JPH07105574A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JPH07105574A
JPH07105574A JP6188252A JP18825294A JPH07105574A JP H07105574 A JPH07105574 A JP H07105574A JP 6188252 A JP6188252 A JP 6188252A JP 18825294 A JP18825294 A JP 18825294A JP H07105574 A JPH07105574 A JP H07105574A
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JP
Japan
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layer
recording
light
light absorption
optical information
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6188252A
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Japanese (ja)
Inventor
Isao Morimoto
勲 森本
Kazuhiro Nishimura
和浩 西村
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP6188252A priority Critical patent/JPH07105574A/en
Publication of JPH07105574A publication Critical patent/JPH07105574A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain a phase shift type optical information recording medium capable of forming a recording mark faithful to an information signal on the recording layer even in the case of overwriting with a single beam. CONSTITUTION:This optical information recording medium is composed of a polycarbonate resin substrate 1, a light absorbing layer 4 of Ti having 10nm thickness, a 1st protective layer 5 of ZnS-20mol% SiO2 mixture having 180nm thickness, a recording layer 2 of an Sb-Te-Ge alloy having 25nm thickness, a 2nd protective layer 6 made of the same material as the 1st protective layer and having 20nm thickness and a reflecting layer 3 of Al different from Ti in heat conductivity. Since the light absorption factor of the recording layer in a crystalline state can be made higher than that in an amorphous state by the presence of the light absorbing layer, a shift in the position of a recording mark and ununiformity in length are hardly caused in the case of overwriting with a single beam. Since the material of the light absorbing layer and that of the reflecting layer are different from each other in heat conductivity, both recording and erasing can be attained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光照射による結晶状態
と非晶質状態との間の可逆的な相変化を利用して、情報
を記録・消去・再生するための新規な光情報記録媒体に
関し、特に、情報の重ね書きが可能で、情報を高密度に
記録できる光情報記録媒体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention utilizes a reversible phase change between a crystalline state and an amorphous state due to light irradiation to record a new optical information recording / erasing / reproducing information. The present invention relates to a medium, and more particularly to an optical information recording medium capable of overwriting information and recording information at a high density.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザ光の照射により情報を繰り返し記
録できる光情報記録媒体としては、垂直磁化膜で反射さ
れる光の偏光面が回転することを利用した光磁気ディス
クや、非晶質状態と結晶状態とにおける記録膜材料の光
学特性の差を利用した相変化型光ディスクなどがすでに
実用化されている。
2. Description of the Related Art As an optical information recording medium capable of repeatedly recording information by irradiating a laser beam, a magneto-optical disk utilizing the rotation of the plane of polarization of light reflected by a perpendicular magnetization film or an amorphous state is used. Phase-change type optical discs and the like, which utilize the difference in the optical characteristics of the recording film material in the crystalline state, have already been put into practical use.

【0003】これらのディスクは、照射されたレーザ光
が膜内で吸収されることにより発生した熱で情報を記録
するものであるが、この他に、光の作用で記録材料の状
態や構造を変化させるいわゆるフォトンモード記録材料
として、フォトクロミック材料やフォトケミカルホール
バーニング材料などがあり、将来の超高密度記録材料と
して研究されている。
These discs record information by heat generated by absorption of irradiated laser light in the film. In addition to this, the state and structure of the recording material is changed by the action of light. As a so-called photon mode recording material to be changed, there are photochromic materials, photochemical hole burning materials and the like, which are being researched as future high density recording materials.

【0004】このような光情報記録媒体のうち、相変化
型光ディスクは、光照射により結晶状態と非晶質状態と
の間の相変化が可逆的になされる材料からなる記録層を
有するものであり、簡単な光学系で記録・消去ができる
とともに、既に記録された情報を消去しながら同時に新
たな情報を記録する所謂オーバーライトが容易にできる
という優れた特徴を持っている。
Among such optical information recording media, the phase change type optical disk has a recording layer made of a material in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state is reversible by light irradiation. It has an excellent feature that recording and erasing can be performed with a simple optical system, and so-called overwriting of recording new information at the same time while erasing already recorded information can be easily performed.

【0005】一般的に、書換え可能な相変化型光ディス
クでは、記録層における非晶質状態を記録状態とし、結
晶状態を消去状態としている。すなわち、情報の記録
は、記録レベルのレーザ光の照射により融点以上の高温
へ加熱した後に急冷することで、情報を示す信号に応じ
た非晶質の記録マークを形成することによって行い、消
去は、消去レベルのレーザ光の照射により融点以下の結
晶化可能温度まで昇温した後に徐冷することで、非晶質
の記録マークを結晶化することによって行う。そして、
記録された信号の再生は、非晶質部分と結晶部分とでの
反射率の違いや反射光の位相の違いを利用して、ディス
クからの反射光量の変化を検出することによって行う。
Generally, in a rewritable phase change type optical disk, the amorphous state in the recording layer is the recorded state and the crystalline state is the erased state. That is, information is recorded by irradiating a recording level laser beam to a temperature higher than the melting point and then rapidly cooling to form an amorphous recording mark according to a signal indicating information, and erasing is performed. The amorphous recording marks are crystallized by raising the temperature to the crystallization-enabling temperature below the melting point by irradiating the erasing level laser beam and then gradually cooling. And
The recorded signal is reproduced by detecting the change in the amount of light reflected from the disk by utilizing the difference in the reflectance between the amorphous part and the crystal part and the difference in the phase of the reflected light.

【0006】従来の相変化型光ディスクにおいては、図
5に示すように、記録層2の上にAl合金などからなる
反射層3を積層することにより、干渉効果を利用して、
記録層2の記録マークと消去部分とのコントラストを大
きくしていた。また、最近では、図6に示すように、基
板1の熱変形を防止するために記録層2と基板1との間
に誘電体材料からなる第一の保護層5を設けるととも
に、記録層2と反射層3が反応したり記録層材料が拡散
したりすることを防止するために、記録層2と反射層3
との間にも同様の第二の保護層6を設けた四層構造のも
のが、記録・消去特性の点で好適であるために主流とな
っている。
In a conventional phase change type optical disk, as shown in FIG. 5, a reflection layer 3 made of Al alloy or the like is laminated on the recording layer 2 to utilize the interference effect,
The contrast between the recording mark and the erased portion of the recording layer 2 is increased. Further, recently, as shown in FIG. 6, in order to prevent thermal deformation of the substrate 1, a first protective layer 5 made of a dielectric material is provided between the recording layer 2 and the substrate 1, and the recording layer 2 is provided. In order to prevent the reaction between the reflective layer 3 and the reflective layer 3 and the diffusion of the recording layer material, the recording layer 2 and the reflective layer 3
A four-layer structure in which a similar second protective layer 6 is provided between and is also mainstream because it is suitable in terms of recording / erasing characteristics.

