JP2000262997A - エアロゾル洗浄装置 - Google Patents
エアロゾル洗浄装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エアロゾルノズル及び加速ノズルと被洗浄物
間の距離を各々適切に設定し、洗浄力を格段に向上させ
る。 【解決手段】 エアロゾルノズル２０及び加速ノズル５
６と被洗浄物１０表面間の相対距離を、エアロゾルノズ
ル内の温度・圧力、洗浄室４２内の圧力、洗浄室内をパ
ージするためのパージガス６６の量、加速ガス５８の量
に応じて、所定範囲に設定する。
間の距離を各々適切に設定し、洗浄力を格段に向上させ
る。 【解決手段】 エアロゾルノズル２０及び加速ノズル５
６と被洗浄物１０表面間の相対距離を、エアロゾルノズ
ル内の温度・圧力、洗浄室４２内の圧力、洗浄室内をパ
ージするためのパージガス６６の量、加速ガス５８の量
に応じて、所定範囲に設定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エアロゾル洗浄装
置に係り、特に、半導体用ウェハのような基板の表面を
洗浄する際に用いるのに好適な、洗浄力を格段に向上さ
せて、強固に付着した汚染物を除去することが可能なエ
アロゾル洗浄装置に関する。
置に係り、特に、半導体用ウェハのような基板の表面を
洗浄する際に用いるのに好適な、洗浄力を格段に向上さ
せて、強固に付着した汚染物を除去することが可能なエ
アロゾル洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ製造工程における半導体用ウェハ
の表面上や、液晶（ＬＣＤ）あるいは太陽電池等の表面
上の微粒子（パーティクル）や汚れは、最終製品の歩留
りを大きく低下させるため、前記ウェハ等の表面洗浄が
極めて重要である。
の表面上や、液晶（ＬＣＤ）あるいは太陽電池等の表面
上の微粒子（パーティクル）や汚れは、最終製品の歩留
りを大きく低下させるため、前記ウェハ等の表面洗浄が
極めて重要である。
【０００３】従って従来から、種々の表面洗浄方法が提
案されており、半導体製造を例に採ると、超音波併用の
純水洗浄、純水中に薬液（例えばアンモニア過酸化水素
液や硫酸過酸化水素液）を加えた溶液中に被洗浄物を浸
漬し、洗浄する等の湿式洗浄方式が用いられている。
案されており、半導体製造を例に採ると、超音波併用の
純水洗浄、純水中に薬液（例えばアンモニア過酸化水素
液や硫酸過酸化水素液）を加えた溶液中に被洗浄物を浸
漬し、洗浄する等の湿式洗浄方式が用いられている。
【０００４】しかしながら、この種の湿式洗浄方式は、
各種設備の設置面積が大きく、廃液処理も必要であると
いう問題がある。
各種設備の設置面積が大きく、廃液処理も必要であると
いう問題がある。
【０００５】一方、液体を用いない乾式洗浄方式とし
て、ガスを加え化学反応を利用したドライクリーニング
があるが、パーティクル状の汚染物が除去できないとい
う問題がある。
て、ガスを加え化学反応を利用したドライクリーニング
があるが、パーティクル状の汚染物が除去できないとい
う問題がある。
【０００６】更に、ドライアイスや氷、アルゴン固体等
の微粒子を、被洗浄物表面に衝突させて、パーティクル
を除去することも考えられているが、氷を用いた場合に
は、被洗浄物の表面が損傷を受ける恐れがあり、ドライ
アイスを用いた場合には、特に鉄鋼や石油精製の廃ガス
を原料とする市販品では、ドライアイス自体が汚れてい
るため、不純物汚染の問題がある。
の微粒子を、被洗浄物表面に衝突させて、パーティクル
を除去することも考えられているが、氷を用いた場合に
は、被洗浄物の表面が損傷を受ける恐れがあり、ドライ
アイスを用いた場合には、特に鉄鋼や石油精製の廃ガス
を原料とする市販品では、ドライアイス自体が汚れてい
るため、不純物汚染の問題がある。
【０００７】これらに対して、特開平６−２５２１１４
や特開平６−２９５８９５に記載された、アルゴン固体
の微粒子を含むエアロゾル（アルゴンエアロゾルと称す
る）を減圧零囲気中で衝突させて表面洗浄を行う方法に
よれば、上記のような問題は存在しない。
や特開平６−２９５８９５に記載された、アルゴン固体
の微粒子を含むエアロゾル（アルゴンエアロゾルと称す
る）を減圧零囲気中で衝突させて表面洗浄を行う方法に
