JPH11224444A

JPH11224444A - 光ディスクの製造方法

Info

Publication number: JPH11224444A
Application number: JP10023554A
Authority: JP
Inventors: Takahisa Yamashiro; 高久山城; Hiroshi Tajima; 拓田島
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1998-02-04
Filing date: 1998-02-04
Publication date: 1999-08-17

Abstract

(57)【要約】【課題】高品質な、質感に優れた印刷を、情報記録に
悪影響を与えエラーを生じることなく施した光ディスク
が得られる光ディスクの製造方法を提供すること。【解決手段】情報記録ディスク２と印刷ディスク用基
板３０に所定の印刷が施された印刷ディスク３とを貼り
合わせて光ディスク１を得る方法であり、印刷ディスク
用基板３０の印刷面３１の電気抵抗を１×１０¹⁴Ω以下
に調整する抵抗調整工程と、電気抵抗が調整された印刷
面３１’に接触式電極によりバイアス電圧を印加して転
写媒体上の帯電した荷電トナーを転写する電子写真プロ
セスによって印刷面３１’に所定の印刷を施し、印刷デ
ィスク３を作成する印刷ディスク作成工程と、情報記録
ディスクの記録面２ａ側と印刷ディスクの印刷面側とが
当接するように、情報記録ディスク２と印刷ディスク３
とを貼り合わせる貼合工程とにより実施する光ディスク
の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真プロセス
によりレーベル等の印刷を施すことにより、エラーの発
生が少なく、良好な印刷が施された光ディスクが得られ
る光ディスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光ディ
スクへの印刷は、従来、スクリーン又はオフセット印刷
法が用いられていた。これらは、インクによる凸凹が生
じ、質感が悪く、また、ディスクの表面に形成されるた
め、傷つきにより印刷品質が低下するという問題があっ
た。

【０００３】上記の問題を避けるため、情報記録したデ
ィスクの他に、印刷面保護用のディスクを用い、両ディ
スクにより印刷面を保護する光ディスクが提案されてい
る。しかし、この光ディスクでは、上記の印刷法で形成
される印刷層の厚さが厚くなるため、段差によるエラー
の問題があった。

【０００４】そこで、インク厚さが薄く、調整を要さ
ず、少量生産に対応可能な電子写真方式での印刷が提案
されている（例えば、特開昭６４−３８２３７号公報、
特開平５−２１８５７号公報）。しかし、この方法で
は、情報記録ディスクに直接印刷するため、情報記録部
分に損傷を与える場合がある。また、トナー像の光ディ
スク印刷面への均一な転写が困難である。

【０００５】トナーの均一な転写のため、印刷面の電気
抵抗制御が試みられ、例えば、印刷面への導電ペースト
の塗布や、透明導電膜を設けること（特開昭６２−４２
３４６号公報）が提案されているが、未だ十分な印刷品
質が得られていない。

【０００６】本発明の目的は、高品質な、質感に優れた
印刷を、情報記録に悪影響を与えエラーを生じることな
く施した光ディスクが得られる光ディスクの製造方法を
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、印刷面が
特定の電気抵抗となるように導電化処理し後、電子写真
プロセスにより印刷した印刷ディスクを、所定の情報を
記録した情報記録ディスクと貼り合わせることで、上記
目的を達成した。

【０００８】本発明は、所定の情報が記録された情報記
録ディスクと、該情報記録ディスクとほぼ同形状の実質
的に透明な印刷ディスク用基板に所定の印刷が施された
印刷ディスクとを貼り合わせる光ディスクの製造方法で
あって、上記印刷ディスク用基板における印刷面の電気
抵抗を１×１０¹⁴Ω以下に調整する抵抗調整工程と、電
気抵抗が調整された上記印刷面に、接触式電極によりバ
イアス電圧を印加して転写媒体上の帯電した荷電トナー
を転写する電子写真プロセスによって、該印刷面に所定
の印刷を施し、上記印刷ディスクを作成する印刷ディス
ク作成工程と、上記情報記録ディスクの記録面側と上記
印刷ディスクの印刷面側とが当接するように、該情報記
録ディスクと該印刷ディスクとを貼り合わせる貼合工程
とを具備する光ディスクの製造方法を提供するものであ
る。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光ディスクの製造
方法について説明する。ここで、図１は、本発明の光デ
ィスクの製造方法の概要を示す概略図である。また、図
２は、本発明の製造方法により得られる光ディスクの拡
大断面図である。

