JPH11224848A - 露光装置およびディバイス製造方法 - Google Patents

露光装置およびディバイス製造方法

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JPH11224848A
JPH11224848A JP10038036A JP3803698A JPH11224848A JP H11224848 A JPH11224848 A JP H11224848A JP 10038036 A JP10038036 A JP 10038036A JP 3803698 A JP3803698 A JP 3803698A JP H11224848 A JPH11224848 A JP H11224848A
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JP
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constant temperature
air
air conditioner
temperature chamber
chamber
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Shuji Aoki
修司 青木
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Other Air-Conditioning Systems (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光台を内蔵する恒温チャンバと空調機室を
分離して、クリーンルームのスペース効率等を向上させ
る。 【解決手段】 ウエハWを載置するXYステージ11等
を有する露光台10を内蔵する恒温チャンバ20は、ク
リーンルームの床面に設置され、空調機室30は恒温チ
ャンバ20から分離されてクリーンルームの床下に配設
される。空調機室30において調温、清浄化された空気
は、配管41,42を経て恒温チャンバ20の頂部と中
間部に供給される。恒温チャンバ20内で昇温した空気
は、配管43を経て空調機室30に環流される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ディバイス
等を製造するための露光装置およびディバイス製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年では、半導体ディバイス等の微細化
に伴なって、ディバイスを製造するための露光装置の多
機能化と大型化が進んでいる。露光装置本体(露光台)
の周囲の雰囲気を清浄化しかつ恒温状態に維持すること
を目的とする恒温チャンバも、露光台の大型化とともに
大型化し、また、露光台の発熱量も増加する傾向にあ
る。従って、恒温チャンバの温度制御を行なう空調設備
には極めて大容量のものを必要とする。加えて、近年で
は、空気清浄化のための高環境化用有機化合物除去フィ
ルタ等の組み込みによって、空調機室がより一層大型
化、複雑化するのを避けることができない。
【0003】従来の空調設備は、露光台を内蔵する恒温
チャンバに直接空調機室が組み付けられた一体型であ
り、露光台の発熱によって加温された恒温チャンバの空
気を直接空調機室に取り込んで外気とともに冷却し、ウ
エハステージ等各部位に合わせて個別に加熱器等によっ
て温調して環流させるのが一般的であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように恒温チャンバに直接空調
機室が組み付けられた一体型であるため、露光装置の多
機能化によって個別に温度制御を必要とする部位が増え
たり、露光台の発熱量が増大して空調機室が大型化する
と、これに伴なって恒温チャンバの設置面積が大きくな
る結果となる。このように装置の設備面積が増大するこ
とは、様々なユーザー工場のレイアウトにおいて不利な
条件となり、クリーンルームのスペース効率も悪くな
る。また、露光装置本体と床面を共有する恒温チャンバ
が、振動源の1つである空調機室に一体化されているた
めに、露光装置の高精度化や高機能化を充分に促進でき
ないという不都合もある。
【0005】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、クリーンルーム内の
恒温チャンバから空調機室を分離してクリーンルームの
外に配設することで、クリーンルームのスペース効率を
向上させるとともに、装置エラーを発生する振動源の1
つを除去して露光装置の稼動効率を改善し、加えて、空
調機室の設置場所を選定する自由度を拡大し、また、複
数の恒温チャンバに対する空調機室の共用化等によって