【0007】そして、最近では、オーバーライトの方法
も、従来の記録用と消去用とで別々のレーザビームを用
いる複数ビーム法から、情報の信号に応じてレーザパワ
ーを記録レベルと消去レベルの二段階に変調させた一本
のレーザビームで行う単一ビーム法が主流となってい
る。この単一ビーム法では、前述のように変調されたレ
ーザビームにより、記録層のうち記録レベルの高いパワ
ーのレーザ光が照射された部分は、融点以上の高温に加
熱されて一旦溶融した後に急冷されることによって、非
晶質の記録マークが形成される。一方、消去レベルのパ
ワー(記録レベルよりは低いパワー)のレーザ光が照射
された部分は、融点以下の結晶化可能温度まで加熱され
た後に徐冷されることによって、非晶質の記録マークが
結晶化される。この方法によれば、以前に記録された非
晶質状態の記録マーク列に関係なく、新たな記録マーク
列が一回のレーザビーム走査で形成される。
In recent years, the overwrite method has also been changed from the conventional multi-beam method using separate laser beams for recording and erasing to changing the laser power between the recording level and the erasing level according to the information signal. The single-beam method in which a single laser beam modulated in stages is used is the mainstream. In this single-beam method, the portion of the recording layer irradiated with the laser beam having a high recording level power by the laser beam modulated as described above is heated to a temperature higher than the melting point, melted once, and then rapidly cooled. By doing so, an amorphous recording mark is formed. On the other hand, the portion irradiated with the laser beam of the erase level power (power lower than the recording level) is heated to a crystallizable temperature below the melting point and then gradually cooled to form an amorphous recording mark. Be crystallized. According to this method, a new recording mark train is formed by a single laser beam scan regardless of the previously recorded amorphous recording mark train.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このように、単一ビー
ム法によるオーバーライトによれば、一回のレーザビー
ムの走査で、古い情報を消去しながら同時に新たな情報
を記録することが可能となるが、今回の走査により記録
マークが形成される部分には、前回の走査において記録
部分であったため非晶質状態にあるものと消去部分であ
ったため結晶状態にあるものとの二通りがある。ここ
で、一般的に結晶状態の方が非晶質状態より熱伝導率が
高いため、記録層で発生した熱の逸散は結晶状態にある
部分の方が大きい。また、結晶状態にある部分を溶融す
るためには潜熱が必要である。これらのことから、前回
消去部分であった結晶状態の部分に所定の記録マークを
形成するには、前回記録部分であった非晶質状態の部分
に同等の記録マークを形成するよりも大きなエネルギー
が必要となる。
As described above, according to the overwriting by the single beam method, it is possible to record new information at the same time while erasing old information with one scanning of the laser beam. However, there are two types of portions where the recording marks are formed by this scanning, that is, the recording portions in the previous scanning are in an amorphous state and the erased portions are in a crystalline state. . Here, since the crystalline state generally has a higher thermal conductivity than the amorphous state, the heat dissipation in the recording layer is larger in the portion in the crystalline state. In addition, latent heat is required to melt the crystalline portion. From these facts, it takes more energy to form a predetermined recording mark in the crystalline state portion that was the previously erased portion than in forming the equivalent recording mark in the amorphous state portion that was the previous recording portion. Is required.

【0009】しかしながら、前述の図5や図6に示す構
造の従来の相変化型光ディスクでは、記録層におけるレ
ーザ光の反射率は結晶状態部分の方が非晶質状態部分よ
り高く、吸収率は結晶状態部分の方が非晶質状態部分よ
り低い。すなわち、前述のように、同等の記録マークが
形成されるためには結晶状態部分の方がより大きなエネ
ルギーを必要とするにも関わらず、記録マーク形成のた
めに必要な熱に変換されるレーザ光の吸収量は、結晶状
態部分の方が非晶質状態部分より少ない。したがって、
今回のレーザ光走査における記録部分に同じ記録レベル
のレーザ光が照射されても、前回の走査により結晶状態
であった部分の温度は、前回の走査により非晶質状態で
あった部分の温度よりも低くなってしまうという現象が
生じていた。
However, in the conventional phase change type optical disk having the structure shown in FIGS. 5 and 6, the laser light reflectance in the recording layer is higher in the crystalline state portion than in the amorphous state portion, and the absorptivity is higher. The crystalline state portion is lower than the amorphous state portion. That is, as described above, a laser that is converted into heat necessary for forming a recording mark, though the crystalline state portion requires more energy in order to form an equivalent recording mark, The amount of light absorbed in the crystalline state portion is smaller than that in the amorphous state portion. Therefore,
Even if the laser light of the same recording level is applied to the recording portion in this laser light scanning, the temperature of the portion that was in the crystalline state by the previous scanning is higher than the temperature of the portion that was in the amorphous state by the previous scanning. There was a phenomenon that it became too low.

【0010】このように、今回の走査で同じ記録部分と
なるべき記録層の部分が、前回の記録状態によって温度
上昇度合いが異なると、形成された記録マークの大きさ
が不揃いになったり、正規の位置からずれたところに記
録マークが形成されたり、あるいは、前に記録されてい
た情報の消し残りが生じたりするという問題点が生じ
る。
As described above, when the temperature rise degree of the recording layer portion which should be the same recording portion in the current scanning differs depending on the previous recording state, the formed recording marks become uneven in size, There is a problem that a recording mark is formed at a position deviated from the position of, or an unerased portion of previously recorded information occurs.

【0011】このような記録マークの位置ずれや長さの
不揃いは、高密度記録の場合に、情報の正確な再生を阻
害してエラーの原因となる。特に、記録マークの前端と
後端の位置を情報として記録するマークエッジ記録と呼
ばれる高密度記録再生方法では、記録マークの長さと前
後端位置とを正確に制御する必要がある。本発明は、こ
のような従来技術の問題点に着目してなされたものであ
り、単一ビームによるオーバーライトであっても、情報
信号に忠実な記録マークを記録層に形成することのでき
る光情報記録媒体を提供することを目的とする。
Such positional deviations and irregular lengths of the recording marks impede the accurate reproduction of information and cause an error in high density recording. Particularly, in a high-density recording / reproducing method called mark edge recording in which the positions of the front end and the rear end of the recording mark are recorded as information, it is necessary to accurately control the length of the recording mark and the front and rear end positions. The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art. Even in the case of overwriting with a single beam, it is possible to form a recording mark faithful to an information signal on a recording layer. The purpose is to provide an information recording medium.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の光情報記録媒体は、図1に示すように、
透明な基板1と、この基板1の一方の面に形成された、
光照射により結晶状態と非晶質状態との間の相変化が可
逆的になされる材料からなる記録層2と、この記録層2
の前記基板1とは反対側の面に形成された反射層3とを
少なくとも備えた光情報記録媒体において、前記基板1
と記録層2との間に、前記反射層とは異なる熱伝導率を
有する光吸収性材料からなる光吸収層4を設けたことを
特徴とするものである。
In order to achieve the above object, an optical information recording medium according to a first aspect of the present invention, as shown in FIG.
A transparent substrate 1 and formed on one surface of the substrate 1,
A recording layer 2 made of a material in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state is reversible by light irradiation, and the recording layer 2
An optical information recording medium comprising at least a reflective layer 3 formed on the surface opposite to the substrate 1.
And a recording layer 2, a light absorbing layer 4 made of a light absorbing material having a thermal conductivity different from that of the reflecting layer is provided.

【0013】前記光吸収層4をなす材料としては、請求
項2に記載のように、金属、半金属、あるいは半導体で
あることが記録・消去の繰り返しに対する耐久性の点で
好ましく、特に、請求項3に記載のように、Al、T
i、Cr、Ni、Cu、Si、Ge、Ag、Au、P
d、Ga、Se、In、Sn、Sb、Te、Pb、およ
びBiからなる群より選ばれた元素、あるいはこの群よ
り選ばれた元素を含む合金を用いることがより好まし
い。
As a material for the light absorbing layer 4, as described in claim 2, a metal, a semimetal, or a semiconductor is preferable from the viewpoint of durability against repeated recording and erasing. As described in Item 3, Al, T
i, Cr, Ni, Cu, Si, Ge, Ag, Au, P
It is more preferable to use an element selected from the group consisting of d, Ga, Se, In, Sn, Sb, Te, Pb, and Bi, or an alloy containing an element selected from this group.

