JPH11243134A - 試料保持機とこれを用いた製造装置 - Google Patents
試料保持機とこれを用いた製造装置Info
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- JPH11243134A JPH11243134A JP8489298A JP8489298A JPH11243134A JP H11243134 A JPH11243134 A JP H11243134A JP 8489298 A JP8489298 A JP 8489298A JP 8489298 A JP8489298 A JP 8489298A JP H11243134 A JPH11243134 A JP H11243134A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】試料の表面と裏面のいずれとも接することなく
試料の側面の一部で接して試料保持を行う装置を安価に
提供する。 【解決手段】試料保持機は複数個の接触子１ａ〜１ｄを
試料２の周辺で可動させることによって試料２の脱着を
行う。この接触子１ａ〜１ｄは剛体あるいはこれ自身が
板バネか線バネ作用のあるもので構成されている。試料
２の保持方法は接触子１ａ〜１ｄの一部分が試料２の側
面に接することによって行われる。また、保持された試
料２は回転機構７、８によって回転可能な構成がとれ
る。また、試料２の裏面を保護するためにガス入口６を
通して試料の裏面に近接した保護板からガスを放流す
る。
試料の側面の一部で接して試料保持を行う装置を安価に
提供する。 【解決手段】試料保持機は複数個の接触子１ａ〜１ｄを
試料２の周辺で可動させることによって試料２の脱着を
行う。この接触子１ａ〜１ｄは剛体あるいはこれ自身が
板バネか線バネ作用のあるもので構成されている。試料
２の保持方法は接触子１ａ〜１ｄの一部分が試料２の側
面に接することによって行われる。また、保持された試
料２は回転機構７、８によって回転可能な構成がとれ
る。また、試料２の裏面を保護するためにガス入口６を
通して試料の裏面に近接した保護板からガスを放流す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス等の絶縁板
や金属板およびＳｉ等の半導体結晶板（以下、試料と呼
ぶ）を保持して処理をするための試料保持機とこれを用
いた製造装置に関する。
や金属板およびＳｉ等の半導体結晶板（以下、試料と呼
ぶ）を保持して処理をするための試料保持機とこれを用
いた製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、試料を保持する方法として、真空
吸引式のチャックが、広く使われている。特に半導体製
造工程において半導体ウエーハを搬送し、該ウエーハの
表面を処理する工程ではこの固定法が主流を占めてい
る。
吸引式のチャックが、広く使われている。特に半導体製
造工程において半導体ウエーハを搬送し、該ウエーハの
表面を処理する工程ではこの固定法が主流を占めてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】真空吸引力でウエーハ
を保持する方法は、（１）チャックにウエーハが密着す
るためチャックに接したウエーハ面は汚染され、工程で
の異物源となる、（２）ウエーハチャックの真空吸引口
に処理中の薬液や液体あるいはガスが流れこみ、ウエー
ハの裏面が削れたり汚染され、また、装置の故障を誘発
する要因となる、（３）真空チャンバ内での真空チャッ
クは吸引力がなくなり使えない、（４）機構が複雑であ
り高価である、等の欠点があった。本発明は上記欠点を
解決する目的でなされた。本発明の第１の目的はウエー
ハの表面と裏面のいずれとも接することなくウエーハの
側面の一部で接して試料を保持する装置を安価に提供す
ることである。本発明の第２の目的は、本発明の試料保
持機を用いて、試料を汚染することなく試料の搬送や表
