention, the recording film is made of a phase change material containing at least Ag,
A metal film made of a material containing an element selected from the phase change material is formed on at least one of the surface of the recording film facing the substrate or the surface opposite to the surface. It is characterized by the following.

【0016】これにより、本発明に係る光記録媒体は、
繰り返し記録を行った際に記録膜内の不均一な温度分布
により記録膜の相変化材料が拡散移動してこの相変化材
料に偏析が生じても、偏析により局所的に減少した元素
を、金属膜中の金属元素が補うことになる。その結果、
本発明を適用した光記録媒体は、繰り返し記録を行って
も、記録膜の相変化材料の組成が極力変化しないように
制御されて、記録消去を良好な状態で繰り返すことが可
能となる。
Thus, the optical recording medium according to the present invention is
Even if the phase change material of the recording film diffuses and moves due to non-uniform temperature distribution in the recording film during repeated recording, segregation occurs in this phase change material. The metal element in the film compensates. as a result,
The optical recording medium to which the present invention is applied is controlled so that the composition of the phase change material of the recording film does not change as much as possible even if recording is repeatedly performed, so that recording and erasing can be repeated in a good state.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。以下、本発明
を適用する光記録媒体として、相変化光ディスクを取り
挙げる。図1は、本発明を適用した相変化光ディスク1
の要部を拡大して示す断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Hereinafter, a phase change optical disk will be described as an optical recording medium to which the present invention is applied. FIG. 1 shows a phase change optical disk 1 to which the present invention is applied.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of FIG.

【0018】本発明を適用した相変化光ディスク1は、
図1に示すように、円盤状の基板2上に、第1の誘電体
膜3、記録膜4、金属膜5、第2の誘電体膜6、光反射
膜7、保護膜8がこの順で積層形成されてなる。
The phase-change optical disk 1 to which the present invention is applied
As shown in FIG. 1, a first dielectric film 3, a recording film 4, a metal film 5, a second dielectric film 6, a light reflecting film 7, and a protective film 8 are formed on a disk-shaped substrate 2 in this order. It is formed by lamination.

【0019】特に、本発明を適用した磁気記録媒体1
は、記録膜4上にこの記録膜4の構成元素から選ばれる
元素を含有する材料からなる金属膜5が形成されてい
る。
In particular, the magnetic recording medium 1 to which the present invention is applied
Has a metal film 5 made of a material containing an element selected from the constituent elements of the recording film 4 on the recording film 4.

【0020】基板2は、一主面2a上に記録トラックに
沿ってグルーブ2bが形成されている。この基板2の厚
みは、例えば、0.6mmとする。また、この基板2と
しては、例えば、ポリカーボネート(PC)やポリメチ
ルメタクリレート(PMMA)等の合成樹脂よりなるプ
ラスチック基板や、ガラス基板等が挙げられる。基板2
は、例えば、射出成形やフォトポリマー法(2P法)等
によって成形される。
The substrate 2 has a groove 2b formed along one recording surface on one main surface 2a. The thickness of the substrate 2 is, for example, 0.6 mm. Examples of the substrate 2 include a plastic substrate made of a synthetic resin such as polycarbonate (PC) and polymethyl methacrylate (PMMA), and a glass substrate. Substrate 2
Is formed by, for example, injection molding or a photopolymer method (2P method).

【0021】第1の誘電体膜3は、基板2上に形成され
る。この第1の誘電体膜3の材料としては、例えば、Z
nS,SiOX,Al23,ZrO3,Ta25,Si3
4,SiNX,AlNX、MoO3,WO3,ZrO2,B
N,TiN,ZrN,PbF2,MgF2等が挙げられ、
これらの材料が単独で用いられるか、あるいは混合物と
して用いられる。中でも、第1の誘電体膜3の材料とし
て好ましいものは、少なくともZnSを含む材料であ
り、より好ましくは、ZnS−SiO2である。
The first dielectric film 3 is formed on the substrate 2. As a material of the first dielectric film 3, for example, Z
nS, SiO X, Al 2 O 3, ZrO 3, Ta 2 O 5, Si 3
N 4 , SiN x , AlN x , MoO 3 , WO 3 , ZrO 2 , B
N, TiN, ZrN, PbF 2 , MgF 2 and the like.
These materials are used alone or as a mixture. Among them, preferred as the material of the first dielectric film 3 is a material containing at least ZnS, and more preferably, a ZnS-SiO 2.

【0022】また、第1の誘電体膜3の膜厚は、80n
m〜140nmであることが好ましい。この第1の誘電
体膜3の形成方法としては、例えば、蒸着法やイオンビ
ームスパッタ、DCスパッタ、RFスパッタ等のスパッ
タリング法といった従来公知の手法等を用いることがで
きる。
The thickness of the first dielectric film 3 is 80 n
It is preferably from m to 140 nm. As a method for forming the first dielectric film 3, for example, a conventionally known method such as a vapor deposition method or a sputtering method such as ion beam sputtering, DC sputtering, or RF sputtering can be used.