設備コストやメンテナンスのコストを低減し、生産性等
を大幅に向上できる露光装置およびディバイス製造方法
を提供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の露光装置は、露光光によって基板を露光す
る露光台と、これを恒温状態に保つための恒温チャンバ
と、該恒温チャンバに温調された空気を供給する空調機
室を有し、該空調機室が前記恒温チャンバから分離され
ており、前記空気を流動させる配管を介して前記恒温チ
ャンバに連結されていることを特徴とする。
【0007】空調機室が、クリーンルーム内の恒温チャ
ンバから分離されて前記クリーンルームの外に配設され
ているとよい。
【0008】空調機室が、クリーンルームの床下に配設
されているとよい。
【0009】複数の恒温チャンバが設けられており、1
個の空調機室から配管を介して前記複数の恒温チャンバ
のそれぞれに温調された空気を供給するように構成され
ていてもよい。
【0010】
【作用】恒温チャンバから空調機室を分離してクリーン
ルームの外に配設することで、恒温チャンバの設置面積
を縮小してクリーンルームのスペース効率を向上させ、
かつ、露光台の駆動エラー等を誘発する振動源を除去す
る。これによって、設備コストを低減し、露光装置の稼
動率を大幅に改善して生産性を向上できる。
【0011】また、1個の空調機室から複数の恒温チャ
ンバに温調空気を供給する温調システムを採用すれば、
空調機室の必要スペースの縮小や、設備コストおよびメ
ンテナンスのコストの低減にも大きく貢献できる。この
ような露光装置を用いることで、半導体ディバイス等の
低価格化を促進できる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
【0013】図1は第1の実施の形態による露光装置を
示すもので、これは、レチクルRのパターンを基板であ
るウエハWに転写するための露光台10と、これを内蔵
する恒温チャンバ20と、該恒温チャンバ20の排気を
回収して外気とともに温調・清浄化するための空調機室
30と、該空調機室30と恒温チャンバ20の間で給排
気を行なう配管設備40を有し、恒温チャンバ20はク
リーンルーム床面上すなわちクリーンルーム内に設置さ
れ、空調機室30は恒温チャンバ20から分離されてク
リーンルームの床下に配設される。配管設備40は、ク
リーンルームの床を貫通して床下に延びる複数の配管4
1〜43によって構成されている。
【0014】露光台10は、ウエハWを位置決めするた
めのウエハステージであるXYステージ11と、レチク
ルRを載置するレチクルステージ12と、その上に配設
された光源光学系13と、レチクルステージ12とXY
ステージ11の間に設けられた投影光学系14を有する
縮小投影型露光装置(ステッパ)であり、光源光学系1
3から発生された露光光をレチクルRに照射し、投影光
学系14によってウエハWに結像させることで、レチク
ルRのパターンをウエハWに転写する。
【0015】恒温チャンバ20は、空調機室30から配
管設備40の第1の配管41を経て供給される給気を取
り入れるための第1の給気口21と、空調機室30から
配管設備40の第2の配管42を経て供給される給気を
取り入れるための第2の給気口22と、配管設備40の
第3の配管43に開口する排気口23を備えており、第
1の給気口21から恒温チャンバ20の頂部へ供給され
た給気は、エアフィルタ21aを経て露光台10の頂部
に向かって導入される。第2の給気口22から恒温チャ
ンバ20の中間部へ供給された給気は、分岐ダクトに配
設された一対のエアフィルタ22a,22bを経て露光
台10の中央部の投影光学系14とXYステージ11に
向かってそれぞれ導入される。
【0016】排気口23は、恒温チャンバ20の底部に
配設されており、恒温チャンバ20内において昇温した
排気を配管設備40の第3の配管43を経て空調機室3
0の回収口31に回収する。回収口31にはファン31
aが設けられている。また、外気吸引口32からフィル
タ32aを経て外気を空調機室30内に取り入れるよう
に構成されており、このようにして取り入れた外気を、
前記排気とともに、冷凍機33aによって冷却される冷
却用熱交換器33に導入し、所定の温度に冷却したの
ち、清浄化手段である有機化合物除去フィルタ33bを
経て、ヒータ34a,35aを備えた第1、第2のファ
ン34,35によって個別に温調し、送風口36,37
から第1、第2の配管41,42に供給する。
【0017】第1のファン34のヒータ34aは、露光
台10の頂部に配設された本体温度センサ15の出力に
基づいてコントローラ38によって制御され、第2のフ
ァン35のヒータ35aは、露光台10のXYステージ
11の近傍に配設されたXYステージ温度センサ16の
