JPH11228582A - ビス−(シリルオルガニル)ポリスルファンのスルファン鎖を減少させる方法 - Google Patents

ビス−(シリルオルガニル)ポリスルファンのスルファン鎖を減少させる方法

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JPH11228582A
JPH11228582A JP10320702A JP32070298A JPH11228582A JP H11228582 A JPH11228582 A JP H11228582A JP 10320702 A JP10320702 A JP 10320702A JP 32070298 A JP32070298 A JP 32070298A JP H11228582 A JPH11228582 A JP H11228582A
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bis
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Rudolf Michel
ミヒェル ルドルフ
Joerg Muenzenberg
ミュンツェンベルク イェルク
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Degussa GmbH
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    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 二酸化マンガンでのメルカプトシランの酸化
を必要としないビス−(シリルオルガニル)ポリスルフ
ァンのスルファン鎖を減少させる方法の提供。 【解決手段】 ビス−(シリルオルガニル)ポリスルフ
ァンを無水スルフィド及びハロゲン化アルキルシラン化
合物と反応させる。この反応の具体例にはビス(3−ト
リエトキシシリフプロピル)テトラスルファンの平均鎖
長2のポリスルファン混合物への鎖長減少反応がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビス−(シリルオ
ルガニル)ポリスルファンをスルフィド及びハロゲン化
アルキルシランとと反応させることによってビス−(シ
リルオルガニル)ポリスルファンのスルファン鎖を減少
させる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のポリスルファンは、かなり以前
から公知であり(ドイツ国特許第2255577号明細
書)、かつ大規模に補強添加剤としてケイ素含有加硫ゴ
ム(Kautschukvulkanisatten)に、殊にタイヤ分野で使用
されている。この場合にはとりわけビス(トリエトキシ
シリルプロピル)テトラスルファン(Si69、Deguss
a社)が常用される(Wolff, 129th Meeting of the Rub
ber Diviison AmericanChemical Society, April 8-11,
1986, NY参照)。
【0003】最近、相応するジスルファンの加工による
利点が種々記載されている。該化合物は、欧州特許出願
公開第0732362号明細書(米国特許第55809
19号明細書)によればできるだけ純粋な化合物とし
て、又は混合物の形でも(ドイツ国特許出願公開第19
70246.1号明細書)、ゴム混合物中に混入され
る。
【0004】しかしながら、ジスルファンの製造は、公
知技術水準によれば不快な条件下で行なわれ、それとい
うのもメルカプトシランを二酸化マンガンで酸化しなけ
ればならないからである(欧州特許出願公開第0718
302号明細書)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の付随現象を伴わずに所望の生成物が得られる方法を提
供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の対象は、一般
式: Z-Alk-Sx-Alk-Z (I) 〔式中、Zは
【0007】
【化3】
【0008】の群(但しR1はC原子1〜5個を有する
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、C原子5〜8個
