JPH1123837A - 光学フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】近赤外の光を効率よく吸収し、可視光の透過率
を上げ、可視光の反射を低く抑えた光学フィルターを提
供することにある。 【解決手段】近赤外域を５０％以上吸収し視感反射率が
３％以下である光学フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、近赤外線を吸収し
かつ可視光の反射を低くした光学フィルターに関する。
さらに詳しくは、赤外吸収をもたせた材料の可視光にお
ける透過率を高くして用いたい場合に有効であり、主
に、表示画面の前面に取り付けられ、特にＰＤＰの前面
に装着される反射防止光学フィルターに関する。さらに
は最近の電気機器は赤外線を利用したリモコンにより動
作させるものが非常に多いが、このような環境の中で他
の電気機器のリモコン誤動作を防止し、さらに表示画面
の前面につけられコントラストの向上や外光の写り込み
を防止する機能を有する光学フィルターに関する。さら
には、ＣＣＤカメラ用の光学フィルター、あるいは画像
が不鮮明になるのを防止する機能をもつ光学フィルター
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近赤外の光を吸収する色素として、特公
昭４６−３４５２号公報、特開昭５６−１３５５５１号
公報、特開昭６１−６４７６１号公報、特開昭６１−２
６６８６号公報には、金属錯体系色素が開示されてお
り、また、特開昭６０−４３６０５号公報、特開昭６２
−９０３号公報には、アントラキノン系色素が開示され
ており、さらにポリメチン系色素も知られている。さら
に最近では、特開昭６３−２９６００５号公報におい
て、ペンタセン系色素が開示されている。

【０００３】これらの色素を含有してなるプラスチック
を製造すると、どうしても赤外線の吸光度を増そうとす
るあまり、可視光まで吸収してしまうという問題があっ
た。例えば特開昭６２−９０３号公報に見られるよう
に、１．５ｍｍのアクリル板に混入させた場合、約５０
０ｎｍの波長付近で最大透過率となり、その極大値で約
４６％、視感透過率で約３５％程度であった。これは、
表示体の前面に取り付けて使用する用途では表示体が見
にくくなるという問題を起こした。

【０００４】また、ＣＣＤカメラ用の光学フィルターの
場合には、近赤外線吸収フィルターはすでに実用化さ
れ、モアレを防止する等の画像の鮮明さを良くする場合
に非常に効果的であるが、可視光における透過率が低く
なり、光量が低下するという問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、電気
機器などのリモコンの誤動作を発生させず、表示画面の
前面に取り付けても外光が気にならず、また画面に表示
された表示体を見やすくする光学フィルターを提供する
ことにある。

【０００６】また、最近注目されているＣＣＤカメラの
鮮明画像作成手段としての光学フィルターを提供するこ
とにある。

【０００７】さらに、近赤外線を効率よく吸収し、可視
光の反射率を抑えた光学フィルターを提供することにあ
る。

【０００８】さらにまた、近赤外線を吸収する材料であ
っても可視光透過率が大きい光学フィルターを提供する
ことにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を解決するため
の本発明は次の通りの構成を有する。すなわち、近赤外
域を８０％以上吸収し可視光域を反射防止する視感反射
率が３％以下である光学フィルターである。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明において、光学フィルター
の基体としては、ガラス平板やプラスチック平板、ある
いはプラスチックシート、フィルムなどが好ましく用い
られる。特に割れない、軽い、加工しやすい、扱いやす
い等の面でプラスチック製が好ましく用いられる。

【００１１】ここでいうプラスチックとしては、ポリメ
タクリル酸系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテ
ル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスル
フィド系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系
樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフ
タレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、マレイミド系樹
脂、ポリフォスファゼン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ
酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、スチ
レン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、繊維素系樹脂、ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート重合体（ＣＲ−
３９）などが挙げられる。特に光学フィルターや表示装
置の反射防止膜としてて使用する場合は、透明または半
透明のものが好ましく用いられる。最近の表示画面のコ
ントラストを向上させたり、画面を見やすくをために、
透過率を４０〜７０％程度にしたり、さらに色に対して
選択透過性をもたせたものが好ましく用いられる。表示
画面の色を損なわない程度のグレー系の色がさらに好ま
しい。

【００１２】また、ＣＣＤカメラの光学フィルターとし
て利用する場合には透過率の高い透明なものが好まし
い。

【００１３】本発明でいう近赤外域とは７００ｎｍ以上
１６００ｎｍ以下の波長域のことで、最近テレビ等の電
気製品で利用されている赤外線リモコンや各種センサー
に利用している波長域の７００ｎｍ以上１０００ｎｍ以
下の近赤外線を特に吸収することができる。

【００１４】本発明における光学フィルターを近赤外線
の発生源となるものに（例えばＰＤＰなど）取り付けれ
ば、該近赤外線が他の電気製品のリモコンのセンサに対
して誤動作を生じさせないようにすることができる。誤
動作を生じさせないようにするためには、かかる吸収率
を５０％以上さらには８０％以上にすることが好まし
い。具体的には電気製品につけられているセンサーの感
度にもよるが、５０％以上の吸収率でリモコンの誤動作
をほとんどなくすことが可能である。

【００１５】本発明における光学フィルターの基体がプ
ラスチック製である場合には、傷つき防止のためのハー
ドコートを施すことが好ましく用いられる。ハードコー
トとしては、熱キュア型のオルガノポリシロキサン系ハ
ードコートあるいは紫外線硬化型のアクリル系ハードコ
ートなどが好ましく用いられ、さらに好ましくは、基材
の屈折率と同等な屈折率を有するハードコートにする
と、干渉縞が見えにくい光学フィルターとなる。たとえ
ば、有機シラン化合物と酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸
化スズ、酸化ベリリウムおよび酸化チタンから選ばれる
少なくとも１種の無機化合物からなる微粒子を含有して
いるハードコートなどを好ましく用いる。

【００１６】本発明でいう耐擦過性を有するとは、もと
もとの基板と該基板にハードコートを施したものを比較
したときに、スチールウールで擦過させたときに傷のつ
きやすさで差が出ることを意味する。すなわち耐擦過性
を有するハードコートが施されたものの方が傷がつきに
くいということである。

【００１７】本発明における基板あるいはハードコート
には、近赤外域の光を吸収する色素を含有させる。近赤
外域の光を効率よく吸収する色素としては、金属錯体
系、アントラキノン系、ポリメチン系、ペンタセン系色
素、フタロシアニン系化合物、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、キノシアニン類、チアシアニン類、ハイドロタ
ルサイト、シアニン系色素から選ばれる少なくとも１種
を含む色素などが挙げられるが、なかでも金属錯体系、
アントラキノン系、ポリメチン系、ペンタセン系色素を
好ましく用いる。