出力に基づいてコントローラ38によって制御される。
【0018】なお、配管設備40の各配管41〜43
は、その内壁に保温材を被着させた保温ダクトである。
【0019】恒温チャンバ20内の温度制御は以下のよ
うに行なわれる。
【0020】恒温チャンバ20内において露光台10か
らの発熱によって昇温した空気は、恒温チャンバ20の
排気口23から配管43を介して、空調機室30の回収
口31のファン31aによって空調機室30内へ取り込
まれる。他方、空調機室30の外気吸引口32からはク
リーンルーム内の外気が取り込まれ、フィルタ32aを
経て、前述の排気とともに冷却用熱交換器33を通過す
ることで冷却される。コントローラ38は、恒温チャン
バ20内のXYステージ11付近にあるXYステージ温
度センサ16からの信号を受け取り、第2のファン35
のヒータ35aへ出力する。冷却用熱交換器33によっ
て冷却された空気は、有機化合物除去フィルタ33bを
通過し、その一部分が第2のファン35のヒータ35a
で所定の温度に加熱され、第2の配管42から恒温チャ
ンバ20内のXYステージ11等に向けて送風される。
また、コントローラ38は、恒温チャンバ20内の本体
温度センサ15からの信号を受け取り、第1のファン3
4のヒータ34aへ出力する。前述のように冷却用熱交
換器33によって冷却され、有機化合物除去フィルタ3
3bを通過した空気の残りは、第1のファン34のヒー
タ34aで加熱され、第1の配管41から恒温チャンバ
20の頂部に導入される。
【0021】なお、第2の配管42から恒温チャンバ2
0内に導入される給気は、前述の分岐ダクト内で分流さ
れ、フィルタ22a,22bを経てそれぞれ投影光学系
14とXYステージ11に向かって送風される。
【0022】本実施の形態によれば、クリーンルーム内
の恒温チャンバから空調機室が分離され、クリーンルー
ムの床下に設置されているため、恒温チャンバと空調機
室が一体化されている場合に比べて、クリーンルームの
スペース効率を大幅に向上できる。また、露光台の駆動
エラー等のもとになる振動源の1つが除去されるため、
装置の稼動効率も改善できる。これによって、露光装置
の設備コストの低減や生産性の向上に大きく貢献でき
る。
【0023】図2は一変形例を示す。これは、恒温チャ
ンバ20の給気口21,22に接続される配管41,4
2の引き回し経路(管路)が長いために生じる風量損失
が大きい場合に、恒温チャンバ20に送風される給気が
不足するのを防ぐために、第1、第2のファン34,3
5を内蔵した送風機室39を設け、第1、第2のファン
34,35のヒータ34a,35aのみを空調機室30
内に配設したものである。送風機室39の第1、第2の
吸引口39a,39bに第1、第2の配管41,42が
接続され、送風機室39の第1、第2の排出口39c,
39dに恒温チャンバ20の第1、第2の給気口21,
22が接続される。
【0024】図3は第2の実施の形態による露光装置を
示す。これは、図1の装置の恒温チャンバ20と同様の
複数(2つ)の恒温チャンバ60に対してそれぞれ、1
個の空調機室70から、配管設備80を経て温調空気を
供給するように構成したものである。
【0025】各恒温チャンバ60は、レチクルのパター
ンをウエハに転写するための露光台50を内蔵し、空調
機室70は、各露光台50によって昇温した排気を恒温
チャンバ60から回収して、外気とともに冷却、清浄化
したうえで、各恒温チャンバ60に供給する。各恒温チ
ャンバ60はクリーンルーム床面上すなわちクリーンル
ーム内に設置され、空調機室70は各恒温チャンバ60
から分離されてクリーンルームの床下に配設される。配
管設備80は、クリーンルームの床を貫通して床下に延
びる複数の配管81〜83によって構成されている。
【0026】各露光台50は、ウエハを位置決めするた
めのXYステージ51と、レチクルを載置するレチクル
ステージ52と、その上に配設された光源光学系53
と、レチクルステージ52とXYステージ51の間に設
けられた投影光学系54を有する縮小投影型露光装置
(ステッパ)であり、光源光学系53から発生された露
光光をレチクルに照射し、投影光学系54によってウエ
ハに結像させることで、レチクルのパターンをウエハに
転写する。
【0027】配管設備80の配管81〜83は、2つの
恒温チャンバ60のそれぞれに対する給排気を行なうた
めの分岐管81a,81b,82a,82b,83a,
83bを有する。
【0028】各恒温チャンバ60は、空調機室70から
配管設備80の第1の配管81を経て供給される第1の
給気を取り入れるための第1の給気口61と、空調機室
70から配管設備80の第2の配管82を経て供給され
る第2の給気を取り入れるための第2の給気口62と、
配管設備80の第3の配管83に開口する排気口63を