を有するシクロアルキル基、ベンジル基又は、場合によ
りメチル、エチルもしくは塩素原子で置換されたフェニ
ル基を表わし、R2はC原子1〜5個を有する直鎖状も
しくは分枝鎖状の炭素鎖を有するアルコキシ基又はC原
子5〜8個を有するシクロアルコキシ基、フェノキシ基
又はベンジル基を表わし、この際、R1及びR2はそれぞ
れ同じか又は異なる意味を表わす)を表わし、Alkは
C原子1〜10個、殊にC原子1〜4個を有する飽和も
しくは不飽和の、直鎖状もしくは分枝鎖状の二価の炭化
水素基又は
【0009】
【化4】
【0010】で示される基を表わし、xは3〜8、特に
4〜6の整数を表わし、nは1〜4の整数を表わす〕で
示される有機ケイ素化合物を一般式: Me2S (II) 〔式中、Meはアルカリ金属、特にナトリウム又は1当
量のアルカリ土類金属原子もしくは亜鉛、又はアンモニ
ウムを表わす〕で示される無水スルフィド及び一般式 Z-Alk-Y (III) 〔式中、Z及びAlkは上記の意味を有し、YはCl、
Brを表わす〕で示される有機ケイ素化合物と反応さ
せ、この際、ポリスルファンとMe2Sのモル比を部分
的に脱硫すべきポリスルファンの所望の硫黄含量に相応
して選択することを特徴とする、ビス−(シリルオルガ
ニル)ポリスルファンのスルファン鎖を減少させる方法
である。
【0011】有利な実施態様の場合にはxは統計的平均
値を表わし、それというのも相応する純粋なポリスルフ
ァンは、製造するのは極めて困難であるからである。
【0012】モル比の適当な調整によって、種々のポリ
スルファンの混合物を製造することが可能であり、この
際、例えば、ジスルファン(ドイツ国特許出願公開第1
9702046号明細書)又は、例えば米国特許第55
80919号明細書によれば使用される、著しく純粋な
ジスルファンの場合に問題点がある。
【0013】通常、反応比は、反応混合物に式(II)
の化合物が、脱硫からの硫黄画分及びNa2S添加によ
って新たに生じるSy−基と完全に反応して式(I)の
化合物が得られるのに少なくとも十分である量(モル)
で添加されるようにように選択され、この際、y<x≧
1は脱硫によって生じるスルファン鎖の長さに相応す
る。
【0014】反応は有利に、有機の、試験条件下で不活
性の、有利に極性の溶剤中で行なわれる。これには、殊
にC原子1〜6個を有する脂肪族アルコールC原子2〜
12個を有するエーテル、アミド、例えばジメチルホル
ムアミド、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド
が属する。
【0015】反応は、通常50℃の温度ないし使用され
た溶剤の還流温度で、場合により該温度で生じる圧力下
で行なわれる。
【0016】得られた生成物は、特に、yが2である鎖
長Syを示す。
【0017】スルファン鎖長を短くするために、有利に
テトラスルファンは、使用される。このことは、殊に容
易に得ることができるビス(トリエトキシシリルプロピ
ル)テトラスルファンに有効である。
【0018】反応成分即ちテトラスルファン、Me2
及び式(II)の化合物のモル比が1:0.4〜0.
6:0.9〜1.1に調整されることによって、テトラ
スルファンから相応するトリスルファンが製造される。
【0019】テトラスルファンからのジスルファンの製
造には、1:1.8〜2.2:2.5〜3.5の比が必
要である。
【0020】対称のポリスルファン分子を生じさせる式
(II)の化合物は、有利に使用される。
【0021】
【実施例】例 1: 平均鎖長4から2への減少 還流冷却器及び電磁撹拌機を備えた500mlの3口フ
ラスコ中に、N2−保護ガス雰囲気下にエタノール12
0ml中のビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テ
トラスルファン67.4g(0.13モル)及び硫化ナ
トリウム15.5g(0.24モル)を装入した。これ
に3−クロロプロピルトリエトキシシラン108.7g
(0.45モル)を室温で添加し、かつこの反応混合物
を還流温度で2.5時間維持した。室温に冷却した後に
沈殿物を濾別し、かつ濾過残留物をエタノール30ml
で3回洗浄した。集めた濾液を回転蒸発器で100℃で
40ミリバールの最終真空まで蒸発濃縮した。1H−N
MR分光分析によれば平均ポリスルファン鎖長2を有す
るポリスルファン混合物に相応する黄色の液体153.