【００１８】この化合物を少なくとも１種以上含有させ
ると、非常にシャープに近赤外吸収効果を得ることが可
能である。例えば、波長９００ｎｍ以上における吸収率
が５０％以上になるようにすることができる。しかしな
がら、近赤外光を効率よく吸収するものの、可視光まで
も吸収してしまうという問題があることを本発明者らは
見いだした。そこでこれらを含有してなる基板あるいは
ハードコートに含有させれてなる基板に、片面あるいは
両面に反射防止膜を施すことで、従来まで実現できなか
った近赤外域でシャープな吸収特性をもちつつ、可視光
透過率の高い光学フィルターを得ることに成功した。さ
らに表面反射率が低いため、表示体の前面に取り付けた
場合に非常に外光が気にならない効果を奏する。

【００１９】本発明でいう視感反射率とは、可視光であ
る約３８０から７８０ｎｍにおける波長の反射率に比視
感度をかけ合わせ積分させたものをいうが、この値が３
％以下であることを特徴とする。本発明では、比視感度
の非常に高い５００ｎｍから６００ｎｍの光の反射率を
特に低く抑え、人間が光学フィルターの反射を気にしな
くなる反射率以下とする。分光反射率特性で５００ｎｍ
から６００ｎｍの反射率を２％以下さらに好ましくは１
％以下に抑えることができる。

【００２０】本発明で光学フィルターの片面あるいは両
面に可視光反射防止膜を施すことによって、可視光にお
ける反射率を効率よく低くできる。

【００２１】本発明において、反射防止膜の膜構成は、
下記（１）、（２）、（３）または（４）の構成である
ことが好ましい。

【００２２】（１）反射防止膜が１層からなる場合は、
基板の屈折率よりも低い低屈折率層からなる。

【００２３】（２）反射防止膜が２層からなる場合は、
基板から外側に向かって第１層が基板の屈折率よりも高
い高屈折率層、第２層が基板の屈折率よりも低い低屈折
率層である。

【００２４】（３）反射防止膜が３層からなる場合は、
基板から外側に向かって第１層が基板の屈折率よりも高
い中屈折率層、第２層が第１層より屈折率が高い高屈折
率層、第３層が基板より屈折率が低い低屈折率層であ
る。ただし、第１層の中屈折率層は高屈折率層と低屈折
率層の組み合わせで光学的な等価膜とする場合を含む。 （４）反射防止膜が４層からなる場合は、基板から外側
に向かって第１層が基板の屈折率よりも低い低屈折率
層、第２層が基板の屈折率よりも高い中屈折率層、第３
層が第２層の屈折率よりも高い高屈折率層、第４層は基
板よりも屈折率が低い低屈折率層である。ただし、第２
層の中屈折率層は高屈折率層と低屈折率層の組み合わせ
で光学的な等価膜とする場合を含む。

【００２５】上記（１）から（４）の膜構造とすると、
非常に可視光における波長域に対して効率よく反射率を
低くできる。

【００２６】本発明における低屈折率層とよばれる薄膜
の物質としては、たとえば、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＦ₂ 、Ａｌ
Ｆ₃ 、ＢａＦ₂ 、ＬｉＦ、Ｎａ₃ ＡｌＦ₆ 、Ｎａ₅ Ａｌ
₃ Ｆ₁₄、ＮａＦ、ＳｒＦ₂ などが挙げられ、これら物質
単体あるいはこれらの物質を１種類以上含む混合物が挙
げられる。なかでもＳｉＯ₂ 、ＭｇＦ₂ が好ましく用い
られる。

【００２７】本発明における高屈折率層とよばれる薄膜
の物質としては、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＳｉＯ、Ｙ₂ Ｏ
₃ 、Ｙｂ₂ Ｏ₃ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、Ｓｂ₂ Ｏ₅ 、ＳｎＯ₂ 、
Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＩＴＯ、Ｔａ₂ Ｏ₅ 、ＣｅＯ₂ 、ＭｇＯ、
ＨｆＯ₂ 、Ｐｒ₂ Ｏ_3、Ｐｒ₆Ｏ₁₁、Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、Ｃｒ₂
Ｏ₃ 、Ｅｕ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｌａ₂ Ｏ₃ 、Ｍｏ
Ｏ₃ 、Ｎｄ₂ Ｏ₃ 、ＰｂＯ、Ｓｍ₂ Ｏ₃ 、Ｓｃ₂ Ｏ₃ 、
ＺｎＯ、ＣａＦ₂ 、ＳｍＦ₃ 、ＺｎＳ、Ｇｅ、Ｓｉなど
が挙げられ、これら物質単体あるいはこれらの物質を１
種類以上含む混合物が挙げられる。なかでもＺｒＯ₂ 、
ＴｉＯ₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ 、ＺｎＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂ 、Ｙ
₂ Ｏ₃ 、ＭｇＯが好ましく用いられる。

【００２８】本発明における中屈折率層とよばれる薄膜
の物質としては、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＷＯ₃ 、ＣｅＦ₃ 、Ｌａ
Ｆ₃ 、ＮｄＦ₃ 、ＰｂＦ₂ 、ＭｇＯなどが挙げられ、こ
れら物質単体あるいはこれらの物質を１種類以上含む混
合物が挙げられる。なかでもＡｌ₂ Ｏ₃ が好ましく用い
られる。中屈折率層の場合はしばしば、高屈折率物質と
低屈折率物質とを混合して用いたり、等価膜化して用い
たりする。等価膜とは、たとえば、Ａｌ₂ Ｏ₃ のある膜
をＺｒＯ₂ とＳｉＯ₂ の膜の組み合わせで光学的に等価
に置き換えることなどをいう。

【００２９】本発明における反射防止膜では、基体側か
ら数えて、 第１層目：ＺｒＯ₂ 第２層目：ＳｉＯ₂ 第３層目：ＴｉＯ₂ 第４層目：ＳｉＯ₂ とすることが非常に好ましい。この構成にすると、波長
５００ｎｍから６００ｎｍにおける反射率は０．２％以
下となり、さらに、視感反射率は０．２５％以下とな
る。また、この構成にすると、１層目にＺｒＯ₂ 層があ
るため、ハードコートとの密着性がすばらしく良くな
り、好ましい。

【００３０】本発明における反射防止膜あるいは近赤外
線反射膜の高屈折率膜にＩＴＯを少なくとも１層含むと
非常に好ましい。ここでＩＴＯとは、酸化インジウムと
酸化錫の混合物をいう。混合比は酸化インジウム対酸化
錫で９０〜９５対１０〜５が好ましい。

【００３１】このとき、表面抵抗値が１０¹⁰Ω／□以下
であることが好ましい。表面抵抗値が１０¹⁰Ω／□以下
であると、これにアースをつければ静電気を遮蔽できる
ようになるので非常に好ましい。さらに５００Ω／□以
下であるとより好ましい。表示画面の前面に取り付けて
使用する場合にその電磁波のシールドとして機能し、好
ましい形態となる。

