JPH11240096A

JPH11240096A - バリアリブ形成用エレメント及びこれを用いたバリアリブの製造法

Info

Publication number: JPH11240096A
Application number: JP4340098A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Nojiri; 剛野尻; Yoshiyuki Horibe; 芳幸堀部; Hiroyuki Tanaka; 裕之田仲; Kazuya Sato; 和也佐藤; Naoki Kimura; 直紀木村; Mariko Shimamura; 真理子島村; Seiji Tai; 誠司田井; Yukiko Muramatsu; 有紀子村松; Ikuo Mukai; 郁夫向
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 1998-02-25
Filing date: 1998-02-25
Publication date: 1999-09-07
Anticipated expiration: 2018-02-25
Also published as: JP4013093B2

Abstract

(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルのバリアリブ製
造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成で
きるバリアリブ形成用エレメント及びプラズマディスプ
レイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の
優れたバリアリブを形成できるバリアリブの製造法を提
供する。【解決手段】支持体フィルム上に、バリアリブ形成用
樹脂組成物層を有してなるバリアリブ形成用エレメント
及び除去可能な複数のレリーフパターンの設けられた基
板上に、前記バリアリブ形成用エレメントをバリアリブ
形成用樹脂組成物層が前記基板に接するようして積層
し、次いで前記複数のレリーフパターンの間隙に前記バ
リアリブ形成用樹脂組成物層を埋め込んだ後、レリーフ
パターンを除去して基板上にバリアリブ形成用樹脂組成
物からなるパターンを形成し、このパターンを焼成する
ことを特徴とするバリアリブの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルのバリアリブの形成に好適なバリアリブ形成
用エレメント、これを用いたバリアリブの製造法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般にプラズマディスプレイパネルのバ
リアリブは、例えば、信学技報Vol.89No.377 P.69、信
学技報Vol.91 No.407 P.49、特開平２−３０１９３４号
公報等に記載されるように、厚膜スクリーン印刷法、又
はサンドブラスト法によって形成されている。

【０００３】しかしながら、スクリーン印刷法の場合、
１００μｍ以上の高い障壁を得るためには多数回の繰返
し印刷が必要である、プラズマディスプレイパネルの市
場シェアとして期待される４０インチ以上の大画面パネ
ルを形成する際には、スクリーンメッシュの伸縮により
位置精度が低下する、画素密度の高精細化が難かしい等
の問題がある。

【０００４】一方、サンドブラスト法は、基材上に一様
に形成した障壁層上にレジストパターンを形成し、基材
上面へブラスト材を噴射することで、レジストパターン
被覆部以外を削り出してバリアリブを形成する。そのた
め画素密度がレジストパターンの解像度に依存し高精細
化が可能であるという特長をもつ。しかしながら、高価
な障壁材を削りだし、廃棄するため、非常にコストが高
くなる、障壁材は一般に鉛化合物を含有しており、削り
だされた障壁材の廃棄による環境汚染がある、高厚膜の
場合には障壁の底部が広がり矩形形状の障壁が得難い等
の問題がある。

【０００５】そこで、上記した問題を解消するための、
これらと異なる手法として、厚膜レリーフパターンを製
造し、その間隙に障壁となるバリアリブ材料を埋め込む
ことでバリアリブを製造する、アディティブ法（フォト
埋め込み法）が提案されている。この製造方法の場合、
バリアリブの位置精度に優れ、バリアリブの形状に優
れ、余分なバリアリブ材料が極めて少量のため低コス
ト、低公害である等の特長を持つことが可能となる。