【0023】記録膜4は、第1の誘電体膜3上に形成さ
れ、レーザ光等の光線の照射によって情報信号の書き込
みや消去が可能な光記録層である。詳しくは、この記録
膜4は、光線の照射により結晶状態と非結晶状態との間
で可逆的に相変化する相変化材料からなり、この相変化
材料に光線を照射させて相変化を生じさせることにより
情報信号の記録消去を行うものである。
The recording film 4 is an optical recording layer formed on the first dielectric film 3 and capable of writing and erasing information signals by irradiation with a light beam such as a laser beam. More specifically, the recording film 4 is made of a phase change material that reversibly changes phase between a crystalline state and an amorphous state by irradiation with a light beam, and the phase change material is irradiated with a light beam to cause a phase change. Thus, recording and erasing of the information signal are performed.

【0024】特に、本発明の記録膜4に用いられる相変
化材料は、Ag系カルコゲン化合物が用いられ、例え
ば、Ag−In−Sb−Te,Ag−In−Se−Te
等のカルコゲナイト系材料が挙げられる。このように、
本発明を適用した相変化光ディスク1は、記録膜4の材
料にAg系カルコゲン化合物が用いられるため、消去率
が良く、信号振幅を大きくとれるものとなる。
In particular, the phase change material used for the recording film 4 of the present invention is an Ag-based chalcogen compound, for example, Ag-In-Sb-Te, Ag-In-Se-Te.
And the like. in this way,
The phase-change optical disc 1 to which the present invention is applied uses an Ag-based chalcogen compound as the material of the recording film 4, so that the erasing rate is good and the signal amplitude can be made large.

【0025】また、記録膜4は、膜厚が18nm〜30
nmであることが好ましい。この記録膜4の形成方法と
しては、例えば、蒸着法やイオンビームスパッタ、DC
スパッタ、RFスパッタ等のスパッタリング法といった
従来公知の手法等を用いることができる。
The recording film 4 has a thickness of 18 nm to 30 nm.
It is preferably nm. As a method for forming the recording film 4, for example, a vapor deposition method, ion beam sputtering, DC
A conventionally known method such as a sputtering method such as sputtering or RF sputtering can be used.

【0026】本発明を適用した相変化光ディスク1で
は、記録膜4の一主面4a上に金属膜5が形成される。
特に、この金属膜5は、記録膜4を形成する相変化材料
の構成元素から選ばれた元素を含有する金属材料から形
成されてなるものである。ここで、この金属膜5の材料
としては、繰り返し記録時に記録膜4を構成する相変化
材料のうちの偏析して減少する傾向がある元素を用いれ
ば良い。
In the phase change optical disk 1 to which the present invention is applied, a metal film 5 is formed on one main surface 4a of the recording film 4.
In particular, the metal film 5 is formed of a metal material containing an element selected from constituent elements of the phase change material forming the recording film 4. Here, as the material of the metal film 5, an element which tends to segregate and decrease among the phase change materials constituting the recording film 4 during repeated recording may be used.

【0027】具体的には、記録膜4の相変化材料がAg
−In−Sb−Teである場合、金属膜5は、Sbから
形成されていると好ましい。
Specifically, the phase change material of the recording film 4 is Ag
In the case of -In-Sb-Te, the metal film 5 is preferably formed from Sb.

【0028】このように、本発明を適用した相変化光デ
ィスク1は、記録膜4上に当該記録膜4を形成する相変
化材料の構成元素から選ばれた元素を含有する金属膜5
が形成されている。よって、本発明を適用した相変化光
ディスク1では、この記録膜4に対して繰り返し記録を
行った際に、記録膜4内の不均一な温度分布によって相
変化材料に偏析が生じてこの相変化材料の組成分布が不
均一化しても、偏析により減少された元素を、繰り返し
記録により溶融された金属膜5中の金属元素が補うこと
になる。その結果、本発明を適用した相変化光ディスク
1は、繰り返し記録を行っても、記録膜4の相変化材料
の組成が極力変化しないように制御することができるた
め、記録消去を良好な状態で繰り返すことが可能とな
り、繰り返し記録耐久性を向上することができる。
As described above, the phase-change optical disc 1 to which the present invention is applied has the metal film 5 containing the element selected from the constituent elements of the phase-change material forming the recording film 4 on the recording film 4.
Are formed. Therefore, in the phase change optical disk 1 to which the present invention is applied, when recording is repeatedly performed on the recording film 4, segregation occurs in the phase change material due to the non-uniform temperature distribution in the recording film 4, and this phase change occurs. Even if the composition distribution of the material becomes non-uniform, the metal element in the metal film 5 melted by repeated recording will supplement the element reduced by segregation. As a result, the phase-change optical disc 1 to which the present invention is applied can be controlled so that the composition of the phase-change material of the recording film 4 does not change as much as possible even when recording is repeatedly performed. It is possible to repeat the recording, and the recording durability can be improved.