【００３２】本発明の反射防止膜でＩＴＯを用いる場合
には、基体側から数えて 第１層目：ＺｒＯ₂ 第２層目：ＳｉＯ₂ 第３層目：ＩＴＯ 第４層目：ＳｉＯ₂ という構成や 第１層目：ＺｒＯ₂ 第２層目：ＳｉＯ₂ 第３層目：ＴｉＯ₂ 第４層目：ＩＴＯ 第５層目：ＳｉＯ₂ という構成にすることが非常に好ましい。この構成にす
ると波長５００ｎｍから６００ｎｍにおける反射率は
０．２％以下となり、さらに、視感反射率は０．２５％
以下となる。また、この構成にすると、１層目にＺｒＯ
₂ 層があるため、ハードコートとの密着性がすばらしく
良くなり好ましい。

【００３３】本発明における光学フィルターを表示画面
の前面に取り付けて用いると好ましい。可視光における
反射が低いため、外光がほとんど気にならなくなり、非
常に表示画面が見やすくなる。さらに、光学フィルター
の基体は可視光線透過率が４０％から７０％のものであ
ることが好ましい。このようにすることで、表示画面の
コントラストが向上し、目が疲れにくくなり、鮮明な画
像を得ることができる。

【００３４】表示画面がカラー表示体である場合に、Ｒ
（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の３原色に対し、選択透過性を
有する光学フィルターにすると、色に対するコントラス
トが良くなり、非常に綺麗な色鮮やかな画像が得られ
る。この光学フィルターはＰＤＰ（プラズマディスプレ
イ）の前面に好ましく用いられる。現在のＰＤＰはその
蛍光体の白さが表示体の色を不鮮明にするという問題が
あり、コントラストをどうしても向上させることが難し
かった。そこで本発明を利用すると非常に効果があり、
ブラウン管に劣らない程の色コントラストが得られた。

【００３５】本発明における光学フィルターは、ＣＣＤ
カメラに取り付けて好ましく使用される。ＣＣＤカメラ
はデジタルビデオといった家電製品からセンシング技術
としては欠かせないものになってきたが、半導体や、Ｌ
ＣＤなどの精密加工を行った後の検査工程で利用するも
のは、特にその画像の鮮明性が問題となるが、本発明の
光学フィルターを取り付けことより、非常に鮮明な画像
が得られ、見たものをそのままセンシングできたように
見えた。

【００３６】本発明における光学フィルターの反射防止
膜は、以下の製造方法で好ましく製造される。すなわ
ち、成膜領域の前後に光学フィルターを多段に収納可能
な第１及び第２のストッカーを有する成膜室と、該成膜
室の前後に、それぞれ前記光学フィルターを多段に収納
可能なストッカーを有する投入室と取出室を設け、成膜
室にて前記光学フィルター用基板群が成膜されている間
に次の光学フィルター用基板を投入室に投入して排気し
ておくと共に、前回成膜された前記光学フィルター群を
取出室から取り出す前記光学フィルター製造方法であっ
て、該光学フィルター用基板を前記成膜領域を通過させ
ながら成膜させる製造方法である。

【００３７】従来、このような膜を製造するのに、多層
膜であるが故、またその製造装置が円形の基板保持ドー
ムによって把持されていたこともあって、非常に高価な
ものになってしまうという問題があった。大型画面特に
ＰＤＰなどの２８インチ以上、さらに６０インチの表示
画面の前面板に取り付けられる場合には、製造する装置
が大型になってしまい、その様な製造装置で効率の良い
製造装置が見あたらず、本発明の技術を適用することが
難しかった。従って、上記プロセスによって製造されれ
ば、安価に本発明における光学フィルターの作成可能と
なり、非常に大型のＰＤＰを見やすい画像で提供できる
ことになる。

【００３８】図５は本発明の薄膜つき基板の製造方法お
よび製造装置の一実施態様を示す。この実施態様は、投
入室１０２、第１ストッカー室１０３、成膜室１０４、
第２ストッカー室１０５、取出室１０６を連結して配置
されている。なお、第１ストッカー室１０３と第２スト
ッカー室１０５は成膜室とゲートバルブ等で区切られて
おらず同じ密閉された真空室からなる。従って、成膜室
１０４の中に第１ストッカー室１０３と第２ストッカー
室１０５は成膜室１０４に含まれているものとする。成
膜対象基板１０９は基板保持治具群１０８に把持されて
いる。１成膜単位は例えば２０個の基板保持治具群１０
８からなり、この１室内にはこの成膜単位が収納可能に
なっている。

【００３９】成膜対象基板の動きに注目して以下に成膜
工程の１例を説明する。以下のＡからＩ工程より主とし
てなる。

【００４０】Ａ工程：第１の基板保持治具群１０８を投
入室１０２へ投入し位置せしめた状態で投入室１０２と
成膜室１０４と取出室１０６を排気する工程 Ｂ工程：投入室１０２を大気に対して遮蔽した状態で第
１の基板保持治具群１０８を順次第１ストッカー室１０
３に移動させる工程 Ｃ工程：投入室１０２と成膜室１０４と取出室１０６と
を遮蔽した状態で、投入室１０２を大気に開放した後第
２の基板保持治具群１０８を投入して投入室１０２を排
気する間、成膜室１０４にて第１ストッカー室１０３か
ら第１の基板保持治具１０８を１つずつ第１ストッカー
室１０３から取出し、移動手段１１０に載せ順次移動さ
せながら例えば２０個の成膜対象基板群１０９を成膜粒
子５にさらされる成膜領域を通過させ、順次、移動手段
１１０から第２ストッカー室１０５へ投入させ例えば２
０個の基板保持治具群１０８をすべて第２ストッカー室
へ移動する工程 Ｄ工程：投入室１０２と取出室１０６を大気に対して遮
蔽した状態で第１の基板保持治具群１０８を第２ストッ
カー室１０５から取出室１０６へ順次移動させる間、第
２の基板保持治具群１０８を投入室１０２から第１スト
ッカー室１０３へ順次移動させる工程 Ｅ工程：投入室１０２と成膜室１０４と取出室１０６と
を遮蔽した状態で、取出室１０６を大気に開放し第１の
基板保持治具群１０８を取出した後取出室１０６を排気
する間、投入室１０２を大気に開放し第３の基板保持治
具群１０８を投入室１０２へ投入して投入室１０２を排
気する間、成膜室１０４にて第１ストッカー室１０３か
ら第２の基板保持治具群１０８を１つずつ第１ストッカ
ー室１０３から取出し、移動手段１１０に載せ順次成膜
領域を通過させながら例えば２０個の成膜対象基板群１
０９を成膜し、順次、移動手段１１０から第２ストッカ
ー室１０５へ投入させ例えば２０個の基板保持治具群１
０８をすべて第２ストッカー室１０５へ移動する工程 Ｆ工程：投入室１０２と取出室１０６を大気に対して遮
蔽した状態で、第２の基板保持治具群１０８を第２スト
ッカー室１０５から取出室１０６へ順次移動させる間、
第３の基板保持治具群１０８を投入室１０２から第１ス
トッカー室１０３へ順次移動させる工程 Ｇ工程：投入室１０２と成膜室１０４と取出室１０６と
を遮蔽した状態で、取出室１０６を大気に開放し第２の
基板保持治具群１０８を取出した後取出室１０６を排気
する間、投入室１０２を大気に開放し第４の基板保持治
具群１０８を投入室１０２へ投入して投入室を排気する
間、成膜室１０４にて第１ストッカー室１０３から第３
の基板保持治具群１０８を１つずつ第１ストッカー室１
０３から取出し、移動手段１１０に載せ順次成膜領域を
通過させながら例えば２０個の成膜対象基板群１０９を
成膜粒子５にさらし成膜し、順次、移動手段１１０から
第２ストッカー室１０５へ投入させ例えば２０個の基板
保持治具群１０８をすべて第２ストッカー室１０５へ移
動する工程 Ｈ工程：Ｆ〜Ｇ工程をｎ回繰返す工程（ｎは任意の回
数） 本発明において、成膜領域は、成膜基板の成膜面と実質
的に同一の面において、薄膜を形成するのに十分な量の
成膜粒子にさらされる領域であり、成膜対象基板が複数
の列をなすように配置する場合は、該基板領域とその隙
間及びその周辺の合計領域が上記成膜領域ということに
なる（図６の成膜領域２０）。