【０００６】しかしながら、フォト埋め込み法の場合、
レリーフパターンの間隙へバリアリブ材料を埋め込むた
めには、バリアリブ材料をペースト状にし、スクリーン
印刷法を用いる必要がある。したがって、埋め込み前に
バリアリブ材料を充分撹拌し、バリアリブ材料中に含ま
れる各成分の分散性を確認する必要があり、また、プラ
ズマディスプレイパネルのバリアリブは、１００μｍ〜
２５０μｍの厚膜にしなければならないため、スクリー
ン印刷工程を数回繰り返す必要があり、場合によっては
レリーフパターンを除去する際に、レリーフパターン上
の不必要なバリアリブ材料を研磨等によって除去する必
要があるため、工程が複雑で長いという問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】請求項１及び２記載の
発明は、プラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造
工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成でき
るバリアリブ形成用エレメントを提供するものである。
請求項３記載の発明は、プラズマディスプレイパネルの
バリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリア
リブを形成できるバリアリブの製造法を提供するもので
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体フィル
ム上に、バリアリブ形成用樹脂組成物層を有してなるバ
リアリブ形成用エレメントに関する。また、本発明は、
バリアリブ形成用樹脂組成物層が、無機材料及び有機バ
インダーを含むものである前記バリアリブ形成用エレメ
ントに関する。また、本発明は、除去可能な複数のレリ
ーフパターンの設けられた基板上に、前記バリアリブ形
成用エレメントをバリアリブ形成用樹脂組成物層が前記
基板に接するようして積層し、次いで前記複数のレリー
フパターンの間隙に前記バリアリブ形成用樹脂組成物層
を埋め込んだ後、レリーフパターンを除去して基板上に
バリアリブ形成用樹脂組成物からなるパターンを形成
し、このパターンを焼成することを特徴とするバリアリ
ブの製造法に関する。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明のバリアリブ形成用エレメ
ントは、支持体フィルム上に、バリアリブ形成用樹脂組
成物層を有してなる。本発明におけるバリアリブ形成用
エレメントは、バリアリブ形成用樹脂組成物層を構成す
る各成分を有機溶剤に均一に溶解又は分散した溶液（バ
リアリブ形成用樹脂組成物溶液）を、支持体フィルム上
に塗布、乾燥し、バリアリブ形成用樹脂組成物層を形成
することにより得られる。

【００１０】前記支持体フィルムとしては、例えば、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等からなる厚さ５〜１００μｍ
程度のフィルムが挙げられる。前記塗布方法としては、
公知の方法を用いることができ、例えば、ナイフコート
法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコー
ト法、バーコート法、カーテンコート法等が挙げられ
る。前記乾燥の温度は、６０〜１３０℃とすることが好
ましく、乾燥時間は、３分〜１時間とすることが好まし
い。前記した支持体フィルム及びバリアリブ形成用樹脂
組成物層を有するバリアリブ形成用エレメントは、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらにカバーフィル
ムが積層されていてもよい。そのようなカバーフィルム
としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリカーボネート等からなる厚さ５
〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。このように
して得られるバリアリブ形成用エレメントは、ロール状
に巻いて保管し、あるいは使用できる。

【００１１】バリアリブ形成用樹脂組成物層の厚さは、
レリーフパターン上面を覆うバリアリブ形成用樹脂組成
物層の厚さを１μｍ以下と極めて薄くでき、後の工程で
レリーフパターンの除去前にレリーフパターン上面を覆
うバリアリブ形成用樹脂組成物層を除去することを不必
要にできるかあるいは容易に除去することができる点か
ら、レリーフパターンが設けられた基板の単位面積当た
りのレリーフパターンとレリーフパターンの空隙の容積
（Ｖ２）と単位面積当たりのバリアリブ形成用樹脂組成
物層の体積（Ｖ１）の比（（Ｖ１）／（Ｖ２））が、１
〜１．２の範囲となるような厚さにすることが好まし
く、１．０２〜１．１８の範囲となるような厚さにする
ことがより好ましく、１．０５〜１．１５の範囲となる
ような厚さにすることが特に好ましい。ここで、（Ｖ
１）／（Ｖ２）が１未満である場合には、レリーフパタ
ーンとレリーフパターンの間隙にバリアリブ形成用樹脂
組成物を充分に埋め込めない傾向があり、また、（Ｖ
１）／（Ｖ２）が２を超える場合には、レリーフパター
ン上面を覆う不必要なバリアリブ形成用樹脂組成物層の
厚さが大きくなる傾向がある。上記の点を考慮したバリ
アリブ形成用樹脂組成物層の厚さは、概ね１０〜２００
μｍである。

