JPH1124048A - 液晶電気光学装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶電気光学装置及びその製造方法Info
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- JPH1124048A JPH1124048A JP9174472A JP17447297A JPH1124048A JP H1124048 A JPH1124048 A JP H1124048A JP 9174472 A JP9174472 A JP 9174472A JP 17447297 A JP17447297 A JP 17447297A JP H1124048 A JPH1124048 A JP H1124048A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高分子分散型の液晶電気光学装置において、
ストレス耐性と電気光学的特性とを両立させることので
きる新規の液晶層の構成を提供し、この種の液晶の駆動
特性、表示品位を高めるとともにストレスに対する安定
性を向上させる。 【解決手段】 液晶31に第1モノマーと第2モノマー
とを相溶させて、複合溶液を作り、第1モノマーのみが
重合する条件で重合反応を生起させ、液晶31中に第1
の高分子33の組織からなる骨格を分散形成する
(a)。次に、第2モノマーが重合する条件で重合反応
を生起させ、第1の高分子33の周囲に第2の高分子3
4が形成される(b)。この液晶層30においては、第
1の高分子33を骨格としてその表面に第2の高分子3
4が形成された高分子粒子が液晶中に分散配置される結
果、第1の高分子33とほぼ同様のストレス耐性を備え
ると同時に、第2の高分子34と同様の電気光学的特性
を備えるものとなる。
ストレス耐性と電気光学的特性とを両立させることので
きる新規の液晶層の構成を提供し、この種の液晶の駆動
特性、表示品位を高めるとともにストレスに対する安定
性を向上させる。 【解決手段】 液晶31に第1モノマーと第2モノマー
とを相溶させて、複合溶液を作り、第1モノマーのみが
重合する条件で重合反応を生起させ、液晶31中に第1
の高分子33の組織からなる骨格を分散形成する
(a)。次に、第2モノマーが重合する条件で重合反応
を生起させ、第1の高分子33の周囲に第2の高分子3
4が形成される(b)。この液晶層30においては、第
1の高分子33を骨格としてその表面に第2の高分子3
4が形成された高分子粒子が液晶中に分散配置される結
果、第1の高分子33とほぼ同様のストレス耐性を備え
ると同時に、第2の高分子34と同様の電気光学的特性
を備えるものとなる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶電気光学装置及
びその製造方法に係り、特に、液晶と高分子とを分散さ
せてなる液晶複合層を有する高分子分散型の液晶電気光
学装置に関する。
びその製造方法に係り、特に、液晶と高分子とを分散さ
せてなる液晶複合層を有する高分子分散型の液晶電気光
学装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、液晶と高分子とを相互に分散
させてなる液晶高分子複合層を備えた高分子分散型の液
晶表示装置が提案されている。この種の液晶表示装置
は、一般的に、液晶の誘電異方性と屈折率異方性とを利
用して、液晶層に印加する電圧を変化させて液晶高分子
複合層の内部の液晶と高分子との屈折率の差を変化さ
せ、液晶層が光透過状態と光散乱状態のいずれかの状態
をとることのできるように構成したものである。
させてなる液晶高分子複合層を備えた高分子分散型の液
晶表示装置が提案されている。この種の液晶表示装置
は、一般的に、液晶の誘電異方性と屈折率異方性とを利
用して、液晶層に印加する電圧を変化させて液晶高分子
複合層の内部の液晶と高分子との屈折率の差を変化さ
せ、液晶層が光透過状態と光散乱状態のいずれかの状態
をとることのできるように構成したものである。
【0003】高分子分散型の液晶表示装置には種々の態
様のものがあるが、これらの液晶表示装置の一般的かつ
概念的な概略構造を示すものが図2である。ガラスなど
からなる透明基板10,20の内面上には、ITOなど
の透明導電体からなる画素電極11、対向電極21が形
成される。これらの画素電極11、対向電極21の表面
上には、ポリイミド、ポリビニルアルコールなどからな
る配向膜12,22が被着される。これらの配向膜1
2,22には、必要に応じて所定の方向にラビング処理
が施される。
様のものがあるが、これらの液晶表示装置の一般的かつ
概念的な概略構造を示すものが図2である。ガラスなど
からなる透明基板10,20の内面上には、ITOなど
の透明導電体からなる画素電極11、対向電極21が形
成される。これらの画素電極11、対向電極21の表面
上には、ポリイミド、ポリビニルアルコールなどからな
る配向膜12,22が被着される。これらの配向膜1
2,22には、必要に応じて所定の方向にラビング処理
が施される。
【0004】上記透明基板10,20の間には液晶高分
子複合層が注入され、液晶層30が形成される。この液
晶層30には、液晶31と高分子32とが互いに分散さ
れた状態で含まれている。特開平5−119302号公
報には、このような液晶層30を形成するための方法の
一例が詳細に記載されている。以下、この特開平5−1
19302号公報に記載されている液晶層を形成した場
合について述べる。
子複合層が注入され、液晶層30が形成される。この液
晶層30には、液晶31と高分子32とが互いに分散さ
れた状態で含まれている。特開平5−119302号公
報には、このような液晶層30を形成するための方法の
一例が詳細に記載されている。以下、この特開平5−1
19302号公報に記載されている液晶層を形成した場
合について述べる。
【0005】画素電極11と対向電極21との間に電圧
を印加していない状態(以下、単に「電界無印加状態」
という。)においては、図2(a)に示すように、液晶
層30の内部に含まれている液晶31と高分子32は、
共に配向膜12,22のラビング方向(図示左右方向)
に沿って配向されている。この状態においては、液晶層
30に垂直な方向(図示上下方向)に通過する透過光に
対しては、液晶31の屈折率と高分子32の屈折率とが
ほぼ同様の値となるように構成されており、液晶層30
は光透過状態にある。
を印加していない状態(以下、単に「電界無印加状態」
という。)においては、図2(a)に示すように、液晶
層30の内部に含まれている液晶31と高分子32は、
共に配向膜12,22のラビング方向(図示左右方向)
に沿って配向されている。この状態においては、液晶層
30に垂直な方向(図示上下方向)に通過する透過光に
対しては、液晶31の屈折率と高分子32の屈折率とが
ほぼ同様の値となるように構成されており、液晶層30
は光透過状態にある。
【0006】一方、画素電極11と対向電極12との間
に所定値以上の電圧を印加した状態(以下、単に「電界
印加状態」という。)においては、図2(b)に示すよ
うに、液晶層30に含まれている液晶31が電界方向に
配向されるため、透過光に対する液晶31の屈折率が変
化し、液晶31の屈折率と高分子32の屈折率との間に