【0029】特に、記録膜4の相変化材料がAg−In
−Sb−Teからなる相変化光ディスク1では、繰り返
し記録により特にSbが偏析して部分的に不足するた
め、この記録膜4上にSbからなる金属膜5を形成する
ことにより、繰り返し記録によって溶融する金属膜5中
のSbが、記録膜4中に偏析して減少したSbを補うこ
とが可能となり、結果的に繰り返し記録耐久性が著しく
向上する。
In particular, the phase change material of the recording film 4 is Ag-In
In the phase-change optical disk 1 made of -Sb-Te, Sb segregates due to repetitive recording, and Sb partially segregates, so that the metal film 5 made of Sb is formed on the recording film 4 so as to be melted by repetitive recording. Sb in the metal film 5 can compensate for the Sb segregated and reduced in the recording film 4 and, as a result, the repetitive recording durability is significantly improved.

【0030】また、この金属膜5の膜厚は、1.5nm
以下であることが好ましく、より好ましくは0.5nm
〜1.0nmである。この金属膜5の膜厚が厚すぎる
と、初回の記録後における再生信号のジッター値が大き
な値となり、繰り返し記録後では良好な記録再生特性が
得られない。また、金属膜5の膜厚が薄すぎても、繰り
返し記録による相変化材料の偏析を極力抑えるといった
効果が現れない。
The thickness of the metal film 5 is 1.5 nm.
Or less, more preferably 0.5 nm
1.01.0 nm. If the thickness of the metal film 5 is too large, the jitter value of the reproduced signal after the first recording becomes large, and good recording / reproducing characteristics cannot be obtained after repeated recording. Further, if the thickness of the metal film 5 is too small, the effect of minimizing segregation of the phase change material due to repetitive recording does not appear.

【0031】なお、金属膜は、図1に示すような記録膜
4の主面4a上に形成される場合に限らず、記録膜4の
基板2と対向する側の主面4bに形成されていても良
く、また、記録膜4の両主面4a,4b上に形成されて
いても良い。但し、記録特性、特に初期の記録特性を十
分なレベルのものとするには、金属膜5が、記録膜4の
基板2と対向する側とは反対側の主面4a上に形成され
て、記録膜4と第2の誘電体膜6とによって挟まれてい
ることがより好ましい。
The metal film is not limited to being formed on the main surface 4a of the recording film 4 as shown in FIG. 1, but is formed on the main surface 4b of the recording film 4 on the side facing the substrate 2. Alternatively, it may be formed on both main surfaces 4a and 4b of the recording film 4. However, in order to obtain sufficient recording characteristics, especially the initial recording characteristics, the metal film 5 is formed on the main surface 4a of the recording film 4 opposite to the side facing the substrate 2; More preferably, it is sandwiched between the recording film 4 and the second dielectric film 6.

【0032】このような金属膜5上に形成される第2の
誘電体膜6は、上述の第1の誘電体膜3と同様な材料を
用いて同様な方法により形成される。この第2の誘電体
膜6の膜厚としては、5nm〜35nmであることが好
ましい。
The second dielectric film 6 formed on such a metal film 5 is formed by the same method using the same material as the first dielectric film 3 described above. The thickness of the second dielectric film 6 is preferably 5 nm to 35 nm.

【0033】そして、この第2の誘電体膜6上に光反射
膜7が形成される。この光反射膜7は、基板2から入射
された光を反射する反射層として機能するとともに、記
録膜4に過度に熱が籠もるのを防止するヒートシンク層
としても作用する。
Then, a light reflecting film 7 is formed on the second dielectric film 6. The light reflection film 7 functions as a reflection layer that reflects light incident from the substrate 2 and also functions as a heat sink layer that prevents excessive accumulation of heat in the recording film 4.

【0034】この光反射膜7の材料としては、金属元
素、半金属元素、半導体元素及びそれらの化合物を単独
あるいは複合させて用いるのが望ましく、例えば、A
l,Au,Ni,Fe,Cr等の金属元素、或いはこれ
らの合金が挙げられる。
As a material of the light reflecting film 7, it is desirable to use a metal element, a metalloid element, a semiconductor element and a compound thereof alone or in combination.
Metal elements such as 1, Au, Ni, Fe, and Cr, and alloys thereof.

【0035】また、光反射膜7の膜厚としては、50n
m〜200nmであることが好ましい。この光反射膜7
の形成方法としては、例えば、蒸着法やイオンビームス
パッタ、DCスパッタ、RFスパッタ等のスパッタリン
グ法といった従来公知の手法を用いることができる。
The light reflection film 7 has a thickness of 50 n
It is preferably from m to 200 nm. This light reflection film 7
As a method for forming a film, a conventionally known method such as a vapor deposition method or a sputtering method such as ion beam sputtering, DC sputtering, or RF sputtering can be used.