【００１２】バリアリブ形成用樹脂組成物層は、１００
℃での粘度が１〜１×１０⁷Pa・secであることが好まし
く、２〜１×１０⁶Pa・secであることがより好ましく、
５〜１×１０⁵Pa・secであることが特に好ましく、１０
〜１×１０⁴Pa・secであることが極めて好ましい。この
１００℃での粘度が、１Pa・sec未満では、室温での粘度
が低くなりすぎてバリアリブ形成用エレメントとした場
合に、バリアリブ形成用樹脂組成物層が流動により端部
から滲み出す傾向があり、フィルム形成性が低下する傾
向がある。また、１×１０⁷Pa・secを超えると、レリー
フパターンとレリーフパターンの間隙へのバリアリブ形
成用樹脂組成物層の埋め込み性が低下する傾向がある。

【００１３】本発明のバリアリブ形成用エレメントの製
造に用いられるバリアリブ形成用樹脂組成物溶液は、無
機材料、有機バインダー、有機溶剤等を含んでなる。上
記無機材料としては、ガラス粉末、アルミナ（Ａｌ
₂Ｏ₃）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化カ
リウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム、酸化ジルコ
ニウム、酸化カドミウム、酸化銅、酸化マグネシウム、
酸化マンガン、酸化ビスマス等の金属酸化物、顔料など
が使用される。上記ガラス粉末のガラス組成としては、
ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃・ＳｉＯ₂、ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ・
Ｂ₂Ｏ₃・ＳｉＯ₂等が挙げられる。これら無機材料の軟
化点は、３５０〜１，０００℃、粒度は、０．１〜３０
μｍであることが、作業性、障壁の強度等の点から好ま
しい。無機材料中、ガラス粉末の含有量は、形成される
障壁の強度、焼成時の形状保持性の点から、３０〜７５
重量％とすることが好ましい。

【００１４】有機バインダーは焼成前までパターン状に
形成されたバイリアリブ形成用樹脂組成物の形状を保持
する目的で使用されるもので、公知のポリマー、オリゴ
マー、モノマー等から構成される。これらの有機バイン
ダーは、非硬化系でもでもよく、硬化系の場合は、熱硬
化系、光硬化系のいずれでもよい。前記ポリマーとして
は、例えば、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタ
クリレート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ酢酸ビ
ニル、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと
アクリル酸エステルとの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビ
ニルとの共重合体、スチレンとアクリル酸エステル又は
メタクリル酸エステルとの共重合体、ビニルトルエンと
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重
合体等が挙げられる。オリゴマーとしては、例えば、エ
チレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロー
ルプロパントリグリシジルエーテル等が挙げられる。モ
ノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレート、
ブチルアクリレート等が挙げられる。

【００１５】有機バインダーには、２−ヘプタデシルイ
ミダゾール、過酸化ベンゾイル、ジアミノジフェニルメ
タン等の有機バインダーを硬化系とするための触媒ある
いは硬化剤、ポリエチレングリコールジアセテート、ポ
リプロピレングリコールジアセテート等の可塑剤、γ−
グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のシラン
カップリング剤などを添加することもできる。有機バイ
ンダーの使用量は、無機材料の総量１００重量部に対し
て、１０〜３００重量部とすることが好ましい。この含
有量が１０部未満であると、バイリアリブ形成用樹脂組
成物をパターン状に形成することが困難となる傾向があ
り、３００重量部を超えると、バイリアリブ形成用樹脂
組成物中の有機物を焼成により熱分解、消失させる工程
でその熱分解、消失前の溶融段階で流動性が過大となり
バイリアリブ形成用樹脂組成物の形状保持性劣る傾向が
ある。

【００１６】上記有機溶剤としては、例えば、トルエ
ン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブ
チロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルム
アミド、テトラメチルスルホン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルア
ルコール等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以
上を組み合わせて使用される。有機溶剤の使用量は、バ
イリアリブ形成用樹脂組成物溶液の粘度が２０〜２００
ポイズとなるような量とすることが好ましく、そのよう
な使用量は、概ね無機材料１００重量部に対して１０〜
１００重量部程度である。有機溶剤の使用量が１０重量
部未満であるとバイリアリブ形成用樹脂組成物溶液の粘
度が大きすぎて塗布性が低下する傾向があり、１００重
量部を超えると乾燥後の目減りが大きすぎ所望の膜厚を
得ににくくなる傾向がある。