面処理を行う製造装置を提供することである。
を保持する方法は、（１）チャックにウエーハが密着す
るためチャックに接したウエーハ面は汚染され、工程で
の異物源となる、（２）ウエーハチャックの真空吸引口
に処理中の薬液や液体あるいはガスが流れこみ、ウエー
ハの裏面が削れたり汚染され、また、装置の故障を誘発
する要因となる、（３）真空チャンバ内での真空チャッ
クは吸引力がなくなり使えない、（４）機構が複雑であ
り高価である、等の欠点があった。本発明は上記欠点を
解決する目的でなされた。本発明の第１の目的はウエー
ハの表面と裏面のいずれとも接することなくウエーハの
側面の一部で接して試料を保持する装置を安価に提供す
ることである。本発明の第２の目的は、本発明の試料保
持機を用いて、試料を汚染することなく試料の搬送や表
面処理を行う製造装置を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の基本とする試料
保持機は図１に示すように複数個の接触子１ａ、１ｂ、
１ｃ、１ｄを可動させることによって試料２の脱着が行
われる。図１で、右側半分が試料のチャックＯＮ、左側
がチャックＯＦＦの状態を示している。接触子を脱着機
構５ａ、５ｃによって試料周辺から遠ざけることによっ
て上部から試料の交換を行い、チャックＯＮではバネ１
ａ、１ｃによって接触子４ａ，４ｃが復元して試料が保
持される。試料の保持方法は接触子の一部分が試料の側
面に接することによって行われる。保持された試料は回
転機構８によって回転できる構成である。また、試料の
裏面を保護するために試料に近接した保護板３からガス
を放流した構成も本発明の特徴である。これらの機構に
よって試料の表面と裏面側は搬送中や保持中に他の物体
と直接接することがなく、また、処理中の薬液や液体あ
るいはガスが試料裏面のごく短い周辺部を除いて裏面に
付着することがないので試料の汚染を防止することがで
きる。
保持機は図１に示すように複数個の接触子１ａ、１ｂ、
１ｃ、１ｄを可動させることによって試料２の脱着が行
われる。図１で、右側半分が試料のチャックＯＮ、左側
がチャックＯＦＦの状態を示している。接触子を脱着機
構５ａ、５ｃによって試料周辺から遠ざけることによっ
て上部から試料の交換を行い、チャックＯＮではバネ１
ａ、１ｃによって接触子４ａ，４ｃが復元して試料が保
持される。試料の保持方法は接触子の一部分が試料の側
面に接することによって行われる。保持された試料は回
転機構８によって回転できる構成である。また、試料の
裏面を保護するために試料に近接した保護板３からガス
を放流した構成も本発明の特徴である。これらの機構に
よって試料の表面と裏面側は搬送中や保持中に他の物体
と直接接することがなく、また、処理中の薬液や液体あ
るいはガスが試料裏面のごく短い周辺部を除いて裏面に
付着することがないので試料の汚染を防止することがで
きる。
【０００５】
【発明の実施の形態】実施例１ 図１は本発明による試料保持機の一実施例である。試料
２は複数個の接触子１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄによって保
持され、これが回転できる構成である。これらの接触子
は回転軸７にあるバネ機構４ａ、４ｃと外部に設けた脱
着機構５ａ、５ｃによって可動できる構造が特徴であ
る。図１では、右側半分が試料のチャックＯＮ、左側が
チャックＯＦＦの状態を示している。脱着機構５ａ、５
ｃによって接触子を試料の外側に動かし、試料の交換が
行われる。試料は試料保持機の上部から所定の位置に搬
送し、続いて脱着機構５ａ、５ｃをはずして接触子１
ａ，１ｃをバネ機構４ａ、４ｃによって保護板３側に復
元して試料を保持する。試料の保持方法は接触子で試料
の側面を動かぬよう固定しても、あるいは接触子で囲
み、試料に遊びをもたして保持してもよい。本発明では
裏面を保護する目的で、試料の裏面に近接して保護板３
を配置し、この板の孔からＮ２ガスを放流している。こ