【0036】保護膜8は、この光反射膜7上に形成され
る。この保護膜8は、例えば、紫外線硬化樹脂等の樹脂
をスピンコート法により塗布形成したり、樹脂板やガラ
ス板や金属板等を接着剤を介して光反射膜7上に接着し
てなる。
The protective film 8 is formed on the light reflecting film 7. The protective film 8 is formed, for example, by applying a resin such as an ultraviolet curable resin by spin coating, or by bonding a resin plate, a glass plate, a metal plate, or the like to the light reflection film 7 via an adhesive.

【0037】なお、本発明を適用した相変化光ディスク
としては、図1に示すような片面から記録、再生、消去
可能なものに限らず、2組の相変化光ディスク1を互い
に光反射膜が内側に向かい合うように貼り合わせること
によって、両面から記録、消去及び再生可能な構造とし
ても良い。
The phase change optical disk to which the present invention is applied is not limited to the one that can record, reproduce, and erase from one side as shown in FIG. By pasting them so as to face each other, a structure capable of recording, erasing, and reproducing from both sides may be adopted.

【0038】以上のように構成された相変化光ディスク
1は、以下に示す初期化処理を経て、情報信号の記録、
消去及び再生が次のように行われる。
The phase change optical disk 1 configured as described above undergoes an initialization process described below to record information signals,
Erasure and reproduction are performed as follows.

【0039】先ず、相変化光ディスク1には、基板2上
に上述の第1の誘電体膜3、記録膜4、金属膜5、第2
の誘電体膜6、光反射膜7、保護膜8が形成された後
に、記録膜4を初期化するための初期化処理が施され
る。
First, on the phase-change optical disk 1, the first dielectric film 3, the recording film 4, the metal film 5, the second
After the dielectric film 6, the light reflecting film 7, and the protective film 8 are formed, an initialization process for initializing the recording film 4 is performed.

【0040】この初期化処理は、記録膜4に情報信号が
記録される前の状態において、記録膜4を均一な結晶状
態とするものである。
This initialization process is to make the recording film 4 a uniform crystalline state before the information signal is recorded on the recording film 4.

【0041】具体的には、相変化光ディスク1の全体に
対して、所定のレーザ光を均一に照射する。このとき、
記録膜4は、構成する相変化材料の融点以下且つ結晶化
温度以上に昇温される。そして、その後、この相変化光
ディスク1の記録膜4は、冷却されることによって、均
一な結晶状態となされて、初期化される。
More specifically, a predetermined laser beam is uniformly applied to the entire phase change optical disc 1. At this time,
The recording film 4 is heated to a temperature lower than the melting point of the constituent phase change material and higher than the crystallization temperature. After that, the recording film 4 of the phase change optical disk 1 is cooled to be brought into a uniform crystalline state and initialized.

【0042】次に、このように初期化された相変化光デ
ィスク1は、記録再生装置に装着されて所定の線速度で
回転された状態で、記録、消去及び再生が行われる。
Next, the phase-change optical disk 1 thus initialized is mounted on a recording / reproducing apparatus, and is recorded, erased and reproduced while being rotated at a predetermined linear velocity.

【0043】具体的には、相変化光ディスク1に対して
情報信号を記録する際には、記録膜4に対して、強いパ
ワーを有するレーザ光が照射される。これにより、記録
膜4内のレーザ光が照射された領域は、融点以上に急速
に昇温され、その後、急冷されることによって非結晶状
態であるアモルファス状態となる。このように、相変化
光ディスク1では、結晶状態の記録膜4内でレーザ光が
照射された領域がアモルファス状態となされ、情報信号
がこのアモルファス状態の記録マークとして記録膜4上
に記録される。
Specifically, when recording an information signal on the phase-change optical disc 1, the recording film 4 is irradiated with a laser beam having a strong power. As a result, the area of the recording film 4 irradiated with the laser beam is rapidly heated to a temperature equal to or higher than the melting point, and then rapidly cooled to an amorphous state, which is an amorphous state. As described above, in the phase-change optical disc 1, the region irradiated with the laser light in the crystalline recording film 4 is in an amorphous state, and an information signal is recorded on the recording film 4 as a recording mark in the amorphous state.