【００１７】バリアリブは、除去可能な複数のレリーフ
パターンの設けられた基板上にバリアリブ形成用エレメ
ントをバリアリブ形成用樹脂組成物層が前記基板に接す
るようして積層して前記複数のレリーフパターンの間隙
に前記バリアリブ形成用樹脂組成物層を埋め込んだ後、
レリーフパターンを除去して基板上にバリアリブ形成用
樹脂組成物からなるパターンを形成し、このパターンを
焼成することにより製造することができる。

【００１８】上記基板は、例えば、セラミック板、プラ
スチック板、ガラス板等が挙げられる。この基板上に
は、絶縁層、電極、保護層等が設けられていてもよい。

【００１９】基板上にレリーフパターンを形成する方法
は、所定の樹脂組成物を用い、印刷法を適用するか写真
法を適用することにより行いうるが、レリーフパターン
の精度の点からは写真法が好ましい。写真法は、基板上
に感光性樹脂組成物層を形成し、この感光性樹脂組成物
層をパターン状に露光し、現像して基板上にレリーフパ
ターンを形成する方法である。

【００２０】基板上に感光性樹脂組成物層を形成する方
法としては、感光性樹脂組成物を基板上に直接塗布し、
必要に応じて乾燥する方法、感光性フィルムを用い、ラ
ミネータにより感光性フィルムの感光性樹脂層を基板上
に積層することにより基板上に感光性樹脂層を設ける方
法等があるが、環境衛生の点、レリーフパターンの膜厚
（高さ）を大きくできる点から、後者の感光性フィルム
を用いる方法が好ましい。感光性フィルムは、支持フィ
ルム及び感光性樹脂層を有するもので、例えば、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム等の支持フィルム上に、
感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥して感光
性樹脂組成物層を形成することにより製造される。前記
感光性樹脂組成物は、特に制限なく公知のものを使用で
き、例えば、ネガ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性樹
脂組成物等を挙げることができる。ポジ型感光性樹脂組
成物としては、特に制限なく公知のものを使用できる
が、例えば、１，２−ナフトキノンジアジド系化合物、
ｏ−ニトロベンジル系化合物等を用いた光可溶性基生成
型の組成物、オニウム塩等を用いた光酸発生・酸分解型
の組成物等が挙げられる。

【００２１】ネガ型感光性樹脂組成物としては、特に制
限なく公知のものを使用できるが、例えば（ａ）エチレ
ン性不飽和化合物（ｂ）カルボキシル基含有フィルム性
付与ポリマ及び（ｃ）光重合開始剤を必須成分として含
有し、他に必要に応じて、（ｄ）染料又は顔料（ｅ）そ
の他添加物（ｆ）有機溶剤を含んだ光重合型の組成物が
挙げられる。このような感光性樹脂組成物を用いて基板
上に形成された感光性樹脂組成物層は、所定パターンの
ネガマスクを通して活性光線を照射する等により、パタ
ーン状に露光され、必要に応じて加熱された後、現像に
より感光性樹脂組成物層が選択的に除去されて基板上に
複数のレリーフパターンが形成される。現像方法として
は、特に制限されず、ウェット現像、ドライ現像等が挙
げられる。ウェット現像の場合は、感光性樹脂組成物に
対応した現像液を用いる。現像液としては、例えば、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の弱アルカリ性の希薄水
溶液が挙げられ、現像方式は、浸漬方式、スプレイ方式
等が挙げられる。また、現像後に基板上に形成されたレ
リーフパターンを、強度、耐溶剤性等の向上の目的で、
加熱及び／又は露光してもよい。得られるレリーフパタ
ーンの厚さ（高さ）は、５０〜２５０μｍ程度であり、
ストライプ型又は長方形型のレリーフパターンであれ
ば、その幅は５０〜２５０μｍである。

【００２２】このようにして形成されたレリーフパター
ンを有する基板上へのバリアリブ形成用エレメントを積
層は、バリアリブ形成用エレメントにカバーフィルムが
存在しているときは、そのカバーフィルムを除去後、レ
リーフパターンの設けられた面に、バリアリブ形成用樹
脂組成物層が接するようにして、ラミネーターを使用し
て圧着ロールで圧着すること等により行うことができ
る。