差が生ずることから、液晶層30は光散乱状態となる。
に所定値以上の電圧を印加した状態(以下、単に「電界
印加状態」という。)においては、図2(b)に示すよ
うに、液晶層30に含まれている液晶31が電界方向に
配向されるため、透過光に対する液晶31の屈折率が変
化し、液晶31の屈折率と高分子32の屈折率との間に
差が生ずることから、液晶層30は光散乱状態となる。
【0007】この液晶表示装置は、電界無印加時の画素
状態が光透過状態であるもの(ノーマリーブラック)で
ある。ただし、電界無印加時の画素状態が光散乱状態で
あるもの(ノーマリーホワイト)を形成することも容易
である。
状態が光透過状態であるもの(ノーマリーブラック)で
ある。ただし、電界無印加時の画素状態が光散乱状態で
あるもの(ノーマリーホワイト)を形成することも容易
である。
【0008】上述のような高分子分散型の液晶表示装置
においては、光の散乱状態と透過状態とを切り替え制御
することによって表示を行うように構成されているた
め、TN型などの液晶表示体に必要な偏光板を用いる必
要がなく、明るい表示を実現することができるという効
果がある。
においては、光の散乱状態と透過状態とを切り替え制御
することによって表示を行うように構成されているた
め、TN型などの液晶表示体に必要な偏光板を用いる必
要がなく、明るい表示を実現することができるという効
果がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
高分子分散型の液晶表示装置においては、高分子の材質
によってセルの押圧による組織破壊に対する耐性、電界
や温度による焼き付きや組織破壊に対する耐性などのス
トレス耐性と、明るさ、表示のコントラスト、電圧特性
などの電気光学的特性とが決定される。ここで、ストレ
ス耐性と電気光学的特性とを両立させる高分子を選定す
ることはきわめて困難であるという問題点がある。
高分子分散型の液晶表示装置においては、高分子の材質
によってセルの押圧による組織破壊に対する耐性、電界
や温度による焼き付きや組織破壊に対する耐性などのス
トレス耐性と、明るさ、表示のコントラスト、電圧特性
などの電気光学的特性とが決定される。ここで、ストレ
ス耐性と電気光学的特性とを両立させる高分子を選定す
ることはきわめて困難であるという問題点がある。
【0010】たとえば、ストレス耐性に劣った高分子を
用いると、液晶表示体に小さな衝撃を与えただけで高分
子組織が破壊され、電圧の印加状態に拘わらず、液晶層
が白濁してしまったり、電界や温度を加え続けることに
よって焼き付き現象や高分子の組織破壊が発生する。一
方、ストレス耐性の高い高分子も存在するが、このよう
な高分子は、一般的に散乱能の弱い高分子組織を形成し
易く、また、表示状態を切り替える際の駆動電圧値が高
くなってしまう場合が多い。
用いると、液晶表示体に小さな衝撃を与えただけで高分
子組織が破壊され、電圧の印加状態に拘わらず、液晶層
が白濁してしまったり、電界や温度を加え続けることに
よって焼き付き現象や高分子の組織破壊が発生する。一
方、ストレス耐性の高い高分子も存在するが、このよう
な高分子は、一般的に散乱能の弱い高分子組織を形成し
易く、また、表示状態を切り替える際の駆動電圧値が高
くなってしまう場合が多い。
【0011】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、高分子分散型の液晶電気光学装置
において、ストレス耐性と電気光学的特性とを両立させ
ることのできる新規の液晶層の構成を提供し、この種の
液晶の駆動特性、表示品位を高めるとともにストレスに
対する安定性を向上させることにある。
であり、その課題は、高分子分散型の液晶電気光学装置
において、ストレス耐性と電気光学的特性とを両立させ
ることのできる新規の液晶層の構成を提供し、この種の
液晶の駆動特性、表示品位を高めるとともにストレスに
対する安定性を向上させることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が講じた手段は、液晶と高分子とを互いに分散
させてなる液晶複合層を備え、該液晶複合層への電界の
印加状態により、光散乱状態と光透過状態とを実現する
ように構成された液晶電気光学装置において、前記高分
子が第1の高分子組織の周囲に第2の高分子組織が形成
されたものであることを特徴とする。
に本発明が講じた手段は、液晶と高分子とを互いに分散
させてなる液晶複合層を備え、該液晶複合層への電界の
印加状態により、光散乱状態と光透過状態とを実現する
ように構成された液晶電気光学装置において、前記高分
子が第1の高分子組織の周囲に第2の高分子組織が形成
されたものであることを特徴とする。
【0013】この手段によれば、液晶複合層中に分散さ
れた高分子を第1の高分子組織の周囲に第2の高分子組
織が形成されたものとすることによって、高分子の骨格
部分と、高分子の表面部分とを別の材質によって構成す
ることができることから、第1の高分子組織によって高
分子の骨格部分の機械的強度を設定し、第2の高分子組
織によって高分子の表面部分の電気光学的性質を設定す
ることができるため、高分子自体の特性にあまり束縛さ
れることなく、液晶複合層のストレス耐性と電気光学的
特性とを両立させることが可能となる。
れた高分子を第1の高分子組織の周囲に第2の高分子組
織が形成されたものとすることによって、高分子の骨格
部分と、高分子の表面部分とを別の材質によって構成す
ることができることから、第1の高分子組織によって高
分子の骨格部分の機械的強度を設定し、第2の高分子組
織によって高分子の表面部分の電気光学的性質を設定す
ることができるため、高分子自体の特性にあまり束縛さ
れることなく、液晶複合層のストレス耐性と電気光学的
特性とを両立させることが可能となる。
【0014】ここで、前記第1の高分子組織はストレス
耐性に優れた1又は複数の材質で構成され、前記第2の
高分子組織は電気光学的特性に優れた1又は複数の材質
で構成されていることが好ましい。
耐性に優れた1又は複数の材質で構成され、前記第2の
高分子組織は電気光学的特性に優れた1又は複数の材質
で構成されていることが好ましい。
【0015】この手段によれば、ストレス耐性に優れた
第1の高分子組織によって骨格部分を構成し、電気光学
的特性に優れた第2の高分子組織によって表面部分を構
成することによって、ストレス耐性と電気光学的特性と
をさらに高次元で両立させることができる。
第1の高分子組織によって骨格部分を構成し、電気光学
的特性に優れた第2の高分子組織によって表面部分を構
成することによって、ストレス耐性と電気光学的特性と
をさらに高次元で両立させることができる。
【0016】この場合にはまた、前記第1の高分子組織
は、ビフェニル2官能系、ターフェニル2官能系、ビス
フェノールAタイプ2官能系若しくは多官能系から選ば
れた少なくともいずれか1種の高分子前駆体を重合させ
たものであり、前記第2の高分子組織は、ビフェニル1
官能系若しくはターフェニル1官能系から選ばれた少な
くとも1種の高分子前駆体を重合させたものであること
が望ましい。
は、ビフェニル2官能系、ターフェニル2官能系、ビス
フェノールAタイプ2官能系若しくは多官能系から選ば
れた少なくともいずれか1種の高分子前駆体を重合させ
たものであり、前記第2の高分子組織は、ビフェニル1
