JPH07220303A - Phase change type disk medium - Google Patents

Phase change type disk medium

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JPH07220303A
JPH07220303A JP6011200A JP1120094A JPH07220303A JP H07220303 A JPH07220303 A JP H07220303A JP 6011200 A JP6011200 A JP 6011200A JP 1120094 A JP1120094 A JP 1120094A JP H07220303 A JPH07220303 A JP H07220303A
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JP
Japan
Prior art keywords
recording
layer
reflective layer
thickness
protective layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6011200A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Okamura
立也 岡村
Masato Terada
正人 寺田
Kazuyuki Furuya
一之 古谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP6011200A priority Critical patent/JPH07220303A/en
Publication of JPH07220303A publication Critical patent/JPH07220303A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain good recording density, good recording and erasing characteristics and repetive characteristics for repetition of use even for fast line speed by forming a reflection layer of an alloy essentially comprising Ti and Al with specified compsn. and forming a recording layer of SbTeGe alloy with specified compsn. on a substrate. CONSTITUTION:A protective layer 2 comprising ZnS-SiO2, recording layer 1 comprising Sb21Te54Ge25 alloy, protective layer 3 comprising ZnS-SiO2, and reflection layer 5 comprising AlTi alloy are successively formed by sputtering on a polycarbonate substrate 4 having guide grooves. Further, the surface of the reflection layer 5 is coated with a UV-curing resin to obtain a phase ' type optical disk. The amt. of Al in the reflection layer 5 is 10-80 at.%. The compsn. ratio of elements in the recording layer is selected from a specified square region in the ternary diagram for Sb, Te and Ge. The region is defined by four points A(Sb32Te58Ge10), B(Sb34T56Ge10), C(Sb10Te50Ge40), and D(Sb8Te52Ge40).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザービーム等によ
り情報を記録、消去、再生できる光学情報記録媒体に関
するもので、特に線速度8〜20m/sといった速い線
速度においても高い記録感度および良好な記録、消去特
性を有し、さらに繰り返し特性も良好な相変化型光ディ
スクに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording, erasing and reproducing information by a laser beam or the like, and particularly has high recording sensitivity and good even at a high linear velocity of 8 to 20 m / s. The present invention relates to a phase-change type optical disc having excellent recording and erasing characteristics and good repeating characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスクに代表される光情報記録媒体
は、高密度で大容量であることから注目され、これまで
にも様々な用途で使用されている。例えば、再生専用の
光ディスクとしては、音楽を再生するコンパクトディス
クやデータ再生専用のCD−ROM等があり、音楽分
野、コンピュータ分野、ゲーム分野等において広く使用
されている。また、一回だけ記録可能で消去はできない
追記型光ディスクとしては、文書ファイリングシステ
ム、データファイリングシステム等に利用されている。
2. Description of the Related Art Optical information recording media typified by optical discs have attracted attention because of their high density and large capacity, and have been used for various purposes up to now. For example, as a reproduction-only optical disc, there are a compact disc for reproducing music, a CD-ROM for reproducing data, and the like, which are widely used in the music field, computer field, game field, and the like. A write-once optical disc that can be recorded only once and cannot be erased is used in a document filing system, a data filing system, and the like.

【0003】さらに、記録された情報の消去と再記録が
できる書換え可能型光ディスクは、データの修復や更新
が可能であるとともに、書換えによって繰り返し使用で
きるため、光ディスクの用途拡大に貢献するものとして
期待されている。このような書換え可能型光ディスクと
しては、これまでに光磁気型ディスクや相変化型ディス
クが実用化されており、データファイル等に使用されて
いる。
Furthermore, a rewritable optical disk capable of erasing recorded information and re-recording it can be used for recovering and updating data, and can be repeatedly used by rewriting, which is expected to contribute to the expansion of applications of the optical disk. Has been done. As such a rewritable optical disk, a magneto-optical disk and a phase change disk have been put into practical use so far and used for data files and the like.

【0004】光磁気型ディスクは磁気光学効果(カー回
転効果)を用いて情報を記録するのに対し、相変化型デ
ィスクは結晶とアモルファスの2状態を可逆的に相変化
させることによって情報が記録される。結晶状態をアモ
ルファス状態にするには物質を融点以上の温度に上げ溶
融させた後、一気に冷却させることにより行なわれる。
また、結晶状態にするには結晶化温度以上の温度で結晶
化に必要な時間以上保持されることにより結晶化され
る。相変化型の光ディスクでは、この2状態はレーザの
照射強度だけで可逆的に相変化可能であるため、書換時
に一度消去をしなくてもそのまま重ね書き(オーバーラ
イト)ができるという利点がある。
The magneto-optical disk records information by using the magneto-optical effect (Kerr rotation effect), whereas the phase-change disk records information by reversibly changing the two states of crystalline and amorphous. To be done. The crystalline state is changed to an amorphous state by heating the substance to a temperature equal to or higher than the melting point and melting the substance, and then cooling the substance all at once.
Further, in order to bring it into a crystalline state, it is crystallized by being kept at a temperature equal to or higher than the crystallization temperature for a time necessary for crystallization. In the phase change type optical disk, these two states can reversibly change the phase only by the irradiation intensity of the laser, so that there is an advantage that overwriting can be performed as it is without erasing once at the time of rewriting.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の相変化型光ディスクにおいては、アモルファ
ス化に必要なレーザパワーが、盤面上で15mW以上も
必要とし、さらに線速度を速くする(回転数を上げる)
と、通常市販されているレーザでは十分な記録ができな
くなるという不具合があった。
However, in such a conventional phase change type optical disk, the laser power required for amorphization needs to be 15 mW or more on the plate surface, and the linear velocity is further increased (rotation speed). Raise)
Then, there is a problem that it is not possible to perform sufficient recording with a commercially available laser.

【0006】光ディスクシステムに対する要求は、ます
ます高速化が求められており、それに伴い、光ディスク
媒体もより高線速化、すなわち速い回転数にまで対応で
きる媒体の開発が急務となっている。光ディスク媒体と
しては、盤面上のレーザ照射強度が15mW以下で記録
・消去できる高感度な媒体が、ドライブに用いられる半
導体レーザの観点より望ましい。
The demand for optical disc systems is ever increasing, and accordingly, there is an urgent need to develop a medium capable of achieving higher linear velocities, that is, higher rotational speeds. As the optical disk medium, a highly sensitive medium capable of recording / erasing at a laser irradiation intensity of 15 mW or less on the plate surface is preferable from the viewpoint of the semiconductor laser used in the drive.