【００２３】圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱
手段を備えたものであってもよく、圧着する場合の加熱
温度は、１０〜１５０℃とすることが好ましく、２０〜
１３５℃とすることがより好ましく、３０〜１３０℃と
することが特に好ましい。この加熱温度が、１０℃未満
では、バリアリブ形成用樹脂組成物層のレリーフパター
ンの間隙への埋め込み性が低下する傾向があり、１４０
℃を超えると、バリアリブ形成用樹脂組成物層が熱硬化
する傾向がある。また、圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁵N/mとすることが好ましく、２．５×１０
²〜５×１０⁴N/mとすることがより好ましく、５×１０²
〜４×１０⁴N/mとすることが特に好ましい。この圧着圧
力が、５０N/m未満では、バリアリブ形成用樹脂組成物
層のレリーフパターンの間隙への埋め込み性が低下する
傾向があり、１×１０⁵N/mを超えると、レリーフパター
ンが破壊される傾向がある。

【００２４】バリアリブ形成用樹脂組成物層のレリーフ
パターンの間隙への埋め込み性を向上させる目的で、レ
リーフパターンの設けられた基板を３０〜１４０℃で
０．５〜２０分間程度予熱処理することが好ましい。ま
た、同様の目的で、上記圧着ロールの表面が、厚さ２０
０〜４００μｍ程度のゴム、プラスチック等の柔軟性に
富んだ材質で構成されてなるものを使用することもでき
る。また、同様の目的で、５×１０⁴Pa以下の減圧下
で、上記した圧着及び加熱圧着による積層の操作を行う
こともできる。また、積層が終了した後、３０〜２００
℃の範囲で、１〜１２０分間加熱することもでき、この
時、バリアリブ形成用樹脂組成物層上に支持体フィルム
が存在する場合には、その支持体フィルムを必要に応じ
て除去してもよい。

【００２５】本発明のバリアリブ形成用エレメントの前
記した加熱圧着時の加熱条件、圧着圧力条件及びレリー
フパターンが設けられた基板の予備加熱条件や、バリア
リブ形成用樹脂組成物の膜厚等の各条件の組み合わせ適
宜選択することにより、レリーフパターン上面を覆うバ
リアリブ形成用樹脂組成物層の厚さを１μｍ以下と極め
て薄くすることができる。

【００２６】このようにして基板上のレリーフパターン
の間隙にバリアリブ形成用樹脂組成物を埋込み、埋め込
まれたバリアリブ形成用樹脂組成物を必要に応じて加熱
又は露光して硬化し、次いで、レリーフパターンを除去
する。なお、レリーフパターンを除去する前に、レリー
フパターン上面を覆う不必要なバリアリブ形成用樹脂組
成物を薬液処理、研磨等により除去してもよい。レリー
フパターンは種々の方法で除去できるが、例えば、レリ
ーフパターンの除去を剥離液を用いて行う場合、使用す
る剥離液としては、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウ
ムの１〜１０重量％水溶液が挙げられる。この濃度が１
重量％未満の場合、剥離の効果が小さいために剥離時間
がかかりすぎる傾向があり、また、１０重量％を超える
場合には、バリアリブ形成用樹脂組成物を侵す傾向があ
る。剥離液の温度については、特に限定されず、レリー
フパターンの剥離を好適に行う条件を適宜設定すればよ
く、剥離方式としては、浸漬方式、スプレイ方式のいず
れも好適であり、浸漬方式及びスプレイ方式を併用して
もよい。なお、レリーフパターンをバリアリブ形成用樹
脂組成物とともに焼成することにより除去することも可
能である。

【００２７】レリーフパターンの除去後、基板上に残っ
たパターン状のバリアリブ形成用樹脂組成物から樹脂バ
インダー等の有機物を除去して、強度、ガス不透過性等
を向上する目的で、パターン状のバリアリブ形成用樹脂
組成物を焼成する。この焼成の温度と時間は、３５０〜
５８０℃、１〜２０時間程度である。このようにして製
造された基板上のバリアリブの厚さ（高さ）は、５０〜
２５０μｍ程度であり、その幅は２０〜１５０μｍ程度
である。

【００２８】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。製造例１〔バリアリブ形成用エレメントの製造〕表１に示す材料
を、ライカイ機を用いて１５分間混合し、バリアリブ形
成用樹脂組成物層用溶液（Ａ−１）を作製した。