【００１０】本発明の光ディスクの製造方法は、所定の
情報が記録される情報記録ディスク２と、該情報記録デ
ィスク２とほぼ同形状の実質的に透明な印刷ディスク用
基板３０に所定の印刷が施された印刷ディスク３とを貼
り合わせて光ディスク１を得る方法である。情報記録デ
ィスク２は、所定の情報（通常光ディスクに記録される
情報）を、基板ディスク２０に例えばピットを設けて凹
凸を形成することで記録している。上記印刷ディスク３
は、レベル等を、印刷ディスク用基板上に印刷してい
る。これらのディスクの構造は後述する。また、本発明
により製造される光ディスクの種類は、特に限定はな
く、大きさおよび厚さについても特に限定はない。

【００１１】本発明の光ディスクの製造方法は、図１に
示すように、上記印刷ディスク用基板３０における印刷
面３１の電気抵抗を１×１０¹⁴Ω以下、好ましくは１×
１０ ¹²以下、更に好ましくは１×１０¹⁰Ω以下、最も好
ましくは１×１０⁸Ω以下に調整する抵抗調整工程と、
電気抵抗が調整された上記印刷面３１’に、接触式電極
によりバイアス電圧を印加して転写媒体上の帯電した荷
電トナーを転写する電子写真プロセスによって、該印刷
面３１’に所定の印刷３２を施し、上記印刷ディスク３
を作成する印刷ディスク作成工程と、上記情報記録ディ
スクの記録面２ａ側と上記印刷ディスクの印刷面３１”
側とが当接するように、該情報記録ディスク２と該印刷
ディスク３とを貼り合わせる貼合工程とにより実施す
る。

【００１２】上記抵抗調整工程における印刷面３１’の
電気抵抗が１×１０¹⁴Ωを超えると、トナー像を均一に
転写できない。尚、該電気抵抗は低いほど好ましくその
下限値は特に限定しないが、１０²Ω以上とするのが好
ましい。上記電気抵抗は、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に記載の
電気抵抗の測定法に準拠して、（株）アドバンテスト製
デジタル抵抗／電流計「Ｒ８３４０Ａ」とレジスティビ
ティチャンバ「Ｒ１２７０４」（主電極直径５０ｍｍ、
ガードリング内径７０ｍｍ、ガードリング外形８０ｍ
ｍ）とを用い、印加電圧１０〜１００Ｖ、雰囲気温度２
３℃、相対湿度５０％の雰囲気中で測定した値である。

【００１３】尚、上記の各工程以外の情報記録ディスク
の製造工程などは、公知の方法で行う。

【００１４】以下、更に詳述する。抵抗調整工程は、上
記印刷基板ディスクにおける印刷面３１に導電性の膜を
形成する等して行う。具体的には、上記印刷面３１に、
金属元素、半金属元素、半導体、該金属元素又は該半金
属元素又は半導体の化合物、及び導電性高分子よりなる
群から選択された１種以上の導電性材料を、成膜して導
電性膜（図２参照）を形成する。導電性材料としては、
導電率１×１０^-6Ｓ／ｍ以上の材料が好ましく、上述し
た材料の単体の他、絶縁体と導電体の積層体や混合体等
を用いてもよい。

【００１５】金属元素としては、アルミニウム、鉄、
金、銀、チタン、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニ
ッケル、銅、亜鉛、錫、インジューム、タングステン等
が、非金属元素としては、カーボン、ホウ素等が、半導
体としては、シリコン、ゲルマニューム等が挙げられ
る。上記導電性高分子としては、ポリチアジル、ポリア
セチレン等が挙げられる。上記化合物は、酸化錫、酸化
亜鉛、酸化チタン、インジューム錫酸化物、窒化チタ
ン、チタンカーバイドが挙げられ、積層体及び混合体と
しては、アルミニウムをＳｉＯ₂中に分散させた系、ア
ルミニウムをＡｌ₂Ｏ₃中に分散させた系等が挙げられ
る。

