JPH11226531A - 表面洗浄装置 - Google Patents
表面洗浄装置Info
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- JPH11226531A JPH11226531A JP3136598A JP3136598A JPH11226531A JP H11226531 A JPH11226531 A JP H11226531A JP 3136598 A JP3136598 A JP 3136598A JP 3136598 A JP3136598 A JP 3136598A JP H11226531 A JPH11226531 A JP H11226531A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄室の外壁に水滴や霜が付着するのを防止
して、構成部品の破損を防止すると共に、内部状態が観
察できなくなるのを防ぐ。 【解決手段】 洗浄室１４の壁中の少なくとも一部に、
その内壁と外壁を遮断する、密閉された空間１５Ｓ、１
０５を形成し、該空間内を真空に排気する。
して、構成部品の破損を防止すると共に、内部状態が観
察できなくなるのを防ぐ。 【解決手段】 洗浄室１４の壁中の少なくとも一部に、
その内壁と外壁を遮断する、密閉された空間１５Ｓ、１
０５を形成し、該空間内を真空に排気する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面洗浄装置に係
り、特に、半導体用ウェハの表面を洗浄する際に用いる
のに好適な、洗浄室外壁への水滴や霜の付着を防止し
て、構成部品の破損や覗き窓の曇りを防止することが可
能な、表面洗浄装置に関する。
り、特に、半導体用ウェハの表面を洗浄する際に用いる
のに好適な、洗浄室外壁への水滴や霜の付着を防止し
て、構成部品の破損や覗き窓の曇りを防止することが可
能な、表面洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ製造工程における半導体用ウェハ
の表面上や、液晶（ＬＣＤ）あるいは太陽電池等の表面
上の微粒子（パーティクル）や汚れは、最終製品の歩留
りを大きく低下させる。このため、前記ウェハ等の表面
洗浄が極めて重要である。又、最近の環境保護の立場か
らも、廃液等を出さない環境に優しい洗浄方向が注目さ
れている。
の表面上や、液晶（ＬＣＤ）あるいは太陽電池等の表面
上の微粒子（パーティクル）や汚れは、最終製品の歩留
りを大きく低下させる。このため、前記ウェハ等の表面
洗浄が極めて重要である。又、最近の環境保護の立場か
らも、廃液等を出さない環境に優しい洗浄方向が注目さ
れている。
【０００３】従来から、種々の表面洗浄方法が提案され
ており、半導体製造を例に採ると、超音波併用の純水洗
浄、純水中に薬液（例えばアンモニア過酸化水素液や硫
酸過酸化水素液）を加えた溶液中に被洗浄物を侵漬し、
洗浄する等の湿式洗浄方式が用いられている。
ており、半導体製造を例に採ると、超音波併用の純水洗
浄、純水中に薬液（例えばアンモニア過酸化水素液や硫
酸過酸化水素液）を加えた溶液中に被洗浄物を侵漬し、
洗浄する等の湿式洗浄方式が用いられている。
【０００４】しかしながら、この種の湿式洗浄方式は、
各種設備の設置面積が大きく、廃液処理も必要であると
いう問題がある。
各種設備の設置面積が大きく、廃液処理も必要であると
いう問題がある。
【０００５】一方、液体を用いない乾式洗浄方式とし
て、ガスを加え化学反応を利用したドライクリーニング
があるが、パーティクル状の汚染物が除去できないとい
う問題がある。
て、ガスを加え化学反応を利用したドライクリーニング
があるが、パーティクル状の汚染物が除去できないとい
う問題がある。
【０００６】更に、ドライアイスや氷、アルゴン固体等
の微粒子を、被洗浄物表面に衝突させ、パーティクルを
除去することも考えられているが、氷を用いた場合に
は、被洗浄物の表面が損傷を受ける恐れがあり、ドライ
アイスを用いた場合には、特に、鉄鋼や石油精製の廃ガ
スを原料とする市販品では、ドライアイス自体が汚れて
いるため、不純物汚染の問題がある。
の微粒子を、被洗浄物表面に衝突させ、パーティクルを
除去することも考えられているが、氷を用いた場合に
は、被洗浄物の表面が損傷を受ける恐れがあり、ドライ
アイスを用いた場合には、特に、鉄鋼や石油精製の廃ガ