官能系若しくはターフェニル1官能系から選ばれた少な
くとも1種の高分子前駆体を重合させたものであること
が望ましい。
【0017】この手段によれば、液晶電気光学装置とし
ての充分なストレス耐性と、駆動制御が容易で、しかも
表示品位の高い液晶表示体を構成するために充分な電気
光学的特性とを同時に得ることができる。
ての充分なストレス耐性と、駆動制御が容易で、しかも
表示品位の高い液晶表示体を構成するために充分な電気
光学的特性とを同時に得ることができる。
【0018】次に、液晶と高分子とを互いに分散させて
なる液晶複合層を備え、該液晶複合層への電界の印加状
態により、光散乱状態と光透過状態とを実現するように
構成された液晶電気光学装置の製造方法においては、前
記液晶複合層を形成するにあたり、予め、液晶中に第1
の高分子前駆体と第2の高分子前駆体とを含む複合溶液
を構成する工程と、次に、前記複合溶液において前記第
1の高分子前駆体を重合させて第1の高分子組織を分散
形成する第1重合工程と、さらに、前記複合溶液におい
て前記第2の高分子前駆体を重合させて前記第1の高分
子組織の周囲に第2の高分子組織を形成する第2重合工
程とを有するものである。
なる液晶複合層を備え、該液晶複合層への電界の印加状
態により、光散乱状態と光透過状態とを実現するように
構成された液晶電気光学装置の製造方法においては、前
記液晶複合層を形成するにあたり、予め、液晶中に第1
の高分子前駆体と第2の高分子前駆体とを含む複合溶液
を構成する工程と、次に、前記複合溶液において前記第
1の高分子前駆体を重合させて第1の高分子組織を分散
形成する第1重合工程と、さらに、前記複合溶液におい
て前記第2の高分子前駆体を重合させて前記第1の高分
子組織の周囲に第2の高分子組織を形成する第2重合工
程とを有するものである。
【0019】ここで、前記第1重合工程においては、前
記第1の高分子前駆体を重合させるが前記第2の高分子
前駆体を重合させない条件で重合反応を進めることが好
ましい。
記第1の高分子前駆体を重合させるが前記第2の高分子
前駆体を重合させない条件で重合反応を進めることが好
ましい。
【0020】また、前記第1の高分子前駆体はストレス
耐性に優れた1又は複数の高分子を構成する高分子前駆
体とし、前記第2の高分子前駆体は電気光学的特性に優
れた1又は複数の高分子を構成する高分子前駆体とする
ことが好ましい。
耐性に優れた1又は複数の高分子を構成する高分子前駆
体とし、前記第2の高分子前駆体は電気光学的特性に優
れた1又は複数の高分子を構成する高分子前駆体とする
ことが好ましい。
【0021】さらに、前記第1の高分子前駆体は、ビフ
ェニル2官能系、ターフェニル2官能系、ビスフェノー
ルAタイプ2官能系若しくは多官能系から選ばれた少な
くともいずれか1種の化合物であり、前記第2の高分子
前駆体は、ビフェニル1官能系若しくはターフェニル1
官能系から選ばれた少なくとも1種の化合物であること
が好ましい。
ェニル2官能系、ターフェニル2官能系、ビスフェノー
ルAタイプ2官能系若しくは多官能系から選ばれた少な
くともいずれか1種の化合物であり、前記第2の高分子
前駆体は、ビフェニル1官能系若しくはターフェニル1
官能系から選ばれた少なくとも1種の化合物であること
が好ましい。
【0022】この場合にはさらに、前記第1重合工程
は、主として波長370nm以上の波長域の光によって
重合させる工程であり、前記第2重合工程は、波長37
0nm未満の波長域を含む光によって重合させる工程で
あることが望ましい。
は、主として波長370nm以上の波長域の光によって
重合させる工程であり、前記第2重合工程は、波長37
0nm未満の波長域を含む光によって重合させる工程で
あることが望ましい。
【0023】この手段によれば、波長370nm以上の
波長域の光によって重合させると、ほぼ第1の高分子前
駆体のみが重合反応を起こして第1の高分子組織からな
る骨格部分が形成され、次に、波長370nm未満の波
長域を含む光によって重合させることにより、第2の高
分子前駆体も重合反応を起こすため、高分子の骨格部分
の周囲に第2の高分子組織からなる表面部分を形成する
ことができる。
波長域の光によって重合させると、ほぼ第1の高分子前
駆体のみが重合反応を起こして第1の高分子組織からな
る骨格部分が形成され、次に、波長370nm未満の波
長域を含む光によって重合させることにより、第2の高
分子前駆体も重合反応を起こすため、高分子の骨格部分
の周囲に第2の高分子組織からなる表面部分を形成する
ことができる。
【0024】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る実施形態について説明する。本実施形態において
用いる液晶電気光学装置の製造方法は、液晶と高分子前
駆体(モノマー)とを互いに相溶させてなる複合溶液を
液晶セルの内部に注入し、その後、液晶セルの外側から
紫外線などの光を照射することによって、複合溶液中の
高分子前駆体を光重合させて、液晶中に高分子を生成さ
せるものである。
に係る実施形態について説明する。本実施形態において
用いる液晶電気光学装置の製造方法は、液晶と高分子前
駆体(モノマー)とを互いに相溶させてなる複合溶液を
液晶セルの内部に注入し、その後、液晶セルの外側から
紫外線などの光を照射することによって、複合溶液中の
高分子前駆体を光重合させて、液晶中に高分子を生成さ
せるものである。
【0025】本実施形態において形成される液晶高分子
複合層は、液晶と高分子とを互いに分散させるととも
に、液晶と高分子とを相分離させたものである。また、
本実施形態は特に、この液晶高分子複合層を用いて、電
界の印加により液晶を電界方向に配向させると光散乱状
態になるようにすることが好ましい。さらに、液晶と高
分子とは、電界無印加状態において液晶と高分子とがほ
ぼ同一方向に配向していることが望ましい。
複合層は、液晶と高分子とを互いに分散させるととも
に、液晶と高分子とを相分離させたものである。また、
本実施形態は特に、この液晶高分子複合層を用いて、電
界の印加により液晶を電界方向に配向させると光散乱状
態になるようにすることが好ましい。さらに、液晶と高
分子とは、電界無印加状態において液晶と高分子とがほ
ぼ同一方向に配向していることが望ましい。
【0026】液晶としては、誘電異方性及び屈折率異方
性を備えたものであれば、種々の液晶を用いることがで
きるが、特に、ネマチック液晶を用いることができ、ま
た、液晶にカイラル成分や2色性色素を含有させてもよ
い。
性を備えたものであれば、種々の液晶を用いることがで
きるが、特に、ネマチック液晶を用いることができ、ま
た、液晶にカイラル成分や2色性色素を含有させてもよ
い。
【0027】高分子は、液晶との屈折率差が所定の値に
なるものであれば種々の高分子を用いることができる
が、特に、ビフェニル側鎖を含有する高分子、紫外線硬
化型高分子、熱硬化型高分子、熱可塑型高分子、高分子
液晶とすることができる。さらに、重合部と芳香環部を
有する高分子前駆体を少なくとも二種類以上重合してな
るものとすることができる。
なるものであれば種々の高分子を用いることができる
が、特に、ビフェニル側鎖を含有する高分子、紫外線硬
化型高分子、熱硬化型高分子、熱可塑型高分子、高分子
液晶とすることができる。さらに、重合部と芳香環部を
有する高分子前駆体を少なくとも二種類以上重合してな