【0044】また、相変化光ディスク1に記録された情
報信号を消去する際には、記録時に照射したレーザ光よ
りも弱いレーザ光が少なくとも記録マーク上に照射され
る。これによって、記録膜4内のレーザ光が照射された
領域は、結晶化温度以上、融点以下に昇温され、その
後、徐冷されることによって前の状態にかかわらず結晶
状態となる。このように、この記録膜4では、アモルフ
ァス状態の記録マークを結晶状態に変換することによっ
て、情報信号が消去される。
When erasing the information signal recorded on the phase change optical disc 1, at least a recording mark is irradiated with a laser beam weaker than the laser beam irradiated at the time of recording. As a result, the region of the recording film 4 irradiated with the laser beam is heated to a temperature higher than the crystallization temperature and lower than the melting point, and then gradually cooled to a crystalline state regardless of the previous state. As described above, in the recording film 4, an information signal is erased by converting a recording mark in an amorphous state into a crystalline state.

【0045】また、このように情報信号が記録された相
変化光ディスク1に対して、書き込まれた情報信号を再
生する際には、記録膜4に対して、記録膜4の相変化が
起きない程度の小さいパワーの光ビームを照射し、この
光ビームの戻り光を受光する。詳しくは、相変化光ディ
スク1では、記録膜4が結晶状態のときの反射率の方
が、記録膜4がアモルファス状態のときの反射率よりも
大きくなる。よって、記録再生装置は、記録膜4からの
戻り光を受光して、記録膜4の結晶状態及びアモルファ
ス状態の反射率の違いを検出することにより、情報信号
を再生する。また、以上のように構成された相変化光デ
ィスク1は、例えば、次のようにして作製される。
When reproducing the written information signal on the phase-change optical disc 1 on which the information signal is recorded as described above, no phase change of the recording film 4 occurs with respect to the recording film 4. A light beam having a small power is irradiated, and return light of the light beam is received. More specifically, in the phase change optical disk 1, the reflectance when the recording film 4 is in a crystalline state is higher than the reflectance when the recording film 4 is in an amorphous state. Therefore, the recording / reproducing apparatus reproduces the information signal by receiving the return light from the recording film 4 and detecting the difference in the reflectance between the crystalline state and the amorphous state of the recording film 4. Further, the phase change optical disk 1 configured as described above is manufactured, for example, as follows.

【0046】先ず、射出成形により所定のプリグルーブ
が形成された基板2を作製し、その後、この基板2上に
第1の誘電体膜3をRFスパッタ法にて形成する。そし
て、この第1の誘電体膜3上に記録膜4をDCスパッタ
法にて形成する。
First, a substrate 2 on which a predetermined pre-groove is formed by injection molding is manufactured, and then a first dielectric film 3 is formed on the substrate 2 by RF sputtering. Then, a recording film 4 is formed on the first dielectric film 3 by a DC sputtering method.

【0047】次に、この記録膜4上にこの記録膜4の構
成元素からなるターゲットを用いてDCスパッタ法によ
り金属膜5を形成する。
Next, a metal film 5 is formed on the recording film 4 by a DC sputtering method using a target composed of the constituent elements of the recording film 4.

【0048】次に、この金属膜5上に第2の誘電体膜6
をRFスパッタ法で形成し、その後、この第2の誘電体
膜6上にDCスパッタ法で光反射膜7を形成する。そし
て、この光反射膜7上にスピンコート法により紫外線硬
化樹脂を塗布形成して、最終的に、本発明を適用した相
変化光ディスク1を作製する。
Next, a second dielectric film 6 is formed on the metal film 5.
Is formed by an RF sputtering method, and then a light reflection film 7 is formed on the second dielectric film 6 by a DC sputtering method. Then, an ultraviolet curable resin is applied and formed on the light reflecting film 7 by a spin coating method, and finally, the phase change optical disc 1 to which the present invention is applied is manufactured.

【0049】[0049]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について実験
結果に基づいて説明する。
EXAMPLES Hereinafter, specific examples of the present invention will be described based on experimental results.

【0050】本発明を適用した相変化光ディスクの繰り
返し記録耐久性について評価するために、以下に示す相
変化光ディスクを作製した。
To evaluate the repetitive recording durability of the phase change optical disk to which the present invention was applied, the following phase change optical disk was manufactured.

【0051】実施例1 先ず、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂からなる
透明な円盤状の基板を用意し、この基板上にZnS−2
0mol%SiO2を用いてRFスパッタによって膜厚
100nmの第1の誘電体膜を形成した。
Example 1 First, a transparent disk-shaped substrate made of a polycarbonate resin having a thickness of 0.6 mm was prepared, and ZnS-2 was placed on the substrate.
A 100 nm-thick first dielectric film was formed by RF sputtering using 0 mol% SiO 2 .

【0052】次に、この第1の誘電体膜上に、Ag9
11Sb50Te30からなるターゲットを用いて、Arガ
スを70sccm真空装置内に流し、トータルガス圧を
4mTorrとして、DCスパッタによって膜厚26.
5nmの記録膜を形成した。
Next, Ag 9 I was formed on the first dielectric film.
Using a target made of n 11 Sb 50 Te 30 , Ar gas was flowed into a vacuum apparatus at 70 sccm, the total gas pressure was 4 mTorr, and the film thickness was 26.
A 5 nm recording film was formed.