【００４１】なお、本発明における成膜工程には、次の
ような処理処理を含ませることもできる。たとえば、成
膜と処理とを交互に行うなども可能である。ここで、処
理とは、酸素プラズマ、各種ガスプラズマ、イオン銃に
よる酸素イオンやアルゴンイオンなどの照射による基板
処理などが挙げられる。この処理は、成膜対象基板と成
膜物質、あるいは成膜物質と成膜物質の密着力向上の目
的などで用いられる。なお、成膜工程はたとえば電子銃
６から発した電子線により薄膜材料３の成膜粒子発生部
位２を継続的に加熱し、ここから成膜粒子を発生させ
る。このとき、はじめはシャッター１１が閉じられてお
り、成膜粒子は成膜対象基板に到達することができな
い。成膜粒子発生部位２の温度が定常状態に達すると成
膜粒子の発生強度も定常状態に達する。これを確認して
シャッター１１を開く。成膜モニタで成膜が安定に行わ
れているのを確認した後、基板保持治具群１０８を図５
の例えば左方よりある速度で右方に移動させる。この
時、成膜モニタ８の情報に基づいて移動速度を可変にす
るのが好ましい場合がある。成膜粒子発生部位２から発
生した成膜粒子は、成膜粒子束軸９の方向を中心とする
方向に放射状に飛翔し、成膜対象基板群１０９の各基板
に至る。また、一部の成膜粒子は成膜モニタ８に到達す
る。

【００４２】モニタ薄膜の膜厚は成膜対象基板群の各基
板に形成された薄膜の膜厚と一定の相関関係を持つ膜厚
となるよう配慮する。理想的には、例えば２０群の成膜
対象基板群１０９に薄膜を形成したときには、成膜モニ
タ８上のモニタ薄膜の膜厚は成膜対象基板群１０９に形
成された薄膜の約２０倍の膜厚となる。実際にはこのよ
うな対応関係は実験により厳密に求められる。また、こ
の結果により成膜モニタ８のモニタ薄膜の膜厚の単位時
間当たりの変化と成膜対象基板群１０９に形成された薄
膜の膜厚の単位時間当たりの変化の対応関係が求められ
る。

【００４３】この薄膜の膜厚測定の結果に基づき、成膜
中の成膜速度や形成される薄膜の屈折率などの特性を調
節したりする。成膜対象基板群１０９の例えば２０個目
の最後の基板保持治具群１０８の例えば２０個目が成膜
領域を通過したことを確認した後にシャッター１１を閉
じて成膜を終了するといった成膜プロセスの制御を行な
う。

【００４４】また、本発明において、成膜モニタ８を固
定して設ける位置は、成膜領域の外側（すなわち、成膜
領域限定部材の裏側など）とすることができる。この条
件を満たせば、成膜対象基板の配置などに制約を課すこ
となく、モニタ薄膜の膜厚と成膜対象基板に形成される
薄膜との相関をとることができる。しかも、成膜粒子の
発生源と成膜モニタの間に介在するものをなくすること
ができるため、成膜対象基板に形成される薄膜と同等の
モニタ薄膜を形成することができ、精度よく成膜プロセ
スを制御することができる。もちろん成膜モニタは成膜
領域内であって基板領域外に設けることもできる。

【００４５】また、多層膜を成膜するときは、基板保持
治具群１０８を第１ストッカー室１０３から移動手段１
１０へ順次移動し、移動手段１１０に載せ順次移動させ
ながら例えば２０個の成膜対象基板群１０９を成膜粒子
５にさらし成膜し、順次、移動手段１１０から第２スト
ッカー室１０５へ投入させ例えば２０個の基板保持治具
群１０９をすべて第２ストッカー室１０５へ移動する工
程の後、成膜粒子発生源の物質を交換し、今度は逆向き
に基板保持治具群１０８を第２ストッカー室１０５から
移動手段１１０へ順次移動し、移動手段１１０に載せ順
次移動させながら例えば２０個の成膜対象基板群１０９
を成膜粒子５にさらし成膜し、順次、移動手段１１０か
ら第１ストッカー室１０３へ投入させ例えば２０個の基
板保持治具群１０８をすべて第１ストッカー室１０５へ
移動する。これを繰返すことになる。移動回数が偶数の
時は最後の成膜が終了した後、移動手段１１０に基板保
持治具群１０８を載せて移動させるときに成膜粒子にさ
らさなくして図の左方から右方へ移動すれば前記同様の
工程が可能である。

【００４６】また、成膜領域限定部材は、成膜粒子の発
生源と成膜対象基板の間にあって、成膜粒子の飛翔範囲
を制限する機能を有する部材である。たとえば、図５に
示した成膜領域限定部材４（成膜領域の基板進行方向の
大きさや形状を限定する補正板。図６において成膜領域
２０が糸巻き形になっているのは、半月形の成膜領域限
定部材によって成膜領域が限定されているからであ
る。）のようなものが用いられる。成膜領域限定部材の
成膜粒子源側には、成膜領域と同等の成膜条件が得られ
るため、この位置に成膜モニタを設けてモニタ薄膜の膜
厚を測定すると、成膜対象基板の薄膜の膜厚との相関が
とりやすく好ましい。また、成膜領域限定部材を成膜モ
ニタとし、これに形成されるモニタ薄膜の膜厚を測定し
てもよい。

【００４７】本発明において、成膜対象基板を成膜領域
を通過させながら成膜させるという意味は、成膜対象基
板が成膜領域を通過し終わるまで停止しないことを意味
する。通過中に停止すると成膜粒子にさらされる時間に
通過方向の斑ができて均一な薄膜を得ることが難しくな
る。従って通過速度が一定であることが特に好ましい。
ただし、小刻みな間欠移動とか、通過時間に部分差がで
きないような短い時間の停止は許される。すなわち、停
止があっても通過方向に対して成膜粒子にさらされる時
間に必要以上変動が起こらないようなものであれば、そ
れは成膜領域を通過させながら成膜させるという定義に
反するものではない。通過時間の部分差は、他の条件に
もよるが２０％以下、好ましくは１０％以下、特に好ま
しくは５％以下である。定速であることは好ましいが、
モニタ膜厚に基づいて通過速度を自動制御すれば、必然
的に小さな速度変動が生じることにもなる。

