JPH11214813A - Insulating resin compound for multilayer printed wiring board - Google Patents
Insulating resin compound for multilayer printed wiring boardInfo
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- JPH11214813A JPH11214813A JP1564998A JP1564998A JPH11214813A JP H11214813 A JPH11214813 A JP H11214813A JP 1564998 A JP1564998 A JP 1564998A JP 1564998 A JP1564998 A JP 1564998A JP H11214813 A JPH11214813 A JP H11214813A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板に用いる絶縁性樹脂組成物に関するものであり、特に
耐熱性樹脂からなる樹脂絶縁層にめっきを施す際に、従
来に比べてその密着力の強い多層プリント配線板を形成
するための絶縁性樹脂組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an insulating resin composition used for a multilayer printed wiring board, and more particularly to a method of plating a resin insulating layer made of a heat-resistant resin in comparison with a conventional method. The present invention relates to an insulating resin composition for forming a multi-layer printed wiring board having high strength.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子技術の進歩に伴い大型コンピ
ューターなどの電子機器に対する高密度化あるいは演算
機能の高速化が進められている。その結果、プリント配
線板においても高密度化を目的として、配線回路が多層
に形成された多層プリント配線板が脚光を浴びてきた。2. Description of the Related Art In recent years, with the advance of electronic technology, electronic devices such as large-sized computers have been increased in density or operation functions. As a result, multilayer printed wiring boards in which wiring circuits are formed in multiple layers have been spotlighted for the purpose of increasing the density of printed wiring boards.
【0003】従来、多層プリント配線板としては、例え
ば内装回路を接続し導通せしめた多層プリント配線板が
代表的なものであったが、このような多層プリント配線
板は、複数の内装回路をスルーホールを介して接続導通
せしめたものであるため、配線回路が複雑になりすぎて
高密度化、高速化を実現することは困難であった。Conventionally, a typical multilayer printed wiring board is, for example, a multilayer printed wiring board in which an internal circuit is connected and made conductive. However, such a multilayer printed wiring board has a plurality of internal circuits that pass through. Since the connection is conducted through the holes, the wiring circuit becomes too complicated, and it has been difficult to realize high density and high speed.
【0004】このような問題点を克服することのできる
多層プリント配線板として最近、導体パターンと有機絶
縁膜とを交互にビルドアップした多層プリント配線板が
開発されている。この有機絶縁層に導体層を形成する手
段はいくつかあるが、蒸着やスパッタリングなどのPV
D法と無電解めっきとの併用法で形成していたが、この
PVD法による導体パターン形成は生産性に劣り、コス
ト高となる問題があった。As a multilayer printed wiring board capable of overcoming such problems, a multilayer printed wiring board in which a conductor pattern and an organic insulating film are alternately built up has recently been developed. There are several means for forming a conductor layer on this organic insulating layer.
Although the conductive pattern is formed by the combined use of the method D and the electroless plating, the formation of the conductor pattern by the PVD method is inferior in productivity and has a problem of increasing the cost.
【0005】そのため、絶縁層表面を粗化後無電解めっ
きまたは電解めっきにより形成する方式が主流になって
いる。しかしながら、この方式による多層ビルドアップ
配線板は、絶縁層を加熱硬化させる工程において有機絶
縁層と導体層との密着力が十分でない場合に、めっき皮
膜に膨れが生じる場合があるなど、高い信頼性を得られ
ないという問題があった。[0005] Therefore, a method of forming the surface of an insulating layer by electroless plating or electrolytic plating after roughening the surface has become mainstream. However, the multilayer build-up wiring board according to this method has a high reliability such that the plating film may swell when the adhesion between the organic insulating layer and the conductor layer is not sufficient in the step of heating and curing the insulating layer. There was a problem that can not be obtained.