スを原料とする市販品では、ドライアイス自体が汚れて
いるため、不純物汚染の問題がある。
【０００７】これらに対して、特開平６−２５２１１４
や特開平６−２９５８９５に記載された、アルゴン固体
の微粒子を用いる方法によれば、上記のような問題は存
在しない。
や特開平６−２９５８９５に記載された、アルゴン固体
の微粒子を用いる方法によれば、上記のような問題は存
在しない。
【０００８】例えば、特開平６−２９５８９５では、図
４に示す如く、アルゴン（Ａｒ）ガスのボンベ２０から
圧力調整弁２２を介して供給されるアルゴンガスと、窒
素（Ｎ2 ）ガスのボンベ２４から圧力調整弁２６を介し
て供給される窒素ガスを合流点３０で混合し、該合流点
３０で混合されたＡｒ＋Ｎ2 混合ガスを、配管３２を介
してフィルタ３４でガス中の不純粒子を除去した後、配
管３６を介して冷却器（又は熱交換器）３８で、当該冷
却器３８の到達冷却温度が、その圧力でのアルゴンガス
の液化点近くまで冷却する。冷却された混合ガスは、配
管４０を介してエアロゾル噴射ノズル４２により、被洗
浄物であるウェハ１０等が走査機構１２の移動台１３上
に載置されて収容されている、洗浄室１４を構成する真
空容器内に噴出される。真空容器内の圧力はアルゴンの
エアロゾルを形成するように、アルゴンの三重点圧力以
下に維持される。エアロゾル噴射ノズル４２から噴出さ
れた混合ガスは、真空容器である洗浄室１４内で断熱膨
脹し、アルゴンの固体、気体の混合体であるエアロゾル
を形成するので、多量のアルゴン微粒子を含むエアロゾ
ルがウェハ１０の表面に噴射され、効率的に洗浄され
る。
４に示す如く、アルゴン（Ａｒ）ガスのボンベ２０から
圧力調整弁２２を介して供給されるアルゴンガスと、窒
素（Ｎ2 ）ガスのボンベ２４から圧力調整弁２６を介し
て供給される窒素ガスを合流点３０で混合し、該合流点
３０で混合されたＡｒ＋Ｎ2 混合ガスを、配管３２を介
してフィルタ３４でガス中の不純粒子を除去した後、配
管３６を介して冷却器（又は熱交換器）３８で、当該冷
却器３８の到達冷却温度が、その圧力でのアルゴンガス
の液化点近くまで冷却する。冷却された混合ガスは、配
管４０を介してエアロゾル噴射ノズル４２により、被洗
浄物であるウェハ１０等が走査機構１２の移動台１３上
に載置されて収容されている、洗浄室１４を構成する真
空容器内に噴出される。真空容器内の圧力はアルゴンの
エアロゾルを形成するように、アルゴンの三重点圧力以
下に維持される。エアロゾル噴射ノズル４２から噴出さ
れた混合ガスは、真空容器である洗浄室１４内で断熱膨
脹し、アルゴンの固体、気体の混合体であるエアロゾル
を形成するので、多量のアルゴン微粒子を含むエアロゾ
ルがウェハ１０の表面に噴射され、効率的に洗浄され
る。
【０００９】図において、１６は、洗浄室１４内を真空
に排気するための排気装置である。
に排気するための排気装置である。
【００１０】この表面洗浄装置においては、エアロゾル
噴射ノズル４２に設けられたノズル穴４３を介して、冷
却器３８で冷却されたアルゴンガスを洗浄室１４中に噴
出させ、急激な断熱膨脹によって多数のエアロゾル（液
体、固体、気体あるいは固体と液体及び気体の混合物か
らなる極微粒子のガス状懸濁物）を形成させ、ウェハ１
０の表面に噴き付けて、微粒子の衝撃力を利用して表面
洗浄を行う。
噴射ノズル４２に設けられたノズル穴４３を介して、冷
却器３８で冷却されたアルゴンガスを洗浄室１４中に噴
出させ、急激な断熱膨脹によって多数のエアロゾル（液
体、固体、気体あるいは固体と液体及び気体の混合物か
らなる極微粒子のガス状懸濁物）を形成させ、ウェハ１
０の表面に噴き付けて、微粒子の衝撃力を利用して表面
洗浄を行う。
【００１１】前記表面洗浄装置は、具体的には、図５に
示す如く、装置外部から被洗浄物であるウェハ１０が多
数収容されたカセット５２が交互に搬入出され、ロード
ロックされて、真空状態に排気される２つのカセット室
５４、５６と、洗浄前のウェハ１０を、前記カセット室
５４、５６の一方のカセット５２から１枚ずつ引き出し
て、矢印Ａに示す如く、次のバッファ室６２に搬入する
と共に、洗浄後のウェハを、バッファ室６２から搬出し
て、矢印Ｂに示す如く、所定のカセット５２に挿入する
ための、ウェハハンドリング用の、水平面内で伸縮と回
転の２軸動作可能な真空ロボット５８が配設されたロボ
ット室６０と、常時、真空に保たれているロボット室６