【0014】また、この光吸収層4の膜厚については、
あまり厚すぎると入射光の大部分が光吸収層での吸収と
反射に費やされ、記録層2に到達する透過光の量が僅か
になって、記録感度が低くなるばかりでなく、記録層に
おける記録部分と消去部分とでの反射率のコントラスト
も低下するため好ましくない。したがって、この光吸収
層4の膜厚は、使用する材料によっても異なるが5nm
以上且つ50nm以下であることが好ましい。
Regarding the film thickness of the light absorption layer 4,
If it is too thick, most of the incident light is consumed for absorption and reflection in the light absorbing layer, the amount of transmitted light reaching the recording layer 2 becomes small, and not only the recording sensitivity decreases but also the recording layer. The contrast of the reflectance between the recorded portion and the erased portion is also lowered, which is not preferable. Therefore, the thickness of the light absorption layer 4 varies depending on the material used, but is 5 nm.
It is preferably at least 50 nm.

【0015】前記基板1については、従来より公知の材
料、すなわちポリカーボネート樹脂、PMMAやガラス
等が用いられる。また、反射層3をなす材料としては、
Al、Ti、Cr、Ni、Cu、Si、Ge、Ag、A
u、Pd、Pt等が挙げられるが、これらの中から、前
記光吸収層4をなす材料とは熱伝導率の異なる材料を選
んで用いる。
For the substrate 1, a conventionally known material such as polycarbonate resin, PMMA or glass is used. Further, as the material forming the reflective layer 3,
Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Si, Ge, Ag, A
Examples of the material include u, Pd, Pt, and the like. Among them, a material having a thermal conductivity different from that of the material forming the light absorption layer 4 is selected and used.

【0016】また、本発明の光情報記録媒体は、図2に
示すように、必要に応じて、記録層2と基板1との間に
誘電体材料からなる第一の保護層5を、記録層2と反射
層3との間に同様の第二の保護層6を設けた五層構造に
構成されるが、この必要に応じて設けられる第一および
第二の保護層5,6をなす材料としては、金属あるいは
半金属の、酸化物、炭化物、窒化物、フッ化物、および
硫化物から選ばれた一種類またはこれらの混合物が用い
られる。
In the optical information recording medium of the present invention, as shown in FIG. 2, a first protective layer 5 made of a dielectric material is recorded between the recording layer 2 and the substrate 1 if necessary. A similar second protective layer 6 is provided between the layer 2 and the reflective layer 3 to form a five-layer structure, and the first and second protective layers 5 and 6 are provided as required. As the material, one or a mixture of metal or metalloid selected from oxides, carbides, nitrides, fluorides, and sulfides is used.

【0017】ここで、これらの各層を形成する材料の光
学定数やその膜厚により、記録層2における光吸収率は
一義的に決まり、後述のように、本発明では、この記録
層2における光吸収率が非晶質状態よりも結晶状態の方
が大きくなる作用によって、前記問題点が解決されるも
のである。したがって、本発明の光情報記録媒体では、
記録層2における光吸収率が非晶質状態よりも結晶状態
の方が大きくなるように、記録層2、反射層3、光吸収
層4、第一の保護層5、および第二の保護層6を形成す
る各材料の選定および各層の膜厚の設定をする必要があ
る。
Here, the optical absorptance of the recording layer 2 is uniquely determined by the optical constants of the materials forming these layers and the film thickness thereof, and as will be described later, in the present invention, the optical absorptivity of the recording layer 2 is determined. The problem is solved by the action that the absorption rate in the crystalline state is larger than that in the amorphous state. Therefore, in the optical information recording medium of the present invention,
The recording layer 2, the reflective layer 3, the light absorbing layer 4, the first protective layer 5, and the second protective layer so that the light absorption rate in the recording layer 2 is higher in the crystalline state than in the amorphous state. It is necessary to select each material for forming 6 and set the film thickness of each layer.

【0018】さらに、各層の形成方法としては、従来よ
り公知の蒸着法やスパッタリング法等が挙げられる。な
お、本発明の光情報記録媒体のうち、記録層2としてS
b−Te−Geを主成分とする相変化型記録材料を設け
たものが、高密度記録再生用光ディスクとして特に好ま
しい。
Further, as a method for forming each layer, a conventionally known vapor deposition method, sputtering method or the like can be mentioned. In the optical information recording medium of the present invention, S is used as the recording layer 2.
A disc provided with a phase-change recording material containing b-Te-Ge as a main component is particularly preferable as an optical disc for high-density recording / reproduction.

【0019】[0019]

【作用】請求項1の光情報記録媒体では、基板と記録層
との間に光吸収層を設けたことにより、ディスク内に入
射された光がこの光吸収層と反射層との間で多重反射す
るため、各層の材質や膜厚を適切に選定することによ
り、記録層における光吸収率を、結晶状態の方が非晶質
状態よりも高くすることができる。これにより、結晶状
態部分と非晶質状態部分を備えた記録層に、同じ記録レ
ベルのレーザ光が照射されると、結晶状態部分の方が非
晶質部分よりも光吸収率が高いため、結晶状態部分の方
が熱に変換されるレーザ光の吸収量が多くなる。したが
って、結晶状態部分では前述の熱伝導率と潜熱の影響に
より余計に必要であったエネルギー分が相殺されるた
め、同じ記録レベルのレーザ光により、前回の記録状態
が結晶状態部分であるか非晶質状態部分であるかに関わ
らず、同等の、情報信号に忠実な新たな記録マーク(非
晶質部分)が形成される。
In the optical information recording medium according to the present invention, since the light absorbing layer is provided between the substrate and the recording layer, the light incident on the disc is multiplexed between the light absorbing layer and the reflecting layer. Since the light is reflected, the light absorption coefficient in the recording layer can be made higher than that in the amorphous state by appropriately selecting the material and film thickness of each layer. Thereby, when the recording layer having the crystalline state portion and the amorphous state portion is irradiated with the laser beam of the same recording level, the crystalline state portion has a higher light absorption rate than the amorphous portion, The crystalline portion absorbs more laser light that is converted into heat. Therefore, in the crystalline state portion, the extra energy required due to the influence of the above-mentioned thermal conductivity and latent heat is offset, so that whether the previous recording state was the crystalline state portion or not by the laser beam of the same recording level. Regardless of whether it is a crystalline state portion, an equivalent new recording mark (amorphous portion) faithful to the information signal is formed.