のガスはＮ２ガス入口６から回転軸７の中空部を通って
供給される。放流する高純度ガスはＮ２ガスに限定され
ることはなく、放熱性のよいＨｅガスや不活性のＡｒガ
スなどが使われる。試料保持機は支持台１０、固定軸９
と回転部品からなり、、モータ等の回転機構８によって
回転軸７、バネ機構４ａ、４ｃ、保護板３、接触子１
ａ，１ｃ、および試料２が回転する。上記の接触子はバ
ネ機構によって可動する例を述べたが、電磁式や圧力式
等の可動機構を用いて動作させてもよい。また脱着機構
を回転部の外に設けた例を述べたが回転機構の中に組み
入れてもよい。さらに、この試料保持機を試料の搬送用
に用いる例では、回転機構は不用であり、また、裏面保
護用のＮ２ガス放流用保護板も取り外してもよいことを
付言する。また、この試料保持機は試料を接触子の中に
掴んでいるのであらゆる角度から稼働でき、使用上の制
約は生じないことを付言する。
２は複数個の接触子１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄによって保
持され、これが回転できる構成である。これらの接触子
は回転軸７にあるバネ機構４ａ、４ｃと外部に設けた脱
着機構５ａ、５ｃによって可動できる構造が特徴であ
る。図１では、右側半分が試料のチャックＯＮ、左側が
チャックＯＦＦの状態を示している。脱着機構５ａ、５
ｃによって接触子を試料の外側に動かし、試料の交換が
行われる。試料は試料保持機の上部から所定の位置に搬
送し、続いて脱着機構５ａ、５ｃをはずして接触子１
ａ，１ｃをバネ機構４ａ、４ｃによって保護板３側に復
元して試料を保持する。試料の保持方法は接触子で試料
の側面を動かぬよう固定しても、あるいは接触子で囲
み、試料に遊びをもたして保持してもよい。本発明では
裏面を保護する目的で、試料の裏面に近接して保護板３
を配置し、この板の孔からＮ２ガスを放流している。こ
のガスはＮ２ガス入口６から回転軸７の中空部を通って
供給される。放流する高純度ガスはＮ２ガスに限定され
ることはなく、放熱性のよいＨｅガスや不活性のＡｒガ
スなどが使われる。試料保持機は支持台１０、固定軸９
と回転部品からなり、、モータ等の回転機構８によって
回転軸７、バネ機構４ａ、４ｃ、保護板３、接触子１
ａ，１ｃ、および試料２が回転する。上記の接触子はバ
ネ機構によって可動する例を述べたが、電磁式や圧力式
等の可動機構を用いて動作させてもよい。また脱着機構
を回転部の外に設けた例を述べたが回転機構の中に組み
入れてもよい。さらに、この試料保持機を試料の搬送用
に用いる例では、回転機構は不用であり、また、裏面保
護用のＮ２ガス放流用保護板も取り外してもよいことを
付言する。また、この試料保持機は試料を接触子の中に
掴んでいるのであらゆる角度から稼働でき、使用上の制
約は生じないことを付言する。
【０００６】実施例２ 図２は本発明による試料保持機の別の実施例である。試
料２２は複数個の接触子２１ａ〜２１ｈによって保持さ
れ、これが回転できる構成である。これらの接触子はそ
れ自身が板バネ作用があり、回転軸７に設けた脱着機構
２４ａ、２４ｅによって接触子を可動できる構造が特徴
である。図２では、試料のチャックＯＮ状態を示してい
る。脱着機構２４ａ、２４ｅは加圧されたＮ２ガスをガ
ス入口２６ｂから供給し、ピストンによって接触子を押
して稼働する。チャックＯＮの状態ではこのガスの供給
は不要で、脱着機構内にあるバネによってピストンが定
位置に戻り、接触子はバネ作用によって復元される。試
料の保持方法は接触子で試料の側面を動かぬよう固定し
ても、あるいは接触子で囲み、試料が逃げないようにす
るだけでもよい。本発明では裏面を保護する目的で、試
料の裏面に近接して保護板２３を配置し、この板の孔か
らＮ２ガスを放流している。このガスはＮ２ガス入口２
６ａから回転軸２７の中空部を通って供給される。試料
保持機は支持台２０と固定軸２９と回転部品からなり、
モータ等の回転機構２８によって回転軸２７、脱着機構