０とノズル４２から噴射されるエアロゾルにより真空度
が低下する洗浄室１４間の圧力差を解消して、ウェハの
受け渡しをするためのバッファ室６２と、該バッファ室
６２内で待機しているウェハを、移動台を構成するプロ
セスハンド１３により洗浄室１４に搬入（Ｙ方向）しな
がら、ノズル穴４３のピッチ分だけ図の左右方向（Ｘ方
向）に走査するための走査機構１２と、下を通過するウ
ェハに対してエアロゾルを噴射して洗浄するためのエア
ロゾル噴射ノズル４２を備えた洗浄室１４と、該エアロ
ゾル噴射ノズル４２に供給されるＡｒ＋Ｎ2混合ガスを
冷却するための冷却器３８を構成する冷凍機７６、コン
プレッサ７８及び熱交換器８０と、前記カセット室５
４、５６、ロボット室６０、バッファ室６２、洗浄室１
４を排気して真空にするための排気装置１６とを用いて
構成することができる。
示す如く、装置外部から被洗浄物であるウェハ１０が多
数収容されたカセット５２が交互に搬入出され、ロード
ロックされて、真空状態に排気される２つのカセット室
５４、５６と、洗浄前のウェハ１０を、前記カセット室
５４、５６の一方のカセット５２から１枚ずつ引き出し
て、矢印Ａに示す如く、次のバッファ室６２に搬入する
と共に、洗浄後のウェハを、バッファ室６２から搬出し
て、矢印Ｂに示す如く、所定のカセット５２に挿入する
ための、ウェハハンドリング用の、水平面内で伸縮と回
転の２軸動作可能な真空ロボット５８が配設されたロボ
ット室６０と、常時、真空に保たれているロボット室６
０とノズル４２から噴射されるエアロゾルにより真空度
が低下する洗浄室１４間の圧力差を解消して、ウェハの
受け渡しをするためのバッファ室６２と、該バッファ室
６２内で待機しているウェハを、移動台を構成するプロ
セスハンド１３により洗浄室１４に搬入（Ｙ方向）しな
がら、ノズル穴４３のピッチ分だけ図の左右方向（Ｘ方
向）に走査するための走査機構１２と、下を通過するウ
ェハに対してエアロゾルを噴射して洗浄するためのエア
ロゾル噴射ノズル４２を備えた洗浄室１４と、該エアロ
ゾル噴射ノズル４２に供給されるＡｒ＋Ｎ2混合ガスを
冷却するための冷却器３８を構成する冷凍機７６、コン
プレッサ７８及び熱交換器８０と、前記カセット室５
４、５６、ロボット室６０、バッファ室６２、洗浄室１
４を排気して真空にするための排気装置１６とを用いて
構成することができる。
【００１２】特に、前記洗浄室１４は、図６に縦断面を
示す如く構成することができる。即ち、該洗浄室１４の
本体１５は、上面を覗き窓を構成するアクリル板８２で
密閉されており、その一方の側面（図６の左側）が、ウ
ェハ１０及びプロセスハンド１３の通過に合わせて開閉
されるゲートバルブ８４を介して前記バッファ室６２に
連結され、前記洗浄室本体１５の内部には、ノズル室８
６が設けられ、更にその内側に、前記ノズル４２が配設
されている。又、洗浄室本体１５のバッファ室６２と反
対側（図６の右側）には、洗浄室後箱８８が連結されて
いる。
示す如く構成することができる。即ち、該洗浄室１４の
本体１５は、上面を覗き窓を構成するアクリル板８２で
密閉されており、その一方の側面（図６の左側）が、ウ
ェハ１０及びプロセスハンド１３の通過に合わせて開閉
されるゲートバルブ８４を介して前記バッファ室６２に
連結され、前記洗浄室本体１５の内部には、ノズル室８
６が設けられ、更にその内側に、前記ノズル４２が配設
されている。又、洗浄室本体１５のバッファ室６２と反
対側（図６の右側）には、洗浄室後箱８８が連結されて
いる。
【００１３】前記ノズル４２からは、冷却されたアルゴ
ンが噴射されてエアロゾル４３Ａとなり、ウェハ１０の
表面に吹き付けられ、シールド板９０で流れを調整され
て、洗浄室後箱８８の洗浄室本体１５と反対側の配管９
２より排気されるようになっている。
ンが噴射されてエアロゾル４３Ａとなり、ウェハ１０の
表面に吹き付けられ、シールド板９０で流れを調整され
て、洗浄室後箱８８の洗浄室本体１５と反対側の配管９
２より排気されるようになっている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】前記ノズル４２から噴
射されるエアロゾル４３Ａは、ウェハ１０やノズル室８
６に向けて噴射されるが、洗浄を長時間行うと、洗浄室
１４が内部から冷却され、洗浄室本体１５、アクリル板
８２、洗浄室後箱８８等の外壁面に水滴や霜９４が付着