【0006】そこで最近、このような有機絶縁膜上に無
電解めっき膜を信頼性よく形成する方法として、樹脂絶
縁層中に酸や酸化剤等に可溶な成分を混合し溶解除去す
ることによって無電解めっきに接する面を粗す方法が提
案されている。例えば、特開昭64ー47095号公報
に記載されているように耐熱性の樹脂絶縁層をマトリッ
クスとして、樹脂層中に酸化剤に可溶のエポキシ樹脂、
ビスマレイミド・トリアジン樹脂、ポリエステル樹脂な
どの樹脂と、酸化剤に不溶の樹脂やフィラーの混合によ
り、樹脂絶縁層の表面を酸化剤で粗して無電解めっき膜
形成のアンカー効果を高めたものが提案されている。[0006] Recently, as a method for forming an electroless plating film on such an organic insulating film with high reliability, a component soluble in an acid or an oxidizing agent is mixed into a resin insulating layer and dissolved and removed. A method of roughening a surface in contact with electroless plating has been proposed. For example, as described in JP-A-64-47095, a heat-resistant resin insulating layer is used as a matrix, and an epoxy resin soluble in an oxidizing agent is contained in the resin layer.
By mixing a resin such as bismaleimide / triazine resin or polyester resin with a resin or filler insoluble in an oxidizing agent, the surface of the resin insulating layer can be roughened with an oxidizing agent to enhance the anchor effect of electroless plating film formation. Proposed.
【0007】また、これらの効果をさらに高めたものと
して、例えば特開平7ー34505号公報に記載されて
いるように、酸化剤に対して可溶な樹脂粒子の大きさを
異なるもので疑似粒子を形成させて耐熱性マトリックス
樹脂層に混ぜたものなどが提案されている。In order to further enhance these effects, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-34505, pseudo particles having different sizes of resin particles soluble in an oxidizing agent are used. And mixed with a heat-resistant matrix resin layer.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法では耐熱性の樹脂絶縁層に対して酸化剤などで溶
解させる樹脂粒子の耐熱性が劣っており、酸化剤によっ
て表面の溶解性樹脂は除去されるものの、耐熱性樹脂絶
縁層がマトリックスとなる樹脂内部の溶解性樹脂はその
まま樹脂内に残存したまま無電解めっき膜が形成される
ことになる。したがって形成された絶縁層の耐熱性は溶
解性樹脂の耐熱性に依存し、結果として耐熱性の低い樹
脂絶縁層となるという問題点があった。However, in these methods, the heat resistance of the resin particles dissolved in the heat-resistant resin insulating layer with an oxidizing agent or the like is poor, and the oxidizing agent removes the soluble resin on the surface. However, the electroless plating film is formed while the soluble resin in the resin in which the heat-resistant resin insulating layer serves as a matrix remains in the resin as it is. Therefore, the heat resistance of the formed insulating layer depends on the heat resistance of the soluble resin, and as a result, there is a problem that the resin insulating layer has low heat resistance.
【0009】本発明は、かかる従来技術の問題点を解決
するものであり、その課題とするところは、絶縁層と導
体層との密着力が高く、耐熱性に優れた多層プリント配
線板用絶縁性樹脂組成物を提供し、安価に多層プリント
配線板を製造するすることにある。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a multi-layered printed wiring board having high adhesion between an insulating layer and a conductive layer and excellent heat resistance. An object of the present invention is to provide a conductive resin composition and manufacture a multilayer printed wiring board at low cost.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項1の発明では、少なくと
も光硬化性樹脂としてのビスフェノール型エポキシ樹脂
化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物と飽和又は不
飽和他塩基酸無水物とを反応せしめて得られる紫外線硬
化樹脂(A)と、熱硬化成分としての多官能エポキシ樹
脂(B)と、分子内に残存する二重結合部位の一部をエ
ポキシ化したポリブタジエン(C)と、光硬化成分と熱
硬化成分とを併せ持つエポキシ化合物(D)と光重合開
始剤(E)と、フィラー(F)を含有してなり、希アル
カリ溶液に現像可能な光硬化性及び熱硬化性を有するこ
とを特徴とする多層プリント配線板用絶縁性樹脂組成物
としたものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object in the present invention, first, in the invention of claim 1, at least a bisphenol type epoxy resin compound as a photocurable resin and an unsaturated monocarboxylic acid are used. An ultraviolet curable resin (A) obtained by reacting a reactant with a saturated or unsaturated polybasic anhydride, a polyfunctional epoxy resin (B) as a thermosetting component, and a double bond site remaining in the molecule. Containing a polybutadiene (C) partially epoxidized, an epoxy compound (D) having both a photocuring component and a thermosetting component, a photopolymerization initiator (E), and a filler (F). An insulating resin composition for a multilayer printed wiring board, which has a photocurable property and a thermosetting property that can be developed in a solution.