【0007】こうした要求に対し、一般的に、反射層側
の保護層の膜厚を厚くする、あるいは反射層の膜厚を薄
くすると高感度化できることが知られているが、各層の
膜厚のみで高感度化すると、感度は良くなるものの、消
去比が低下する、また繰り返し耐久性が低下するといっ
た現象が発生し好ましくない。本発明は、反射層に用い
られる材料の物性と記録膜組成とを特定し組み合わせる
事により、従来の問題を解決するためのものであり、従
来までの線速度より速い線速度である8〜20m/sに
おいても良好に記録・消去でき、さらに繰り返し耐久性
にも優れた相変化型光ディスク媒体を提供することを目
的とする。
In response to such a demand, it is generally known that the sensitivity can be increased by increasing the thickness of the protective layer on the reflection layer side or by decreasing the thickness of the reflection layer. If the sensitivity is increased by, the sensitivity is improved, but the phenomenon that the erasing ratio is decreased and the durability is repeatedly deteriorated is not preferable. The present invention is to solve the conventional problem by specifying and combining the physical properties of the material used for the reflective layer and the composition of the recording film, and the linear velocity is 8 to 20 m, which is higher than the conventional linear velocity. It is an object of the present invention to provide a phase change type optical disk medium which can be recorded / erased well even at / s and which is excellent in repeated durability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、反射層の
材料を特定することにより、8〜20m/sといった速
い線速度においても記録及び消去が良好に行えることを
見いだし、本発明を完成させた。すなわち、本発明は良
好な記録、消去、再生が可能な相変化型光ディスク媒体
に関するものであり、特に線速度が8〜20m/sとい
った速い線速度において、記録、消去、再生に適し、さ
らに繰り返し耐久性にも優れた媒体に関するものであ
る。
The present inventors have found that by specifying the material of the reflective layer, recording and erasing can be satisfactorily performed even at a high linear velocity of 8 to 20 m / s. Completed That is, the present invention relates to a phase-change type optical disk medium capable of excellent recording, erasing and reproducing, and is suitable for recording, erasing and reproducing particularly at a high linear velocity of 8 to 20 m / s, and further repeats. The present invention relates to a medium having excellent durability.

【0009】本発明の相変化型光ディスクは基板上に少
なくとも記録層および反射層を有する構造で、該反射層
がTiおよびAlを主成分とし、かつAlの含有量が原
子量比で10〜80at%であることを特徴とするもの
である。本発明の記録層を構成する材料としては、カル
コゲン化合物が好適であり、特にSbTeGe系材料
は、高速消去が可能で、かつアモルファス状態の安定性
に優れているため最適な材料である。SbTeGe系材
料において、特にSbとTeとGeを頂点とする三角図
において原子量比でA(Sb32Te58Ge10)、B(S
34Te56Ge10)、 C(Sb10Te50Ge40)、D
(Sb8 Te52Ge40)に囲まれた4角形の内側にある
組成は、結晶化スピードが速いため結晶化しやすく、特
に8〜20m/sといった速い線速度での消去特性の点
で優れている(図1)。
The phase-change optical disk of the present invention has a structure having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, the reflective layer containing Ti and Al as main components, and the content of Al being 10 to 80 at% in atomic weight ratio. It is characterized by being. As a material forming the recording layer of the present invention, a chalcogen compound is preferable, and in particular, a SbTeGe-based material is an optimum material because it can be erased at high speed and has excellent stability in an amorphous state. In the SbTeGe-based material, particularly in the triangular diagram with Sb, Te, and Ge as the vertices, A (Sb 32 Te 58 Ge 10 ), B (S
b 34 Te 56 Ge 10 ), C (Sb 10 Te 50 Ge 40 ), D
The composition inside the quadrangle surrounded by (Sb 8 Te 52 Ge 40 ) is easy to crystallize because of its high crystallization speed, and is particularly excellent in erasing characteristics at a high linear velocity of 8 to 20 m / s. (Fig. 1).

【0010】本発明の相変化型光ディスクにおいては、
記録層の酸化等の経時変化を防ぐために記録層の上下に
保護層を設けることが望ましい。この保護層の材料とし
ては、一般にSi0X 、Al2 3 、ZnO2 、Ta2
3 、Si3 4 、AlN、ZnSまたはSiC等の金
属または半金族の酸化物、フッ化物、窒化物、硫化物、
炭化物およびホウ化物や金属等の無機物あるいは有機
物、さらにはこれらの混合物や混合材料が挙げられる。
In the phase change type optical disk of the present invention,
It is desirable to provide protective layers above and below the recording layer in order to prevent aging of the recording layer, such as oxidation. A material for the protective layer, typically Si0 X, Al 2 O 3, ZnO 2, Ta 2
O 3, Si 3 N 4, AlN, ZnS or a metal or semi-metal oxides such as SiC, fluorides, nitrides, sulfides,
Inorganic or organic substances such as carbides and borides and metals, as well as mixtures and mixed materials of these.

【0011】本発明のディスク構造においては、その層
構成を図2に示すように、記録層1の両側を保護層2、
3で挟み、光入射側(透明基板4側)の反対側に熱拡散
層をかねた反射層5を設けた4層構造にすることが好ま
しい。基板4側の保護層2の膜厚は、記録膜の保護、基
板の熱変形の防止を目的とし、さらに反射率およびコン
トラストの観点より50〜300nmの膜厚とするのが
好ましい。記録層1はコントラストの点より膜厚15〜
35nmが良い。反射層側の保護層3は、消去特性の観
点から15nm以下が好ましく、記録感度および成膜さ
れた薄膜が島状でなく安定な層状に存在するために3n
m以上が良い。反射層5は記録感度の観点で250nm
以下が好ましく、繰り返し耐久性の観点から100nm
以上が好ましい。
In the disc structure of the present invention, as shown in FIG. 2, the layer structure is such that the protective layer 2 is provided on both sides of the recording layer 1,
It is preferable to have a four-layer structure in which a reflective layer 5 also serving as a heat diffusion layer is provided on the side opposite to the light incident side (transparent substrate 4 side). The thickness of the protective layer 2 on the substrate 4 side is preferably 50 to 300 nm from the viewpoints of reflectance and contrast for the purpose of protecting the recording film and preventing thermal deformation of the substrate. The recording layer 1 has a film thickness of 15 to 15 from the viewpoint of contrast.
35 nm is good. The protective layer 3 on the reflective layer side preferably has a thickness of 15 nm or less from the viewpoint of erasing properties, and has a recording sensitivity and a film thickness of 3 n because the thin film formed is not in an island shape but in a stable layer shape.
m or more is good. The reflective layer 5 has a recording sensitivity of 250 nm.
The following is preferable, and 100 nm from the viewpoint of repeated durability.
The above is preferable.