【0020】また、前記光吸収層が、反射層とは熱伝導
率の異なる材料からなるものであるため、記録層からの
適度な放熱が行われて、記録と消去の両方において高い
性能が得られる。すなわち、記録マークの形成の際に、
記録層が非晶質化するためには、溶融した記録層を急冷
により固化して、当該記録層を構成する各原子が自由に
移動して結晶格子を組める時間を与えないようにする必
要がある。他方、非晶質部分を結晶化して消去するため
には、記録層を構成する各原子が自由に移動して結晶格
子を組めるように、結晶化に必要な温度(結晶化温度)
以上であって融点以下の温度にある一定時間以上保持す
る必要がある。したがって、急冷されすぎると非晶質化
は促進されるが、結晶化が不完全となり、反対に冷却速
度が低すぎると結晶化は完全に行われるが、非晶質化が
不完全となるため、このような相反する記録と消去とを
同時に行うためには、記録層で発生した熱を適度に逃が
す必要がある。
Further, since the light absorption layer is made of a material having a different thermal conductivity from that of the reflection layer, proper heat dissipation from the recording layer is performed, and high performance is obtained in both recording and erasing. To be That is, when forming the recording mark,
In order for the recording layer to become amorphous, it is necessary to solidify the molten recording layer by quenching so that each atom forming the recording layer does not move freely and give time to form a crystal lattice. is there. On the other hand, in order to crystallize and erase the amorphous portion, the temperature required for crystallization (crystallization temperature) so that each atom that constitutes the recording layer can move freely to form a crystal lattice.
It is necessary to keep the temperature above the melting point for a certain period of time or more. Therefore, if it is too rapidly cooled, the amorphization is promoted, but the crystallization becomes incomplete, and if the cooling rate is too low, the crystallization is completely performed, but the amorphization becomes incomplete. In order to simultaneously perform such contradictory recording and erasing, it is necessary to appropriately release the heat generated in the recording layer.

【0021】そして、図1および2に示すような本発明
の構造では、この記録層で発生した熱は、直接または保
護層を介して反射層と光吸収層とにより放熱される。こ
こで、反射層と光吸収層とを熱伝導率が同一の材料で構
成すると、その材料の熱伝導率がかなり大きい場合には
急冷され過ぎて結晶化が不完全になる傾向となり、逆に
熱伝導率がかなり小さい場合には冷却速度が低すぎて非
晶質化が不完全になる傾向となる。これに対し、光吸収
層と反射層とを熱伝導率の異なる材料で構成することに
よって、前述の作用(記録層における光吸収率を結晶状
態の方が非晶質状態よりも高くすること)を発揮するた
めに選定された光吸収層の材料が、熱伝導率がかなり大
きかったりかなり小さかったりした場合であっても、こ
れとは逆の熱伝導率である材料を反射層材料とすること
により、当該反射層において放熱や保熱が補われるた
め、その結果、記録層からの適度な放熱が行われる。
In the structure of the present invention as shown in FIGS. 1 and 2, the heat generated in the recording layer is radiated by the reflecting layer and the light absorbing layer directly or through the protective layer. Here, if the reflective layer and the light absorption layer are made of a material having the same thermal conductivity, when the thermal conductivity of the material is considerably large, the material is too rapidly cooled and the crystallization tends to be incomplete. When the thermal conductivity is considerably low, the cooling rate is too low and the amorphization tends to be incomplete. On the other hand, by configuring the light absorption layer and the reflection layer with materials having different thermal conductivities, the above-mentioned effect (making the light absorption rate in the recording layer higher in the crystalline state than in the amorphous state) Even if the material of the light-absorbing layer selected to exert the above-mentioned effect has a considerably high or low thermal conductivity, the material having the opposite thermal conductivity to the reflective layer material should be used. By this, heat dissipation and heat retention are supplemented in the reflective layer, and as a result, appropriate heat dissipation from the recording layer is performed.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。以下の実施例では、記録層としてSb、Te、およ
びGeを主成分とする材料を用いた場合について説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。 <参考例>図2に示すような、透明樹脂材料(例えばポ
リカーボネート樹脂)からなる基板1の上に、光吸収層
4、第一の保護層5、記録層2、第二の保護層6、反射
層3が順次積層された構造の相変化型光ディスクについ
て、第一の保護層5、記録層2、第二の保護層6、反射
層3を下記表1に示す屈折率n、消衰係数kの材料と膜
厚で形成し、光吸収層4をなす材料の屈折率nと消衰係
数kを変化させた場合の、非晶質状態の光吸収率Aa
結晶質状態の光吸収率Ac の差(Aa −Ac)を計算し
た。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples. In the following examples, the case where a material containing Sb, Te, and Ge as the main components is used for the recording layer will be described, but the present invention is not limited to this. <Reference Example> As shown in FIG. 2, a light absorbing layer 4, a first protective layer 5, a recording layer 2, a second protective layer 6, on a substrate 1 made of a transparent resin material (for example, a polycarbonate resin). Regarding the phase-change type optical disc having a structure in which the reflective layer 3 is sequentially laminated, the first protective layer 5, the recording layer 2, the second protective layer 6, and the reflective layer 3 are shown in Table 1 below with a refractive index n and an extinction coefficient. The light absorption coefficient A a in the amorphous state and the light absorption in the crystalline state when the refractive index n and the extinction coefficient k of the material forming the light absorption layer 4 are changed with the material having the thickness k and the film thickness. The difference between the rates A c (A a −A c ) was calculated.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】なお、前述の屈折率nおよび消衰係数kは
波長830nmにおける値であり、光吸収層4の膜厚は
10nmとして計算した。その結果を図3にグラフで示
す。図中の数字は記録層の光吸収率差(Aa −Ac )を
%で示した値である。光吸収層4を設けない他は前記と
同様の四層構造の相変化型光ディスクでは、前記と同様
の計算により、記録層の光吸収率差(Aa −Ac )は2
4.5%であった。これに比べて、光吸収層4を設けた
場合には、図3のグラフから分かるように、光吸収層の
屈折率nと消衰係数kとの適切な選定により、記録層の
光吸収率差(Aa −Ac )を例えば“0”未満に、すな
わち結晶状態の光吸収率Ac を非晶質状態の光吸収率A
a より大きくすることができる。 <実施例1>次のような手順により、図2に示す層構造
の相変化型光ディスクを作製した。まず、中心穴を有
し、直径130mm厚さが1.2mmで、片面に1.6
μmピッチのグルーブが形成されている円板状のポリカ
ーボネート樹脂基板1の溝面側に、Tiからなる光吸収
層4を10nm、ZnSとSiO2 の混合物(SiO2
の存在比20mol%)からなる第一の保護層5を18
0nm、Sb−Te−Ge系合金からなる記録層2を2
5nm、第一の保護層5と同様の第二の保護層6を20
nm、Alからなる反射層3を150nm順次スパッタ
リング法により形成し、その上にUV硬化樹脂をスピン
コート法により積層した。これをサンプルNo. 1−1と
する。また、比較例として、Tiからなる光吸収層4を
形成しない以外は前記と同様の構成の相変化型光ディス
クを作製した。これをサンプルNo.1−2とする。
The above-mentioned refractive index n and extinction coefficient k are values at a wavelength of 830 nm, and the thickness of the light absorption layer 4 was calculated to be 10 nm. The results are shown graphically in FIG. The numbers in the figure are the values showing the difference in light absorptance of the recording layer (A a −A c ) in%. In the same four-layer structure phase change optical disk as described above except that the light absorption layer 4 is not provided, the light absorption difference (A a −A c ) between the recording layers is 2 by the same calculation as above.
It was 4.5%. On the other hand, when the light absorption layer 4 is provided, as can be seen from the graph of FIG. 3, the light absorption rate of the recording layer is appropriately selected by appropriately selecting the refractive index n and the extinction coefficient k of the light absorption layer. The difference (A a −A c ) is, for example, less than “0”, that is, the light absorption coefficient A c in the crystalline state is changed to the light absorption rate A in the amorphous state.
can be greater than a . <Example 1> A phase change type optical disc having the layer structure shown in FIG. 2 was produced by the following procedure. First, it has a central hole, a diameter of 130 mm, a thickness of 1.2 mm, and a diameter of 1.6 on one side.
A light absorbing layer 4 made of Ti having a thickness of 10 nm is formed on the groove surface side of a disc-shaped polycarbonate resin substrate 1 having grooves with a pitch of μm, and a mixture of ZnS and SiO 2 (SiO 2
18% of the first protective layer 5 composed of
The recording layer 2 made of Sb-Te-Ge alloy having a thickness of 0 nm is 2
5 nm, a second protective layer 6 similar to the first protective layer 5
The reflective layer 3 made of Al and Al having a thickness of 150 nm was sequentially formed by a sputtering method of 150 nm, and a UV curable resin was laminated thereon by a spin coating method. This is designated as Sample No. 1-1. Further, as a comparative example, a phase change type optical disk having the same structure as the above except that the light absorption layer 4 made of Ti was not formed was manufactured. This is designated as sample No. 1-2.