２４ａ〜２４ｈ、保護板２３、接触子２１ａ〜２１ｈ、
および試料２２が回転する。上記の接触子は圧力式の脱
着機構によって可動する例を述べたが、電磁式等の可動
機構を用いて動作させてもよい。また脱着機構を回転部
に組み込んだ例を述べたがこれらを回転機構から分離さ
せ外部から接触子を可動させてもよい。さらに、この試
料保持機を試料の搬送用に用いる例では、回転機構は不
用であり、また、裏面保護用のＮ２ガス放流用保護板も
取り外してもよいことを付言する。また、この試料保持
機は試料を接触子の中に掴んでいるのであらゆる角度か
ら稼働でき、使用上の制約は生じないことを付言する。
料２２は複数個の接触子２１ａ〜２１ｈによって保持さ
れ、これが回転できる構成である。これらの接触子はそ
れ自身が板バネ作用があり、回転軸７に設けた脱着機構
２４ａ、２４ｅによって接触子を可動できる構造が特徴
である。図２では、試料のチャックＯＮ状態を示してい
る。脱着機構２４ａ、２４ｅは加圧されたＮ２ガスをガ
ス入口２６ｂから供給し、ピストンによって接触子を押
して稼働する。チャックＯＮの状態ではこのガスの供給
は不要で、脱着機構内にあるバネによってピストンが定
位置に戻り、接触子はバネ作用によって復元される。試
料の保持方法は接触子で試料の側面を動かぬよう固定し
ても、あるいは接触子で囲み、試料が逃げないようにす
るだけでもよい。本発明では裏面を保護する目的で、試
料の裏面に近接して保護板２３を配置し、この板の孔か
らＮ２ガスを放流している。このガスはＮ２ガス入口２
６ａから回転軸２７の中空部を通って供給される。試料
保持機は支持台２０と固定軸２９と回転部品からなり、
モータ等の回転機構２８によって回転軸２７、脱着機構
２４ａ〜２４ｈ、保護板２３、接触子２１ａ〜２１ｈ、
および試料２２が回転する。上記の接触子は圧力式の脱
着機構によって可動する例を述べたが、電磁式等の可動
機構を用いて動作させてもよい。また脱着機構を回転部
に組み込んだ例を述べたがこれらを回転機構から分離さ
せ外部から接触子を可動させてもよい。さらに、この試
料保持機を試料の搬送用に用いる例では、回転機構は不
用であり、また、裏面保護用のＮ２ガス放流用保護板も
取り外してもよいことを付言する。また、この試料保持
機は試料を接触子の中に掴んでいるのであらゆる角度か
ら稼働でき、使用上の制約は生じないことを付言する。
【０００７】実施例３ 図３は本発明による試料保持機の他の実施例である。試
料３２は複数個の接触子３１ａ〜３１ｈによって保持さ
れている。これらの接触子はそれ自身が板バネあるいは
線バネ作用があり、中心軸３４に設けた脱着機構３７に
よって接触子を可動できる構造が特徴である。図３で
は、試料のチャックＯＮ状態を示している。脱着機構３
７は加圧されたＮ２ガスをガス出入口３９ｂから供給
し、ピストンによって保護板３３を下方に動かし、これ
が接触子を押して稼働する。チャックＯＮの状態ではＮ
２ガスをガス出入口３９ａから供給し、図のようには保
護板３３は試料の裏面近傍に配置され、接触子はバネ作
用によって復元され試料を保持する。本発明では裏面を
保護する目的で、試料の裏面に近接して保護板３３を配
置し、この板の孔からＮ２ガスを放流している。このガ
スはＮ２ガス入口３６から中心軸３４の中空部を通って
供給される。上記の接触子は圧力式の脱着機構によって
可動する例を述べたが、電磁式等の可動機構を用いた
り、手動で動作させてもよい。また、上記、板バネある
いは線バネの少なくとも一部分に形状記憶合金を用いて
温度差で接触子の脱着を行ってもよい。この試料保持機
は試料の搬送用のため試料の回転機構部を持たない例を
示したが、これに回転機構部を取り付けてもよいことは
自明である。また、この試料保持機は試料を接触子の中
に掴んでいるのであらゆる角度から稼働でき、使用上の
制約は生じないことを付言する。
料３２は複数個の接触子３１ａ〜３１ｈによって保持さ
れている。これらの接触子はそれ自身が板バネあるいは