【0012】以下本発明を詳細に説明する。書換可能な
相変化型光ディスクでは、結晶とアモルファス間の光学
定数の違いを利用して情報を記録再生する。アモルファ
ス状態を結晶状態にするには、ある一定温度(結晶化温
度)以上を、ある一定時間(結晶化時間)保持すること
によって行い、また、アモルファス状態にするには物質
を融点以上に熱し一度溶融させた後、一気に冷やすこと
により行なわれる。
The present invention will be described in detail below. In a rewritable phase change type optical disc, information is recorded / reproduced by utilizing the difference in optical constant between crystal and amorphous. To change the amorphous state to the crystalline state, hold it at a certain temperature (crystallization temperature) or more for a certain period of time (crystallization time). To make the amorphous state, heat the substance to the melting point or higher. After melting, it is performed by cooling at once.

【0013】光ディスクシステムの高速化に伴い、記録
再生の線速度を速くすると、ディスクに対してレーザビ
ームがすぐ通過してしまい、レーザの滞留時間が短くな
るため融点以上の温度になりにくく、アモルファス化し
にくくなる(記録しにくくなる)という現象が生じる。
ドライブに使用される半導体レーザを考慮すると、高線
速でも低いレーザ照射強度で記録および消去できる媒体
が好ましく、一般的な30mW程度のレーザを使用すれ
ば、マージンを考慮して盤面上で12mWで十分記録で
きることが条件となる。ここで、搬送波対雑音比(C/
N比)が40dB以上となるのに最低必要な記録パワー
を記録感度と定義すると、12mWで十分記録できるよ
うにするには記録感度を8mW以下にする必要がある。
When the recording / reproducing linear velocity is increased with the increase in the speed of the optical disc system, the laser beam immediately passes through the disc, and the residence time of the laser is shortened. The phenomenon that it becomes difficult to record (difficult to record) occurs.
Considering the semiconductor laser used in the drive, it is preferable to use a medium that can record and erase with a low laser irradiation intensity even at a high linear velocity. If a general laser of about 30 mW is used, the margin is taken into account at 12 mW on the board surface. Sufficient recording is required. Here, the carrier-to-noise ratio (C /
If the minimum recording power required for the (N ratio) to be 40 dB or more is defined as the recording sensitivity, the recording sensitivity needs to be 8 mW or less in order to sufficiently record at 12 mW.

【0014】この記録感度は、光ディスク媒体を構成し
ている各層の材料、膜厚、膜質等によって変化するが、
図2のような4層構造においては、保護層3の膜厚およ
び反射層5の膜厚を変化させるのが簡便である。反射層
材料として通常よく用いられているAlやAuといった
熱伝導率の高い材料を反射層に用いて、速い線速度にお
いて特性評価を行なった場合、レーザの滞留時間が短
く、なおかつ反射層に熱が逃げ易いため、高感度が難し
く、保護層3の膜厚を厚くしたり、反射層5の膜厚を薄
くすることにより熱を反射層に逃げにくくするなどの手
段がとられる。しかし、保護層3の膜厚を厚くするとレ
ーザの進行方向と垂直な方向へも熱がこもり易くなるた
め、記録時にアモルファスの領域が横に広がりやすく、
消去時に消せる幅よりも太いアモルファス領域になって
しまうため、アモルファス残りが生じ、消し残りが大き
くなるといった不具合が生じる(図3)。消し残りを少
なく抑えたまま高感度化をはかるために、保護層3の膜
厚を薄く、かつ反射層5の膜厚を薄くすることを試みた
が、Alのように熱伝導率が高い材料を反射層5に用い
ると、20nm程度の膜厚でも消去比が20dB以上か
つ記録感度が8mW以下となる特性範囲は存在せず、記
録と消去の両立は困難である。
This recording sensitivity changes depending on the material, film thickness, film quality, etc. of each layer constituting the optical disk medium.
In the four-layer structure as shown in FIG. 2, it is easy to change the film thickness of the protective layer 3 and the film thickness of the reflective layer 5. When a material having a high thermal conductivity such as Al or Au which is commonly used as a reflective layer material is used for the reflective layer and characteristics are evaluated at a high linear velocity, the residence time of the laser is short and Since it is easy to escape, high sensitivity is difficult, and measures such as increasing the film thickness of the protective layer 3 or reducing the film thickness of the reflective layer 5 to make it difficult for heat to escape to the reflective layer are taken. However, if the thickness of the protective layer 3 is increased, heat is more likely to remain in the direction perpendicular to the laser traveling direction, so that the amorphous region is likely to spread laterally during recording,
Since the amorphous region becomes thicker than the width that can be erased at the time of erasing, there is a problem that amorphous residue occurs and the erase residue becomes large (FIG. 3). In order to increase the sensitivity while suppressing the unerased residue, an attempt was made to reduce the thickness of the protective layer 3 and the reflection layer 5, but a material having a high thermal conductivity such as Al. When is used for the reflective layer 5, there is no characteristic range where the erasing ratio is 20 dB or more and the recording sensitivity is 8 mW or less even with a film thickness of about 20 nm, and it is difficult to achieve both recording and erasing.