よれば、上記のような問題は存在しない。
【０００８】このアルゴンエアロゾルを用いたウェハ洗
浄装置の一例の全体構成の管路図を図１に、同じく平面
図を図２に示す。
浄装置の一例の全体構成の管路図を図１に、同じく平面
図を図２に示す。
【０００９】この例において、マスフローコントローラ
３０、３２によりその流量を制御されたアルゴンガスと
窒素ガスは、フィルタ３４を通過した後、例えばヘリウ
ム（Ｈｅ）クライオ冷凍機３６を用いた熱交換器３８内
で冷却されてから、エアロゾルノズル２０に開けられた
多数の微細なノズル孔２２より、エアロゾル２４となっ
て、真空ポンプ４０で真空引きされている、ウェハ洗浄
用の洗浄室４２内に噴出する。
３０、３２によりその流量を制御されたアルゴンガスと
窒素ガスは、フィルタ３４を通過した後、例えばヘリウ
ム（Ｈｅ）クライオ冷凍機３６を用いた熱交換器３８内
で冷却されてから、エアロゾルノズル２０に開けられた
多数の微細なノズル孔２２より、エアロゾル２４となっ
て、真空ポンプ４０で真空引きされている、ウェハ洗浄
用の洗浄室４２内に噴出する。
【００１０】ウェハ１０は、ウェハスキャン機構４４に
よりＸ軸方向及びＹ軸方向にスキャンされるＸＹスキャ
ンステージ（プロセスハンドとも称する）４６上に載っ
ており、ウェハ全面が洗浄可能となっている。
よりＸ軸方向及びＹ軸方向にスキャンされるＸＹスキャ
ンステージ（プロセスハンドとも称する）４６上に載っ
ており、ウェハ全面が洗浄可能となっている。
【００１１】又、パーティクルのウェハ面への再付着防
止の目的で、洗浄室４２の一端（図２の左端）から、マ
スフローコントローラ６２及びフィルタ６４を介して流
入される窒素ガスをパージガス６６として、洗浄室４２
内に供給することも考えられている。
止の目的で、洗浄室４２の一端（図２の左端）から、マ
スフローコントローラ６２及びフィルタ６４を介して流
入される窒素ガスをパージガス６６として、洗浄室４２
内に供給することも考えられている。
【００１２】図２に示す如く、カセット交換用に２つ設
けられた、装置外部からカセット７２に収容されたウェ
ハ１０を搬入するための、真空状態に排気されるカセッ
ト室７０内のウェハ１０は、ウェハ１０をハンドリング
するロボット室（搬送室とも称する）８０内に配設され
た真空内搬送ロボット（真空ロボットと称する）８２の
ロボットアーム８４の先端に取付けられたロボットハン
ド８６により、ゲートバルブ７４、７６を通過して、洗
浄室４２へのウェハ１０の受け渡しをするバッファ室９
０内の前記ＸＹスキャンステージ４６上に移送される。
図において、７３は、カセット７２を載置するためのカ
セットステージである。
けられた、装置外部からカセット７２に収容されたウェ
ハ１０を搬入するための、真空状態に排気されるカセッ
ト室７０内のウェハ１０は、ウェハ１０をハンドリング
するロボット室（搬送室とも称する）８０内に配設され
た真空内搬送ロボット（真空ロボットと称する）８２の
ロボットアーム８４の先端に取付けられたロボットハン
ド８６により、ゲートバルブ７４、７６を通過して、洗
浄室４２へのウェハ１０の受け渡しをするバッファ室９
０内の前記ＸＹスキャンステージ４６上に移送される。
図において、７３は、カセット７２を載置するためのカ
セットステージである。
【００１３】ウェハスキャン機構４４により駆動される
ＸＹスキャンステージ４６上のウェハ１０は、バッファ
室９０から洗浄室４２内に運ばれ、エアロゾルノズル２
０の下で、Ｙ軸方向及びＸ軸方向にスキャンされる。
ＸＹスキャンステージ４６上のウェハ１０は、バッファ
室９０から洗浄室４２内に運ばれ、エアロゾルノズル２
０の下で、Ｙ軸方向及びＸ軸方向にスキャンされる。
【００１４】このようにしてエアロゾルノズル２０から
吹き出すエアロゾル２４により表面全面が洗浄されたウ
ェハ１０は、バッファ室９０に搬入された経路を逆に辿
って、カセット室７０に戻される。
吹き出すエアロゾル２４により表面全面が洗浄されたウ
ェハ１０は、バッファ室９０に搬入された経路を逆に辿
って、カセット室７０に戻される。
【００１５】このようなエアロゾル（例えばアルゴンエ
アロゾル）によるウェハ洗浄装置の洗浄能力は、主に、
エアロゾルノズル２０内の温度・圧力、洗浄室４２内の