線バネ作用があり、中心軸３４に設けた脱着機構３７に
よって接触子を可動できる構造が特徴である。図３で
は、試料のチャックＯＮ状態を示している。脱着機構３
７は加圧されたＮ２ガスをガス出入口３９ｂから供給
し、ピストンによって保護板３３を下方に動かし、これ
が接触子を押して稼働する。チャックＯＮの状態ではＮ
２ガスをガス出入口３９ａから供給し、図のようには保
護板３３は試料の裏面近傍に配置され、接触子はバネ作
用によって復元され試料を保持する。本発明では裏面を
保護する目的で、試料の裏面に近接して保護板３３を配
置し、この板の孔からＮ２ガスを放流している。このガ
スはＮ２ガス入口３６から中心軸３４の中空部を通って
供給される。上記の接触子は圧力式の脱着機構によって
可動する例を述べたが、電磁式等の可動機構を用いた
り、手動で動作させてもよい。また、上記、板バネある
いは線バネの少なくとも一部分に形状記憶合金を用いて
温度差で接触子の脱着を行ってもよい。この試料保持機
は試料の搬送用のため試料の回転機構部を持たない例を
示したが、これに回転機構部を取り付けてもよいことは
自明である。また、この試料保持機は試料を接触子の中
に掴んでいるのであらゆる角度から稼働でき、使用上の
制約は生じないことを付言する。
【０００８】実施例４ 図４は本発明による試料保持機の他の実施例である。試
料４２は複数個の接触子４１ａ〜４１ｈによって保持さ
れている。これらの接触子はそれ自身が板バネあるいは
線バネ作用があり、中心軸４５に設けた脱着機構４４、
４９によって接触子を可動できる構造が特徴である。図
４では、試料のチャックＯＮ状態を示している。Ａ矢視
図のように脱着機構の動作は中心軸４５を、ある角度だ
け正／逆方向に回転する回転機構４９と中心軸４５に取
り付けた歯車４４によって接触子４１ａ〜４１ｈが可動
して行われる。本発明では裏面を保護する目的で、試料
の裏面に近接して保護板４３を配置し、この板の孔から
Ｎ２ガスを放流している。このガスはＮ２ガス入口４６
から中心軸４５の中空部を通って供給される。上記の接
触子は手動のほか、圧力式電磁式あるいは電動式等の可
動機構を用いて動作させてもよい。また、上記、板バネ
あるいは線バネの少なくとも一部分に形状記憶合金を用
いて温度差で接触子の脱着を行ってもよい。この試料保
持機は試料の搬送用のため試料の回転機構部を持たない
例を示したが、これに回転機構部を取り付けてもよいこ
とは自明である。また、この試料保持機は試料を接触子
の中に掴んでいるのであらゆる角度から稼働でき、使用
上の制約は生じないことを付言する。
料４２は複数個の接触子４１ａ〜４１ｈによって保持さ
れている。これらの接触子はそれ自身が板バネあるいは
線バネ作用があり、中心軸４５に設けた脱着機構４４、
４９によって接触子を可動できる構造が特徴である。図
４では、試料のチャックＯＮ状態を示している。Ａ矢視
図のように脱着機構の動作は中心軸４５を、ある角度だ
け正／逆方向に回転する回転機構４９と中心軸４５に取
り付けた歯車４４によって接触子４１ａ〜４１ｈが可動
して行われる。本発明では裏面を保護する目的で、試料
の裏面に近接して保護板４３を配置し、この板の孔から
Ｎ２ガスを放流している。このガスはＮ２ガス入口４６
から中心軸４５の中空部を通って供給される。上記の接
触子は手動のほか、圧力式電磁式あるいは電動式等の可
動機構を用いて動作させてもよい。また、上記、板バネ
あるいは線バネの少なくとも一部分に形状記憶合金を用
いて温度差で接触子の脱着を行ってもよい。この試料保
持機は試料の搬送用のため試料の回転機構部を持たない
例を示したが、これに回転機構部を取り付けてもよいこ
とは自明である。また、この試料保持機は試料を接触子
の中に掴んでいるのであらゆる角度から稼働でき、使用
上の制約は生じないことを付言する。
【０００９】実施例５ 図５は本発明による試料保持機の他の実施例である。化
合物半導体結晶のように不定形試料を保持して処理する
工程に適する試料保持機の例を示している。板バネある