【0025】なお、Tiは、前記層構成および膜厚によ
り、前記記録層における結晶状態の光吸収率Ac を非晶
質状態の光吸収率Aa より大きくすることができる屈折
率nと消衰係数kを有するものである。このようにして
得られた相変化型光ディスクの各サンプルを回転させな
がら、基板側からArイオンレーザビームを照射するこ
とにより記録層2全面を結晶状態にした。その後、駆動
装置にかけて1800rpmで回転させ、図4に示す波
形にピークパワー20mWとバイアスパワー10mWと
の間で強度変調された、波長が830nmのレーザビー
ムにより3MHzの信号を記録した後、8MHzの信号
を重ね書きし、この8MHzの信号のジッターを測定し
た。
Note that Ti has a refractive index n and a refractive index n that can make the light absorption coefficient A c in the recording layer in the crystalline state larger than the light absorption coefficient A a in the amorphous state depending on the layer structure and the film thickness. It has an extinction coefficient k. While rotating each sample of the phase-change optical disk thus obtained, the entire surface of the recording layer 2 was made into a crystalline state by irradiating the substrate with the Ar ion laser beam. After that, a driving device was rotated at 1800 rpm, and a signal of 3 MHz was recorded by a laser beam having a wavelength of 830 nm, which was intensity-modulated between a peak power of 20 mW and a bias power of 10 mW in the waveform shown in FIG. Was overwritten and the jitter of this 8 MHz signal was measured.

【0026】ジッターの測定結果は、光吸収層を備えた
No. 1−1のディスクでは3nsecであり、光吸収層
を備えない比較例のディスク(No. 1−2)では10n
secであった。ジッターの値は記録マークの長さのば
らつきや位置ずれ量に比例するため、この結果から、光
吸収層の存在により記録マークの長さのばらつきや位置
ずれ量が著しく減少することが分かる。 <実施例2>実施例1と同様のポリカーボネート樹脂基
板1の溝面側に、Auからなる光吸収層4を10nm、
ZnSとSiO2 の混合物(SiO2 の存在比20mo
l%)からなる第一の保護層5を110nm、Sb−T
e−Ge系合金からなる記録層2を11nm、第一の保
護層5と同様の第二の保護層6を20nm、Al−Ti
(Tiの存在比40原子%)からなる反射層3を150
nm順次スパッタリング法により形成し、その上にUV
硬化樹脂をスピンコート法により積層することにより、
図2に示す層構造の相変化型光ディスクを作製した。こ
れをサンプルNo. 2−1とする。
Jitter measurement results were obtained with a light absorption layer.
It was 3 nsec for the disk of No. 1-1 and 10 nsec for the disk of the comparative example (No. 1-2) without the light absorption layer.
It was sec. Since the jitter value is proportional to the variation in the length of the recording mark and the amount of misalignment, this result shows that the presence of the light absorption layer significantly reduces the variation in the length of the recording mark and the amount of misalignment. <Example 2> A light absorbing layer 4 made of Au having a thickness of 10 nm was formed on the groove surface side of the polycarbonate resin substrate 1 similar to Example 1.
Mixture of ZnS and SiO 2 (abundance ratio of SiO 2 20mo
1%) with a first protective layer 5 of 110 nm, Sb-T
The recording layer 2 made of an e-Ge alloy is 11 nm, the second protective layer 6 similar to the first protective layer 5 is 20 nm, and Al-Ti.
The reflective layer 3 made of (Ti abundance ratio of 40 atom%)
nm sequential sputtering method, and then UV
By stacking the cured resin by spin coating,
A phase change type optical disc having the layer structure shown in FIG. 2 was produced. This is designated as Sample No. 2-1.

【0027】また、比較例として、反射層3をAl−T
i(Tiの存在比40原子%)ではなくAuからなる同
一膜厚(150nm)のものとした以外は、前記と同様
の構成の相変化型光ディスクを作製した。これをサンプ
ルNo. 2−2とする。さらに、比較例として、Auから
なる光吸収層4を形成しないで、第一の保護層5、記録
層2、第二の保護層6、および反射層3はNo. 2−1と
同じ材料からなるが、膜厚が第一の保護層5は60n
m、記録層2は25nm、第二の保護層6は12nm、
および反射層3は150nmとした相変化型光ディスク
を、前記と同様にして作製した。これをサンプルNo. 2
−3とする。
As a comparative example, the reflective layer 3 is made of Al-T.
A phase change type optical disk having the same structure as that described above was manufactured except that the same film thickness (150 nm) made of Au was used instead of i (the abundance ratio of Ti was 40 atomic%). This is designated as Sample No. 2-2. Furthermore, as a comparative example, the first protective layer 5, the recording layer 2, the second protective layer 6, and the reflective layer 3 were made of the same material as No. 2-1 without forming the light absorption layer 4 made of Au. However, the thickness of the first protective layer 5 is 60 n
m, the recording layer 2 is 25 nm, the second protective layer 6 is 12 nm,
A phase change type optical disc having a reflection layer 3 of 150 nm was manufactured in the same manner as described above. This is sample No. 2
-3.

【0028】なお、各光吸収層4および反射層3を構成
する材料の熱伝導率については、AuおよびAl−Ti
(Tiの存在比40原子%)の薄膜をそれぞれガラス基
板に形成して測定したところ、Auは約300W/(m
・k)であり、Al−Ti(Tiの存在比40原子%)
は約4.5W/(m・k)であった。これらのサンプル
No. 2−1からNo. 2−3の相変化型光ディスクについ
て、記録膜での光吸収率を、入射光の波長を680nm
として光学計算により求めた。その結果を下記の表2に
示す。この表2において、AC は記録層が結晶状態での
光吸収率を示し、Aa は記録層が非晶質状態での光吸収
率を示す。
Regarding the thermal conductivity of the material forming each of the light absorption layer 4 and the reflection layer 3, Au and Al--Ti are used.
When thin films of (Ti abundance ratio 40 atomic%) were formed on glass substrates and measured, Au was about 300 W / (m
・ K) and Al-Ti (abundance ratio of Ti: 40 atomic%)
Was about 4.5 W / (m · k). These samples
For the No. 2-1 to No. 2-3 phase-change optical disks, the light absorption rate in the recording film was measured at the incident light wavelength of 680 nm.
Was calculated by optical calculation. The results are shown in Table 2 below. In Table 2, A C represents the light absorptance of the recording layer in the crystalline state, and A a represents the light absorptance of the recording layer in the amorphous state.