圧力、パージガス６６の量、及び、エアロゾルノズル２
０とウェハ１０間の距離により決定される。
アロゾル）によるウェハ洗浄装置の洗浄能力は、主に、
エアロゾルノズル２０内の温度・圧力、洗浄室４２内の
圧力、パージガス６６の量、及び、エアロゾルノズル２
０とウェハ１０間の距離により決定される。
【００１６】洗浄能力の中でも、洗浄力（不純物除去
率）を決定するパラメータの１つが、エアロゾルノズル
２０とウェハ１０間の距離であり、この距離はできるだ
け短いことが望ましいと思われていた。
率）を決定するパラメータの１つが、エアロゾルノズル
２０とウェハ１０間の距離であり、この距離はできるだ
け短いことが望ましいと思われていた。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エアロ
ゾルノズル２０から吹き出すエアロゾル２４のみを用い
た洗浄では、エアロゾルノズル２０とウェハ１０間の距
離を最適に調整しても、その洗浄力に限界があり、強固
に付着している不純物を洗浄除去することが困難であっ
た。
ゾルノズル２０から吹き出すエアロゾル２４のみを用い
た洗浄では、エアロゾルノズル２０とウェハ１０間の距
離を最適に調整しても、その洗浄力に限界があり、強固
に付着している不純物を洗浄除去することが困難であっ
た。
【００１８】このような問題点を解決するべく、加速ノ
ズル５６を設けて、マスフローコントローラ５２及びフ
ィルタ５４を介して該加速ノズル５６に窒素ガスを供給
し、該加速ノズル５６から吹き出す加速ガス５８により
エアロゾル２４を加速することが考えられているが、エ
アロゾルノズル２０及び加速ノズル５６とウェハ１０表
面間の相対関係によっては、十分な洗浄能力を発揮する
ことができなかった。
ズル５６を設けて、マスフローコントローラ５２及びフ
ィルタ５４を介して該加速ノズル５６に窒素ガスを供給
し、該加速ノズル５６から吹き出す加速ガス５８により
エアロゾル２４を加速することが考えられているが、エ
アロゾルノズル２０及び加速ノズル５６とウェハ１０表
面間の相対関係によっては、十分な洗浄能力を発揮する
ことができなかった。
【００１９】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、エアロゾルノズル及び加速ノズルと
被洗浄物間の距離を各々適切に設定して、洗浄力を格段
に向上させることを課題とする。
くなされたもので、エアロゾルノズル及び加速ノズルと
被洗浄物間の距離を各々適切に設定して、洗浄力を格段
に向上させることを課題とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明は、微細径のノズ
ル孔が多数並設されたエアロゾルノズルから洗浄室内に
吹き出したエアロゾルを、加速ノズルから吹き出した加
速ガスで加速して、被洗浄物の表面に衝突させ、洗浄す
るエアロゾル洗浄装置において、前記エアロゾルノズル
及び加速ノズルと被洗浄物表面間の相対距離を所定範囲
に設定することにより、前記課題を解決したものであ
る。
ル孔が多数並設されたエアロゾルノズルから洗浄室内に
吹き出したエアロゾルを、加速ノズルから吹き出した加
速ガスで加速して、被洗浄物の表面に衝突させ、洗浄す
るエアロゾル洗浄装置において、前記エアロゾルノズル
及び加速ノズルと被洗浄物表面間の相対距離を所定範囲
に設定することにより、前記課題を解決したものであ
る。
【００２１】又、前記相対距離を、エアロゾルノズル内
の温度・圧力、洗浄室内の圧力、洗浄室内をパージする
ためのパージガス量、加速ガス量に応じて設定するよう
にしたものである。
の温度・圧力、洗浄室内の圧力、洗浄室内をパージする
ためのパージガス量、加速ガス量に応じて設定するよう
にしたものである。
【００２２】発明者らの研究により、洗浄力を向上させ
る目的で、エアロゾルを加速するための加速ノズルを採
用している場合、その洗浄能力は、主に、エアロゾルノ
ズル内の温度・圧力、洗浄室内の圧力、パージガス量、
加速ガス量、エアロゾルノズル・加速ノズル・被洗浄物
表面間の相対距離により決定されることが判明した。
る目的で、エアロゾルを加速するための加速ノズルを採
用している場合、その洗浄能力は、主に、エアロゾルノ
ズル内の温度・圧力、洗浄室内の圧力、パージガス量、