いは線バネ作用の持つ多数の接触子５１ａ〜５１ｊによ
って試料５２を保持した状態の上面図である。接触子の
数が多いほど、一接触子当たりのバネ力は弱くてすみ、
試料を優しく確実に保持することができる。また、上記
の接触子は変形が自在なので、試料の外形がほぼ同じで
あればどんな形状にも対応して保持できる特徴がある。
この試料保持機は実施例２と実施例４で述べたような脱
着機構の構造をもって構成されている。この試料保持機
によって不定形試料の搬送、洗浄およびエッチングと乾
燥の処理が定形試料と同じように枚葉で自動化処理でき
るようになった。この結果、半導体レーザや発光素子な
どの不定形ウエーハを用いざるを得なかった製造ライン
に適用して省力化と均質化で著しく生産性を上げ、上記
素子が低コスト化で供給できるようになった。
合物半導体結晶のように不定形試料を保持して処理する
工程に適する試料保持機の例を示している。板バネある
いは線バネ作用の持つ多数の接触子５１ａ〜５１ｊによ
って試料５２を保持した状態の上面図である。接触子の
数が多いほど、一接触子当たりのバネ力は弱くてすみ、
試料を優しく確実に保持することができる。また、上記
の接触子は変形が自在なので、試料の外形がほぼ同じで
あればどんな形状にも対応して保持できる特徴がある。
この試料保持機は実施例２と実施例４で述べたような脱
着機構の構造をもって構成されている。この試料保持機
によって不定形試料の搬送、洗浄およびエッチングと乾
燥の処理が定形試料と同じように枚葉で自動化処理でき
るようになった。この結果、半導体レーザや発光素子な
どの不定形ウエーハを用いざるを得なかった製造ライン
に適用して省力化と均質化で著しく生産性を上げ、上記
素子が低コスト化で供給できるようになった。
【００１０】実施例６ 図６は本発明による試料保持機を用いた試料のウエット
処理装置６０の一実施例である。実施例１で述べた試料
保持機が本発明のウエット処理装置に使われている。試
料保持機６１の接触子や容器内面の主要部はテフロンな
どの樹脂製か金属に樹脂の保護膜があり、薬液の使用に
耐える構造になっている。試料保持機６１にはＳｉウエ
ーハの試料が配置され、Ｎ２ガス入口６６から供給され
たＮ２ガスによって試料が浮遊している。試料の固定に
あそびがある構造は遠心力で効果的に試料を乾燥するた
めである。試料の交換には外部に取り付けた脱着機構６
５が使われる。これは、回転部から分離して、試料保持
機の構造を簡単にし、質量を軽くするためである。薬
液、純水あるいはガスが供給口６４からノズル６３を通
って試料表面に供給され、ウエット処理が行われる。回
転機構によって試料を回転させ洗浄やエッチング処理に
おける面内均一性の向上がはかれる。乾燥処理中には試
料保持機６１の試料は高速回転する。全処理中、試料の
裏面にはＮ２ガスが放流されごく短い周辺部を除いて裏
面には薬液などの付着がないことが特徴である。ウエッ
ト処理した液体やガスは回収口６７から回収される。従
来の真空吸着で試料を保持したり、エッチングの反対面
を樹脂で保護したりする方法と比べて、本発明の試料保
持機を用いたウエット処理装置はそのままの状態で試料
をセットするので工程が短縮でき、しかも汚さずに処理
できるので省力化と高品質化の効果が大きい。また、ウ
エット処理装置に試料を搬送してセットする工程にも、
実施例２〜４で述べた試料保持機が適用され製造装置を
自動化することが容易である。以上、本発明の試料保持
機をウエット処理装置や試料搬送機に適用する例を述べ
てきたが、紫外線照射によるオゾン洗浄装置、ホトレジ
ストなどの樹脂の回転塗布装置、あるいはドライエッチ
ング装置などの製造装置用に本発明の試料保持機が適用
できることは言うまでもない。
処理装置６０の一実施例である。実施例１で述べた試料
保持機が本発明のウエット処理装置に使われている。試
料保持機６１の接触子や容器内面の主要部はテフロンな
どの樹脂製か金属に樹脂の保護膜があり、薬液の使用に