るものとすることができる。
【0028】また、高分子前駆体の少なくとも一種類
は、芳香環部あるいは芳香環部に付随する側鎖上にフッ
素原子を含有しているか、芳香環部にナフタレン、フェ
ニルあるいはビフェニル及びこれらの誘導体を含んでい
るものとすることができる。
は、芳香環部あるいは芳香環部に付随する側鎖上にフッ
素原子を含有しているか、芳香環部にナフタレン、フェ
ニルあるいはビフェニル及びこれらの誘導体を含んでい
るものとすることができる。
【0029】高分子は、粒径0.1〜10μmの範囲内
の粒状であることが好ましく、このような粒径を実現す
るために、液晶と高分子との相分離の速度を調整するこ
とが望ましい。
の粒状であることが好ましく、このような粒径を実現す
るために、液晶と高分子との相分離の速度を調整するこ
とが望ましい。
【0030】高分子前駆体としては、特に、ビフェニル
メタノールのメタクリル酸エステルあるいはアクリル酸
エステルあるいはこれらの化合物の誘導体を用いること
ができ、また、ナフトールのメタクリル酸エステルある
いはアクリル酸エステル或いはこれらの化合物の誘導体
を用いることが可能である。さらに、高分子前駆体とし
ては、前記エステルにビフェノールのメタクリル酸エス
テル誘導体あるいはアクリル酸エステル誘導体を混合し
たものを用いてもよい。
メタノールのメタクリル酸エステルあるいはアクリル酸
エステルあるいはこれらの化合物の誘導体を用いること
ができ、また、ナフトールのメタクリル酸エステルある
いはアクリル酸エステル或いはこれらの化合物の誘導体
を用いることが可能である。さらに、高分子前駆体とし
ては、前記エステルにビフェノールのメタクリル酸エス
テル誘導体あるいはアクリル酸エステル誘導体を混合し
たものを用いてもよい。
【0031】本実施形態は上述のような液晶高分子複合
層を形成することを前提とするものであり、以下のよう
な方法によって形成される。
層を形成することを前提とするものであり、以下のよう
な方法によって形成される。
【0032】まず、上述のような各種の高分子の中か
ら、前述の電気光学的特性(明るさ=透明性、コントラ
スト、駆動電圧などの特性)には劣るが、前述のストレ
ス耐性(機械的応力、電界、温度等による高分子組織の
破壊に対する耐性)の良好な第1の高分子群と、ストレ
ス耐性には劣るが、電気光学的特性の良好な第2の高分
子群とをそれぞれ選定する。
ら、前述の電気光学的特性(明るさ=透明性、コントラ
スト、駆動電圧などの特性)には劣るが、前述のストレ
ス耐性(機械的応力、電界、温度等による高分子組織の
破壊に対する耐性)の良好な第1の高分子群と、ストレ
ス耐性には劣るが、電気光学的特性の良好な第2の高分
子群とをそれぞれ選定する。
【0033】第1の高分子群の高分子前駆体には、たと
えば、化1に示すビフェニル2官能系がある。化1に示
す化学式中、Aはメタクリレート(以下、単に「MA」
で示す。)やアクリレート(以下、単に「AC」で示
す。)であり、X1 ,X2はF、Cl、H、Brなど
である。ただし、X1 ,X2 は必須要素ではない。
代表的な例として、化2に示すもの(以下、単に「2
P」という。)がある。
えば、化1に示すビフェニル2官能系がある。化1に示
す化学式中、Aはメタクリレート(以下、単に「MA」
で示す。)やアクリレート(以下、単に「AC」で示
す。)であり、X1 ,X2はF、Cl、H、Brなど
である。ただし、X1 ,X2 は必須要素ではない。
代表的な例として、化2に示すもの(以下、単に「2
P」という。)がある。
【0034】
【化1】
【0035】
【化2】
【0036】また、第1の高分子群の高分子前駆体とし
ては、化3に示すターフェニル2官能系がある。ここ
で、化3に示す化学式中、Aは上記と同じものであり、
XはH,F,F2 ,Cl,CH3 などである。ただ
し、Xは必須要素ではない。代表的な例として、化4に
示すもの(以下、単に「2TMP」という。)、或い
は、化5に示すもの(以下、単に「2TFP」とい
う。)などがある。ここで、MAは上記と同じものであ
る。
ては、化3に示すターフェニル2官能系がある。ここ
で、化3に示す化学式中、Aは上記と同じものであり、
XはH,F,F2 ,Cl,CH3 などである。ただ
し、Xは必須要素ではない。代表的な例として、化4に
示すもの(以下、単に「2TMP」という。)、或い
は、化5に示すもの(以下、単に「2TFP」とい
う。)などがある。ここで、MAは上記と同じものであ
る。
【0037】
【化3】
【0038】
【化4】
【0039】
【化5】
【0040】さらに、同様に第1の高分子群の高分子前
駆体としては、化6に示すビスフェノールAタイプ2官
能系がある。ここで、Aは上記と同じものであり、Y
は、C(CH3 )2 、C(CF3 )2 、O、S
などである。代表的な例として、化7に示すものがあ
る。ここで、MAは上記と同じものである。
駆体としては、化6に示すビスフェノールAタイプ2官
能系がある。ここで、Aは上記と同じものであり、Y
は、C(CH3 )2 、C(CF3 )2 、O、S
などである。代表的な例として、化7に示すものがあ
る。ここで、MAは上記と同じものである。
【0041】
【化6】
【0042】
【化7】
【0043】さらに、第1の高分子の前駆体には、化8
に示す多官能系(Aは上記と同じものである。)があ
る。一般に、2以上の官能基を有する化合物は、重合に
よって機械的に強固な骨格を形成することができるもの
と考えられ、本実施形態における第1の高分子を構成す
るものとして適している。
に示す多官能系(Aは上記と同じものである。)があ
る。一般に、2以上の官能基を有する化合物は、重合に
よって機械的に強固な骨格を形成することができるもの
と考えられ、本実施形態における第1の高分子を構成す
るものとして適している。
【0044】
【化8】
【0045】第2の高分子群の高分子前駆体としては、
化9に示すビフェニル1官能系がある。化9に示す化学
式中、A、X1 、X2 は上記と同じものであり、Z
はCN、アルキル、H、アルコキシ、Br、Fなどであ
る。ただし、X1 ,X2,Zは必須要素ではない。代
表的なものとして、化10に示す化合物(以下、単に
「P」という。)がある。ここで、MAは上記と同じも
のである。
化9に示すビフェニル1官能系がある。化9に示す化学
式中、A、X1 、X2 は上記と同じものであり、Z
はCN、アルキル、H、アルコキシ、Br、Fなどであ
る。ただし、X1 ,X2,Zは必須要素ではない。代
表的なものとして、化10に示す化合物(以下、単に
「P」という。)がある。ここで、MAは上記と同じも
のである。
【0046】
【化9】
【0047】
【化10】
【0048】また、第2の高分子群の高分子前駆体とし
ては、化11に示すターフェニル1官能系がある。ここ
で、A、X1 、Zは上記と同じものである。ただし、
X1,Zは必須要素ではない。代表的なものとしては、
化12に示す化合物(以下、単に「TFP」という。)
がある。ここで、MAは上記と同じものである。
ては、化11に示すターフェニル1官能系がある。ここ
で、A、X1 、Zは上記と同じものである。ただし、
X1,Zは必須要素ではない。代表的なものとしては、
化12に示す化合物(以下、単に「TFP」という。)
がある。ここで、MAは上記と同じものである。
【0049】