【0011】また、請求項2の発明では、前記熱硬化成
分としての多官能エポキシ樹脂(B)が、脂環式エポキ
シ化合物であることを特徴とする請求項1記載の多層プ
リント配線板用絶縁性樹脂組成物としたものである。Further, in the invention according to the second aspect, the multifunctional epoxy resin (B) as the thermosetting component is an alicyclic epoxy compound, and the insulating material for a multilayer printed wiring board according to the first aspect. It is a resin composition.
【0012】また、請求項3の発明では、前記分子内に
残存する二重結合部位の一部をエポキシ化したポリブタ
ジエン(C)が、エポキシ当量150〜250で、かつ
末端基が水素あるいは水酸基であることを特徴とする請
求項1記載の多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物とし
たものである。According to the third aspect of the present invention, the polybutadiene (C) in which a part of the double bond site remaining in the molecule is epoxidized has an epoxy equivalent of 150 to 250 and a terminal group of hydrogen or hydroxyl. 2. An insulating resin composition for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein:
【0013】また、請求項4の発明では、前記光硬化成
分と熱硬化成分とを併せ持つエポキシ化合物(D)が、
3 、4 ーエポキシシクロヘキシルメチル基を有するアク
リレートもしくはメタクリレート化合物であることを特
徴とする請求項1記載の多層プリント配線板用絶縁性樹
脂組成物としたものである。[0013] In the invention according to claim 4, the epoxy compound (D) having both the photo-curing component and the thermosetting component is:
2. The insulating resin composition for a multilayer printed wiring board according to claim 1, which is an acrylate or methacrylate compound having a 3,4-epoxycyclohexylmethyl group.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を詳細に
説明する。先ず、本発明で述べる光硬化性樹脂としての
ビスフェノール型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン
酸との反応物と、飽和または不飽和他塩基酸無水物とを
反応せしめて得られる紫外線硬化樹脂(A)において、
そのビスフェノール成分の具体例としてビス(4 ーヒド
ロキシフェニル)ケトン、ビス(4 ーヒドロキシー3、
5ージメチルフェニル)ケトン、ビス(4 ーヒドロキシ
ー3、5ージクロロフェニル)ケトン、ビス(4 ーヒド
ロキシフェニル)スルフォン、ビス(4 ーヒドロキシー
3、5ージメチルフェニル)スルフォン、ビス(4 ーヒ
ドロキシー3、5ージクロロフェニル)スルフォン、ビ
ス(4 ーヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4 ーヒド
ロキシー3、5ージメチルフェニル)メタン、ビス(4
ーヒドロキシー3、5ージクロロフェニル)メタン、ビ
ス(4 ーヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス(4 ーヒドロキシー3、5ージメチルフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4 ーヒドロキシー
3、5ージクロロフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
ビス(4 ーヒドロキシフェニル)ジメチルシラン、ビス
(4 ーヒドロキシー3、5ージメチルフェニル)ジメチ
ルシラン、ビス(4 ーヒドロキシー3、5ージクロロフ
ェニル)ジメチルシラン、2 、2 ービス(4 ーヒドロキ
シフェニル)プロパン、2 、2 ービス(4 ーヒドロキシ
ー3、5ージメチルフェニル)プロパン、2 、2 ービス
(4 ーヒドロキシー3、5ージクロロフェニル)プロパ
ン、ビス(4 ーヒドロキシフェニル)エーテル、ビス
(4 ーヒドロキシー3、5ージメチルフェニル)エーテ
ル、ビス(4 ーヒドロキシー3、5ージクロロフェニ
ル)エーテル等が挙げられる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the present invention will be described below in detail. First, an ultraviolet curable resin (A) obtained by reacting a reaction product of a bisphenol type epoxy compound as a photocurable resin and an unsaturated monocarboxylic acid with a saturated or unsaturated polybasic anhydride as described in the present invention. At
Specific examples of the bisphenol component include bis (4-hydroxyphenyl) ketone, bis (4-hydroxy-3,
5- (dimethylphenyl) ketone, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ketone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) sulfone, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ) Sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, bis (4
-Hydroxy-3,5-dichlorophenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-3,5 dichlorophenyl) hexafluoropropane,
Bis (4-hydroxyphenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) dimethylsilane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2 , 2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) Ether, bis (4-hydroxy-3,5 dichlorophenyl) ether and the like.