【００１６】上記導電性膜を成形する方法は、蒸着法、
ＣＶＤ法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
等の気相成長法等が挙げられるが、これらに限らない。
上記スパッタリング法は、具体的には、アルミニューム
やＩｎＳｎＯ₂等をターゲットとして用いて、スパッタ
電力１００〜１０００Ｗで、０．１〜３００秒間、常法
に準じて行う。

【００１７】上記導電性膜の可視光の透過率は、印刷さ
れた印刷面が該導電性膜を通して視認するため、１０％
以上が好ましく、９０％以上が更に好ましい。スパッタ
リングを行う際に、スパッタプロセスガス（例えばアル
ゴンガス）に１〜３０ｗｔ％酸素ガス等を添加すること
で、透明化を促進できる。

【００１８】上記透過率は、日立製作所製自記分光光度
計「Ｕ３２１０」を用いて、可視光領域である３８０〜
７７０ｎｍの波長領域を測定した値である。透過率は、
この波長全域で均一である必要はなく、視認に必要な波
長領域で上記透過率の範囲を満たせばよい。

【００１９】上記導電性膜の厚みは、材料に応じて５〜
１０００ｎｍとする。

【００２０】尚、上記電気抵抗は、次の工程である印刷
工程において印刷が施されるまでの間上述の範囲内で維
持されれば、印刷工程におけるトナー転写により印刷を
行った後は、高抵抗となっても良い。

【００２１】次いで、電気抵抗値が調節された上記印刷
ディスク用基板３０’の上記印刷面３１’に、接触式電
極によりバイアス電圧を印加して転写媒体上の帯電した
トナーを転写して所定の印刷を施すことにより印刷ディ
スク作成工程を行う。

【００２２】上記印刷は、例えば、通常のレーザービー
ムプリンターを用い、用いられる接触式電極や荷電トナ
ーは通常のレーザービームプリンターに用いられている
ものを用いる。

【００２３】上記レーザービームプリンターを用いる場
合には、ディスク通過時に支障を与えないよう、被印刷
物の搬送部の送りローラーのクリアランスをディスクの
厚さに合せ、接触時の応力を低減させるため、転写部分
のトナー像支持体（転写ベルト）と転写ローラーとのク
リアレンスを調整する。

【００２４】トナー像をディスクに転写する転写時の転
写電圧を適宜調整するため、上記レーザービームプリン
ターの外部に高圧電源を設ける。上記転写（バイアス）
電圧および電流は、通常、転写電圧は５００Ｖ〜６ｋ
Ｖ、電流は０．５〜５ｍＡとする。

【００２５】トナー像をディスクに定着させる際の定着
温度を調整するため、例えば、上記レーザービームプリ
ンターの定着部分のヒートロールに、表面温度を測定す
る熱電対を取り付けた。ニップ力は、例えばバネの種類
を適宜選択することで、プレスロールの押し当て力を調
整して適当な値に調整する。印刷装置の搬送速度は、速
度調整が可能なモータでヒートロールに駆動力を与える
ことにより行う。

【００２６】上記貼合工程は、印刷を施した印刷ディス
ク３の印刷面３１”と、情報記録ディスク２とを、例え
ば、ソニーケミカル社のエポキシ樹脂接着剤「ＳＫ７０
００」（商品名）日東電工社製両面粘着シート等の接
着剤を用いて貼り合わせることにより行う。

【００２７】本発明によれば、上記印刷ディスク用基板
の印刷面の電気抵抗値が１×１０¹⁴以下に調整され、電
子写真プロセスにより、印刷面へのレーベル等の印刷を
均一に施すことができ、情報担体に傷等のダメージが無
く、また、印刷画像に転写不良や像乱れ等が無く、かつ
印刷面がディスクを通して目視され、非常に高い質感の
光ディスクが得られる。

【００２８】本発明の製造方法で得られる光ディスク
は、例えば、図２に示すように、光ディスク１は、情報
記録ディスク２と、印刷ディスク３と、両者を接着する
接着剤からなる接着層４とからなる。上記情報記録ディ
スク２は、各種の情報がピットの形成により記録されて
凹凸が形成された基板ディスク２０と、該基板ディスク
２０のピットが形成された面の凹凸を被覆して設けられ
た反射膜２１と、該反射膜２１上に位置し、凹凸保護の
為に設けられた保護層２２とからなる。上記印刷ディス
ク３は、印刷ディスク用基板３０と、その印刷面３１上
に設けられた導電性膜３３と、該導電性膜３３上に印刷
を施して形成された印刷層３４とからなる。