【0015】本発明者らは、反射層5の材料として熱伝
導率の低い材料を用いることにより保護層3の膜厚が薄
くても反射層5の膜厚が厚いまま記録感度を良くでき、
記録と消去の両立が可能であると考え、本発明をなすに
至った。すなわち、反射層の材料をAlとTiの合金か
ら成り、Alの原子量比が10〜80at%のものを用
いることにより、熱伝導率を3×10-2calcm -1s -1K
-1以下とすることができた。その結果、保護層3の膜厚
が薄いまま記録感度を良くすることができ、良好な記録
・消去特性の両立を可能とした。さらに、反射層の膜厚
を100nm以上とすることができるため、繰り返し耐
久性も強いメディアが提供できる。
The inventors of the present invention have conducted heat transfer as a material for the reflective layer 5.
By using a material with low conductivity, the thickness of the protective layer 3 is thin.
Even if the thickness of the reflective layer 5 is large, the recording sensitivity can be improved,
It is thought that both recording and erasing can be achieved at the same time.
I arrived. That is, is the material of the reflective layer an alloy of Al and Ti?
And the atomic weight ratio of Al is 10-80 at%
The thermal conductivity is 3 × 10-2calcm-1s-1K
-1Could be: As a result, the thickness of the protective layer 3
The recording sensitivity can be improved while the thickness is thin, and good recording is possible.
・ Achieved compatibility of erasing characteristics. Furthermore, the thickness of the reflective layer
Of 100 nm or more
We can provide media with long lastingness.

【0016】一方、反射層材料の熱伝導率が8×10-3
calcm -1s -1K -1以下では、消去率の低下および繰り返
し耐久性に劣化がみられ好ましくない。これらの現象
は、特に10m/s以下の低線速側においてその低下が
顕著である。これらの結果、特に8〜20m/sといっ
た速い線速条件において、反射層材料の熱伝導率範囲と
して8×10-3〜3×10-2calcm -1s -1K -1の範囲が
好ましいといえる。
On the other hand, the thermal conductivity of the reflective layer material is 8 × 10 -3.
When calcm -1 s -1 K -1 or less, the erasing rate is lowered and the repeated durability is deteriorated, which is not preferable. These phenomena are particularly remarkable on the low linear velocity side of 10 m / s or less. As a result, the range of 8 × 10 −3 to 3 × 10 −2 calcm −1 s −1 K −1 is preferable as the thermal conductivity range of the reflective layer material, especially under a high linear velocity condition of 8 to 20 m / s. Can be said.

【0017】次に、記録層の組成範囲について説明を加
える。記録再生の線速度を速くすると、結晶化温度を結
晶化時間保持できなくなることから、結晶化しにくくな
る(消去されにくくなる)という現象が起こる。速い線
速度において結晶化しやすい記録材料としてSbTeG
eがよく知られているが、このSbTeGeの中でも特
に結晶化しやすい組成を用いることが必要となる。
Next, the composition range of the recording layer will be described. When the linear velocity of recording / reproducing is increased, the crystallization temperature cannot be maintained for the crystallization time, which causes a phenomenon that crystallization becomes difficult (hard to erase). SbTeG as a recording material that tends to crystallize at high linear velocity
Although e is well known, it is necessary to use a composition that is particularly easily crystallized among the SbTeGe.

【0018】このSbTeGe系材料は、Sb2 Te3
とGeTeとの各性質を混合したような性質をもってお
り、図1のSbとTeとGeを頂点とする三角図におい
てSb2 Te3 とGeTeとを結んだ線(化合物ライ
ン)が一つの基準線となっている。例えば、この化合物
ライン上の組成をもつ化合物は結晶化速度が速く、化合
物ラインから離れるにつれて、結晶化速度が遅くなるこ
とがわかっている。速い線速度において消去を達成する
には結晶化速度の速い化合物ライン周辺が好ましい。ま
た、SbTeGe系においてGeは融点および結晶化温
度が高いため化合物中のGeの比率が多くなると融点お
よび結晶化温度が高くなり、反対にGeの比率が少なく
なると融点、結晶化温度は低くなることがわかってい
る。Geの比率は化合物の融点が高いと記録感度が悪く
なるため40at%以下にする必要がある。また、結晶
化温度が160度以下になると高温高湿下における環境
試験において、アモルファスピットの結晶化が進行し、
記録データの信頼性が乏しくなる。Geの比率が10a
t%未満では結晶化温度が160度以下となり、データ
の信頼性に欠けるためGeの比率は10〜40at%が
好ましい。より好ましくは、Geの比率が20at%以
上において、結晶化温度が180度以上となり、より高
い信頼性を確保できるため、20〜40at%のGe量
とするのがよい。
This SbTeGe-based material is Sb 2 Te 3
And GeTe have the property of mixing each property, and the line (compound line) connecting Sb 2 Te 3 and GeTe is one reference line in the triangular diagram with Sb, Te and Ge as vertices in FIG. Has become. For example, it is known that a compound having a composition on this compound line has a high crystallization rate, and the crystallization rate becomes slower as the distance from the compound line increases. In order to achieve erasure at a high linear velocity, it is preferable to have a compound line around which the crystallization rate is high. In addition, since Ge has a high melting point and crystallization temperature in the SbTeGe system, the melting point and crystallization temperature increase as the proportion of Ge in the compound increases, and conversely, the melting point and crystallization temperature decrease when the proportion of Ge decreases. I know. If the melting point of the compound is high, the Ge ratio will deteriorate the recording sensitivity, so it must be 40 at% or less. Further, when the crystallization temperature is 160 ° C. or less, crystallization of amorphous pits proceeds in an environmental test under high temperature and high humidity,
The reliability of recorded data becomes poor. Ge ratio is 10a
If it is less than t%, the crystallization temperature becomes 160 ° C. or less, and the reliability of the data is poor, so the Ge ratio is preferably 10 to 40 at%. More preferably, when the Ge ratio is 20 at% or more, the crystallization temperature is 180 ° C. or more, and higher reliability can be secured, so the Ge amount is preferably 20 to 40 at%.

【0019】従って、SbとTeとGeを頂点とする三
角図において原子量比でA(Sb32Te58Ge10)、B
(Sb34Te56Ge10)、C(Sb10Te50Ge40)、
D(Sb8 Te52Ge40)に囲まれた4角形の内側の組
成を選ぶことが好ましく、より好ましくは、A(Sb24
Te56Ge20)、B(Sb26Te54Ge20)、C(Sb
10Te50Ge40)、D(Sb8 Te52Ge40)に囲まれ
た4角形の内側の組成とするのが信頼性の観点より望ま
しい。
Therefore, A (Sb 32 Te 58 Ge 10 ), B in terms of atomic weight ratio in a triangular diagram with Sb, Te and Ge as vertices.
(Sb 34 Te 56 Ge 10 ), C (Sb 10 Te 50 Ge 40 ),
It is preferable to select the composition inside the quadrangle surrounded by D (Sb 8 Te 52 Ge 40 ), and more preferably A (Sb 24
Te 56 Ge 20 ), B (Sb 26 Te 54 Ge 20 ), C (Sb
From the viewpoint of reliability, it is preferable to use a composition inside the quadrangle surrounded by 10 Te 50 Ge 40 ), D (Sb 8 Te 52 Ge 40 ).