【0015】また、上記不飽和モノカルボン酸の具体例
としては、アクリル酸、メタクリル酸、ケイ皮酸等が挙
げられる。Further, specific examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, and cinnamic acid.
【0016】また、上記飽和または不飽和多塩基酸無水
物の具体例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、
無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタ
ル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロ
無水フタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル
酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル
酸等の二塩基性;無水トリメリット酸、無水ピロメリッ
ト酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の芳
香族多価カルボン酸無水物;その他これに付随する例え
ば、5 ー(2 、5 ージオキソテトラヒドロフリル)ー3
ーメチルー3 ーシクロヘキセンー1 、2 ージカルボン酸
無水物のような多価カルボン酸無水物誘導体などが挙げ
られ使用できる。Specific examples of the above-mentioned saturated or unsaturated polybasic anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride,
Dibasic such as itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, endmethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride; Aromatic polycarboxylic anhydrides such as melitic acid, pyromellitic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic dianhydride; and other accompanying compounds such as 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3
Polymethyl carboxylic anhydride derivatives such as -methyl-3-cyclohexene-1,2 dicarboxylic anhydride can be used.
【0017】さらに、本発明で述べる分子内に残存する
二重結合部位の一部をエポキシ化したポリブタジエン
(C)としては、過酢酸を用いることによりポリブタジ
エン分子中のエポキシ量を任意に設定でき、かつその末
端基に水素あるいは水酸基を有するものが使用できる。
またそのエポキシ当量が150より少ない場合は、絶縁
層内部での架橋が進行しすぎることにより絶縁層自体の
強度が低下し、また250を越えると絶縁層の硬化が不
十分となり十分な耐熱性が得られないことから、そのエ
ポキシ等量が150〜250であることが望ましい。Further, as the polybutadiene (C) in which a part of the double bond remaining in the molecule described in the present invention is epoxidized, the amount of epoxy in the polybutadiene molecule can be arbitrarily set by using peracetic acid. Further, those having a hydrogen or hydroxyl group at the terminal group can be used.
If the epoxy equivalent is less than 150, the strength of the insulating layer itself decreases due to excessive cross-linking inside the insulating layer, and if it exceeds 250, the curing of the insulating layer becomes insufficient and sufficient heat resistance is obtained. Since it cannot be obtained, the epoxy equivalent is desirably 150 to 250.