【化11】
【0050】
【化12】
【0051】これらの第1の高分子と第2の高分子と
は、一般的に、モノマーの官能基の数が異なることか
ら、相互に重合条件が異なる場合が多い。たとえば、上
記の2P、2TMP、2TFPは、波長370〜400
nmの範囲の光によっても重合するのに対し、上記の
P、TFPは当該範囲の紫外線ではほとんど重合反応が
進行せず、波長370nm未満の光によって重合させる
ことができる。
は、一般的に、モノマーの官能基の数が異なることか
ら、相互に重合条件が異なる場合が多い。たとえば、上
記の2P、2TMP、2TFPは、波長370〜400
nmの範囲の光によっても重合するのに対し、上記の
P、TFPは当該範囲の紫外線ではほとんど重合反応が
進行せず、波長370nm未満の光によって重合させる
ことができる。
【0052】次に、本実施形態の液晶層及びこの液晶層
を形成する場合の製造方法の概要について説明する。本
実施形態の液晶層は、上述の第1の高分子群に属する1
又は複数の高分子組織を骨格とし、その周囲に第2の高
分子群に属する1又は複数の高分子組織を形成した高分
子を液晶中に分散配置したものである。
を形成する場合の製造方法の概要について説明する。本
実施形態の液晶層は、上述の第1の高分子群に属する1
又は複数の高分子組織を骨格とし、その周囲に第2の高
分子群に属する1又は複数の高分子組織を形成した高分
子を液晶中に分散配置したものである。
【0053】この液晶層の製造工程としては、まず、液
晶31に第1の高分子群に属する高分子のモノマー(以
下、単に「第1モノマー」という。)と、第2の高分子
群に属する高分子のモノマー(以下、単に「第2モノマ
ー」という。)とを相溶させて、複合溶液を作り、この
複合溶液に対して、図1(a)に示すように、第1モノ
マーのみが重合する条件で重合反応を生起させ、液晶3
1中に第1の高分子33の組織からなる骨格を分散形成
する。
晶31に第1の高分子群に属する高分子のモノマー(以
下、単に「第1モノマー」という。)と、第2の高分子
群に属する高分子のモノマー(以下、単に「第2モノマ
ー」という。)とを相溶させて、複合溶液を作り、この
複合溶液に対して、図1(a)に示すように、第1モノ
マーのみが重合する条件で重合反応を生起させ、液晶3
1中に第1の高分子33の組織からなる骨格を分散形成
する。
【0054】次に、上記複合溶液に対して、第2モノマ
ーが重合する条件で重合反応を生起させる。このことに
よって、図1(b)に示すように、上記の第1の高分子
33を生成核として、その周囲に、第2の高分子34が
形成される。この工程によって、液晶層30において
は、第1の高分子33を骨格としてその表面に第2の高
分子34が形成された高分子粒子が液晶中に分散配置さ
れる。
ーが重合する条件で重合反応を生起させる。このことに
よって、図1(b)に示すように、上記の第1の高分子
33を生成核として、その周囲に、第2の高分子34が
形成される。この工程によって、液晶層30において
は、第1の高分子33を骨格としてその表面に第2の高
分子34が形成された高分子粒子が液晶中に分散配置さ
れる。
【0055】このようにして形成した液晶層30は、後
述するように、第1の高分子33とほぼ同様のストレス
耐性を備えると同時に、第2の高分子34と同様の電気
光学的特性を備えるものとなる。
述するように、第1の高分子33とほぼ同様のストレス
耐性を備えると同時に、第2の高分子34と同様の電気
光学的特性を備えるものとなる。
【0056】なお、本実施形態は、種々の形式の液晶表
示装置に適用可能であり、パッシブマトリクス型、TF
T、MIMなどのアクティブ素子を備えたアクティブマ
トリクス型などの各種の液晶表示体に対して用いること
ができる。また、透過型、反射型のいずれの液晶表示体
にも、さらに、モノクロ、カラー表示体のいずれにもそ
れぞれ適用できる。
示装置に適用可能であり、パッシブマトリクス型、TF
T、MIMなどのアクティブ素子を備えたアクティブマ
トリクス型などの各種の液晶表示体に対して用いること
ができる。また、透過型、反射型のいずれの液晶表示体
にも、さらに、モノクロ、カラー表示体のいずれにもそ
れぞれ適用できる。
【0057】
【実施例】次に、実際の液晶表示体の製造工程に沿って
上記の実施形態により液晶表示体を製造する方法及び製
造された液晶表示体の特性について説明する。液晶表示
体の製造工程においては、複合溶液の調合、液晶セルへ
の複合溶液の注入、光照射、特性測定、エージング、特
性測定の各工程を順次に行う。
上記の実施形態により液晶表示体を製造する方法及び製
造された液晶表示体の特性について説明する。液晶表示
体の製造工程においては、複合溶液の調合、液晶セルへ
の複合溶液の注入、光照射、特性測定、エージング、特
性測定の各工程を順次に行う。
【0058】複合溶液の調合においては、液晶として、
BL007(メルク社製、製品番号)と、RDP506
14(ロディック社製、製品番号)とを重量比で5:5
の割合で混合し、微量のカイラル剤を添加した。
BL007(メルク社製、製品番号)と、RDP506
14(ロディック社製、製品番号)とを重量比で5:5
の割合で混合し、微量のカイラル剤を添加した。
【0059】一方、上記液晶に混合させるモノマー量と
しては、カイラル剤を添加した液晶94wt%に対して
6wt%になるようにした。ただし、モノマー量は2〜
10wt%の範囲内において好ましい特性を備えた液晶
表示体を構成することが可能である。モノマー量が上記
範囲よりも少なくなると、ストレス耐性が悪化し、ま
た、モノマー量が上記範囲よりも多くなると、表示切り
替えの際の駆動電圧が上昇して好ましくない。
しては、カイラル剤を添加した液晶94wt%に対して
6wt%になるようにした。ただし、モノマー量は2〜
10wt%の範囲内において好ましい特性を備えた液晶
表示体を構成することが可能である。モノマー量が上記
範囲よりも少なくなると、ストレス耐性が悪化し、ま
た、モノマー量が上記範囲よりも多くなると、表示切り
替えの際の駆動電圧が上昇して好ましくない。
【0060】モノマーのうち、第1モノマー量と第2モ
ノマー量との重量比は、1:10〜10:1の範囲で適
宜調製できる。この範囲を逸脱すると、本実施形態の効
果を十分に得ることが困難になる。
ノマー量との重量比は、1:10〜10:1の範囲で適
宜調製できる。この範囲を逸脱すると、本実施形態の効
果を十分に得ることが困難になる。
【0061】光照射の工程においては、従来例及び比較
例においては、紫外線を照射するブラックライトの照度
を4mW/cm2 とし、時間10分、温度50℃で1段
階で行った。
例においては、紫外線を照射するブラックライトの照度
を4mW/cm2 とし、時間10分、温度50℃で1段
階で行った。
【0062】これに対して本実施例においては、第1段
階として、ブラックライトの照射光のうち、光学フィル
タにより370nm以下の波長帯をカットして、照度4
mW/cm2 、時間20分、温度50℃の条件にて光照
射を行った。
階として、ブラックライトの照射光のうち、光学フィル
タにより370nm以下の波長帯をカットして、照度4
mW/cm2 、時間20分、温度50℃の条件にて光照
射を行った。
【0063】次に、上記の光照射の完了後に、光学フィ
ルタを除去して、照度4mW/cm2 、時間10分、温