【００４８】

【実施例】以下、実施例を挙げて説明するが本発明はこ
れらに限定されるものではない。 実施例１ 光学フィルターの基体には以下のものを用いる。

【００４９】光の透過を調節する光吸収剤として少なく
とも下記一般式（１）

【化１】 （式中、Ａ₁ 、Ａ₂ 、Ａ₃ およびＡ₄ は互いに同一また
は相異なり、フェニル基またはナフチル基を表わし、こ
れらの基はアルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基お
よびヒドロキシ基から選ばれた１種類以上によって置換
されていてもよい）で示されるアントラキノン系化合物
を使用することを特徴とする近赤外線吸収フィルターを
用いる。

【００５０】この一般式（１）で示されるアントラキノ
ン系色素は、１，４，５，８−テトラクロルアントラキ
ノン３５部をｐ−トルイジン２１４部とともに、１６時
間、１８０℃に加熱して反応させる。ついで冷却し、吸
引濾過し、５００部のメタノールで５回洗浄し５００部
の湯で２回洗浄し乾燥する。黒色の固体として１，４，
５，８−テトラ（４′−メチルフェニルアミノ）アント
ラキノン４９部が得られる。トルエンから再結晶すると
黒緑色結晶が得られ、融点２６８℃−２７５℃、λｍａ
ｘ（アセトン）７６０ｎｍを示した。この１，４，５，
８−テトラ（４′−メチルフェニルアミノ）アントラキ
ノン０．０５部をポリメタクリル酸メチル樹脂１００部
に混合し、常法にしたがって射出成型を行い、厚み１．
５ｍｍの緑色の板状成型物を得た。この板の分光透過率
曲線を図２の点線に示す。この分光透過率特性から近赤
外領域である約７００ｎｍから８００ｎｍまでの透過率
をシャープに吸収できる。しかしながら、このままで
は、可視光域で最も透過率の高い５００ｎｍ付近で約５
０％を有するものの、全光線透過率（可視光強度にあっ
た光源を用いて測定した透過率で、例えば、スガ試験機
製のヘーズコンピューターで簡単にその全光線透過率を
測定することができる）は、約３８％と低くなってしま
い、表示体の前面に取り付けると、暗くて表示が良く見
えないという問題があった。

【００５１】そこで下記に示す方法でこの基板の片面に
表１に示す反射防止膜をもう一方の面に表２に示す反射
防止膜を形成した。

【００５２】まず、基板と反射防止膜の密着力を向上す
るため、さらにこの光学フィルターの表面の擦過性を向
上するために、オルガノポリシロキサン系のハードコー
トを両面に施したものを両面に施したものを用いた。

【００５３】図５に示した成膜装置を用いて基板群に薄
膜を形成し、薄膜つき基板を製造した。この光学フィル
ターは表示装置の前面に取り付けて使用する近赤外吸収
可視光反射防止フィルターとして用いるもので、薄膜は
光学薄膜であり、厳しい膜厚管理が必要なものである。

【００５４】成膜工程に注目して以下説明する。

【００５５】１つの基板保持治具１０８（８００ｍｍ×
１２００ｍｍ）に対角線長さが４２インチ（１０７ｃ
ｍ）の（７００ｍｍ×９００ｍｍ×５ｍｍ）上記基板１
０９を１枚セットした。この基板保持治具を１６枚用意
した。すなわち光学フィルター基板群を１６群とした。

【００５６】基板加熱は基板温度で８０℃になるように
マイクロヒータ１１１とハロゲンランプ１１１で加熱し
た。

【００５７】（０）前処理として成膜室のプラズマ発生
型イオン銃（シンクロン（株）製ＲＩＳ型イオン銃）２
１１ａ、２１１ｂを用いて、加速電圧５００Ｖ、加速電
流１００ｍＡにて酸素イオンを加速して、光学フィルタ
ー基板の通過域に照射しながら、光学フィルター基板１
６群をさらすように３ｍ／分の速度で移動手段１１０に
よって移動させた。１６群すべての光学フィルター基板
群１０９のストッカー室１０３からストッカー室１０５
への移動を終了するまで４分であった。

【００５８】（１）第１層目のＺｒＯ₂ ３の加熱時間
（ガス出し時間）を２分設け、ＺｒＯ₂３の粒子発生部
位２の温度が定常状態に達した。その後シャッター１１
を開き、成膜モニター２１８で３０秒間成膜の安定を確
認した後、光学フィルター基板１６群１０９を成膜領域
２０にさらすように移動を開始した。成膜粒子発生源３
への電子銃６のエネルギーは一定にして、移動速度は、
成膜膜厚が一定になるように移動手段１１０によって移
動速度コントロールをした。１６群すべての光学フィル
ター基板群１０９の移動を終了しシャッター１１を閉じ
た。シャッター１１を閉じるまでの時間は約５分であっ
た。（ストッカー室１０５からストッカー室１０３への
移動） （２）第２層目のＳｉＯ₂ ３は第１層目の蒸着時に予備
加熱（ここで、予備加熱とは成膜粒子発生部位２の温度
を定常状態にすることを意味する）を終了し、（１）で
シャッター１１を閉じると同時にＳｉＯ₂ ３の上部にあ
るシャター１１を開き、成膜モニター２１８で３０秒間
成膜の安定性を確認した後、光学フィルター基板１６群
１０９を成膜領域２０にさらすように移動を開始した。
成膜粒子発生源３への電子銃６のエネルギーは一定にし
て、移動速度は、成膜膜厚が一定になるように移動手段
１１０によって移動速度コントロールをした。１６群す
べての移動を終了しシャッター１１を閉じた。シャッタ
ー１１を閉じるまでの時間は約３分であった。（ストッ
カー室１０３からストッカー室１０５への移動） （３）第３層目のＴｉＯ₂ ３は第２層目の蒸着時に予備
加熱を終了し、（２）でシャッター１１を閉じると同時
に、酸素を導入して成膜室の圧力を１．０×１０^-2Ｐａ
とし、ＴｉＯ₂ ３の上部にあるシャター１１を開き、成
膜モニター２１８で３０秒間成膜の安定性を確認した
後、基板１６群１０９を成膜領域にさらすように移動を
開始した。成膜粒子発生源３への電子銃６のエネルギー
は水晶式膜厚計のセンサー２１８についた膜の堆積速度
を監視してこの堆積速度が一定になるように出力のフィ
ードバックコントロールを行った。移動速度は、成膜膜
厚が一定になるように移動速度コントロールをした。１
６群すべての基板群１０９の移動を終了しシャッター１
１を閉じた。シャッターを閉じるまでの時間は約１０分
であった。（ストッカー室１０５からストッカー室１０
３への移動） （４）第４層目にＳｉＯ₂ ３は第３層目の蒸着時に予備
加熱を終了し、（３）でシャッター１１を閉じると同時
に、ＳｉＯ₂ ３の上部にあるシャター１１を開き、成膜
モニター２１８で３０秒間成膜の安定性を確認した後、
光学フィルター基板１６群１０９を成膜領域２０にさら
すように移動を開始した。成膜粒子発生源３への電子銃
６のエネルギーは成膜粒子束５の成膜速度が一定になる
ように出力コントロールをして、移動速度は、成膜膜厚
が一定になるように移動手段１１０によって移動速度コ
ントロールをした。１６群すべての光学フィルター基板
群１０９の移動を終了しシャッター１１を閉じた。シャ
ッターを閉じるまでの時間は約４分であった。（ストッ
カー室１０３からストッカー室１０５への移動） （０）〜（５）の時間にマシンの機構ロス時間を加え、
１６群の光学フィルター基板１０９を成膜する１タクト
タイムは３０分であった。