【００２９】上記印刷ディスク用基板３０には、透明
（３８０〜７７０ｎｍにおける透過率１０％以上のも
の）で、上記情報記録ディスク２とほぼ同じ形状であれ
ば、通常光ディスクに用いられる材料からなるものを用
いることができ、その厚さは０．３〜１．５ｍｍ、印刷
層３４の厚さは１〜１０μｍである。上記導電性膜３３
は、上述の導電性材料を成膜して形成された膜であり、
上述した電気抵抗を有し、且つ好ましくは上述した範囲
の透過率を有する層である。上記基板ディスク２０、上
記反射膜２１及び上記保護層２２は、通常この種の光デ
ィスクに用いられるものでよい。基板ディスク２０の厚
さは、０．３〜１．５ｍｍ、反射膜２１の厚さは、１０
〜１５０ｎｍ、保護層２２の厚さは、３〜１０μｍ、接
着層４の厚さは、１０〜１００μｍであるのが好まし
い。本発明の製造方法で得られる上記光ディスク１は、
印刷の質感が高く、また情報記録部分に傷等がなく、エ
ラーを減らすことができた。

【００３０】

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００３１】〔実施例１〕ＩｎＳｎＯ₂材をスパッタ成膜して導電化を行い抵抗調
整印刷用基材ディスクとして直径１２０ｍｍ、厚さ０．６
ｍｍのポリカーボネート基板を用い、下記の成膜条件に
より、スパッタリングして、導電化し、抵抗調整工程を
行った。成膜条件；ＩｎＳｎＯ₂をターゲット（母材）として用
い、芝浦製作所製スパッタ成膜装置、商品名「ＣＦＳ−
４ＣＳ」を用いて、スパッタ電力３００Ｗで６０秒間成
膜した。上記の導電化で、印刷用基材ディスクの印刷面
上に約１００ｎｍ厚のＩｎＳｎＯ_x（ｘ＝０．１〜２）
膜（導電性膜）を得た。導電性膜表面の電気抵抗値を上
述した測定法に準じて測定したところ、２×１０¹Ω〜
１×１０³Ωであった。また、該導電性膜の光の透過率
を上述した測定法にて測定したところ、３８０〜７７０
ｎｍの波長域で、平均７５〜９５％の光透過性があっ
た。

【００３２】次いで、上記導電性膜上に、前述の如く普
通紙用のレーザビームプリンタを改造した装置で印刷し
て、印刷ディスク作成工程を行い、印刷ディスクを得
た。

【００３３】得られた印刷ディスクを、以下のように製
造した情報記録ディスクと、ソニーケミロル製「ＳＫ−
７０００」を用いて、貼り合わせ、貼合工程を行い、図
２の光ディスクを得た。情報記録ディスクの製造工程：基板ディスクとしてポリ
カーボネート樹脂を用い、常法に従ってピット形成後、
アルミニュームをスパッタ蒸着して反射膜を形成し、更
に反射膜上にラッカー（ソニーケミカル製「ＳＫ−５１
１０」）をコーティング、架橋処理して保護層を形成し
て得た。

【００３４】得られた光ディスクの印刷の質につき、５
段階評価（５−優、４−良、３−可、２−不可、１−読
み取り不能）を２０名に求め、全員が５と評価した。

【００３５】〔実施例２〕アルミニュームをスパッタ成膜して導電化を行い抵抗調
整印刷側ディスクとして直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍ
のポリカーボネート基板を用い、下記の成膜条件によ
り、スパッタリングして、導電化し抵抗調整工程を行っ
た。成膜条件：Ａｌ（アルミニューム純度９９．９９％）を
ターゲット（母材）として用い、バルザル製スパッタ成
膜装置「ＣＤＩ−９１１」（商品名）を用いて、スパッ
タ電力５００Ｗで１〜３秒間成膜した。上記の導電化に
より、印刷用基材ディスクの印刷面上に１０〜３０ｎｍ
厚のＡｌ膜（導電性膜）を得た。導電性膜表面の電気抵
抗値を上述した測定法に準じて測定したところ、１×１
０³Ω〜１×１０⁹Ωであった。また、該導電性膜の光
の透過率を上述した測定法にて測定したところ、３８０
〜７７０ｎｍの波長域において、平均２０〜５０％の光
透過性があった。次いで、実施例１と同様にして印刷デ
ィスク作成工程と貼合工程とを行い光ディスクを得た。