耐える構造になっている。試料保持機６１にはＳｉウエ
ーハの試料が配置され、Ｎ２ガス入口６６から供給され
たＮ２ガスによって試料が浮遊している。試料の固定に
あそびがある構造は遠心力で効果的に試料を乾燥するた
めである。試料の交換には外部に取り付けた脱着機構６
５が使われる。これは、回転部から分離して、試料保持
機の構造を簡単にし、質量を軽くするためである。薬
液、純水あるいはガスが供給口６４からノズル６３を通
って試料表面に供給され、ウエット処理が行われる。回
転機構によって試料を回転させ洗浄やエッチング処理に
おける面内均一性の向上がはかれる。乾燥処理中には試
料保持機６１の試料は高速回転する。全処理中、試料の
裏面にはＮ２ガスが放流されごく短い周辺部を除いて裏
面には薬液などの付着がないことが特徴である。ウエッ
ト処理した液体やガスは回収口６７から回収される。従
来の真空吸着で試料を保持したり、エッチングの反対面
を樹脂で保護したりする方法と比べて、本発明の試料保
持機を用いたウエット処理装置はそのままの状態で試料
をセットするので工程が短縮でき、しかも汚さずに処理
できるので省力化と高品質化の効果が大きい。また、ウ
エット処理装置に試料を搬送してセットする工程にも、
実施例２〜４で述べた試料保持機が適用され製造装置を
自動化することが容易である。以上、本発明の試料保持
機をウエット処理装置や試料搬送機に適用する例を述べ
てきたが、紫外線照射によるオゾン洗浄装置、ホトレジ
ストなどの樹脂の回転塗布装置、あるいはドライエッチ
ング装置などの製造装置用に本発明の試料保持機が適用
できることは言うまでもない。
【００１１】
【発明の効果】（１）定形から不定形の試料を試料の表
／裏面に接することなく複数個の接触子によって保持す
るので試料が処理中に汚染されることがない。 （２）試料の裏面に近接した保護板から高純度ガスを放
流する構造なので裏面が保護され、また試料から吸熱す
る作用がある。 （３）接触子を板バネまたは線バネによって構成するこ
とにより試料保持機を低コスト化できる。 （４）試料保持機は天地に関係ない試料の搬送と高速回
転機構が付加できるので、製造装置に用いて自動化が容
易である。また、回転機構によって処理における面内均
一性の向上がはかれる。
／裏面に接することなく複数個の接触子によって保持す
るので試料が処理中に汚染されることがない。 （２）試料の裏面に近接した保護板から高純度ガスを放
流する構造なので裏面が保護され、また試料から吸熱す
る作用がある。 （３）接触子を板バネまたは線バネによって構成するこ
とにより試料保持機を低コスト化できる。 （４）試料保持機は天地に関係ない試料の搬送と高速回
転機構が付加できるので、製造装置に用いて自動化が容
易である。また、回転機構によって処理における面内均
一性の向上がはかれる。
【図１】本発明の実施例１の試料保持機の主要構成図。
【図２】本発明の実施例２の試料保持機の主要構成図。
【図３】本発明の実施例３の試料保持機の主要構成図。
【図４】本発明の実施例４の試料保持機の主要構成図。
【図５】本発明の実施例５の試料保持機の主要構成図。
【図６】本発明の実施例６のウエット処理に試料保持機
を用いたウエット処理装置の主要構成図。
を用いたウエット処理装置の主要構成図。
１ａ〜１ｄ、２１ａ〜２１ｈ、３１ａ〜３１ｈ、４１ａ
〜４１ｈ、５１ａ〜５１ｊ…接触子 ２、２２、３２、４２、５２、６２…試料 ３、２３、３３、４３…保護板 ４、２４、５４…回転機構部 ４ａ、４ｃ…バネ機構 ５ａ、５ｃ、２４ａ、２４ｅ、３７、４４、４９、６５
…脱着機構 ６、２６ａ、３６、４６…Ｎ２ガス入口 ７、２７…回転軸 ８、２８…回転機構 ３４、４５…中心軸 ６０…ウエット処理装置 ６１…試料保持機 ６３…ノズル ６４…供給口 ６７…回収口
〜４１ｈ、５１ａ〜５１ｊ…接触子 ２、２２、３２、４２、５２、６２…試料 ３、２３、３３、４３…保護板 ４、２４、５４…回転機構部 ４ａ、４ｃ…バネ機構 ５ａ、５ｃ、２４ａ、２４ｅ、３７、４４、４９、６５