【００５９】これを６回繰り返し、基板１０９を反転さ
せ、表２に示すＩＴＯを含む構成で反射防止膜を成膜し
た。基板加熱は基板温度で８０℃になるようにマイクロ
ヒータ１１１とハロゲンランプ１１１で加熱した。

【００６０】（０）前処理として成膜室１０４のプラズ
マ発生型イオン銃（シンクロン（株）製ＲＩＳ型イオン
銃）２１１を用いて、加速電圧５００Ｖ、加速電流１０
０ｍＡにて酸素イオンを加速して、基板の通過域に照射
しながら、基板１６群１０９をさらすように３ｍ／分の
速度で移動手段１１０によって移動させた。１６群すべ
ての基板群１０９のストッカー室１０３からストッカー
室１０５への移動を終了するまで４分であった。

【００６１】（１）第１層目のＺｒＯ₂ ３の加熱時間
（ガス出し時間）を２分設け、ＺｒＯ₂３の粒子発生部
位２の温度が定常状態に達した。その後シャッター１１
を開き、成膜モニター２１８で３０秒間成膜の安定を確
認した後、光学フィルター基板１６群１０９を成膜領域
２０にさらすように移動手段１１０によって移動を開始
した。成膜粒子発生源３への電子銃６のエネルギーは一
定にして、移動速度は、成膜膜厚が一定になるように移
動手段１１０によって移動速度コントロールをした。１
６群１０９すべての光学フィルター基板群１０９の移動
を終了しシャッター１１を閉じた。シャッター１１を閉
じるまでの時間は約５分であった。（ストッカー室１０
５からストッカー室１０３への移動）。

【００６２】（２）第２層目のＳｉＯ₂ ３は第１層目の
蒸着時に予備加熱（ここで、予備加熱とは成膜粒子発生
部位２の温度を定常状態にすることを意味する）を終了
し、（１）でシャッター１１を閉じると同時にＳｉＯ₂
３の上部にあるシャター１１を開き、成膜モニター２１
８で３０秒間成膜の安定性を確認した後、光学フィルタ
ー基板１６群１０９を成膜領域２０にさらすように移動
手段１１０によって移動を開始した。成膜粒子発生源３
への電子銃６のエネルギーは一定にして、移動速度は、
成膜膜厚が一定になるように移動手段１１０によって移
動速度コントロールをした。１６群１０９すべての移動
を終了しシャッター１１を閉じた。シャッター１１を閉
じるまでの時間は約３分であった。（ストッカー室１０
３からストッカー室１０５への移動）。

【００６３】（３）第３層目のＴｉＯ₂ ３は第２層目の
蒸着時に予備加熱を終了し、（２）でシャッター１１を
閉じると同時に、酸素を導入して成膜室１０４の圧力を
１．０×１０^-2Ｐａとし、ＴｉＯ₂ ３の上部にあるシャ
ター１１を開き、成膜モニター２１８で３０秒間成膜の
安定性を確認した後、基板１６群１０９を成膜領域２０
にさらすように移動を開始した。成膜粒子発生源３への
電子銃６のエネルギーは水晶式膜厚計のセンサー２１８
についた膜の堆積速度を監視してこの堆積速度が一定に
なるように出力のフィードバックコントロールを行っ
た。移動速度は、成膜膜厚が一定になるように移動手段
１１０によって移動速度コントロールをした。１６群１
０９すべての基板群１０９の移動を終了しシャッター１
１を閉じた。シャッター１１を閉じるまでの時間は約８
分であった。（ストッカー室１０５からストッカー室１
０３への移動）。

【００６４】（４）第４層目のＩＴＯ３は第３層目の蒸
着時に予備加熱を終了し、（３）でシャッター１１を閉
じると同時に、酸素を導入して成膜室１０４の圧力を
３．０×１０^-2Ｐａとし、成膜室１０４に設けられたア
ンテナ１１２を利用して１３．５６ＭＨｚの高周波を５
００Ｗかけ酸素プラズマ状態とし、さらにプラズマ発生
型イオン銃２１１を用いて酸素をイオン化した後酸素イ
オンを加速し、光学フィルター基板１０９がさらされる
方向に照射しながらＩＴＯ３の上部にあるシャター１１
を開き、成膜モニター２１８で３０秒間成膜の安定性を
確認した後、光学フィルター基板１６群１０９を成膜領
域２０にさらすように移動を開始した。成膜粒子発生源
３への電子銃６のエネルギーは一定にして、移動速度
は、成膜膜厚が一定になるように移動手段１１０によっ
て移動速度コントロールをした。１６群１０９すべての
光学フィルター基板群１０９の移動を終了しシャッター
１１を閉じた。シャッター１１を閉じるまでの時間は約
４分であった。（ストッカー室１０３からストッカー室
１０５への移動）。

【００６５】（５）第４層目にＳｉＯ₂ ３は第４層目の
蒸着時に予備加熱を終了し、（４）でシャッター１１を
閉じると同時に、ＳｉＯ₂ ３の上部にあるシャター１１
を開き、成膜モニター２１８で３０秒間成膜の安定性を
確認した後、光学フィルター基板１６群１０９を成膜領
域２０にさらすように移動を開始した。成膜粒子発生源
３への電子銃６のエネルギーは成膜粒子束５の成膜速度
が一定になるように出力コントロールをして、移動速度
は、成膜膜厚が一定になるように移動手段１１０によっ
て移動速度コントロールをした。１６群すべての光学フ
ィルター基板群１０９の移動を終了しシャッター１１を
閉じた。シャッター１１を閉じるまでの時間は約４分で
あった。（ストッカー室１０５からストッカー室１０３
への移動）。

【００６６】（０）〜（５）の時間にマシンの機構ロス
時間を加え、１６群の光学フィルター基板１０９を成膜
する１タクトタイムは３５分であった。これを６回繰り
返し、基板を取り出した。

【００６７】これらのサイクルを８回繰返し運転し、初
期排気と最終取出し時間を含め２．５日であった。この
時生産した４２インチの光学フィルター１０９は７６８
枚（１６治具×１枚×４８回）であった。