加速ガス量、エアロゾルノズル・加速ノズル・被洗浄物
表面間の相対距離により決定されることが判明した。
【００２３】これらのパラメータは、複雑に関連して洗
浄能力を決定しているが、洗浄能力の中でも、洗浄力を
決定する重要なパラメータの１つが、エアロゾルノズル
・加速ノズル・被洗浄物表面間の相対距離である。
浄能力を決定しているが、洗浄能力の中でも、洗浄力を
決定する重要なパラメータの１つが、エアロゾルノズル
・加速ノズル・被洗浄物表面間の相対距離である。
【００２４】即ち、エアロゾルノズル内の温度・圧力、
洗浄室内の圧力、パージガス量、加速ガス量等をある一
定の値に設定したとき、エアロゾルノズル・加速ノズル
・被洗浄物表面間の相対距離を最適に設定すると、その
洗浄力は格段に向上する。
洗浄室内の圧力、パージガス量、加速ガス量等をある一
定の値に設定したとき、エアロゾルノズル・加速ノズル
・被洗浄物表面間の相対距離を最適に設定すると、その
洗浄力は格段に向上する。
【００２５】即ち、発明者の研究によると、エアロゾル
ノズル及び加速ノズルとウェハ間の距離と洗浄力の間に
は、図３に示すような関係があり、各ノズルとウェハ間
の距離が短すぎると、エアロゾルは加速ガスにより十分
加速されないままウェハ表面に到達してしまい、その洗
浄力は十分ではない。逆に、その距離が長すぎても、加
速ガスにより一度加速されたエアロゾルが、減速してか
らウェハ表面に到達することになり、その洗浄力も十分
でない。
ノズル及び加速ノズルとウェハ間の距離と洗浄力の間に
は、図３に示すような関係があり、各ノズルとウェハ間
の距離が短すぎると、エアロゾルは加速ガスにより十分
加速されないままウェハ表面に到達してしまい、その洗
浄力は十分ではない。逆に、その距離が長すぎても、加
速ガスにより一度加速されたエアロゾルが、減速してか
らウェハ表面に到達することになり、その洗浄力も十分
でない。
【００２６】一方、加速ガスの量と洗浄力の間には、図
４に示すような関係があり、図４（Ａ）に示す如く、加
速ガス（ここでは窒素ガス）量が少ない場合（３０リッ
トル／分）よりも、図４（Ｂ）に示す如く、加速ガス量
が多い場合（１００リットル／分）の方が洗浄力が強く
なり、一般に、加速ガス量が多いほど、洗浄力は強くな
る。
４に示すような関係があり、図４（Ａ）に示す如く、加
速ガス（ここでは窒素ガス）量が少ない場合（３０リッ
トル／分）よりも、図４（Ｂ）に示す如く、加速ガス量
が多い場合（１００リットル／分）の方が洗浄力が強く
なり、一般に、加速ガス量が多いほど、洗浄力は強くな
る。
【００２７】又、パージガス量は、洗浄室内圧力との関
係で決定する。即ち、再付着を防止するには、パージガ
ス量が多い方が良いが、洗浄室内圧力が高くなってしま
う。
係で決定する。即ち、再付着を防止するには、パージガ
ス量が多い方が良いが、洗浄室内圧力が高くなってしま
う。
【００２８】いずれにしても、最適な関係は、実験的に
求めることができる。
求めることができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施形態を詳細に説明する。
施形態を詳細に説明する。
【００３０】図１及び２に示したようなエアロゾル洗浄
装置において、エアロゾルノズル２０、加速ノズル５
６、ウェハ１０表面間の相対距離を最適に設定すると、
その洗浄力を格段に向上させることができる。
装置において、エアロゾルノズル２０、加速ノズル５
６、ウェハ１０表面間の相対距離を最適に設定すると、
その洗浄力を格段に向上させることができる。
【００３１】エアロゾルノズル及び加速ノズルとウェハ
表面間の距離が異なる場合の洗浄力を示す実験例とし
て、図５（Ａ）に断面形状を示すような、ａ〜ｌの１２
段を有する階段状のアルミニウム（Ａ６０６１）材のテ
ストピース１００を用いた時の洗浄後の表面性状の観察
例を図６乃至１７に示す。
表面間の距離が異なる場合の洗浄力を示す実験例とし
て、図５（Ａ）に断面形状を示すような、ａ〜ｌの１２
段を有する階段状のアルミニウム（Ａ６０６１）材のテ
ストピース１００を用いた時の洗浄後の表面性状の観察
例を図６乃至１７に示す。
【００３２】段差の違いが、エアロゾルノズル及び加速
ノズルとウェハ表面間の距離差に匹敵しているが、段差
の違いによりアルミニウム材が削られた洗浄痕に明らか