【0020】本発明では記録層、保護層、反射層の形成
方法については公知の方法、例えば真空蒸着、スパッタ
リング、イオンビームスパッタリング、イオンビーム蒸
着、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、プラズマ
重合等の方法を目的、材料等に応じて適宜採用すること
ができる。本発明の光ディスク媒体において、光学情報
記録膜が設けられる基板としては、例えばガラス板やガ
ラス板上に光硬化樹脂を設けたもの、あるいはポリカー
ボネート、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレ
ンなどのプラスチック基板、アルミニウム合金などの金
属板などが用いられる。
In the present invention, the method for forming the recording layer, the protective layer and the reflective layer is a known method such as vacuum deposition, sputtering, ion beam sputtering, ion beam deposition, ion plating, electron beam deposition, plasma polymerization and the like. Can be appropriately adopted depending on the purpose, material and the like. In the optical disc medium of the present invention, as the substrate on which the optical information recording film is provided, for example, a glass plate or a glass plate provided with a photocurable resin, or a plastic substrate such as polycarbonate, acrylic resin, epoxy resin, or polystyrene, A metal plate such as an aluminum alloy is used.

【0021】[0021]

【実施例】【Example】

【0022】[0022]

【実施例1〜4 比較例1〜4】次に実施例により本発
明をさらに詳細に説明する。図4に示すような1.0μ
m案内溝を設けた清浄な0.6mm厚のポリカーボネー
ト基板4の上に、厚さ180nmのZnS- SiO2
らなる保護層2、厚さ25nmのSb21Te54Ge25
金の記録層1、厚さ12nmのZnS- SiO2 からな
る保護層3、および厚さ100nmのAlTi合金から
なり、組成比を任意に変えた反射層5を、順次スパッタ
リング法により成膜して積層し、さらに反射層5の表面
を紫外線硬化型樹脂で被覆することにより相変化型光デ
ィスクを作製した。このようにして作製した片面ディス
クを二枚、基板を両外側にしてホットメルト接着剤で接
着することにより、全面密着構造の相変化型光ディスク
とした。
Examples 1 to 4 Comparative Examples 1 to 4 Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. 1.0μ as shown in Figure 4
On a clean 0.6 mm thick polycarbonate substrate 4 provided with m guide grooves, a protective layer 2 made of ZnS-SiO 2 having a thickness of 180 nm, a recording layer 1 made of a Sb 21 Te 54 Ge 25 alloy having a thickness of 25 nm, A protective layer 3 made of ZnS-SiO 2 having a thickness of 12 nm, and a reflective layer 5 made of an AlTi alloy having a thickness of 100 nm and having an arbitrarily changed composition ratio were sequentially formed by a sputtering method to be laminated, and then the reflective layer. A phase change type optical disk was prepared by coating the surface of No. 5 with an ultraviolet curable resin. Two single-sided discs thus produced, with the substrates on both sides, were adhered with a hot melt adhesive to obtain a phase-change type optical disc having a full-face contact structure.

【0023】このようにして得られた各相変化型光ディ
スクを駆動装置(レーザ光の波長λ=680nm、対物
レンズの開口数NA=0.6)にかけ、図5に示すよう
なパワー変調されたレーザ光を照射して特性評価を実施
した。図5においてPpは記録(アモルファス化)に相
当するピークパワー、Pbは消去(結晶化)に相当する
バイアスパワー、Prは再生レベルのリードパワーを示
す。
Each phase-change optical disk thus obtained was applied to a driving device (laser light wavelength λ = 680 nm, objective lens numerical aperture NA = 0.6), and power-modulated as shown in FIG. The characteristics were evaluated by irradiating laser light. In FIG. 5, Pp indicates a peak power corresponding to recording (amorphization), Pb indicates a bias power corresponding to erasing (crystallization), and Pr indicates a read level read power.

【0024】記録特性は、線速度8m/sで回転させ、
記録周波数7.6MHz,パルス幅40nsの信号を記
録し、C/N比が40dBを超えるのに必要なピークパ
ワーを記録感度として評価した。また、消去特性は、線
速度20m/sで回転させ、記録周波数18.9MHz
の信号をC/N比が最大となるピークパワーで記録した
後、記録周波数7.1MHzの信号をバイアスパワーを
変化させてオーバーライトした時の消去比を評価した。
さらに、繰り返し耐久性は、熱的ダメージの大きい線速
度8m/sにて、記録周波数7.6MHzの信号を同一
トラックに対して何回も繰り返しオーバーライトし、C
/N比が初期から3dB低下するオーバーライト回数を
繰り返し可能回数として評価した。
The recording characteristics are as follows: rotating at a linear velocity of 8 m / s,
A signal having a recording frequency of 7.6 MHz and a pulse width of 40 ns was recorded, and the peak power required for the C / N ratio to exceed 40 dB was evaluated as the recording sensitivity. In addition, the erase characteristic is that the recording speed is 18.9 MHz when rotated at a linear velocity of 20 m / s.
The signal was recorded at the peak power that maximizes the C / N ratio, and then the erase ratio when the signal at the recording frequency of 7.1 MHz was overwritten by changing the bias power was evaluated.
Further, the repeated durability is as follows: A signal having a recording frequency of 7.6 MHz is repeatedly overwritten on the same track at a linear velocity of 8 m / s, which causes a large thermal damage, and C
The number of overwrites at which the / N ratio was decreased by 3 dB from the initial stage was evaluated as the number of repeatable times.