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】この表2から分かるように、光吸収層4を
設けたNo. 2−1とNo. 2−2では、記録層での光吸収
率が結晶状態での値AC の方が非晶質状態での値Aa
りも大きくなっている。これに対して、光吸収層4を設
けていないNo. 2−3では、記録層での光吸収率が結晶
状態での値AC よりも非晶質状態での値Aa の方が大き
くなっている。
As can be seen from Table 2, in No. 2-1 and No. 2-2 provided with the light absorption layer 4, the light absorption rate in the recording layer is less than the value A C in the crystalline state. It is larger than the value A a in the crystalline state. In contrast, in the No. 2-3 not provided a light-absorbing layer 4, it is larger towards the value A a in the amorphous state than the value A C of the light absorption rate in the crystalline state of the recording layer Has become.

【0031】また、これらの各サンプルを、前記実施例
1と同様にして記録層2全面を結晶状態にした後、駆動
装置にかけて1800rpmで回転させ、図4に示す波
形にピークパワー20mWとバイアスパワー10mWと
の間で強度変調された、波長が680nmのレーザビー
ムにより3MHzの信号を記録した後、8MHzの信号
を重ね書きし、この8MHzの信号のジッターを測定し
た。
Further, after making the entire surface of the recording layer 2 in a crystalline state in the same manner as in Example 1, the respective samples were rotated by a driving device at 1800 rpm, and a peak power of 20 mW and a bias power were obtained in the waveform shown in FIG. A 3 MHz signal was recorded by a laser beam having a wavelength of 680 nm and intensity-modulated between 10 mW, and then an 8 MHz signal was overwritten, and the jitter of the 8 MHz signal was measured.

【0032】ジッターの測定結果は、本発明の実施例に
相当するNo. 2−1のディスクでは3nsecであり、
比較例に相当するNo. 2−2のディスクでは15nse
cであり、同じく比較例に相当するNo. 2−3のディス
クでは10nsecであった。また、各サンプルに関
し、重ね書きにより記録された8MHzの再生信号のC
/N比(搬送波対雑音比)と、消去された3MHzの信
号の消去比とを調べたところ、No. 2−1のディスクで
は、8MHzの信号のC/N比が53dB、3MHzの
信号の消去比が40dBであり、共に高い値であった。
また、No. 2−2のディスクでは、3MHzの信号の消
去比が10dBと低い値であった。さらに、No. 2−3
のディスクでは、8MHzの信号のC/N比が50d
B、3MHzの信号の消去比が30dBであった。
The jitter measurement result is 3 nsec for the disk No. 2-1 corresponding to the embodiment of the present invention.
The disk No. 2-2 corresponding to the comparative example has 15 nse.
c, which was 10 nsec for the disks No. 2-3, which also corresponded to the comparative example. Also, for each sample, the C of the reproduced signal of 8 MHz recorded by overwriting
When the N / N ratio (carrier-to-noise ratio) and the erasing ratio of the erased 3 MHz signal were examined, it was found that in the No. 2-1 disk, the C / N ratio of the 8 MHz signal was 53 dB and that of the 3 MHz signal was 3 MHz. The erasing ratio was 40 dB, which were both high values.
Further, in the No. 2-2 disc, the erasing ratio of the signal of 3 MHz was a low value of 10 dB. Furthermore, No. 2-3
In case of the disk, the C / N ratio of 8MHz signal is 50d.
B, the erasing ratio of the 3 MHz signal was 30 dB.

【0033】ここで、No. 2−1とNo. 2−3とを比較
すると、前述のように、ジッターの値は記録マークの長
さのばらつきや位置ずれ量に比例するため、No. 2−3
のディスクでは光吸収層4を備えていないからジッター
が10nsecと大きく、No. 2−1では光吸収層4を
備えているからこの値が小さくなり、光吸収層の存在に
より記録マークの長さのばらつきや位置ずれ量が著しく
減少していることが分かる。
Here, comparing No. 2-1 and No. 2-3, as described above, the value of the jitter is proportional to the variation in the length of the recording mark and the amount of positional deviation. -3
No. 2-1 has a large jitter of 10 nsec because it does not have the light absorbing layer 4, and No. 2-1 has a small jitter because it has the light absorbing layer 4. Due to the presence of the light absorbing layer, the length of the recording mark becomes longer. It can be seen that the variation and the amount of positional deviation are significantly reduced.

【0034】また、No. 2−2のディスクは、No. 2−
1と同様に光吸収層4を備えたものであるにも関わら
ず、3MHzの信号の消去比が10dBと低い値とな
り、ジッターも15nsecと大きな値となったが、こ
れは、No. 2−2のディスクが、No. 2−1のディスク
とは異なり反射層3を光吸収層4と同じで熱伝導率のか
なり大きなAuとしたことによる。すなわち、記録層2
で発生した熱が第一および第二の保護層5,6を介し
て、Auからなる光吸収層4と反射層3とからかなり急
速に放熱されることによって、結晶化に必要な温度に十
分に保持されないため、消去が不十分になっていると考
えられる。そして、このように消去が不完全となったた
めに、ジッターが大きな値となってしまったと考えられ
る。
The disc No. 2-2 is No. 2-
Despite having the light absorption layer 4 as in No. 1, the erasing ratio of the signal of 3 MHz was as low as 10 dB, and the jitter was also as large as 15 nsec. This is because the disk No. 2 is different from the disk No. 2-1 in that the reflective layer 3 is the same as the light absorption layer 4 and is Au having a considerably large thermal conductivity. That is, the recording layer 2
The heat generated in 2) is radiated from the light absorption layer 4 made of Au and the reflection layer 3 through the first and second protective layers 5 and 6 fairly rapidly, so that the temperature required for crystallization is sufficiently high. It is considered that the erasure is not sufficient because it is not retained in. It is considered that the incomplete erasing in this way resulted in a large jitter value.

【0035】以上のように、この実施例2の結果から、
光吸収層の存在により記録マークの不揃いが著しく減少
するとともに、光吸収層と反射層とを熱伝導率が異なる
適切な組み合わせで構成することにより、C/N比と消
去比を共に高くして、記録と消去との両立を図ることが
できることが分かる。 <実施例3>実施例1と同様のポリカーボネート樹脂基
板1の溝面側に、Geからなる光吸収層4を40nm、
ZnSとSiO2 の混合物(SiO2 の存在比20mo
l%)からなる第一の保護層5を150nm、Sb−T
e−Ge系合金からなる記録層2を15nm、第一の保
護層5と同様の第二の保護層6を40nm、Alからな
る反射層3を150nm順次スパッタリング法により形
成し、その上にUV硬化樹脂をスピンコート法により積
層することにより、図2に示す層構造の相変化型光ディ
スクを作製した。これをサンプルNo. 3−1とする。
As described above, from the result of the second embodiment,
The presence of the light absorbing layer significantly reduces the irregularity of the recording marks, and the light absorbing layer and the reflecting layer are formed of an appropriate combination having different thermal conductivities to increase both the C / N ratio and the erasing ratio. It can be seen that both recording and erasing can be achieved. <Example 3> On the groove surface side of the polycarbonate resin substrate 1 similar to Example 1, the light absorption layer 4 made of Ge is 40 nm,
Mixture of ZnS and SiO 2 (abundance ratio of SiO 2 20mo
1% of the first protective layer 5 with a thickness of 150 nm, Sb-T
A recording layer 2 made of an e-Ge alloy is formed to have a thickness of 15 nm, a second protective layer 6 similar to the first protective layer 5 is formed to have a thickness of 40 nm, and a reflective layer 3 made of Al is formed to have a thickness of 150 nm in this order by a sputtering method. A phase-change type optical disc having a layer structure shown in FIG. 2 was produced by laminating cured resins by spin coating. This is designated as Sample No. 3-1.