度50℃の条件にて第2段階の光照射を行った。
ルタを除去して、照度4mW/cm2 、時間10分、温
度50℃の条件にて第2段階の光照射を行った。
【0064】光照射の第1段階、第2段階の条件は、液
晶やモノマーの材質、液晶セルの材質、構成などによっ
て適宜最適化される。紫外線ランプの照度は、数マイク
ロ〜数十ミリW/cm2 の範囲で、時間は数分〜数時間
の範囲で、温度は0〜100℃の範囲でそれぞれ行うこ
とが可能である。
晶やモノマーの材質、液晶セルの材質、構成などによっ
て適宜最適化される。紫外線ランプの照度は、数マイク
ロ〜数十ミリW/cm2 の範囲で、時間は数分〜数時間
の範囲で、温度は0〜100℃の範囲でそれぞれ行うこ
とが可能である。
【0065】上述の条件にて、製造された液晶表示体の
電気光学的特性及びストレス耐性について特性測定を行
い、評価を行った。各従来例、比較例及び実施例におけ
る第1モノマー及び第2モノマーの材質及び重量比、並
びに光照射条件の製造条件を表1に示し、これらの従来
例、比較例及び実施例における特性値を表2に示す。
電気光学的特性及びストレス耐性について特性測定を行
い、評価を行った。各従来例、比較例及び実施例におけ
る第1モノマー及び第2モノマーの材質及び重量比、並
びに光照射条件の製造条件を表1に示し、これらの従来
例、比較例及び実施例における特性値を表2に示す。
【0066】
【表1】
【0067】
【表2】
【0068】ここで、電気光学特性を示すものとして、
V10、Rmax、Roff*の3つを測定した。測定
の際に用いた光学系は、液晶表示体に半球状の拡散半球
光源から光を入射し、その反射光を半球中心部に穿設さ
れた細孔から取り出してレンズにて集光し、光電管にて
検出するものである。
V10、Rmax、Roff*の3つを測定した。測定
の際に用いた光学系は、液晶表示体に半球状の拡散半球
光源から光を入射し、その反射光を半球中心部に穿設さ
れた細孔から取り出してレンズにて集光し、光電管にて
検出するものである。
【0069】V10は、液晶表示体が最大反射率の10
%の反射率を呈する際の印加電圧(v)の値である。こ
の値が低いほど、駆動電圧が低く、駆動特性が良好であ
ることを示す。
%の反射率を呈する際の印加電圧(v)の値である。こ
の値が低いほど、駆動電圧が低く、駆動特性が良好であ
ることを示す。
【0070】また、Rmaxは、標準白色板を100%
とした場合の最大反射率の相対値である。この値が高い
ほど、光散乱状態における白色が強く、明るく、その結
果コントラストが高くなり、表示品位が良好であること
を示す。
とした場合の最大反射率の相対値である。この値が高い
ほど、光散乱状態における白色が強く、明るく、その結
果コントラストが高くなり、表示品位が良好であること
を示す。
【0071】さらに、Roff*は、エージング後の最
小反射率(光透過状態におけるもの)の値を示す。エー
ジングは、50℃にて、5V、100Hzの矩形波を7
0時間液晶表示体に通電することによって行った。この
値が低いほど、エージング後の光透過状態における不要
散乱が少なく、その結果コントラストが高くなり、表示
品位が良好であることを示す。更に電界と温度による焼
き付きや組織破壊に対する耐性に優れていることを示
す。
小反射率(光透過状態におけるもの)の値を示す。エー
ジングは、50℃にて、5V、100Hzの矩形波を7
0時間液晶表示体に通電することによって行った。この
値が低いほど、エージング後の光透過状態における不要
散乱が少なく、その結果コントラストが高くなり、表示
品位が良好であることを示す。更に電界と温度による焼
き付きや組織破壊に対する耐性に優れていることを示
す。
【0072】一方、機械ストレスに対する耐性を示すも
のとして、デジタルフォースゲージを使用した加圧試験
を行った。この試験は、円錐形のチップ先端を液晶表示
体の表面に当接させ、圧力を所定値まで上昇させた後、
速やかに解放するという方法で、液晶表示体に高分子の
組織破壊による白濁が発生する圧力値(相対値)を測定
するものである。
のとして、デジタルフォースゲージを使用した加圧試験
を行った。この試験は、円錐形のチップ先端を液晶表示
体の表面に当接させ、圧力を所定値まで上昇させた後、
速やかに解放するという方法で、液晶表示体に高分子の
組織破壊による白濁が発生する圧力値(相対値)を測定
するものである。
【0073】第2モノマーであるTFPのみを用いた従
来例1においては、V10が低く、Rmaxが高くなっ
ており、電気光学的特性はほぼ良好であるが、ストレス
耐性は、Roff*が高いこと、および0〜1000の
圧力範囲において白濁が発生していることから、きわめ
て悪い。
来例1においては、V10が低く、Rmaxが高くなっ
ており、電気光学的特性はほぼ良好であるが、ストレス
耐性は、Roff*が高いこと、および0〜1000の
圧力範囲において白濁が発生していることから、きわめ
て悪い。
【0074】第1モノマーである2TMPのみを用いた
従来例2においては、従来例1とは逆に、電気光学的特
性が極めて悪く、一方、ストレス耐性は、Roff*が
低いこと、および2000〜3000の圧力範囲で初め
て白濁することから、良好である。
従来例2においては、従来例1とは逆に、電気光学的特
性が極めて悪く、一方、ストレス耐性は、Roff*が
低いこと、および2000〜3000の圧力範囲で初め
て白濁することから、良好である。
【0075】比較例1〜4は、第1モノマーと第2モノ
マーとを単に混合した複合溶液を用いているが、光照射
は従来例と同様に1段階で行ったものである。各比較例
においては、それぞれ、第1モノマー、第2モノマーの
混合比や材質によって、電気光学的特性及びストレス耐
圧の双方が異なっているが、電気光学的特性とストレス
耐性のいずれも、従来例1と従来例2の中間の値を示し
ている。すなわち、電気光学的特性は従来例1よりも悪
く、ストレス耐性は従来例2よりも悪い。
マーとを単に混合した複合溶液を用いているが、光照射
は従来例と同様に1段階で行ったものである。各比較例
においては、それぞれ、第1モノマー、第2モノマーの
混合比や材質によって、電気光学的特性及びストレス耐
圧の双方が異なっているが、電気光学的特性とストレス
耐性のいずれも、従来例1と従来例2の中間の値を示し
ている。すなわち、電気光学的特性は従来例1よりも悪
く、ストレス耐性は従来例2よりも悪い。
【0076】実施例1〜3は、第1モノマーと第2モノ
マーとを混合し、光照射を上述のように2段階にて行っ
たものである。各実施例においては、電気光学的特性に
関しては、従来例1とほぼ同様の値を示し、ストレス耐
性に関しては、従来例2とほぼ同様の値を示している。
マーとを混合し、光照射を上述のように2段階にて行っ
たものである。各実施例においては、電気光学的特性に
関しては、従来例1とほぼ同様の値を示し、ストレス耐
性に関しては、従来例2とほぼ同様の値を示している。
【0077】このように、上記実施例1〜3において
は、電気光学的特性の良好な従来例1と同等の電気光学
的特性を示し、しかも、ストレス耐性の良好な従来例2
と同等のストレス耐性を示す。
は、電気光学的特性の良好な従来例1と同等の電気光学
的特性を示し、しかも、ストレス耐性の良好な従来例2
と同等のストレス耐性を示す。
【0078】上記実施形態及び各実施例においては、液