【００６８】こうしてできあがった光学フィルターの特
性を評価した。

【００６９】分光反射率特性は図１の通り。分光透過率
特性は図２の通り。

【００７０】視感反射率は０．２５％、近赤外域７００
ｎｍ〜８００ｎｍで吸収率が９８％以上であった。全光
線透過率は３８％から約８％向上し４６％と非常に全光
線透過率が高くなった。また、裏の面の表面抵抗値は５
ｋΩ／□であった。

【００７１】これをＰＤＰの前面に取り付けたところ、
非常に色コントラストが良く鮮明な画像が得られた。ま
た、外光がほとんど気にならなく、見ている人間の写り
込みもほとんど感じられなかった。このＰＤＰの近くの
電気製品のリモコンの誤動作は起こらなかった。

【００７２】また、この光学フィルターからアース線を
引き出したところ静電気を除電できた。

【００７３】

【表１】

【表２】 実施例２ （１）アントラキノン系色素の調整 光の透過を調節する光吸収剤として少なくとも下記一般
式（１）

【化２】 （式中、Ａ₁ 、Ａ₂ 、Ａ₃ およびＡ₄ は互いに同一また
は相異なり、フェニル基またはナフチル基を表わし、こ
れらの基はアルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基お
よびヒドロキシ基から選ばれた１種類以上によって置換
されていてもよい）で示されるアントラキノン系化合物
を使用することを特徴とする近赤外線吸収フィルターを
用いる。この一般式（１）で示されるアントラキノン系
色素は、１，４，５，８−テトラクロルアントラキノン
３５部をｐ−トルイジン２１４部とともに１６時間１８
０℃に加熱して反応させる。ついで冷却し、吸引濾過
し、５００部のメタノールで５回洗浄し５００部の湯で
２回洗浄し乾燥する。黒色の固体として１，４，５，８
−テトラ（４′−メチルフェニルアミノ）アントラキノ
ン４９部が得られる。トルエンから再結晶すると黒緑色
結晶が得られ、融点２６８℃−２７５℃、λｍａｘ（ア
セトン）７６０ｎｍを示した。

【００７４】（２）コーティング組成物の調整 （ａ）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン７
６．３部を液温１０℃に保ち撹拌しながら、０．０１規
定塩酸水溶液１８．３部を徐々に滴下した。滴下終了後
冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランの加水分解物を得た。

【００７５】（ｂ）コーティング組成物の調整 エポキシ樹脂（シエル化学株式会社製、エピコート８２
７）９０．０部を秤り採り、ベンジルアルコール１４．
４部、ジアセトンアルコール１４４部およびアセチルア
セトン２９部、メタノール２９部を加えて溶解し、シリ
コーン系界面活性剤０．９部を添加混合した後に前記
（ａ）の加水分解物を混合し、さらに酸化セリウムと酸
化チタンの複合酸化物を主体とするメタノールゾル（触
媒化成工業株式会社製、オプトレイク−１１３０Ａ）２
７．０部、アルミニウムアセチルアセトネート９．０部
を添加し十分撹拌溶解した後コーティグ組成物とした。

【００７６】（ｃ）（ａ）（ｂ）で得られたコーテイン
グ組成物１００に対し、（１）で得られた１，４，５，
８−テトラ（４′−メチルフェニルアミノ）アントラキ
ノン０．５部を混合し良く攪拌しコーティング液とし
た。

【００７７】（３）コーティグおよびキュア 基材として市販のポリカーボネート板（三菱瓦斯化学株
式会社製、登録商標“ユーピロンシート”透明板、厚さ
１．５ｍｍ）の基材に前記（１）で調整したコーティン
グ組成物中に浸漬し、引上げ速度２０ｃｍ／分で引上げ
２μｍの厚さにコーティング組成物を塗布し、次いで８
０℃で６分の予備硬化を行ない、さらに１３５℃で３時
間加熱して基材とほぼ同等の屈折率のハードコート膜を
有する基材を得た。

【００７８】この板の分光透過率曲線を図４の点線に示
す。この分光透過率特性から近赤外領域である約７００
ｎｍから８００ｎｍまでの透過率をシャープに吸収でき
る。しかしながらこのままでは、可視光域で最も透過率
の高い５００ｎｍ付近で約５０％を有するものの全光線
透過率（可視光強度にあった光源を用いて測定した透過
率で、例えば、スガ試験機製のヘーズコンピューターで
簡単にその全光線透過率を測定することができる。）
は、約３８％と低くなってしまい、表示体の前面に取り
付けると暗くて表示が良く見えないという問題があっ
た。

【００７９】実施例１と同様の製造方法により、同様の
基板を用いて表面に表３、裏面に表４の膜構成の反射防
止膜を施した。

【００８０】

【表３】

【表４】 分光反射率特性は図３の通り。分光透過率特性は図４の
通り。

【００８１】視感反射率は０．２５％、近赤外域７００
ｎｍ〜８００ｎｍで吸収率が９０％以上であった。全光
線透過率は３８％から約８％向上し４６％と非常に全光
線透過率が高くなった。また、裏の面の表面抵抗値は５
００Ω／□であった。

【００８２】これをＰＤＰの前面に取り付けたところ、
非常に色コントラストが良く鮮明な画像が得られた。ま
た、外光がほとんど気にならなく、見ている人間の写り
込みもほとんど感じられなかった。このＰＤＰの近くの
電気製品リモコンの誤動作は起こらなかった。

【００８３】また、この光学フィルターからアース線を
引き出したところ静電気を除電できた。

【００８４】

【発明の効果】本発明によれば、近赤外線を効率良く吸
収し、可視光域の光を良く透過し可視光を十分に反射防
止する光学フィルターを提供できる。

【００８５】特に表示画面の前面に取り付けて使用すれ
ば、表示体を見やすく、高コントラスト化するばかりで
なく他の機器のリモコンなどの誤動作を防止できる。

【００８６】ＣＣＤカメラに取り付けて使用すれば鮮明
な画像が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１の光学フィルターの分光反射
率特性の一例を示す図である。