1gが得られた。収率: 90%。
【0022】例 2: 平均鎖長4から3への減少 還流冷却器(滴状冷却器(Tropfkuehler))及び電磁撹拌
機を備えた500mlの3口フラスコ中に、N2−保護
ガス雰囲気下にエタノール100ml中のビス(3−ト
リエトキシシリルプロピル)テトラスルファン100g
(0.13モル)及び硫化ナトリウム7.8g(0.1
モル)を装入しかつ1時間加熱還流する。これに3−ク
ロロプロピルトリエトキシシラン48.2g(0.2モ
ル)を添加し、かつこの反応混合物をさらに還流温度で
2.5時間維持した。室温に冷却した後に沈殿物を濾別
し、かつ濾過残留物をエタノール30mlで3回洗浄し
た。集めた濾液を回転蒸発器で110℃で40ミリバー
ルの最終真空まで蒸発濃縮した。1H−NMR分光分析
によれば平均ポリスルファン鎖長3を有するポリスルフ
ァン混合物に相応する赤褐色の液体144.9gが得ら
れた。収率: 98%。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式:Z-Alk-Sx-Alk-Z (I)〔式
    中、Zは 【化1】 の群(但しR1はC原子1〜5個を有する直鎖状もしく
    は分枝鎖状のアルキル基、C原子5〜8個を有するシク
    ロアルキル基、ベンジル基又は、場合によりメチル、エ
    チルもしくは塩素原子で置換されたフェニル基を表わ
    し、R2はC原子1〜5個を有する直鎖状もしくは分枝
    鎖状の炭素鎖を有するアルコキシ基又はC原子5〜8個
    を有するシクロアルコキシ基、フェノキシ基又はベンジ
    ル基を表わし、この際、R1及びR2はそれぞれ同じか又
    は異なる意味を表わす)を表わし、AlkはC原子1〜
    10個を有する飽和もしくは単一に不飽和の、直鎖状も
    しくは分枝鎖状の二価の炭化水素基又は 【化2】 で示される基を表わし、xは3〜8、特に4〜6の整数
    を表わし、nは1〜4の整数を表わす〕で示される有機
    ケイ素化合物を一般式: Me2S (II) 〔式中、Meはアルカリ金属、特にナトリウム又は1当
    量のアルカリ土類金属原子もしくは亜鉛、又はアンモニ
    ウムを表わす〕で示される無水スルフィド及び一般式 Z-Alk-Y (III) 〔式中、Z及びAlkは上記の意味を有し、YはCl、
    Brを表わす〕で示される有機ケイ素化合物と反応さ
    せ、この際、ポリスルファンとMe2Sのモル比を部分
    的に脱硫すべきポリスルファンの、及び所望の生成物の
    所望の硫黄含量に相応して選択し、かつ脱硫されたポリ
    スルファンが純粋な形でか又は他のポリスルファンとの
    混合物の形で得られることを特徴とする、ビス−(シリ
    ルオルガニル)ポリスルファンのスルファン鎖を減少さ
    せる方法。
  2. 【請求項2】 反応混合物に式(II)の化合物を、脱
    硫からの硫黄画分及びNa2S添加によって新たに生じ
    るSy−基と完全に反応して式(I)の化合物が得られ
    るのに少なくとも十分である量(モル)で添加し、この
    際、y<x≧1は脱硫によって生じるスルファン鎖の長
    さに相応する、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 有機の、不活性の、及び有利に極性の溶
    剤中で処理を行なう、請求項1又は2記載の方法。
  4. 【請求項4】 反応を温度50℃ないし溶剤の還流温度
    で実施する、請求項3記載の方法。
  5. 【請求項5】 式(I)のx及び相応するyが統計的平
    均値に相応する、請求項1から4のまでのいずれか1項
    に記載の方法。
  6. 【請求項6】 ビス−(シリルオルガニル)テトラスル
    ファンを脱硫する、請求項1から5のまでのいずれか1
    項に記載の方法。
  7. 【請求項7】 反応成分であるテトラスルファン、Me
    2S及び式(III)の化合物のモル比を1:0.4〜
    0.6:0.9〜1.1に調整することによってテトラ
    スルファンからトリスルファンを製造する、請求項6記
    載の方法。
  8. 【請求項8】 反応成分であるテトラスルファン、Me
    2S及び式(III)の化合物のモル比を1:1.8〜
    2.2:2.5〜3.5に調整することによってテトラ
    スルファンからジスルファンを製造する、請求項6記載
    の方法。
JP10320702A 1997-11-14 1998-11-11 ビス−(シリルオルガニル)ポリスルファンのスルファン鎖を減少させる方法 Pending JPH11228582A (ja)

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