【0018】さらに、本発明の多層プリント配線板用絶
縁性樹脂組成物を構成する光重合開始剤(E)として
は、アセトフェノン、2 、2ージエトキシアセトフェノ
ン、pージメチルアセトフェノン、p ージメチルアミノ
プロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロ
ロアセトフェノン、p ーtertーブチルアセトフェノン、
等のアセトフェノン類や、ベンゾフェノン、2 ークロロ
ベンゾフェノン、p 、p'ービスジメチルアミノベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン類や、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル
類や、ベンジルジメチルケタール、チオキサンソン、2
ークロロチオキサンソン、2 、4ージエチルチオキサン
ソン、2 ーメチルチオキサンソン、2 ーイソプロピルチ
オキサンソン等のイオウ化合物や、2 ーエチルアントラ
キノン、オクタメチルアントラキノン、1 、2ーベンズ
アントラキノン、2 、3ージフェニルアントラキノン等
のアントラキノン類や、アゾビスイソブチロニトリル、
ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシド等の有
機過酸化物や、2 ーメルカプトベンゾイミダゾール、2
ーメルカプトベンゾオキサゾール、2 ーメルカプトベン
ゾチアゾール等のチオール化合物等が挙げられ、これら
の化合物は2 種類以上を組み合わせて使用することもで
きる。また、それ自体では、光重合開始剤として作用し
ないが、上記の化合物と組み合わせて用いることによ
り、光重合開始剤の能力を増大させるような化合物を添
加することもできる。そのような化合物としては、例え
ば、ベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあ
り、トリエタノールアミン等の第三級アミンがある。Further, as the photopolymerization initiator (E) constituting the insulating resin composition for a multilayer printed wiring board of the present invention, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylamino Propiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone,
Benzophenones such as acetophenones, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether,
Benzoin ethers such as benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, thioxanthone, 2
Sulfur compounds such as 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2 Anthraquinones such as 3, diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile,
Organic peroxides such as benzoyl peroxide and cumene peroxide; 2-mercaptobenzimidazole;
And thiol compounds such as 2-mercaptobenzoxazole and 2-mercaptobenzothiazole. These compounds may be used in combination of two or more. In addition, although it does not act as a photopolymerization initiator by itself, a compound that increases the ability of the photopolymerization initiator by using it in combination with the above compounds can also be added. Such compounds are effective when used in combination with benzophenone, for example, and include tertiary amines such as triethanolamine.
【0019】また、本発明で述べるフィラー(F)とし
ては、例えば、フッ素樹脂や、ポリイミド樹脂、ベンゾ
グアナミン樹脂等の有機質充填剤、あるいは、シリカや
タルク、アルミナ、クレー、炭酸カルシウム、酸化チタ
ン、硫酸バリウム等の無機質充填剤が挙げられ配合する
ことができる。The filler (F) described in the present invention may be, for example, an organic filler such as a fluororesin, a polyimide resin, a benzoguanamine resin, or silica, talc, alumina, clay, calcium carbonate, titanium oxide, sulfuric acid, or the like. An inorganic filler such as barium may be used and may be added.
【0020】さらに、上記絶縁性樹脂組成物中には、必
要に応じて、エポキシ基硬化促進剤、熱重合禁止剤、可
塑剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、難燃化剤
等の添加剤や着色用顔料等を添加することができる。Further, in the insulating resin composition, if necessary, an epoxy group curing accelerator, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a leveling agent, a defoaming agent, an ultraviolet absorber, a flame retardant, etc. Additives, coloring pigments and the like can be added.
【0021】次に、本発明に係わる多層プリント配線板
の製造方法について具体的に説明する。まず、導体回路
を形成した基板上に、上記の感光性のある樹脂絶縁層を
形成する。その基板としては、例えばプラスチック基
板、セラミック基板、金属基板、フィルム基板等が使用
することができ、具体的にはガラスエポキシ基板、ビス
マレイミドートリアジン基板、アルミニウム基板、鉄基
板、ポリイミド基板等を使用することができる。Next, a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention will be specifically described. First, the above-mentioned photosensitive resin insulating layer is formed on a substrate on which a conductive circuit is formed. As the substrate, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate, or the like can be used.Specifically, a glass epoxy substrate, a bismaleimide-triazine substrate, an aluminum substrate, an iron substrate, a polyimide substrate, or the like is used. can do.