晶と高分子前駆体とを相溶させてなる溶液に対し、光照
射を行って液晶から高分子を相分離させてなる液晶高分
子複合層を有するものについて説明したが、本発明はこ
のように形成されたものに限定されることなく、液晶と
高分子とを相互に分散させてなる種々の高分子分散型の
液晶電気光学装置に適用させることができる。
晶と高分子前駆体とを相溶させてなる溶液に対し、光照
射を行って液晶から高分子を相分離させてなる液晶高分
子複合層を有するものについて説明したが、本発明はこ
のように形成されたものに限定されることなく、液晶と
高分子とを相互に分散させてなる種々の高分子分散型の
液晶電気光学装置に適用させることができる。
【0079】たとえば、上記のような重合法に限らず、
高分子と液晶とを共通溶媒に溶解し、基板上にキャスト
する方法、高分子多孔質膜中に液晶を含浸させる方法、
高分子の水溶液に液晶を乳化、分散させてキャストする
乳化法なども使用できる。
高分子と液晶とを共通溶媒に溶解し、基板上にキャスト
する方法、高分子多孔質膜中に液晶を含浸させる方法、
高分子の水溶液に液晶を乳化、分散させてキャストする
乳化法なども使用できる。
【0080】また、上記実施形態のように、液晶中に高
分子の粒子が分散されているものに限らず、逆に、高分
子中に液晶が分散されているものでもよい。
分子の粒子が分散されているものに限らず、逆に、高分
子中に液晶が分散されているものでもよい。
【0081】さらに、重合法であっても、光重合ではな
く、熱重合その他の重合方法によっても製造することが
可能である。
く、熱重合その他の重合方法によっても製造することが
可能である。
【0082】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
の効果を奏する。
の効果を奏する。
【0083】請求項1によれば、液晶複合層中に分散さ
れた高分子を第1の高分子組織の周囲に第2の高分子組
織が形成されたものとすることによって、高分子の骨格
部分と、高分子の表面部分とを別の材質によって構成す
ることができることから、第1の高分子組織によって高
分子の骨格部分の機械的強度を設定し、第2の高分子組
織によって高分子の表面部分の電気光学的性質を設定す
ることができるため、高分子自体の特性にあまり束縛さ
れることなく、液晶複合層のストレス耐性と電気光学的
特性とを両立させることが可能となる。
れた高分子を第1の高分子組織の周囲に第2の高分子組
織が形成されたものとすることによって、高分子の骨格
部分と、高分子の表面部分とを別の材質によって構成す
ることができることから、第1の高分子組織によって高
分子の骨格部分の機械的強度を設定し、第2の高分子組
織によって高分子の表面部分の電気光学的性質を設定す
ることができるため、高分子自体の特性にあまり束縛さ
れることなく、液晶複合層のストレス耐性と電気光学的
特性とを両立させることが可能となる。
【0084】請求項2又は請求項6によれば、ストレス
耐性に優れた第1の高分子組織によって骨格部分を構成
し、電気光学的特性に優れた第2の高分子組織によって
表面部分を構成することによって、ストレス耐性と電気
光学的特性とをさらに高次元で両立させることができ
る。
耐性に優れた第1の高分子組織によって骨格部分を構成
し、電気光学的特性に優れた第2の高分子組織によって
表面部分を構成することによって、ストレス耐性と電気
光学的特性とをさらに高次元で両立させることができ
る。
【0085】請求項3又は請求項7によれば、液晶電気
光学装置としての充分なストレス耐性と、駆動制御が容
易で、しかも表示品位の高い液晶表示体を構成するため
に充分な電気光学的特性とを同時に得ることができる。
光学装置としての充分なストレス耐性と、駆動制御が容
易で、しかも表示品位の高い液晶表示体を構成するため
に充分な電気光学的特性とを同時に得ることができる。
【0086】請求項4によれば、重合工程を2段階にて
行うことにより、第1の高分子組織を骨格として、その
周囲に第2の高分子組織を容易に形成することができ
る。
行うことにより、第1の高分子組織を骨格として、その
周囲に第2の高分子組織を容易に形成することができ
る。
【0087】ここで、前記第1重合工程においては、前
記第1の高分子前駆体を重合させるが前記第2の高分子
前駆体を重合させない条件で重合反応を進めることが好
ましい。
記第1の高分子前駆体を重合させるが前記第2の高分子
前駆体を重合させない条件で重合反応を進めることが好
ましい。
【0088】請求項5によれば、第1重合工程において
第1の高分子前駆体のみを重合させることによって、ス
トレス耐性と電気光学的特性とをより高次元で両立させ
ることができる。
第1の高分子前駆体のみを重合させることによって、ス
トレス耐性と電気光学的特性とをより高次元で両立させ
ることができる。
【0089】請求項8によれば、波長370nm以上の
波長域の光によって重合させると、ほぼ第1の高分子前
駆体のみが重合反応を起こして第1の高分子組織からな
る骨格部分が形成され、次に、波長370nm未満の波
長域を含む光によって重合させることにより、第2の高
分子前駆体も重合反応を起こすため、高分子の骨格部分
の周囲に第2の高分子組織からなる表面部分を形成する
ことができる。
波長域の光によって重合させると、ほぼ第1の高分子前
駆体のみが重合反応を起こして第1の高分子組織からな
る骨格部分が形成され、次に、波長370nm未満の波
長域を含む光によって重合させることにより、第2の高
分子前駆体も重合反応を起こすため、高分子の骨格部分
の周囲に第2の高分子組織からなる表面部分を形成する
ことができる。
【図1】本発明に係る液晶電気光学装置の製造工程にお
ける第1の光照射段階を行った後の液晶層の概念的な拡
大図(a)及び第2の光照射段階を行った後の液晶層の
概念的な拡大図(b)である。
ける第1の光照射段階を行った後の液晶層の概念的な拡
大図(a)及び第2の光照射段階を行った後の液晶層の
概念的な拡大図(b)である。
【図2】高分子分散型の液晶表示体において、光透過状
態の構造を示す断面図(a)及び光散乱状態の構造を示
す断面図(b)である。
態の構造を示す断面図(a)及び光散乱状態の構造を示
す断面図(b)である。
30 液晶層 31 液晶 32 高分子 33 第1の高分子 34 第2の高分子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 周平 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 飯坂 英仁 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 矢崎 正幸 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内
Claims (8)
- 【請求項1】 液晶と高分子とを互いに分散させてなる
液晶複合層を備え、該液晶複合層への電界の印加状態に
より、光散乱状態と光透過状態とを実現するように構成
された液晶電気光学装置において、 前記高分子は、第1の高分子組織の周囲に第2の高分子
組織が形成されたものであることを特徴とする液晶電気
光学装置。 - 【請求項2】 請求項1において、前記第1の高分子組
織はストレス耐性に優れた1又は複数の材質で構成さ
れ、前記第2の高分子組織は電気光学的特性に優れた1