して成長し、この水分により、洗浄室１４が腐食した
り、水滴落下により、機械や電子機器を破損する恐れが
あった。又、アクリル板８２が曇ってしまうため、内部
状態が観察できなくなるという問題点もあった。
射されるエアロゾル４３Ａは、ウェハ１０やノズル室８
６に向けて噴射されるが、洗浄を長時間行うと、洗浄室
１４が内部から冷却され、洗浄室本体１５、アクリル板
８２、洗浄室後箱８８等の外壁面に水滴や霜９４が付着
して成長し、この水分により、洗浄室１４が腐食した
り、水滴落下により、機械や電子機器を破損する恐れが
あった。又、アクリル板８２が曇ってしまうため、内部
状態が観察できなくなるという問題点もあった。
【００１５】このような問題を解決するべく、断熱材を
巻いても限度があり、時間が経てば霜が付着する。外壁
にヒータを巻くと、洗浄室内部への入熱により、洗浄室
内部が暖まり、洗浄プロセスに支障を来してしまう。
巻いても限度があり、時間が経てば霜が付着する。外壁
にヒータを巻くと、洗浄室内部への入熱により、洗浄室
内部が暖まり、洗浄プロセスに支障を来してしまう。
【００１６】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、洗浄室外壁への水滴や霜の付着を防
止して、構成部品の破損や覗き窓の曇りを防止すること
を課題とする。
くなされたもので、洗浄室外壁への水滴や霜の付着を防
止して、構成部品の破損や覗き窓の曇りを防止すること
を課題とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明は、洗浄室内に配
設された噴射ノズルから、冷却されたガス又はエアロゾ
ルを被洗浄物表面に向けて噴射することにより、被洗浄
物表面を洗浄するようにした表面洗浄装置において、前
記洗浄室の壁中の少なくとも一部に、その内壁と外壁を
遮断する、密閉された空間を形成し、該空間内を真空に
排気するようにして、前記課題を解決したものである。
設された噴射ノズルから、冷却されたガス又はエアロゾ
ルを被洗浄物表面に向けて噴射することにより、被洗浄
物表面を洗浄するようにした表面洗浄装置において、前
記洗浄室の壁中の少なくとも一部に、その内壁と外壁を
遮断する、密閉された空間を形成し、該空間内を真空に
排気するようにして、前記課題を解決したものである。
【００１８】このようにして、洗浄室を二重構造にし、
その内部に断熱空間を設けることによって、洗浄室外壁
には熱が伝わらず、水滴や霜が付着しない。
その内部に断熱空間を設けることによって、洗浄室外壁
には熱が伝わらず、水滴や霜が付着しない。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施形態を詳細に説明する。
施形態を詳細に説明する。
【００２０】図５に示したような全体構成の表面洗浄装
置において、本実施形態では、図１（平面図）、図２
（図１のII−II線に沿う横断面図）、図３（図１のIII
−III線に沿う横断面図）に示す如く、洗浄室本体１５
の内部に、バッファ室６２と反対側より上下左右に溝が
掘られ、第１の断熱用空間１５Ｓが形成されている。
置において、本実施形態では、図１（平面図）、図２
（図１のII−II線に沿う横断面図）、図３（図１のIII
−III線に沿う横断面図）に示す如く、洗浄室本体１５
の内部に、バッファ室６２と反対側より上下左右に溝が
掘られ、第１の断熱用空間１５Ｓが形成されている。
【００２１】前記洗浄室本体１５の上側には、前記第１
の断熱用空間１５Ｓの上面と下面にそれぞれ外側アクリ
ル板１００と内側アクリル板１０２が設けられている。
の断熱用空間１５Ｓの上面と下面にそれぞれ外側アクリ
ル板１００と内側アクリル板１０２が設けられている。
【００２２】前記洗浄室本体１５の断熱用空間１５Ｓよ
り内側には、ノズル室８６が設けられ、更にその内側
に、前記ノズル４３や、エアロゾル４３Ａの流れを制御
するシールド板９０が配置されている。又、該洗浄室本
体１５のバッファ室６２と反対側には、洗浄室後箱８８
を構成する箱型構造の洗浄室内箱１０４と洗浄室外箱１
０６が設けられ、その間に第２の断熱用空間１０５が形
成されている。
り内側には、ノズル室８６が設けられ、更にその内側
に、前記ノズル４３や、エアロゾル４３Ａの流れを制御
するシールド板９０が配置されている。又、該洗浄室本
体１５のバッファ室６２と反対側には、洗浄室後箱８８