【0053】次に、この記録膜上に、Sbからなるター
ゲットを用いて、Arガスのみを70sccm真空装置
内に流し、トータルガス圧を4mTorrとして、DC
スパッタによって膜厚0.5nmの金属膜を形成した。
Next, on this recording film, using a target made of Sb, only Ar gas was flowed into a 70 sccm vacuum apparatus, the total gas pressure was set to 4 mTorr, and
A metal film having a thickness of 0.5 nm was formed by sputtering.

【0054】次に、この第1の誘電体膜、記録膜及び金
属膜が形成された基板を真空中に保持したままで、Zn
S−20mol%SiO2を用いてRFスパッタによっ
て膜厚23nmの第2の誘電体膜を形成した。
Next, while holding the substrate on which the first dielectric film, the recording film and the metal film are formed in a vacuum, Zn
A 23 nm-thick second dielectric film was formed by RF sputtering using S-20 mol% SiO 2 .

【0055】次に、この第2の誘電体膜上にAl−Ti
合金を用いてDCスパッタによって膜厚160nmの光
反射膜を形成し、相変化光ディスクを作製した。
Next, an Al-Ti film is formed on the second dielectric film.
A light-reflecting film having a thickness of 160 nm was formed by DC sputtering using an alloy, and a phase-change optical disk was manufactured.

【0056】実施例2 記録膜の膜厚を26nmとし、金属膜の膜厚を1.0n
mとした以外は、実施例1と同様にして相変化光ディス
クを作製した。
Example 2 The thickness of the recording film was 26 nm, and the thickness of the metal film was 1.0 n.
A phase-change optical disc was manufactured in the same manner as in Example 1 except that m was used.

【0057】比較例1 記録膜の膜厚を27nmとし、その後、この記録膜上に
金属膜を形成せずに、第2の誘電体膜の膜厚を23nm
とした以外は、実施例1と同様にして相変化光ディスク
を作製した。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 The thickness of the recording film was set to 27 nm. Thereafter, the metal film was not formed on the recording film, and the thickness of the second dielectric film was set to 23 nm.
A phase change optical disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the above conditions were satisfied.

【0058】<繰り返し記録耐久性の評価>以上のよう
に作製した相変化光ディスクに対して、以下に示すよう
にして、繰り返し記録耐久性を評価した。
<Evaluation of Durability of Repeated Recording> The phase change optical disk manufactured as described above was evaluated for the durability of repeated recording as described below.

【0059】実施例1、実施例2及び比較例1にて作製
された相変化光ディスクのそれぞれについて、先ず、レ
ーザ波長680nm、対物レンズの開口数NA0.6の
記録再生装置を用いて、線速度を4.8m/secと
し、所定の記録パワーでランダムEFM信号を1回、2
回、10回、100回と繰り返し記録及び再生を行っ
た。
For each of the phase-change optical disks manufactured in Example 1, Example 2 and Comparative Example 1, first, the linear velocity was measured using a recording / reproducing apparatus having a laser wavelength of 680 nm and an objective lens with a numerical aperture of NA 0.6. Is set to 4.8 m / sec, and the random EFM signal is output once at a predetermined recording power for two times.
Recording and reproduction were repeated 10 times and 100 times.

【0060】次に、実施例1、実施例2及び比較例1の
各相変化光ディスクについて、記録パワーを変え、その
他の条件を同様にして、ランダムEFM信号を1回、2
回、10回、100回と繰り返し記録及び再生を行っ
た。
Next, for each of the phase-change optical disks of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, the recording power was changed and the other conditions were the same, and the random EFM signal was transmitted once,
Recording and reproduction were repeated 10 times and 100 times.

【0061】そして、上記各回数繰り返し記録再生した
後における再生信号のジッター値を測定した。以下、実
施例1の結果を図2に示し、実施例2の結果を図3に示
し、比較例1の結果を図4に示す。
Then, the jitter value of the reproduced signal after repeatedly recording and reproducing each time was measured. Hereinafter, the results of Example 1 are shown in FIG. 2, the results of Example 2 are shown in FIG. 3, and the results of Comparative Example 1 are shown in FIG.

【0062】ここで、上記ジッター値は、クロックに対
する各マークエッジの標準偏差をウィンドウ幅で規格化
した値である。このジッター値が約12.5%以下であ
れば、エラーは訂正可能と考えられる。そこで、以下で
は、このジッター値12.5%をメディア特性の評価基
準とする。
Here, the jitter value is a value obtained by standardizing the standard deviation of each mark edge with respect to the clock by the window width. If this jitter value is about 12.5% or less, the error is considered correctable. Therefore, in the following, this jitter value of 12.5% is used as an evaluation criterion for the media characteristics.