【0025】表1に反射層5として用いたAlTi合金
の組成に対する、熱伝導率、記録特性および消去特性を
示す。熱伝導率の測定に当たっては、各AlTi合金を
単層のまま石英ガラス上に約10μmの厚さでスパッタ
リング法により成膜し、光交流法により熱拡散率および
体積比熱を実測して熱伝導率を算出した。表1に示した
結果から、反射層5の熱伝導率に対する記録感度の変化
を図6に示す。比較例1、 2にみられるように、反射層
5の熱伝導率が0. 03cal/cm・s ・ k より大きい場合
は、放熱効果が大きく、繰り返し耐久性は強いものの、
線速度8m/sにおいて記録感度が8mW以上と低感度
となってしまい好ましくない。また、比較例4に示すよ
うに、熱伝導率が0.007cal/cm・ s ・ k のAlTi
X を反射層5に用いた場合は、ヒートフローが不十分
なため繰り返しオーバーライトにおいて記録層の熱劣化
が大きく、繰り返し耐久性が大幅に弱くなる。また、A
lTiOxの場合は、最大消去比が20dB以下と低下
がみられる。これは、反射層5の熱伝導率が低い場合
は、蓄熱効果が大きくレーザ走査方向に対して垂直な方
向にグルーブからはみ出したアモルファスピットが形成
され、消去後でもアモルファス残りが存在する、あるい
は低熱伝導率の場合には結晶化温度以上の保持時間が短
くなるためと考えられる。
Table 1 shows the thermal conductivity, recording characteristics and erasing characteristics with respect to the composition of the AlTi alloy used as the reflecting layer 5. In measuring the thermal conductivity, each AlTi alloy was deposited as a single layer on silica glass with a thickness of about 10 μm by a sputtering method, and the thermal diffusivity and volume specific heat were measured by the optical alternating current method to measure the thermal conductivity. Was calculated. From the results shown in Table 1, changes in recording sensitivity with respect to the thermal conductivity of the reflective layer 5 are shown in FIG. As seen in Comparative Examples 1 and 2, when the thermal conductivity of the reflective layer 5 is larger than 0.03 cal / cm · s · k, the heat dissipation effect is large and the repeated durability is strong.
At a linear velocity of 8 m / s, the recording sensitivity is unfavorably low at 8 mW or more. Further, as shown in Comparative Example 4, AlTi having a thermal conductivity of 0.007 cal / cm · s · k.
When O X is used for the reflective layer 5, the heat flow is insufficient, so that the thermal deterioration of the recording layer is large during repeated overwriting, and the repeated durability is significantly weakened. Also, A
In the case of 1TiOx, the maximum erasing ratio is reduced to 20 dB or less. This is because, when the thermal conductivity of the reflective layer 5 is low, the heat storage effect is large and amorphous pits protruding from the groove are formed in a direction perpendicular to the laser scanning direction, and even after erasing, there remains amorphous residue or low thermal conductivity. It is considered that in the case of conductivity, the holding time above the crystallization temperature is shortened.

【0026】次に実施例1〜4として、反射層5の熱伝
導率が0.008〜0.03cal/cm・ s ・ k の範囲にあ
るディスク特性を示す。記録感度が8mW以下と良好で
あり、消去比も20dB以上得られている。また、20
万回の繰り返し耐久性があり、好感度かつ繰り返し耐久
性良好とバランスのとれた特性が得られていることがわ
かる。
Next, Examples 1 to 4 show disk characteristics in which the thermal conductivity of the reflective layer 5 is in the range of 0.008 to 0.03 cal / cm · s · k. The recording sensitivity is as good as 8 mW or less, and the erasing ratio is 20 dB or more. Also, 20
It can be seen that it has a durability that can be repeated 10,000 times, and that it has favorable characteristics and that it has well-balanced properties such as good durability and repeatability.

【0027】これらの結果より、反射層5に用いられる
熱伝導率の範囲は0.008〜0.03cal/cm・ s ・ k
の間に設定するのが好ましいことがわかった。AlTi
合金のAl含有量に対する熱伝導率の変化を図7に示
す。反射層5に用いる材料の好ましい熱伝導率範囲0.
008〜0.03cal/cm・ s ・ k に対応するAlTi合
金中のAlの含有量は1 0〜80at%である。
From these results, the range of thermal conductivity used for the reflective layer 5 is 0.008 to 0.03 cal / cm · s · k.
It has been found that it is preferable to set it during the period. AlTi
The change in thermal conductivity with respect to the Al content of the alloy is shown in FIG. A preferable thermal conductivity range of the material used for the reflective layer 5 is 0.
The Al content in the AlTi alloy corresponding to 008 to 0.03 cal / cm · s · k is 10 to 80 at%.

【0028】[0028]

【比較例5】比較例5として反射層5の材料にAl98
2 を用い、さらに保護層3と反射層5の膜厚を変化さ
せたときの記録特性、消去特性を調べた。なお、Al98
Ti 2 の熱伝導率は0.134cal/cm・ s ・ K である。
図8に保護層3と反射層5の各膜厚に対する記録感度
を、また、図9に消去特性として各膜厚に対する最大消
去比を示す。これらの結果より、記録感度が8mW以下
で、かつ最大消去比が20dB以上となる両立範囲は存
在していないことがわかった。これは、保護層3の膜厚
が厚い範囲(>15nm)では記録層の蓄熱効果が大き
く、記録感度は向上できるものの、消去の際にアモルフ
ァス残りが存在し消去比がとれなくなるといった現象が
発生していると考えられる。
Comparative Example 5 As Comparative Example 5, the material of the reflective layer 5 is Al.98T
i2The thickness of the protective layer 3 and the reflective layer 5 is changed.
The recording characteristics and the erasing characteristics at the time of application were examined. In addition, Al98
Ti 2Has a thermal conductivity of 0.134 cal / cm · s · K.
FIG. 8 shows the recording sensitivity for each film thickness of the protective layer 3 and the reflective layer 5.
In addition, FIG. 9 shows the maximum erasure for each film thickness as the erasure characteristic.
The ratio is shown. From these results, recording sensitivity is 8mW or less
And there is a compatible range where the maximum erase ratio is 20 dB or more.
I found it wasn't there. This is the thickness of the protective layer 3
In the thick range (> 15 nm), the heat storage effect of the recording layer is large
Although the recording sensitivity can be improved, the
The phenomenon that the erase ratio cannot be obtained due to the existence of gas residue
It is thought to have occurred.