備えており、第1の給気口61から恒温チャンバ60の
頂部へ供給された第1の給気は、エアフィルタ61aを
経て露光台50の頂部に向かって導入され、第2の給気
口62から恒温チャンバ60の中間部へ供給された第2
の給気は、分岐ダクトに配設された一対のエアフィルタ
62a,62bを経て露光台50の中央部の投影光学系
54とXYステージ51に向かってそれぞれ導入され
る。
【0029】排気口63は、各恒温チャンバ60の底部
に配設されており、恒温チャンバ60内において昇温し
た排気を配管設備80の第3の配管83を経て空調機室
70の回収口71に回収する。回収口71にはファン7
1aが設けられている。また、外気吸引口72からフィ
ルタ72aを経て外気を空調機室70内に取り入れるよ
うに構成されており、このようにして取り入れた外気を
前記排気とともに、冷凍機によって冷却される冷却用熱
交換器73に導入し、所定の温度に冷却したのち、有機
化合物除去フィルタ73bを経て、第1、第2のファン
74,75によって個別に温調して送風口76,77か
ら第1、第2の配管81,82に供給する。
【0030】配管設備80の管路が長いと、風量損失が
大きくなって各恒温チャンバ60に送風される給気の風
量が不足する。そこで、第1、第2の配管81,82か
ら供給される各給気は、第3、第4のファン79a,7
9bを備えた送風機室79を介して恒温チャンバ60に
導入される。第3、第4のファン79a,79bは、そ
れぞれヒータ79c,79dを有し、第3のファン79
aのヒータ79cは、露光台50の頂部に配設された本
体温度センサ55の出力に基づいてコントローラ78に
よって制御され、第4のファン79bのヒータ79d
は、露光台50のXYステージ51の近傍に配設された
ステージ温度センサ56の出力に基づいてコントローラ
78によって制御される。
【0031】なお、配管設備80の各配管81〜83
は、その内壁に保温材を被着させた保温ダクトである。
【0032】各恒温チャンバ60内の温度制御は以下の
ように行なわれる。
【0033】各恒温チャンバ60内において露光台50
からの発熱によって昇温した空気は、恒温チャンバ60
の排気口63から配管83を介して、空調機室70の回
収口71のファン71aによって空調機室70内へ取り
込まれる。他方、空調機室70の外気吸引口72からは
クリーンルーム内の外気が取り込まれ、フィルタ72a
を経て、前述の排気とともに冷却用熱交換器73を通過
することで冷却されたうえで、有機化合物除去フィルタ
73bを経てファン74,75によって第1、第2の配
管81,82へ供給される。送風機室79内のコントロ
ーラ78は、恒温チャンバ60内のXYステージ51付
近にあるXYステージ温度センサ56からの信号を受け
取り、ヒータ79cへ出力する。また、コントローラ7
8は、恒温チャンバ60内の本体温度センサ55からの
信号を受け取り、ヒータ79dへ出力する。このように
温調された空気は、給気口61,62を通って恒温チャ
ンバ60に導入される。
【0034】本実施の形態によれば、複数の恒温チャン
バに対して1台の空調機室を共用することで、空調機室
の必要スペースを縮小し、かつ、装置コストやメンテナ
ンスのコストを大幅に低減できるという利点が付加され
る。その他の点は第1の実施の形態と同様である。
【0035】次に上記説明した露光装置を利用したディ
バイス製造方法の実施例を説明する。図4は半導体ディ
バイス(ICやLSI等の半導体チップ、あるいは液晶
パネルやCCD等)の製造フローを示す。ステップ1
(回路設計)では半導体ディバイスの回路設計を行な
う。ステップ2(マスク製作)では設計した回路パター
ンを形成したマスクを製作する。ステップ3(ウエハ製
造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記
用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術に
よってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ5
(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、
パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ス
テップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デ
ィバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行
なう。こうした工程を経て半導体ディバイスが完成し、
これが出荷(ステップS7)される。