【００３６】得られた光ディスクの印刷の質につき、実
施例１と同様に５段階評価を実施したところ、５が５
名、４が１０名、３が３名、２が２名、１が０名の評価
となった。

【００３７】〔比較例１〕導電性膜を付さない例ポリカーボネート基板を印刷ディスク用基板として用い
た。その表面の電気抵抗は１０¹⁶Ωであった。上記ポリ
カーボネート基板をそのまま用いた以外は、実施例１と
同様に印刷ディスク作成工程及び貼り合わせ工程を行っ
た結果、転写不良を起こし、印刷むらが生じた。得られ
た光ディスクの印刷の質につき、実施例１と同様に５段
階評価を実施したところ、５−０名、４−０名、３−０
名、２−５名、１−１５名の評価となった。

【００３８】

【発明の効果】本発明の光ディスクの製造方法によれ
ば、質感に優れ、高品質な印刷品質の、情報記録部分へ
の悪影響がなく、エラーの生じない光ディスクを得るこ
とができる。詳細には、本発明の光ディスクの製造方法
によれば、電子写真プロセスを用いたレーベルなどの印
刷により、印刷品質が高品質の光ディスクを低コストで
得られる。また、情報記録ディスクと分離して印刷する
ため、情報記録ディスクに変形や傷などが生じにくい。
印刷面がディスクを通して目視されるため高い質感が得
られ、かつ傷を生じにくい。さらに、印刷が２枚のディ
スクの間に挟まれているため、電子写真方式の特徴とな
る、ディスク１枚毎に異なる識別画像（ＩＤ等）を印刷
した場合、その変造は極めて困難となり、よりＩＤの効
果が顕著となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の光ディスクの製造方法の概要
を示す概略図である。

【図２】図２は、本発明の製造方法により得られる光デ
ィスクの拡大断面図である。

【符号の説明】

１光ディスク２情報記録ディスク２ａ記録面２０基板ディスク２印刷ディスク３０印刷ディスク用基板３１印刷面３２印刷

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定の情報が記録された情報記録ディス
クと、該情報記録ディスクとほぼ同形状の実質的に透明
な印刷ディスク用基板に所定の印刷が施された印刷ディ
スクとを貼り合わせる光ディスクの製造方法であって、上記印刷ディスク用基板における印刷面の電気抵抗を１
×１０¹⁴Ω以下に調整する抵抗調整工程と、電気抵抗が調整された上記印刷面に、接触式電極により
バイアス電圧を印加して転写媒体上の帯電した荷電トナ
ーを転写する電子写真プロセスによって、該印刷面に所
定の印刷を施し、上記印刷ディスクを作成する印刷ディ
スク作成工程と、上記情報記録ディスクの記録面側と上記印刷ディスクの
印刷面側とが当接するように、該情報記録ディスクと該
印刷ディスクとを貼り合わせる貼合工程とを具備する光
ディスクの製造方法。
【請求項２】上記抵抗調整工程は、上記印刷面に、金
属元素、半金属元素、半導体、該金属元素又は該半金属
元素又は半導体の化合物、及び導電性高分子よりなる群
から選択された１種以上の導電性材料を、成膜して導電
性膜を形成することにより行う請求項１記載の光ディス
クの製造方法。
【請求項３】上記導電性膜の可視光の透過率が１０％
以上である請求項２記載の光ディスクの製造方法。
【請求項４】情報記録ディスクと、印刷ディスクと、
両者を接着する接着剤からなる接着層とからなり、上記情報記録ディスクは、各種の情報がピットの形成に
より記録されて凹凸が形成された基板ディスクと、該基
板ディスクのピットが形成された面の凹凸を被覆して設
けられた反射膜と、該反射膜上に位置し、凹凸を保護す
るように設けられた保護層とからなり、上記印刷ディスクは、印刷ディスク用基板と、その印刷
面上に設けられた導電性膜と、該導電性膜上に印刷を施
して形成された印刷層とからなる光ディスク。