【００２９】

【表１】

【００３０】得られた、バリアリブ形成用樹脂組成物層
用溶液（Ａ−１）を、５０μｍの厚さのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、１１０℃の熱
風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層を形成した。得られたバリア
リブ形成用樹脂組成物層の厚さは５０μｍであった。次
いで、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらに、
２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィ
ルムとして張り合わせて、バリアリブ形成用エレメント
（ｉ）を作製した。

【００３１】製造例２〔バリアリブ形成用エレメントの製造〕表２に示す材料
を、ライカイ機を用いて１５分間混合し、バリアリブ形
成用樹脂組成物層用溶液（Ａ−２）を作製した。

【００３２】

【表２】

【００３３】得られた、バリアリブ形成用樹脂組成物層
用溶液（Ａ−２）を、５０μｍの厚さのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、１１０℃の熱
風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層を形成した。得られたバリア
リブ形成用樹脂組成物層の厚さは５０μｍであった。次
いで、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらに、
２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィ
ルムとして張り合わせて、バリアリブ形成用エレメント
（ii）を作製した。

【００３４】実施例１〔レリーフパターンの形成〕メタクリル酸メチル／アク
リル酸エチル／メタクリル酸共重合体（重量比５３／３
０／１７、重量平均分子量１０万）の４１重量％メチル
セロソルブ／トルエン（重量比８：２）溶液１３７ｇ
（固形分５５ｇ）、ビスフェノールＡポリオキシエチレ
ンジメタクリート３４ｇ、γ−クロロ−β−ヒドロキシ
プロピル−β−メタクリロイルオキシエチル−Ｏ−フタ
レート１１ｇ、安定剤（ＡＷ−５００、川口化学株式会
社製）０．１ｇ、トリブロモメチルフェニルスルフォン
１．２ｇ、シリコーンレベリング剤（ＳＨ−１９３、ト
ーレシリコン株式会社製）０．０４ｇ、１，７ビス−
（９−アクリジニル）ヘプタン０．２ｇ、ベンジルジメ
チルケタール３ｇ、ロイコクリスタルバイオレット１．
０ｇ、マラカイトグリーン０．０５ｇ、トルエン７ｇ、
メチルエチルケトン１３ｇ及びメタノール３ｇを配合
し、感光性樹脂組成物の溶液を得た。

【００３５】この感光性樹脂組成物の溶液を２０μｍ厚
のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布
し、１１０℃の熱風対流式乾燥機で約１０分間乾燥して
感光性フィルムを得た。感光性樹脂層の乾燥後の膜厚は
５０μｍであった。次いで、得られた感光性フィルムを
基板の上に３層貼り合わせて、１５０μｍ厚さの感光性
樹脂層を形成した。基板として、ガラス板（３．０mm
厚）を用いた。ラミネートはラミネートロール温度１３
０℃、ロール圧４．０kgf/cm²、速度１．０ｍ／分の条
件で行った。次に、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム上にネガマスクを載置し、３KW高圧水銀灯（ＨＭＷ−
５９０、オーク製作所製）で８０mJ/cm²の露光を行っ
た。露光後５分以内に８０℃で１０分加熱した。

【００３６】次いで、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥がした後、３０℃、１重量％炭酸ソーダ水溶液
でスプレー現像を行った。次いで、２０℃、０．５重量
％塩化水素水溶液で浸漬処理し、水洗、水切り、８０℃
で５分乾燥後、７KWメタルハライドランプ（ＨＭＷ−６
８０、オーク製作所製）で２J/cm²露光した。次いで、
１５０℃で１００分加熱した。これにより、断面形状が
矩形で厚膜のレリーフパターンが設けられた基板（板ガ
ラス３mm厚、縦１０cm×横１０cm、ライン／スペース＝
１５０／７０μｍ、レリーフ厚１５０μｍ）を製造でき
た。

【００３７】〔バリアリブの形成〕このようなレリーフ
パターンが設けられた基板のレリーフパターン形成され
た側に、製造例１で得られたバリアリブ形成用エレメン
ト（ｉ）のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ラミ
ネータ（日立化成工業(株)製、商品名ＨＬＭ−１５００
型）を用いて、ラミネート温度が１００℃、ラミネート
速度が０．５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）が４×
１０⁵Pa（厚さが３mm、縦１０cm×横１０cmの基板を用
いたため、この時の線圧は９．８×１０³N/m）で、ポリ
エチレンテレフタレートフィルムを介してバリアリブ形
成用樹脂組成物層を圧着して積層し、バリアリブ形成用
樹脂組成物層をレリーフパターンの間隙に埋め込んだ。
なお、この時の（Ｖ１）／（Ｖ２）は１．０５であっ
た。