な差が生じている。各段ａ〜ｌに対応する写真位置と洗
浄力の関係をまとめて示すと図５（Ｂ）に示す如くとな
る。
ノズルとウェハ表面間の距離差に匹敵しているが、段差
の違いによりアルミニウム材が削られた洗浄痕に明らか
な差が生じている。各段ａ〜ｌに対応する写真位置と洗
浄力の関係をまとめて示すと図５（Ｂ）に示す如くとな
る。
【００３３】エアロゾルノズル内温度・圧力、洗浄室内
の圧力、パージガス量、加速ガス量等を、ある一定の値
に設定した本実験例においては、明らかに上段から５段
目当たりで、その洗浄力が最強となっている。
の圧力、パージガス量、加速ガス量等を、ある一定の値
に設定した本実験例においては、明らかに上段から５段
目当たりで、その洗浄力が最強となっている。
【００３４】この５段目の部分ｅの顕微鏡写真を図１８
に示す。図１８（Ａ）は、洗浄されていない機械加工面
の状態で、図１８（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は洗浄痕部分
であり、この順に拡大した顕微鏡写真であるが、アルミ
ニウム材がアルゴンエアロゾルにより削られていること
が分かる。
に示す。図１８（Ａ）は、洗浄されていない機械加工面
の状態で、図１８（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は洗浄痕部分
であり、この順に拡大した顕微鏡写真であるが、アルミ
ニウム材がアルゴンエアロゾルにより削られていること
が分かる。
【００３５】エアロゾルノズル内の温度・圧力、洗浄室
内の圧力、パージガス量、加速ガス量等をある一定に設
定し、且つ、エアロゾルノズル・加速ノズル・ウェハ表
面間の相対距離を最適に設定して、洗浄力を格段に向上
させて強固に付着した汚染物を除去した例として、ウェ
ハをＣＭＰ（化学機械研磨）用シリカスラリ溶液に沈漬
させてから自然乾燥したサンプルを洗浄した所、洗浄が
進むに連れて、白濁した膜となって付着しているシリカ
スラリが除去されるのが明確に確認できた。
内の圧力、パージガス量、加速ガス量等をある一定に設
定し、且つ、エアロゾルノズル・加速ノズル・ウェハ表
面間の相対距離を最適に設定して、洗浄力を格段に向上
させて強固に付着した汚染物を除去した例として、ウェ
ハをＣＭＰ（化学機械研磨）用シリカスラリ溶液に沈漬
させてから自然乾燥したサンプルを洗浄した所、洗浄が
進むに連れて、白濁した膜となって付着しているシリカ
スラリが除去されるのが明確に確認できた。
【００３６】なお、前記実施形態においては、エアロゾ
ルとしてアルゴンエアロゾルが用いられ、加速ガス及び
パージガスとして窒素ガスが用いられていたが、エアロ
ゾルや加速ガスやパージガスの種類は、これらに限定さ
れない。
ルとしてアルゴンエアロゾルが用いられ、加速ガス及び
パージガスとして窒素ガスが用いられていたが、エアロ
ゾルや加速ガスやパージガスの種類は、これらに限定さ
れない。
【００３７】又、前記実施形態においては、本発明が、
半導体用ウェハの洗浄装置に適用されていたが、本発明
の適用対象は、これに限定されず、半導体用マスク、フ
ラットパネル用基板、磁気ディスク基板、フライングヘ
ッド用基板等の洗浄装置にも、同様に適用できることは
明らかである。
半導体用ウェハの洗浄装置に適用されていたが、本発明
の適用対象は、これに限定されず、半導体用マスク、フ
ラットパネル用基板、磁気ディスク基板、フライングヘ
ッド用基板等の洗浄装置にも、同様に適用できることは
明らかである。
【００３８】
【発明の効果】本発明によれば、洗浄力を格段に向上さ
せて、強固に付着した汚染物を除去することが可能とな
る。
せて、強固に付着した汚染物を除去することが可能とな
る。
【図１】本発明が適用される、エアロゾルによるウェハ
洗浄装置の一例の全体構成を示す管路図
洗浄装置の一例の全体構成を示す管路図
【図２】同じく平面図
【図３】本発明の原理を説明するための、エアロゾルノ
ズル及び加速ノズルとウェハ間の距離と洗浄力の関係の
例を示す線図
ズル及び加速ノズルとウェハ間の距離と洗浄力の関係の
例を示す線図
【図４】同じく加速ガス量と洗浄力の関係の例を示す線
図
図
【図５】本発明の実施形態における洗浄力評価テストピ
ースの断面形状と洗浄力の関係を示す線図
ースの断面形状と洗浄力の関係を示す線図