【0029】また、保護層3の膜厚が薄い範囲では、消
去特性は良好であるが、熱が熱伝達層を兼ねている反射
層5に一気に逃げてしまうため記録感度が悪く、ピーク
パワー8mWでは十分な記録ができていない。これらの
結果より、反射層5の材料として熱伝導率の高い材料を
用いた場合には、保護層3および反射層5の膜厚でヒー
トフローを調整するだけでは、記録感度と消去特性の両
方が良好となる領域は得られず、材料の熱伝導率を所定
の範囲に設定する方が有用であることがわかる。
In the range in which the thickness of the protective layer 3 is thin, the erasing property is good, but heat radiates to the reflecting layer 5 which also functions as a heat transfer layer at once, so the recording sensitivity is poor and the peak power is 8 mW. Has not been able to record enough. From these results, when a material having a high thermal conductivity is used as the material of the reflective layer 5, it is possible to obtain both the recording sensitivity and the erasing property by only adjusting the heat flow with the film thicknesses of the protective layer 3 and the reflective layer 5. It is found that it is more effective to set the thermal conductivity of the material within a predetermined range, because the region in which is excellent is not obtained.

【0030】[0030]

【実施例5〜7 比較例6、7】1.0μm案内溝を設
けた清浄な0.6mm厚のポリカーボネート基板4の上
に、厚さ180nmのZnS- SiO2 からなる保護層
2、厚さ25nmのSbTeGe合金薄膜から成り、そ
の組成比を所定の値に変化させた記録層1、厚さ12n
mのZnS- SiO2 からなる保護層3、および厚さ1
00nmのAl60Ti40合金からなる反射層5を、順次
スパッタリング法により成膜して積層し、さらに実施例
1と同様な紫外線硬化型樹脂による被覆、および貼り合
わせを行い全面密着構造の相変化型光ディスクとした。
EXAMPLES 5-7 Comparative Examples 6 and 7] on the 1.0μm guide clean 0.6mm thick polycarbonate substrate 4 provided with grooves, the protective layer 2 made of ZnS-SiO 2 having a thickness of 180 nm, a thickness Recording layer 1 made of a 25 nm SbTeGe alloy thin film, the composition ratio of which was changed to a predetermined value, and the thickness was 12 n.
m ZnS-SiO 2 protective layer 3 and thickness 1
A reflective layer 5 made of Al 60 Ti 40 alloy having a thickness of 00 nm is sequentially formed by a sputtering method to be laminated, and further coated with an ultraviolet curable resin and laminated as in Example 1, and a phase change of the entire adhesion structure is performed. Type optical disc.

【0031】このようにして得られた各相変化型光ディ
スクを実施例1の評価条件と同様な方法(記録特性は線
速度8m/s、消去特性は線速度20m/s)で、記録
パワー12mWにおけるC/N比および100回記録後
の最大消去比を評価した。その結果を表2に示す。実験
に用いた記録層の組成比において、Te比が増加する
程、Sb2 Te3 −GeTeを結んだ化合物ラインに近
ずいており、それに伴って結晶化スピードも速くなって
いる。
Each phase-change optical disk thus obtained was subjected to the same method as the evaluation conditions of Example 1 (recording characteristic was linear velocity 8 m / s, erasing characteristic was linear velocity 20 m / s) and recording power was 12 mW. The C / N ratio and the maximum erasing ratio after recording 100 times were evaluated. The results are shown in Table 2. In the composition ratio of the recording layer used in the experiment, as the Te ratio increases, the compound line connecting Sb 2 Te 3 —GeTe is closer, and the crystallization speed is correspondingly increased.

【0032】比較例6、7に示した組成は、線速度20
m/sにおける消去比が20dB以下と十分でない。レ
ーザ光をDC発光させ数回照射すると、消去比も徐々に
良くなってくるため、これは結晶化スピ−ドの不足が原
因であると考えられる。一方、実施例5〜7に示す組成
を用いた場合には、線速度20m/sという非常に高速
な条件下でも20dB以上の良好な消去比が得られてお
り、十分な結晶化スピードを有していることがわかる。
また、8m/sにおけるC/N比も50dB以上得られ
ており、アモルファス化についても十分な特性であると
いえる。
The compositions shown in Comparative Examples 6 and 7 had a linear velocity of 20.
The erasing ratio at m / s is 20 dB or less, which is not sufficient. When the laser light is emitted by DC and irradiated several times, the erasing ratio is gradually improved, which is considered to be caused by the lack of crystallization speed. On the other hand, when the compositions shown in Examples 5 to 7 were used, a good erasing ratio of 20 dB or more was obtained even under a very high linear velocity of 20 m / s, and a sufficient crystallization speed was obtained. You can see that
In addition, the C / N ratio at 8 m / s was 50 dB or more, and it can be said that the characteristics are sufficient for amorphization.

【0033】[0033]

【実施例8】1.0μm案内溝を設けた清浄な0.6m
m厚のポリカーボネート基板4の上に、厚さ180nm
のZnS- SiO2 からなる保護層2、厚さ25nmの
Sb 21Te54Ge25合金の記録層1を設け、さらに所定
の膜厚に変化させたZnS-SiO2 からなる保護層
3、およびAl60Ti40合金からなる反射層5を、順次
スパッタリング法により成膜して積層し、実施例1と同
様に紫外線硬化型樹脂によ る保護コート、次いで貼り
合わせを施し全面密着構造の相変化型光ディスクとし
た。 このようにして得られた各膜厚からなる相変化型
光ディスクを実施例1の評価条件と同様な方法(記録特
性は線速度8m/s、消去特性は線速度20m/s)
で、記録感度および消去特性を評価した。
Example 8: Clean 0.6 m with 1.0 μm guide groove
180 nm thick on m polycarbonate substrate 4
ZnS- SiO2Protective layer 2 consisting of 25 nm thick
Sb twenty oneTe54Getwenty fiveProviding an alloy recording layer 1
ZnS-SiO with different thickness2Protective layer consisting of
3, and Al60Ti40The reflective layer 5 made of an alloy is sequentially formed.
A film was formed by a sputtering method and laminated, and the same as in Example 1.
Protective coating with UV curable resin, then paste
Combined to form a phase-change optical disk with a full-face contact structure
It was Phase change type consisting of each film thickness thus obtained
The optical disc was subjected to the same method as the evaluation conditions of Example 1 (recording characteristics).
(The linearity is 8 m / s and the erasing property is a linear speed of 20 m / s.)
Then, the recording sensitivity and the erasing property were evaluated.