【0036】また、比較例として、反射層3をAlでは
なくGeからなる同一膜厚(150nm)のものとした
以外は、前記と同様の構成の相変化型光ディスクを作製
した。これをサンプルNo. 3−2とする。さらに、比較
例として、Geからなる光吸収層4を形成しない以外
は、No. 3−1と同じ構成の相変化型光ディスクを、前
記と同様にして作製した。これをサンプルNo. 3−3と
する。
Further, as a comparative example, a phase change type optical disk having the same structure as described above was manufactured except that the reflection layer 3 was made of Ge instead of Al and had the same film thickness (150 nm). This is designated as Sample No. 3-2. Further, as a comparative example, a phase change type optical disk having the same configuration as No. 3-1 except that the light absorption layer 4 made of Ge was not formed was produced in the same manner as described above. This is designated as Sample No. 3-3.

【0037】なお、各光吸収層4および反射層3を構成
する材料である熱伝導率は、文献値でGeが約60W/
(m・k)であり、Alが約200W/(m・k)であ
った。これらの各サンプルについて、前記実施例1と同
様にして記録層2全面を結晶状態にした後、前記実施例
2と同様にして、波長が680nmのレーザビームによ
り3MHzの信号を記録した後に8MHzの信号を重ね
書きし、この8MHzの信号のジッターを測定した。ま
た、各サンプルに関し、重ね書きにより記録された8M
Hzの再生信号のC/N比(搬送波対雑音比)と、消去
された3MHzの信号の消去比とを調べた。
The thermal conductivity, which is a material forming each of the light absorption layer 4 and the reflection layer 3, is about 60 W / Ge in the literature value.
(M · k) and Al was about 200 W / (m · k). With respect to each of these samples, after the entire surface of the recording layer 2 was crystallized in the same manner as in Example 1, a signal of 3 MHz was recorded by a laser beam having a wavelength of 680 nm and then 8 MHz was recorded in the same manner as in Example 2. The signals were overwritten and the jitter of this 8 MHz signal was measured. 8M recorded by overwriting for each sample
The C / N ratio (carrier-to-noise ratio) of the reproduced signal of Hz and the erase ratio of the erased 3 MHz signal were examined.

【0038】ジッターの測定結果は、本発明の実施例に
相当するNo. 3−1のディスクでは3nsecであり、
比較例に相当するNo. 3−2のディスクでは25nse
cであり、同じく比較例に相当するNo. 3−3のディス
クでは10nsecであった。また、No. 3−1のディ
スクでは、8MHzの信号のC/N比が50dB、3M
Hzの信号の消去比が40dBであり、共に高い値であ
った。また、No. 3−2のディスクでは、8MHzの信
号のC/N比が30dBと低い値であった。さらに、N
o. 3−3のディスクでは、8MHzの信号のC/N比
が50dB、3MHzの信号の消去比が28dBであっ
た。
The measurement result of the jitter is 3 nsec for the disk No. 3-1 corresponding to the embodiment of the present invention.
The disk No. 3-2 corresponding to the comparative example is 25 nse.
c, which was 10 nsec for the disk No. 3-3 corresponding to the comparative example. In the case of No. 3-1 disc, the C / N ratio of 8 MHz signal is 50 dB, 3M.
The elimination ratio of the Hz signal was 40 dB, which were both high values. Further, in the disk of No. 3-2, the C / N ratio of the 8 MHz signal was a low value of 30 dB. Furthermore, N
In the disk No. 3-3, the C / N ratio of the 8 MHz signal was 50 dB and the erasing ratio of the 3 MHz signal was 28 dB.

【0039】ここで、No. 3−1とNo. 3−3とを比較
すると、前述のように、ジッターの値は記録マークの長
さのばらつきや位置ずれ量に比例するため、No. 3−3
のディスクでは光吸収層4を備えていないからジッター
が10nsecと大きく、No. 3−1では光吸収層4を
備えているからこの値が小さくなり、光吸収層の存在に
より記録マークの長さのばらつきや位置ずれ量が著しく
減少していることが分かる。
Here, comparing No. 3-1 and No. 3-3, as described above, the value of jitter is proportional to the variation in the length of the recording mark and the amount of positional deviation, and therefore No. 3 -3
No. 3-1 has a large jitter of 10 nsec because it does not have the light absorbing layer 4, and No. 3-1 has a small jitter because it has the light absorbing layer 4, and the presence of the light absorbing layer reduces the length of the recording mark. It can be seen that the variation and the amount of positional deviation are significantly reduced.

【0040】また、No. 3−2のディスクは、No. 3−
1と同様に光吸収層4を備えたものであるにも関わら
ず、3MHzの信号のC/N比が30dBと低い値とな
り、ジッターも25nsecと大きな値となったが、こ
れは、No. 3−2のディスクが、No. 3−1のディスク
とは異なり反射層3を光吸収層4と同じで熱伝導率のか
なり小さなGeとしたことによる。すなわち、記録層2
で発生した熱が第一および第二の保護層5,6を介し
て、Geからなる光吸収層4と反射層3とから放熱され
るがその量が少ないために、記録層の非晶質化に十分な
冷却速度が得られないで、記録が不十分になっていると
考えられる。そして、このように記録が不完全となった
ために、ジッターが大きな値となってしまったと考えら
れる。
The disk No. 3-2 is No. 3-
Despite having the light absorption layer 4 as in No. 1, the C / N ratio of the signal at 3 MHz was as low as 30 dB, and the jitter was as large as 25 nsec. This is because the disk No. 3-2, unlike the disk No. 3-1, uses Ge, which has the same reflective layer 3 as the light absorption layer 4 and has a considerably small thermal conductivity. That is, the recording layer 2
The heat generated in (1) is radiated from the light absorption layer 4 made of Ge and the reflection layer 3 through the first and second protective layers 5 and 6, but the amount thereof is small. It is considered that the recording was insufficient because the cooling rate was not sufficient to achieve this. Then, it is considered that the jitter became a large value because the recording was incomplete in this way.

【0041】以上のように、この実施例3の結果から、
光吸収層の存在により記録マークの不揃いが著しく減少
するとともに、光吸収層と反射層とを熱伝導率が異なる
適切な組み合わせで構成することにより、C/N比と消
去比を共に高くして、記録と消去との両立を図ることが
できることが分かる。
As described above, from the results of the third embodiment,
The presence of the light absorbing layer significantly reduces the irregularity of the recording marks, and the light absorbing layer and the reflecting layer are formed of an appropriate combination having different thermal conductivities to increase both the C / N ratio and the erasing ratio. It can be seen that both recording and erasing can be achieved.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、透明な基板と、この基板の一方の面に形成された、
光照射により結晶状態と非晶質状態との間の相変化が可
逆的になされる材料からなる記録層と、この記録層の前
記基板とは反対側の面に形成された反射層とを少なくと
も備えた光情報記録媒体において、基板と記録層との間
に光吸収層を設け、さらにこの光吸収層を構成する材料
を前記反射層とは異なる熱伝導率を有するものとするこ
とにより、単一ビームによるオーバーライトであって
も、情報信号に忠実な記録マークを記録層に形成するこ
とが可能となるとともに、記録と消去とが共に高い性能
で達成されることにより、高密度記録に対応できる光情
報記録媒体を提供することができる。
As described above, according to the present invention, a transparent substrate and one surface of the substrate,
At least a recording layer made of a material in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state is reversibly caused by light irradiation, and a reflective layer formed on a surface of the recording layer opposite to the substrate. In the provided optical information recording medium, a light absorbing layer is provided between the substrate and the recording layer, and the material forming the light absorbing layer has a thermal conductivity different from that of the reflecting layer. Even with overwriting by one beam, it is possible to form a recording mark faithful to the information signal in the recording layer, and both recording and erasing can be achieved with high performance, so high density recording is supported. An optical information recording medium capable of being provided can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光情報記録媒体が有する層構造の一例
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a layer structure of an optical information recording medium of the present invention.