…脱着機構 ６、２６ａ、３６、４６…Ｎ２ガス入口 ７、２７…回転軸 ８、２８…回転機構 ３４、４５…中心軸 ６０…ウエット処理装置 ６１…試料保持機 ６３…ノズル ６４…供給口 ６７…回収口
Claims (8)
- 【請求項１】 複数の接触子を試料の周辺に配置し、上
記接触子を試料の中心方向に向かって可動することによ
って試料側面の一部に上記接触子の少なくとも一部が接
触し、これによって試料を保持する機能をもつことを特
徴とした試料保持機。 - 【請求項２】 試料保持機の試料の裏面にガスを放流す
る機能を持ち、試料保持機から供給されるガスによって
試料の裏面を保護することを特徴とした請求項１記載の
試料保持機。 - 【請求項３】 試料保持機で保持された試料は試料保持
機の持つ回転機構によって回転できる機構を兼ね備えた
ことを特徴とした請求項１−２記載の試料保持機。 - 【請求項４】 上記、接触子の少なくとも一部分はこれ
自身がバネ機能をもつことを特徴とした、請求項１−３
記載の試料保持機。 - 【請求項５】 上記、請求項１−４記載の試料保持機を
用いて試料を保持し、一連の表面処理をすることを特徴
とした製造装置。 - 【請求項６】 上記、請求項１−４記載の試料保持機を
用いて試料を保持し、試料を回転させて、薬液を用いた
一連のウエット処理をすることを特徴とした製造装置。 - 【請求項７】 上記、請求項１−４記載の試料保持機を
用いて試料を保持し、試料を回転させて、液体を塗布処
理することを特徴とした製造装置。 - 【請求項８】 上記、請求項１−４記載の試料保持機を
用いて試料を捕獲し、試料を運搬し、試料を所定の位置
に配置する、一連の搬送処理に用いることを特徴とした
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8489298A JPH11243134A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | 試料保持機とこれを用いた製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8489298A JPH11243134A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | 試料保持機とこれを用いた製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11243134A true JPH11243134A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=13843408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8489298A Pending JPH11243134A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | 試料保持機とこれを用いた製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11243134A (ja) |
-
1998
- 1998-02-24 JP JP8489298A patent/JPH11243134A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050218 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050218 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071128 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080219 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080715 |