【0063】図4の結果から、記録膜上に金属膜が形成
されていない比較例1は、10回までの繰り返し記録時
では、広範囲な記録パワーに対して低いジッター値を示
している。ところが、この比較例1は、100回の繰り
返し記録時になると、低い方の記録パワーにおけるジッ
ター値が著しく大きくなってしまい、しかもメディア特
性の標準基準であるジッター値12.5%以下となる記
録パワーの範囲が非常に狭まり、記録パワーマージンが
小さいといえる。
From the results shown in FIG. 4, Comparative Example 1 in which the metal film is not formed on the recording film shows a low jitter value over a wide range of recording power at the time of repeated recording up to ten times. However, in Comparative Example 1, when the recording was repeated 100 times, the jitter value at the lower recording power was significantly increased, and the recording power was 12.5% or less, which is the standard value for the media characteristics. Can be said to be very narrow, and the recording power margin is small.

【0064】一方、図2及び図3の結果から、記録膜上
に相変化材料から選ばれた元素からなる金属膜が形成さ
れている実施例1及び実施例2は、1回、2回と記録を
繰り返す程にジッター値が上昇するが、100回の繰り
返し記録時においても、図4に示す比較例と比較して、
かなり広範囲な記録パワーにおいてジッター値が12.
5%以下となっており、記録パワーマージンが大きいと
いえる。
On the other hand, from the results of FIG. 2 and FIG. 3, the first and second embodiments in which the metal film made of the element selected from the phase change material is formed on the recording film are once and twice. Although the jitter value increases as the recording is repeated, even when recording is repeated 100 times, compared with the comparative example shown in FIG.
11. The jitter value is 12.
5% or less, which means that the recording power margin is large.

【0065】以上の結果から、記録膜上に当該記録膜の
相変化材料から選ばれた元素からなる金属膜が形成され
ていることにより、繰り返し記録耐久性が向上するとと
もに記録パワーマージンが広くなることが判明した。
From the above results, by forming a metal film made of an element selected from the phase change material of the recording film on the recording film, the repetitive recording durability is improved and the recording power margin is widened. It has been found.

【0066】つぎに、金属膜の膜厚とジッター値との関
係を評価するために、以下に示すような相変化光ディス
クを作製した。
Next, in order to evaluate the relationship between the thickness of the metal film and the jitter value, the following phase change optical disk was manufactured.

【0067】実施例3 膜厚25.5nmの記録膜を形成し、この記録膜上に膜
厚1.5nmの金属膜を形成した以外は、実施例1と同
様にして相変化光ディスクを作製した。
Example 3 A phase change optical disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a recording film having a thickness of 25.5 nm was formed, and a metal film having a thickness of 1.5 nm was formed on the recording film. .

【0068】実施例4 膜厚25.0nmの記録膜を形成し、この記録膜上に膜
厚2.0nmの金属膜を形成した以外は、実施例1と同
様にして相変化光ディスクを作製した。
Example 4 A phase change optical disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a recording film having a thickness of 25.0 nm was formed and a metal film having a thickness of 2.0 nm was formed on the recording film. .

【0069】<金属膜と繰り返し記録耐久性との関係評
価>以上のように作製した相変化光ディスクに対して、
以下に示すようにして、金属膜の膜厚とジッター値との
関係を評価した。
<Evaluation of Relationship between Metal Film and Repeated Recording Durability>
The relationship between the thickness of the metal film and the jitter value was evaluated as described below.

【0070】実施例1〜実施例4及び比較例1にて作製
された相変化光ディスクのそれぞれについて、先ず、レ
ーザ波長680nm、対物レンズの開口数NA0.6の
記録再生装置を用いて、線速度を4.8m/secと
し、記録パワーを振り各記録パワーでランダムEFM信
号を1回記録及び再生し、このときの最もジッター値の
小さい値を、各相変化光ディスクの初回ボトムジッター
値とした。図5に、各相変化光ディスクの初回ボトムジ
ッター値を示す。
For each of the phase-change optical disks manufactured in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1, first, the linear velocity was measured by using a recording / reproducing apparatus having a laser wavelength of 680 nm and an objective lens having a numerical aperture NA of 0.6. Was set to 4.8 m / sec, the recording power was varied, a random EFM signal was recorded and reproduced once at each recording power, and the value with the smallest jitter value at this time was defined as the first bottom jitter value of each phase change optical disc. FIG. 5 shows the initial bottom jitter value of each phase change optical disc.

【0071】図5の結果から、金属膜の膜厚が1.5n
mより大きくなると初回ボトムジッター値が著しく大き
くなることがわかった。よって、金属膜の膜厚が1.5
nmより大きい相変化光ディスクは、100回以上の繰
り返し記録に対してジッター値が12.5%を容易に超
えると考えられるため、繰り返し記録耐久性が悪いとい
える。
From the results shown in FIG. 5, the thickness of the metal film is 1.5 n
It was found that when it was larger than m, the initial bottom jitter value was significantly increased. Therefore, when the thickness of the metal film is 1.5
A phase change optical disk having a diameter larger than nm can be said to have a poor repetitive recording durability because the jitter value easily exceeds 12.5% for 100 or more repeated recordings.