【図６】図５の段ａにおける洗浄痕の拡大図
【図７】同じく段ｂにおける洗浄痕の拡大図
【図８】同じく段ｃにおける洗浄痕の拡大図
【図９】同じく段ｄにおける洗浄痕の拡大図
【図１０】同じく段ｅにおける洗浄痕の拡大図
【図１１】同じく段ｆにおける洗浄痕の拡大図
【図１２】同じく段ｇにおける洗浄痕の拡大図
【図１３】同じく段ｈにおける洗浄痕の拡大図
【図１４】同じく段ｉにおける洗浄痕の拡大図
【図１５】同じく段ｊにおける洗浄痕の拡大図
【図１６】同じく段ｋにおける洗浄痕の拡大図
【図１７】同じく段ｌにおける洗浄痕の拡大図
【図１８】段ｅにおける洗浄前及び洗浄後の拡大図
２０…エアロゾルノズル ２４…エアロゾル ４２…洗浄室 ５６…加速ノズル ５８…加速ガス ６６…パージガス
Claims (2)
- 【請求項１】微細径のノズル孔が多数並設されたエアロ
ゾルノズルから洗浄室内に吹き出したエアロゾルを、加
速ノズルから吹き出した加速ガスで加速して、被洗浄物
の表面に衝突させ、洗浄するエアロゾル洗浄装置におい
て、 前記エアロゾルノズル及び加速ノズルと被洗浄物表面間
の相対距離が所定範囲に設定されていることを特徴とす
るエアロゾル洗浄装置。 - 【請求項２】請求項１において、前記相対距離が、エア
ロゾルノズル内の温度・圧力、洗浄室内の圧力、洗浄室
内をパージするためのパージガス量、加速ガス量に応じ
て設定されたものであることを特徴とするエアロゾル洗
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11072120A JP2000262997A (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | エアロゾル洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11072120A JP2000262997A (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | エアロゾル洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000262997A true JP2000262997A (ja) | 2000-09-26 |
Family
ID=13480183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11072120A Pending JP2000262997A (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | エアロゾル洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000262997A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016057524A1 (en) * | 2014-10-06 | 2016-04-14 | Tel Fsi, Inc. | Systems and Methods for Treating Substrates with Cryogenic Fluid Mixtures |
| WO2018004678A1 (en) * | 2016-06-29 | 2018-01-04 | Tel Fsi, Inc. | Systems and methods for treating substrates with cryogenic fluid mixtures |
| US10014191B2 (en) | 2014-10-06 | 2018-07-03 | Tel Fsi, Inc. | Systems and methods for treating substrates with cryogenic fluid mixtures |
| US10625280B2 (en) | 2014-10-06 | 2020-04-21 | Tel Fsi, Inc. | Apparatus for spraying cryogenic fluids |
-
1999
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