又は複数の材質で構成されていることを特徴とする液晶
電気光学装置。 - 【請求項3】 請求項2において、前記第1の高分子組
織は、ビフェニル2官能系、ターフェニル2官能系、ビ
スフェノールAタイプ2官能系若しくは多官能系から選
ばれた少なくともいずれか1種の高分子前駆体を重合さ
せたものであり、 前記第2の高分子組織は、ビフェニル1官能系若しくは
ターフェニル1官能系から選ばれた少なくとも1種の高
分子前駆体を重合させたものであることを特徴とする液
晶電気光学装置。 - 【請求項4】 液晶と高分子とを互いに分散させてなる
液晶複合層を備え、該液晶複合層への電界の印加状態に
より、光散乱状態と光透過状態とを実現するように構成
された液晶電気光学装置の製造方法において、 前記液晶複合層を形成するにあたり、予め、液晶中に第
1の高分子前駆体と第2の高分子前駆体とを含む複合溶
液を構成する工程と、 前記複合溶液において前記第1の高分子前駆体を重合さ
せて第1の高分子組織を分散形成する第1重合工程と、 前記複合溶液において前記第2の高分子前駆体を重合さ
せて前記第1の高分子組織の周囲に第2の高分子組織を
形成する第2重合工程とを有することを特徴とする液晶
電気光学装置の製造方法。 - 【請求項5】 請求項4において、前記第1重合工程に
おいては、前記第1の高分子前駆体を重合させるが前記
第2の高分子前駆体を重合させない条件で重合反応を進
めることを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。 - 【請求項6】 請求項4において、前記第1の高分子前
駆体はストレス耐性に優れた1又は複数の高分子を構成
する高分子前駆体とし、前記第2の高分子前駆体は電気
光学的特性に優れた1又は複数の高分子を構成する高分
子前駆体とすることを特徴とする液晶電気光学装置。 - 【請求項7】 請求項4において、前記第1の高分子前
駆体は、ビフェニル2官能系、ターフェニル2官能系、
ビスフェノールAタイプ2官能系若しくは多官能系から
選ばれた少なくともいずれか1種の化合物であり、 前記第2の高分子前駆体は、ビフェニル1官能系若しく
はターフェニル1官能系から選ばれた少なくとも1種の
化合物であることを特徴とする液晶電気光学装置の製造
方法。 - 【請求項8】 請求項7において、前記第1重合工程
は、主として波長370nm以上の波長域の光によって
重合させる工程であり、前記第2重合工程は、波長37
0nm未満の波長域を含む光によって重合させる工程で
あることを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9174472A JPH1124048A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 液晶電気光学装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9174472A JPH1124048A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 液晶電気光学装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1124048A true JPH1124048A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=15979087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9174472A Withdrawn JPH1124048A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 液晶電気光学装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1124048A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102786938A (zh) * | 2011-05-20 | 2012-11-21 | Dic株式会社 | 向列型液晶组合物以及使用其的液晶显示元件 |
US20130299741A1 (en) * | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. | Liquid crystal medium composition |
CN104136575A (zh) * | 2011-12-21 | 2014-11-05 | Dic株式会社 | 向列型液晶组合物和使用该液晶组合物的液晶显示元件 |
CN109960066A (zh) * | 2017-12-22 | 2019-07-02 | Dic株式会社 | 液晶显示元件的制造方法 |
CN110373213A (zh) * | 2018-04-13 | 2019-10-25 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 液晶组合物及应用该组合物的显示器 |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP9174472A patent/JPH1124048A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102786938A (zh) * | 2011-05-20 | 2012-11-21 | Dic株式会社 | 向列型液晶组合物以及使用其的液晶显示元件 |
CN104136575A (zh) * | 2011-12-21 | 2014-11-05 | Dic株式会社 | 向列型液晶组合物和使用该液晶组合物的液晶显示元件 |
CN107011922A (zh) * | 2011-12-21 | 2017-08-04 | Dic株式会社 | 向列型液晶组合物和使用该液晶组合物的液晶显示元件 |
US20130299741A1 (en) * | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. | Liquid crystal medium composition |
CN109960066A (zh) * | 2017-12-22 | 2019-07-02 | Dic株式会社 | 液晶显示元件的制造方法 |
JP2019113675A (ja) * | 2017-12-22 | 2019-07-11 | Dic株式会社 | 液晶表示素子の製造方法 |
CN109960066B (zh) * | 2017-12-22 | 2023-04-14 | Dic株式会社 | 液晶显示元件的制造方法 |
CN110373213A (zh) * | 2018-04-13 | 2019-10-25 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 液晶组合物及应用该组合物的显示器 |
TWI799540B (zh) * | 2018-04-13 | 2023-04-21 | 大陸商石家莊誠志永華顯示材料有限公司 | 液晶組合物及應用該組合物的顯示器 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040907 |