【0072】以上の結果から、本発明を適用した相変化
光ディスクでは、金属膜の膜厚が1.5nm以下である
ことが好ましいと判明した。
From the above results, it was found that in the phase change optical disk to which the present invention was applied, it is preferable that the thickness of the metal film be 1.5 nm or less.

【0073】[0073]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る光情報記録媒体によれば、記録膜が少なくともAgを
含有する相変化材料からなり、この記録膜の基板と対向
する側の面又はこの面とは反対側の面の少なくともいず
れかの面上にこの相変化材料から選ばれた元素を含有す
る材料からなる金属膜が形成されていることを特徴とす
るものである。
As described above in detail, according to the optical information recording medium of the present invention, the recording film is made of a phase change material containing at least Ag, and the surface of the recording film on the side facing the substrate. Alternatively, a metal film made of a material containing an element selected from the phase change material is formed on at least one of the surfaces opposite to the surface.

【0074】これにより、本発明に係る光情報記録媒体
は、繰り返し記録を行った場合に記録膜の相変化材料に
偏析が生じても、偏析により局所的に希釈されて減少し
た元素を、金属膜中の金属元素が補うことになる。
As a result, the optical information recording medium according to the present invention can reduce the elements which are locally diluted and reduced by segregation even if segregation occurs in the phase change material of the recording film when repeated recording is performed. The metal element in the film compensates.

【0075】その結果、本発明を適用した光情報記録媒
体は、繰り返し記録を行っても、記録膜の相変化材料の
組成変化を極力抑えることができるので、記録消去を良
好な状態で繰り返すことができ、繰り返し記録耐久性が
向上されるとともに、記録再生特性に優れた高信頼性の
得られたものとなる。
As a result, in the optical information recording medium to which the present invention is applied, even if the recording is repeatedly performed, the composition change of the phase change material of the recording film can be suppressed as much as possible. Thus, the recording durability is improved, and the recording / reproducing characteristics are high and high reliability is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した光情報記録媒体の一例を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an optical information recording medium to which the present invention is applied.

【図2】実施例1の実験結果を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing experimental results of Example 1.

【図3】実施例2の実験結果を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing experimental results of Example 2.

【図4】比較例1の実験結果を示す図である。FIG. 4 is a view showing experimental results of Comparative Example 1.

【図5】金属膜の膜厚と初回ボトムジッター値との関係
を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a relationship between a thickness of a metal film and an initial bottom jitter value.

【図6】従来の光情報記録媒体の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 6 is a sectional view showing an example of a conventional optical information recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光情報記録媒体、 2 基板、3 第1の誘電体
膜、 4 記録膜、 5金属膜、 6 第2の誘電体
膜、 7 光反射膜、 8 保護膜
Reference Signs List 1 optical information recording medium, 2 substrate, 3 first dielectric film, 4 recording film, 5 metal film, 6 second dielectric film, 7 light reflection film, 8 protective film

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 結晶状態と非結晶状態との間の相変化が
生じる相変化材料からなる記録膜を備え、光線を照射し
て上記記録膜に相変化を生じさせることにより情報信号
が記録される光記録媒体において、 上記記録膜は、少なくともAgを含有する相変化材料か
らなり、 上記記録膜に隣接して、上記相変化材料を構成する元素
から選ばれた元素を含有する材料からなる金属膜が形成
されていることを特徴とする光記録媒体。
An information signal is recorded by irradiating a light beam to cause a phase change in said recording film, comprising a recording film made of a phase change material in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state occurs. In the optical recording medium, the recording film is made of a phase change material containing at least Ag, and a metal made of a material containing an element selected from the elements constituting the phase change material is provided adjacent to the recording film. An optical recording medium having a film formed thereon.
【請求項2】 上記相変化材料がSbを含有し、上記金
属膜が少なくともSbから形成されていることを特徴と
する請求項1記載の光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein said phase change material contains Sb, and said metal film is formed of at least Sb.
【請求項3】 上記金属膜の膜厚が1.5nm以下であ
ることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein said metal film has a thickness of 1.5 nm or less.
【請求項4】 基板上に、第1の誘電体膜、上記記録
膜、上記金属膜、第2の誘電体膜、光反射膜が順次積層
形成されてなることを特徴とする請求項1記載の光記録
媒体。
4. The substrate according to claim 1, wherein a first dielectric film, said recording film, said metal film, a second dielectric film, and a light reflecting film are sequentially formed on a substrate. Optical recording medium.
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