【0036】図5は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
17(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ
18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方法
を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体
ディバイスを製造することができる。
【0037】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
【0038】空調機室を恒温チャンバから分離すること
で、露光装置を配設するクリーンルームのスペース効率
を向上させ、かつ、装置の駆動エラーのもとになる振動
源の1つを除去して、稼動効率を改善できる。また、1
個の空調機室を用いて複数の恒温チャンバの温調を行な
うシステムを採用できる。これによって、装置全体の必
要スペースの縮小や、設備コストおよびメンテナンスの
コストの低減等に大きく貢献できる。このような露光装
置を用いることで、半導体ディバイス等の低価格化に大
きく貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態による露光装置を示す図であ
る。
【図2】図1の装置の一変形例を示す図である。
【図3】第2の実施の形態による露光装置を示す図であ
る。
【図4】半導体ディバイスの製造工程を示すフローチャ
ートである。
【図5】ウエハプロセスを示すフローチャートである。
【符号の説明】
10,50 露光台 11,51 XYステージ 12,52 レチクルステージ 13,53 光源光学系 14,54 投影光学系 15,55 本体温度センサ 16,56 XYステージ温度センサ 20,60 恒温チャンバ 21,22,61,62 給気口 23,63 排気口 30,70 空調機室 31,71 回収口 32,72 外気吸引口 33,73 冷却用熱交換器 34,35,74,75,79a,79b ファン 34a,35a,79c,79d ヒータ 40,80 配管設備 41〜43,81〜83 配管 39,79 送風機室

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 露光光によって基板を露光する露光台
    と、これを恒温状態に保つための恒温チャンバと、該恒
    温チャンバに温調された空気を供給する空調機室を有
    し、該空調機室が前記恒温チャンバから分離されてお
    り、前記空気を流動させる配管を介して前記恒温チャン
    バに連結されていることを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 空調機室が、クリーンルーム内の恒温チ
    ャンバから分離されて前記クリーンルームの外に配設さ
    れていることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 空調機室が、クリーンルームの床下に配
    設されていることを特徴とする請求項2記載の露光装
    置。
  4. 【請求項4】 複数の恒温チャンバが設けられており、
    1個の空調機室から配管を介して前記複数の恒温チャン
    バのそれぞれに温調された空気を供給するように構成さ
    れていることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1
    項記載の露光装置。
  5. 【請求項5】 空調機室が、空気を清浄化するための清
    浄化手段を有することを特徴とする請求項1ないし4い
    ずれか1項記載の露光装置。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし5いずれか1項記載の露
    光装置によってウエハを露光する工程を有するディバイ
    ス製造方法。
JP10038036A 1998-02-04 1998-02-04 露光装置およびディバイス製造方法 Pending JPH11224848A (ja)

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JP10038036A JPH11224848A (ja) 1998-02-04 1998-02-04 露光装置およびディバイス製造方法
NO20003945A NO20003945L (no) 1998-02-04 2000-08-04 N-acyl sykliske aminderivater

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