【００３８】次に、バリアリブ形成用エレメント（ｉ）
のレリーフパターンと接していない面のポリエチレンテ
レフタレートフィルムを剥離し、１６０℃、４５分間加
熱し、バリアリブ形成用樹脂組成物を硬化した。次い
で、４５℃、５重量％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬、
レリーフパターンを剥離して除去し、基板上にバリアリ
ブ形成用樹脂組成物からなるパターンを形成した。次い
で、このパターンをマッフル炉を使用し、空気中で焼成
してバリアリブを得た。焼成条件は、室温から４００℃
まで昇温速度が３℃／分で昇温し、４００℃で３０分間
保持、さらに、５５０℃まで昇温速度が５℃／分で昇温
し、５５０℃で３０分間保持、室温まで冷却するものと
した。以上において、レリーフパターンを剥離して除去
する際の剥離時間を測定し、また、バリアリブの断面
を、実体顕微鏡及び電子顕微鏡で観察し、その形成状況
を評価し、結果を表３に示した。

【００３９】実施例２実施例１において、製造例１で得られたバリアリブ形成
用エレメント（ｉ）を、製造例２で得られたバリアリブ
形成用エレメント（ii）に代えた以外は、実施例１と同
様に行い、結果を表３に示した。

【００４０】比較例１実施例１と同様にレリーフパターンが設けられた基板を
製造し、形成したレリーフパターン上に、バリアリブ材
料としてのリブペースト（製品名ＴＲ−０９９４、太陽
インキ製造(株)製）をスキージを使用して均一にレリー
フパターンの間隙に埋込んだ後、３分間の減圧（５トー
ル）脱泡を行い、８０℃で３０分間乾燥した。このよう
なリブペースト埋込み→減圧脱泡→乾燥工程をさらに２
回繰返した。次に、１６０℃、４５分間加熱しバリアリ
ブ材料を硬化した。次いで、４５℃、５重量％水酸化ナ
トリウム水溶液に浸漬して、レリーフパターンを剥離し
て除去しようとしたが、除去不能であった。以上の結果
を表３に示した。

【００４１】

【表３】表３中バリアリブ形状が良好とは、レリーフパターンと
レリーフパターンの間隙の形状に対応した形状が得られ
ていることを意味する。

【００４２】表３から、バリアリブ形成用エレメントを
使用した実施例１及び実施例２は、レリーフパターン上
の不必要なバリアリブ材料を除去するための研磨工程を
行わなくても、レリーフパターンを良好に剥離除去で
き、得られるバリアリブの形状も良好であることが分か
った。一方、バリアリブ形成用エレメントを使用しなか
った比較例１は、レリーフパターン上の不必要なバリア
リブ材料を除去するための研磨工程を行わなかったた
め、レリーフパターンを剥離除去することができないこ
とが分かった。

【００４３】

【発明の効果】請求項１及び２記載のバリアリブ形成用
エレメントは、プラズマディスプレイパネルのバリアリ
ブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形
成できるものである。請求項３記載のバリアリブの製造
法は、プラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工
程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成できる
ものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者佐藤和也茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者木村直紀茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者島村真理子茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者田井誠司茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者村松有紀子茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者向郁夫茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社山崎工場内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体フィルム上に、バリアリブ形成用
樹脂組成物層を有してなるバリアリブ形成用エレメン
ト。
【請求項２】バリアリブ形成用樹脂組成物層が、無機
材料及び有機バインダーを含むものである請求項１記載
のバリアリブ形成用エレメント。
【請求項３】除去可能な複数のレリーフパターンの設
けられた基板上に、請求項１又は２記載のバリアリブ形
成用エレメントをバリアリブ形成用樹脂組成物層が前記
基板に接するようして積層し、次いで前記複数のレリー
フパターンの間隙に前記バリアリブ形成用樹脂組成物層
を埋め込んだ後、レリーフパターンを除去して基板上に
バリアリブ形成用樹脂組成物からなるパターンを形成
し、このパターンを焼成することを特徴とするバリアリ
ブの製造法。