【図2】本発明の光情報記録媒体が有する層構造の一例
を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure of the optical information recording medium of the present invention.

【図3】<参考例>に関し、非晶質状態と結晶質状態と
における記録層の光吸収率差(Aa −Ac )の値を、光
吸収層をなす材料の屈折率nと消衰係数kとの関係にお
いて示すグラフである。
FIG. 3 relates to <Reference Example>, in which the value of the light absorption difference (A a −A c ) of the recording layer between the amorphous state and the crystalline state is compared with the refractive index n of the material forming the light absorption layer. It is a graph shown in relation to the extinction coefficient k.

【図4】<実施例1>から<実施例3>に関し、記録に
用いたレーザ光の強度変調波形を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing an intensity modulation waveform of a laser beam used for recording in <Example 1> to <Example 3>.

【図5】従来の光情報記録媒体が有する層構造の一例を
示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing an example of a layer structure of a conventional optical information recording medium.

【図6】従来の光情報記録媒体が有する層構造の一例を
示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a layer structure of a conventional optical information recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 記録層 3 反射層 4 光吸収層 1 substrate 2 recording layer 3 reflective layer 4 light absorbing layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明な基板と、この基板の一方の面に形
成された、光照射により結晶状態と非晶質状態との間の
相変化が可逆的になされる材料からなる記録層と、この
記録層の前記基板とは反対側の面に形成された反射層と
を少なくとも備えた光情報記録媒体において、前記基板
と記録層との間に、前記反射層とは異なる熱伝導率を有
する光吸収性材料からなる光吸収層を設けたことを特徴
とする光情報記録媒体。
1. A transparent substrate, and a recording layer formed on one surface of the substrate and made of a material capable of reversibly changing a phase between a crystalline state and an amorphous state by light irradiation. In an optical information recording medium having at least a reflective layer formed on the surface of the recording layer opposite to the substrate, a thermal conductivity different from that of the reflective layer is provided between the substrate and the recording layer. An optical information recording medium comprising a light absorbing layer made of a light absorbing material.
【請求項2】 前記光吸収層が、金属、半金属、あるい
は半導体からなることを特徴とする請求項1記載の光情
報記録媒体。
2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the light absorption layer is made of a metal, a semimetal, or a semiconductor.
【請求項3】 前記光吸収層が、Al、Ti、Cr、N
i、Cu、Si、Ge、Ag、Au、Pd、Ga、S
e、In、Sn、Sb、Te、Pb、およびBiからな
る群より選ばれた元素、あるいはこの群より選ばれた元
素を含む合金からなることを特徴とする請求項2記載の
光情報記録媒体。
3. The light absorption layer comprises Al, Ti, Cr, N
i, Cu, Si, Ge, Ag, Au, Pd, Ga, S
3. The optical information recording medium according to claim 2, comprising an element selected from the group consisting of e, In, Sn, Sb, Te, Pb, and Bi, or an alloy containing an element selected from this group. .
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0921419A1 (en) * 1997-12-08 1999-06-09 Commissariat A L'energie Atomique Light absorbant coating with high absorption
EP0945860A2 (en) * 1998-03-26 1999-09-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for recording and reproducing information thereon
EP0965984A1 (en) * 1997-02-28 1999-12-22 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Phase-changeable optical recording medium, method of manufacturing the same, and method of recording information on the same
EP1052631A2 (en) * 1999-05-12 2000-11-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon
EP1065663A2 (en) * 1999-06-30 2001-01-03 Sony Corporation Optical recording medium
US6268034B1 (en) 1998-08-05 2001-07-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for producing the same, method for recording and reproducing information thereon and recording/reproducing apparatus
US6343062B1 (en) 1997-09-26 2002-01-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Optical disk device and optical disk for recording and reproducing high-density signals
US6388984B2 (en) 1997-08-28 2002-05-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and its recording and reproducing method
US6469977B2 (en) 1999-12-20 2002-10-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon
US6503690B1 (en) 1997-08-12 2003-01-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method for recording and reproducing optical information
EP1293974A1 (en) * 2000-06-16 2003-03-19 Mitsubishi Chemical Corporation Optical information recording medium
US6821707B2 (en) 1996-03-11 2004-11-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, producing method thereof and method of recording/erasing/reproducing information

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7037413B1 (en) 1996-03-11 2006-05-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, producing method thereof and method of recording/erasing/reproducing information
US6821707B2 (en) 1996-03-11 2004-11-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, producing method thereof and method of recording/erasing/reproducing information
EP0965984A4 (en) * 1997-02-28 2005-01-19 Asahi Chemical Ind Phase-changeable optical recording medium, method of manufacturing the same, and method of recording information on the same
EP0965984A1 (en) * 1997-02-28 1999-12-22 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Phase-changeable optical recording medium, method of manufacturing the same, and method of recording information on the same
US6335069B1 (en) 1997-02-28 2002-01-01 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Phase-changeable optical recording medium, method of manufacturing the same, and method of recording information on the same
US6503690B1 (en) 1997-08-12 2003-01-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method for recording and reproducing optical information
US6388984B2 (en) 1997-08-28 2002-05-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and its recording and reproducing method
US6343062B1 (en) 1997-09-26 2002-01-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Optical disk device and optical disk for recording and reproducing high-density signals
FR2772141A1 (en) * 1997-12-08 1999-06-11 Commissariat Energie Atomique HIGH ABSORBING LIGHT ABSORBING COATING
EP0921419A1 (en) * 1997-12-08 1999-06-09 Commissariat A L'energie Atomique Light absorbant coating with high absorption
EP0945860A3 (en) * 1998-03-26 2000-01-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for recording and reproducing information thereon
EP0945860A2 (en) * 1998-03-26 1999-09-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for recording and reproducing information thereon
US6477135B1 (en) 1998-03-26 2002-11-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for recording and reproduction information thereon
US6268034B1 (en) 1998-08-05 2001-07-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for producing the same, method for recording and reproducing information thereon and recording/reproducing apparatus
EP1052631A3 (en) * 1999-05-12 2003-01-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon
US6660356B1 (en) 1999-05-12 2003-12-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon
EP1052631A2 (en) * 1999-05-12 2000-11-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon
EP1065663A3 (en) * 1999-06-30 2002-02-06 Sony Corporation Optical recording medium
EP1065663A2 (en) * 1999-06-30 2001-01-03 Sony Corporation Optical recording medium
US6469977B2 (en) 1999-12-20 2002-10-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium, method for producing the same, and method and apparatus for recording/reproducing information thereon
EP1293974A1 (en) * 2000-06-16 2003-03-19 Mitsubishi Chemical Corporation Optical information recording medium
US6723410B2 (en) 2000-06-16 2004-04-20 Mitsubishi Chemical Corporation Optical recording medium
EP1293974A4 (en) * 2000-06-16 2005-05-25 Mitsubishi Chem Corp Optical information recording medium

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