を構成する箱型構造の洗浄室内箱１０４と洗浄室外箱１
０６が設けられ、その間に第２の断熱用空間１０５が形
成されている。
【００２３】前記洗浄室内箱１０４の内側の空間は、前
記ノズル室８６とつながり、プロセスハンド１３に乗っ
たウェハ１０が平面方向に自由に往復できるようになっ
ており、洗浄室内箱１０４の洗浄室本体１５と反対側か
ら、配管９２により排気用の真空ポンプに連結されてい
る。
記ノズル室８６とつながり、プロセスハンド１３に乗っ
たウェハ１０が平面方向に自由に往復できるようになっ
ており、洗浄室内箱１０４の洗浄室本体１５と反対側か
ら、配管９２により排気用の真空ポンプに連結されてい
る。
【００２４】又、前記洗浄室内箱１０４と外箱１０６の
間の断熱用空間１０５は、前記洗浄室本体１５に形成し
た断熱用空間１５Ｓと連結されると共に、前記ノズル室
８６及び外気に対して密閉されており、配管１０８によ
り、前記ウェハ１０が存在する洗浄室内を排気するため
の真空ポンプとは別の真空ポンプに接続されている。
間の断熱用空間１０５は、前記洗浄室本体１５に形成し
た断熱用空間１５Ｓと連結されると共に、前記ノズル室
８６及び外気に対して密閉されており、配管１０８によ
り、前記ウェハ１０が存在する洗浄室内を排気するため
の真空ポンプとは別の真空ポンプに接続されている。
【００２５】以下作用を説明する。
【００２６】前記エアロゾル噴射ノズル４２からは、冷
却されたアルゴンが吹き出されてエアロゾル４３Ａとな
り、ウェハ１０の表面に吹き付けられ、シールド板９０
に流れを調整されて、洗浄室内箱１０４の洗浄室本体１
５と反対側（図２の右側）より排気される。このとき、
エアロゾル４３Ａは、ウェハ１０やノズル室８６や洗浄
室内箱１０４の内側に吹き付けられ、洗浄を長時間行う
と、洗浄室本体１５の空間１５Ｓの内側や、洗浄室内箱
１０４は冷却されるが、空間１５Ｓ及び１０５は、真空
ポンプにより排気されて真空状態になっているため、断
熱空間となって、熱が伝わっていかない。このため、洗
浄室本体１５及び外側アクリル板１００の外壁面や、洗
浄室外箱１０６の外壁面には水滴や霜が付着しない。
却されたアルゴンが吹き出されてエアロゾル４３Ａとな
り、ウェハ１０の表面に吹き付けられ、シールド板９０
に流れを調整されて、洗浄室内箱１０４の洗浄室本体１
５と反対側（図２の右側）より排気される。このとき、
エアロゾル４３Ａは、ウェハ１０やノズル室８６や洗浄
室内箱１０４の内側に吹き付けられ、洗浄を長時間行う
と、洗浄室本体１５の空間１５Ｓの内側や、洗浄室内箱
１０４は冷却されるが、空間１５Ｓ及び１０５は、真空
ポンプにより排気されて真空状態になっているため、断
熱空間となって、熱が伝わっていかない。このため、洗
浄室本体１５及び外側アクリル板１００の外壁面や、洗
浄室外箱１０６の外壁面には水滴や霜が付着しない。
【００２７】なお、洗浄室本体１５のゲートバルブ８４
近傍には、断熱用空間１５Ｓを形成することが困難であ
るが、エアロゾル４３Ａの流れが、バッファ室６２から
洗浄室１４方向になっているため、流れの上流側である
ゲートバルブ８４近傍への伝熱は少なく、霜や水滴がほ
とんど付着しない。
近傍には、断熱用空間１５Ｓを形成することが困難であ
るが、エアロゾル４３Ａの流れが、バッファ室６２から
洗浄室１４方向になっているため、流れの上流側である
ゲートバルブ８４近傍への伝熱は少なく、霜や水滴がほ
とんど付着しない。
【００２８】本実施形態においては、ノズルから、一部
が固化されたアルゴン微粒子を含むアルゴンエアロゾル
を噴射するようにしているので、洗浄効果が高い。な
お、ノズルから噴射するエアロゾルの種類は、これに限
定されない。
が固化されたアルゴン微粒子を含むアルゴンエアロゾル
を噴射するようにしているので、洗浄効果が高い。な
お、ノズルから噴射するエアロゾルの種類は、これに限
定されない。
【００２９】又、前記実施形態においては、本発明が、
半導体用ウェハの洗浄装置に適用されていたが、本発明
の適用対象はこれに限定されず、ハードディスク、液
晶、マイクロマシン、精密機械部品及び電子部品等の他
の洗浄装置にも同様に適用できることは明らかである。
半導体用ウェハの洗浄装置に適用されていたが、本発明
の適用対象はこれに限定されず、ハードディスク、液
晶、マイクロマシン、精密機械部品及び電子部品等の他