【0034】図10に記録感度の保護層3および反射層
5の膜厚依存性を示す。記録感度は、保護層3の膜厚が
厚い程、また反射層5の膜厚が薄いほど良くなってお
り、これは熱のヒートフローと大きく関係している。ま
た、図11に最大消去比の保護層3および反射層5の膜
厚依存性を示す。消去特性は保護層3の膜厚に大きく依
存しており、保護層3の膜厚が15nm以下で良好な特
性を示している。これは、保護層3の膜厚が薄くなると
結晶化温度以上に保持される時間が長くなること、ま
た、保護層3の膜厚が厚い領域では消去の際アモルファ
ス残りが存在しやすいことなどが考えられる。
FIG. 10 shows the film thickness dependence of the recording sensitivity of the protective layer 3 and the reflective layer 5. The recording sensitivity is improved as the protective layer 3 is thicker and the reflective layer 5 is thinner, which is largely related to heat flow of heat. Further, FIG. 11 shows the film thickness dependence of the maximum erasing ratio of the protective layer 3 and the reflective layer 5. The erasing characteristics are largely dependent on the film thickness of the protective layer 3, and the protective layer 3 having a film thickness of 15 nm or less shows good characteristics. This is because when the thickness of the protective layer 3 becomes thin, the time for which the protective layer 3 is kept above the crystallization temperature becomes long, and in the region where the thickness of the protective layer 3 is large, amorphous residue is likely to exist during erasing. Conceivable.

【0035】また、各ディスクの繰り返し耐久性を測定
した。繰り返し耐久性は線速度8m/sにおいて記録周
波数7.6MHzの信号を繰り返しオーバーライトし、
C/N比が初期値より3dB低下するまでの回数を評価
した。結果を図12に示す。
The repeated durability of each disk was also measured. Repetitive durability: Overwriting the signal of recording frequency 7.6MHz repeatedly at linear velocity 8m / s,
The number of times until the C / N ratio fell 3 dB from the initial value was evaluated. Results are shown in FIG.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明によれば、従来より速い線速度領
域においても良好な記録、消去特性を得ることができ、
さらに繰り返し耐久性にも優れたバランスのとれた相変
化型光ディスク媒体を提供することができる。
According to the present invention, good recording and erasing characteristics can be obtained even in a linear velocity region faster than before.
Further, it is possible to provide a well-balanced phase change type optical disc medium which is excellent in repeated durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における記録層の材料を構成する各元素
の組成比を示す三角グラフである。
FIG. 1 is a triangular graph showing a composition ratio of each element constituting a material of a recording layer in the present invention.

【図2】本発明の相変化型光ディスクの一例を示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a phase change optical disc of the present invention.

【図3】保護層の膜厚が消去時に及ぼす影響を示す説明
図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing the influence of the film thickness of a protective layer upon erasing.

【図4】本発明の実施例に用いた相変化型光ディスクの
基板の概略図である。
FIG. 4 is a schematic view of a substrate of a phase change optical disc used in an example of the present invention.

【図5】レーザ光のパワー変調波形を示すグラフであ
る。
FIG. 5 is a graph showing a power modulation waveform of laser light.

【図6】反射層の熱伝導率に対する記録感度の関係の例
を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing an example of the relationship between the thermal conductivity of the reflective layer and the recording sensitivity.

【図7】AlTi合金のAl含有量に対する熱伝導率の
関係の例を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing an example of the relationship between the thermal conductivity and the Al content of an AlTi alloy.

【図8】反射層と保護層の膜厚に対する記録感度の関係
の例を示すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing an example of a relationship of recording sensitivity with respect to film thicknesses of a reflective layer and a protective layer.

【図9】反射層と保護層の膜厚に対する最大消去比の関
係の例を示すグラフである。
FIG. 9 is a graph showing an example of the relationship between the maximum erasing ratio and the film thickness of the reflective layer and the protective layer.

【図10】反射層と保護層の膜厚に対する記録感度の関
係の例を示すグラフである。
FIG. 10 is a graph showing an example of a relationship of recording sensitivity with respect to film thicknesses of a reflective layer and a protective layer.

【図11】反射層と保護層の膜厚に対する最大消去比の
関係の例を示すグラフである。
FIG. 11 is a graph showing an example of the relationship between the maximum erasing ratio and the film thickness of the reflective layer and the protective layer.

【図12】反射層と保護層の膜厚に対する繰り返し可能
回数の関係の例を示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing an example of the relationship of the repeatable number of times with respect to the film thicknesses of the reflective layer and the protective layer.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも記録層および反射層
を有し、相変化による光学定数の変化を利用して情報を
記録する光記録媒体において、反射層がTiおよびAl
を主成分とするAl含有量が原子量比10〜80at%
の組成で構成され、記録層がSbTeGe合金であっ
て、その元素組成比がSb、Te、Geを頂点とする三
角図において原子量比でA(Sb32Te58Ge10)、 B
(Sb34Te56Ge10)、 C(Sb10Te50Ge40)、
D(Sb8 Te52Ge40)に囲まれた4角形の内側から
選ばれる範囲であることを特徴とする相変化型光ディス
ク媒体。
1. An optical recording medium, which has at least a recording layer and a reflective layer on a substrate and records information by utilizing a change of an optical constant due to a phase change, wherein the reflective layer is Ti and Al.
Of Al as the main component has an atomic ratio of 10 to 80 at%
And the recording layer is an SbTeGe alloy, and the elemental composition ratio thereof is A (Sb 32 Te 58 Ge 10 ), B in terms of atomic weight ratio in a triangular diagram with Sb, Te, and Ge as vertices.
(Sb 34 Te 56 Ge 10 ), C (Sb 10 Te 50 Ge 40 ),
A phase-change type optical disk medium characterized by being in a range selected from the inside of a quadrangle surrounded by D (Sb 8 Te 52 Ge 40 ).
【請求項2】 記録層の両側に保護層を有する光記録媒
体であって、、基板側の保護層膜厚が50〜300n
m、記録層の膜厚が15〜35nm、反射層側の保護層
膜厚が3〜15nm、反射層膜厚が100〜250nm
である請求項1記載の相変化型光ディスク媒体。
2. An optical recording medium having protective layers on both sides of a recording layer, wherein the thickness of the protective layer on the substrate side is 50 to 300 n.
m, the thickness of the recording layer is 15 to 35 nm, the thickness of the protective layer on the reflective layer side is 3 to 15 nm, and the thickness of the reflective layer is 100 to 250 nm.
The phase change type optical disk medium according to claim 1, which is
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