【図２】本発明の実施例１の光学フィルターの分光透過
率特性の一例を示す図である。

【図３】本発明の実施例２の光学フィルターの分光反射
率特性の一例を示す図である。

【図４】本発明の実施例２の光学フィルターの分光透過
率特性の一例を示す図である。

【図５】本発明の薄膜つき基板の製造方法の一実施例の
側面から見た図である。

【図６】本発明の薄膜つき基板の製造方法の一実施例の
図５を上から見た図である。

【符号の説明】

２：成膜粒子束発生部位 ３：薄膜材料 ４ａ：補正板 ４ｂ：補正板 ５：成膜粒子束 ６：電子銃 ７：膜厚測定装置 ８：成膜モニタ板 ９：成膜粒子束軸 １１：シャッター ２０：成膜領域 １０１：投入室 １０２：投入室 １０３：ストッカー室 １０４：成膜室 １０５：ストッカー室 １０６：取出室 １０７：取出室 １０８：基板保持治具 １０８ａ：基板保持治具群 １０８ｂ：基板保持治具群 １０８ｃ：基板保持治具群 １０８ｄ：基板保持治具群 １０８ｅ：基板保持治具群 １０８ｆ：基板保持治具群 １０９ａ：成膜対象基板群 １０９ｂ：成膜対象基板群 １０９ｃ：成膜対象基板群 １０９ｄ：成膜対象基板群 １０９ｅ：成膜対象基板群 １０９ｆ：成膜対象基板群 １０９ｇ：成膜対象基板群 １０９ｈ：成膜対象基板群 １０９ｉ：成膜対象基板群 １０９ｊ：成膜対象基板群 １０９ｋ：成膜対象基板群 １０９ｌ：成膜対象基板群 １０９ｍ：成膜対象基板群 １１０：移動手段 １１１：基板加熱手段 １１２：高周波プラズマ発生用アンテナ １１３ａ：真空ポンプ １１３ｂ：真空ポンプ １１３ｃ：真空ポンプ １１３ｄ：真空ポンプ １１３ｅ：真空ポンプ １１３ｆ：真空ポンプ １１３ｇ：真空ポンプ １１３ｈ：真空ポンプ １１４ａ：ゲートバルブ １１４ｂ：ゲートバルブ １１４ｃ：ゲートバルブ １１４ｄ：ゲートバルブ ２１１ａ：イオン銃 ２１１ｂ：イオン銃 ２１２ａ：油回転ポンプ ２１２ｂ：油回転ポンプ ２１２ｃ：油回転ポンプ ２１２ｄ：油回転ポンプ ２１８ａ：成膜モニタ板 ２１８ｂ：成膜モニタ板

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】近赤外域を５０％以上吸収し視感反射率が
   ３％以下である光学フィルター。
2. 【請求項２】前記近赤外域が７００ｎｍ以上８００ｎｍ
   以下であり、この全域に対して反射率が８０％以上であ
   ることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。
3. 【請求項３】前記光学フィルターの基体が、プラスチッ
   ク製であることを特徴とする請求項１または２に記載の
   光学フィルター。
4. 【請求項４】前記光学フィルターの基体が、表面にハー
   ドコートを施してなるものであることを特徴とするする
   請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルター。
5. 【請求項５】前記プラスチック基板が、近赤外吸収色素
   を含有してなることを特徴とする請求項３または４に記
   載の光学フィルター。
6. 【請求項６】前記ハードコートが、近赤外吸収色素を含
   有してなることを特徴とする請求項４または５に記載の
   光学フィルター。
7. 【請求項７】前記近赤外吸収色素が、金属錯体系、アン
   トラキノン系、ポリメチン系、ペンタセン系色素から選
   ばれる少なくとも１種類を含有してなる請求項５または
   ６に記載の光学フィルター。
8. 【請求項８】前記光学フィルターの一方の面あるいは両
   面に反射防止膜を有することを特徴とする請求項１〜７
   のいずれかに記載の光学フィルター。
9. 【請求項９】前記反射防止膜の膜構成が、 （１）反射防止膜が１層からなる場合は、基板の屈折率
   よりも低い低屈折率層からなるか、または、 （２）反射防止膜が２層からなる場合は、基板から外側
   に向かって第１層が基板の屈折率よりも高い高屈折率層
   からなり、第２層が基板の屈折率よりも低い低屈折率層
   からなるか、または、 （３）反射防止膜が３層からなる場合は、基板から外側
   に向かって第１層が基板の屈折率よりも高い中屈折率層
   からなり、第２層が第１層より屈折率が高い高屈折率層
   からなり、第３層が基板より屈折率が低い低屈折率層か
   らなるか（ただし、第１層の中屈折率層は高屈折率層と
   低屈折率層の組み合わせで光学的な等価膜とする場合を
   含む）、または、 （４）反射防止膜が４層からなる場合は、基板から外側
   に向かって第１層が基板の屈折率よりも低い低屈折率層
   からなり、第２層が基板の屈折率よりも高い中屈折率層
   からなり、第３層が第２層の屈折率よりも高い高屈折率
   層からなり、第４層は基板よりも屈折率が低い低屈折率
   層からなる（ただし、第２層の中屈折率層は高屈折率層
   と低屈折率層の組み合わせで光学的な等価膜とする場合
   を含む）ことを特徴とする請求項８に記載の光学フィル
   ター。
10. 【請求項１０】前記反射防止膜の膜構成が、基体側から
    数えて、 第１層：ＺｒＯ₂ 第２層：ＳｉＯ₂ 第３層：ＴｉＯ₂ 第４層：ＳｉＯ₂ からなることを特徴とする請求項８または９に記載の光
    学フィルター。
11. 【請求項１１】前記高屈折率層の少なくとも１層がＩＴ
    Ｏであることを特徴とする請求項９に記載の光学フィル
    ター。
12. 【請求項１２】前記反射防止膜の膜構成が、基体側から
    数えて、 第１層：ＺｒＯ₂ 第２層：ＳｉＯ₂ 第３層：ＩＴＯ 第４層：ＳｉＯ₂ からなることを特徴とする請求項８、９または１１に記
    載の光学フィルター。
13. 【請求項１３】前記反射防止膜の膜構成が、基体側から
    数えて、 第１層：ＺｒＯ₂ 第２層：ＳｉＯ₂ 第３層：ＴｉＯ₂ 第４層：ＩＴＯ 第５層：ＳｉＯ₂ からなることを特徴とする請求項８、９または１１に記
    載の光学フィルター。
14. 【請求項１４】表面抵抗値が１０¹⁰Ω／□以下であるこ
    とを特徴とする請求項１１〜１３のいずれかに記載光学
    フィルター。
15. 【請求項１５】表面抵抗値が５００Ω／□以下であるこ
    とを特徴とする請求項１１〜１３のいずれかに記載光学
    フィルター。
16. 【請求項１６】表示画面の前面に取り付けられて使用さ
    れることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載
    の光学フィルター。
17. 【請求項１７】前記表示画面が、プラズマディスプレイ
    であることを特徴とする請求項１６に記載の光学フィル
    ター。
18. 【請求項１８】前記表示画面の大きさが、表示領域の対
    角線長さで２８インチ以上であることを特徴とする請求
    項１６または１７に記載の光学フィルター。
19. 【請求項１９】前記光学フィルターの基体は可視光線透
    過率が、４０％から７０％であることを特徴とする請求
    項１〜１８のいずれかに記載の光学フィルター。
20. 【請求項２０】ＣＣＤ（固体撮像素子）カメラに取り付
    けて使用されることを特徴とする請求項１〜１９のいず
    れかに記載の光学フィルター。
21. 【請求項２１】成膜領域の前後に光学フィルターを多段
    に収納可能な第１及び第２のストッカーを有する成膜室
    と、該成膜室の前後に、それぞれ前記光学フィルターを
    多段に収納可能なストッカーを有する投入室と取出室を
    設け、成膜室にて前記光学フィルター用基板群が成膜さ
    れている間に次の光学フィルター用基板を投入室に投入
    して排気しておくと共に、前回成膜された前記光学フィ
    ルター群を取出室から取り出す前記光学フィルター製造
    方法であって、該光学フィルター用基板を前記成膜領域
    を通過させながら成膜させる製造方法で製造されたこと
    を特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。