の洗浄装置にも同様に適用できることは明らかである。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、洗浄室の外壁に水滴や
霜が付着することがなく、水分により洗浄室が腐食した
り、水滴落下により機械や電子機器を破損することがな
い。又、アクリル板等の覗き窓が曇ることがないため、
内部状態が観察できなくなることもない。
霜が付着することがなく、水分により洗浄室が腐食した
り、水滴落下により機械や電子機器を破損することがな
い。又、アクリル板等の覗き窓が曇ることがないため、
内部状態が観察できなくなることもない。
【図１】本発明が適用される半導体用ウェハの表面洗浄
装置の洗浄室の構成を示す平面図
装置の洗浄室の構成を示す平面図
【図２】図１のII−II線に沿う横断面図
【図３】図１のIII −III 線に沿う横断面図
【図４】特開平６−２９５８９５に記載された従来の表
面洗浄装置の構成を示す管路図
面洗浄装置の構成を示す管路図
【図５】表面洗浄装置の機械的な構成例を示す平面図
【図６】洗浄室の構成例を示す、図５のVI−VI線に沿う
縦断面図
縦断面図
１０…ウェハ（被洗浄物） １２…走査機構 １３…プロセスハンド（移動台） １４…洗浄室 １５…洗浄室本体 １５Ｓ、１０５…断熱用空間 １６…排気装置 ２０…アルゴン（Ａｒ）ガスボンベ ２４…窒素（Ｎ2 ）ガスボンベ ３８…冷却器 ４２…エアロゾル噴射ノズル ４３Ａ…エアロゾル ６２…バッファ室 ７６…冷凍機 ８０…熱交換器 ８６…ノズル室 ８８…洗浄室後箱 １００、１０２…アクリル板 １０４…洗浄室内箱 １０６…洗浄室外箱
Claims (1)
- 【請求項１】洗浄室内に配設された噴射ノズルから、冷
却されたガス又はエアロゾルを被洗浄物表面に向けて噴
射することにより、被洗浄物表面を洗浄するようにした
表面洗浄装置において、 前記洗浄室の壁中の少なくとも一部に、その内壁と外壁
を遮断する、密閉された空間が形成され、 該空間内が真空に排気されていることを特徴とする表面
洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3136598A JPH11226531A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | 表面洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3136598A JPH11226531A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | 表面洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11226531A true JPH11226531A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=12329226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3136598A Pending JPH11226531A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | 表面洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11226531A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019141764A (ja) * | 2018-02-19 | 2019-08-29 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄装置 |
-
1998
- 1998-02-13 JP JP3136598A patent/JPH11226531A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019141764A (ja) * | 2018-02-19 | 2019-08-29 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050620 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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