【0022】導体回路を形成した上記基板上に前記樹脂
絶縁層を形成する法方としては、上記感光性を有する絶
縁性樹脂組成物の溶液を、例えば、ローラーコート法、
ディップコート法、スプレイコート法、スピナーコート
法、カーテンコート法、スロットコート法、スクリーン
印刷法等の各種手段により塗布する方法、あるいは上記
絶縁性樹脂組成物をフィルム状に加工した、樹脂フィル
ムを貼付する方法を適用することもできる。As a method for forming the resin insulating layer on the substrate on which the conductor circuit is formed, a solution of the photosensitive resin composition having photosensitivity is prepared by, for example, a roller coating method.
A dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a curtain coating method, a slot coating method, a method of applying by various means such as a screen printing method, or a resin film obtained by processing the above-mentioned insulating resin composition into a film. It is also possible to apply a method of doing so.
【0023】また、本発明における前記樹脂絶縁層の好
適な厚さは、通常20〜100μm程度であるが、特に
高い絶縁性が要求される場合にはそれ以上に厚くするこ
ともできる。The preferable thickness of the resin insulating layer in the present invention is usually about 20 to 100 μm, but it can be larger when particularly high insulating properties are required.
【0024】続いて、上記で得られた樹脂絶縁層上に、
ネガフィルムを介して紫外線を照射して露光部を硬化さ
せ、更に弱アルカリ水溶液を用いて未露光部を溶出する
所謂アルカリ現像を行う。Subsequently, on the resin insulating layer obtained above,
The exposed portions are cured by irradiating ultraviolet rays through a negative film, and then a so-called alkali development is performed using a weak alkaline aqueous solution to elute the unexposed portions.
【0025】上記紫外線としては、超高圧水銀ランプ、
高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等のランプから
発振される光が挙げられ、露光部の硬化に好適に使用さ
れる。As the ultraviolet light, an ultra-high pressure mercury lamp,
Light emitted from a lamp such as a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp can be used, and is suitably used for curing an exposed portion.
【0026】また、上記アルカリ性水溶液としては、炭
酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、ジエ
タノールアミン水溶液、トリエタノールアミン水溶液、
水酸化アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液が
挙げられ、未露光部の溶出に好適に使用される。The alkaline aqueous solution includes an aqueous solution of sodium carbonate, an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, an aqueous solution of diethanolamine, an aqueous solution of triethanolamine,
An aqueous solution of ammonium hydroxide or an aqueous solution of sodium hydroxide can be used, and is preferably used for elution of an unexposed portion.
【0027】次に、アルカリ現像後、耐熱性、耐アルカ
リ性を向上させるために、加熱してエポキシ硬化処理を
施すことが望ましい。本発明の絶縁性樹脂組成物におい
ては、加熱処理を行うことにより、強アルカリ水に対す
る耐久性が著しく向上するばかりではなく、ガラス、銅
等の金属に対する密着性、耐熱性、表面硬度等の諸性質
も向上する。Next, after alkali development, it is desirable to carry out an epoxy curing treatment by heating in order to improve heat resistance and alkali resistance. In the insulating resin composition of the present invention, by performing the heat treatment, not only the durability against strong alkaline water is remarkably improved, but also various properties such as adhesion to glass, metal such as copper, heat resistance, surface hardness and the like. Properties are also improved.
【0028】続いて、上記のように加熱処理された樹脂
絶縁層の表面を酸あるいは酸化剤を用いて粗面化処理し
た後、無電解めっき及び電解めっきを施すことにより、
導体回路を形成することにより多層プリント配線板が製
造される。Subsequently, after the surface of the resin insulating layer which has been subjected to the heat treatment as described above is subjected to surface roughening treatment using an acid or an oxidizing agent, electroless plating and electrolytic plating are performed.
A multilayer printed wiring board is manufactured by forming a conductor circuit.
【0029】上記の無電解めっきの方法としては、例え
ば、無電解銅めっき、無電解ニッケルめっき、無電解金
めっき、無電解銀めっき、無電解錫めっきのいずれか少
なくとも一種であることが好適である。なお、前記無電
解めっきを施した上にさらに異なる種類の無電解あるい
は電解めっきを行ったり、はんだをコートすることもで
きる。The method of electroless plating is preferably, for example, at least one of electroless copper plating, electroless nickel plating, electroless gold plating, electroless silver plating, and electroless tin plating. is there. It should be noted that, after the electroless plating is performed, a different type of electroless or electrolytic plating may be performed, or a solder may be coated.
【0030】なお、本発明によれば、従来知られたプリ
ント配線板について行われている種々の方法で導体回路
を形成することができ、例えば、基板に無電解及び電解
めっきを施してから、回路をエッチングする方法や、無
電解めっきを施す際に直接回路を形成する方法などを適
用することができる。According to the present invention, a conductor circuit can be formed by various methods conventionally used for a printed wiring board. For example, after a substrate is subjected to electroless and electrolytic plating, A method of etching a circuit, a method of directly forming a circuit when performing electroless plating, and the like can be applied.
【0031】以上に述べた本発明の多層プリント配線板
用絶縁性樹脂組成物を使用することによって、耐熱性に
優れた樹脂絶縁層を形成することでき、無電解めっき膜
との密着性を向上させ、信頼性に優れた多層プリント配
線板を容易にかつ安価に提供することができる。By using the above-described insulating resin composition for a multilayer printed wiring board of the present invention, a resin insulating layer having excellent heat resistance can be formed, and the adhesion to an electroless plating film can be improved. As a result, a multilayer printed wiring board having excellent reliability can be easily and inexpensively provided.
【0032】[0032]
【実施例】次に本発明を実施例により、より具体的に説
明する。 〈実施例1〉ビスフェノールA型エポキシアクリレート
(リポキシVR−90、昭和高分子社製)と無水フタル
酸を反応せしめて得られる酸価約207(mgKOH/
g)の紫外線硬化樹脂200重量部、エポキシポリブタ
ジエンゴムPB4700(ダイセル化学社製)50重量
部、3、4ーエポキシシクロヘキシルメチルメタクリレ
ートM ー100(ダイセル化学社製)60重量部、平均
粒径3μmのシリカ微粉末43重量部、レベリング剤BY
K 110(ビックケミー社製)1.4重量部、分散剤BY
K 307(ビックケミー社製)0.44重量部、光重合
開始剤 LucilnTPO(BASF社製)9.6重量部を
3ーメトキシブチルアセテート溶剤を加えて撹拌した
後、3本ロールで混練し、感光性を有する絶縁性樹脂組
成物の溶液を得た。Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. <Example 1> An acid value of about 207 (mg KOH / mg) obtained by reacting bisphenol A type epoxy acrylate (Ripoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) with phthalic anhydride
g), 200 parts by weight of an ultraviolet curable resin, 50 parts by weight of epoxy polybutadiene rubber PB4700 (manufactured by Daicel Chemical), 60 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate M-100 (manufactured by Daicel Chemical), and an average particle diameter of 3 μm. 43 parts by weight of fine silica powder, leveling agent BY
1.4 parts by weight of K110 (by Big Chemie), dispersant BY
0.407 parts by weight of K 307 (manufactured by Big Chemie) and 9.6 parts by weight of a photopolymerization initiator Luciln TPO (manufactured by BASF) were added to a 3-methoxybutyl acetate solvent, stirred, kneaded with three rolls, and exposed to light. A solution of an insulating resin composition having a property was obtained.
【0033】次に、上記で得られた感光性を有する絶縁
性樹脂組成物の溶液をスロットコーターを用いて、脱脂
洗浄した銅張りガラスエポキシ基板に約40μmの厚さ
に塗布して乾燥したのち、フォトマスクを通して150
mJ/cm2 で密着露光し、トリエタノールアミン現像
液で30℃、1分間現像し、未露光部を除去した。その
後、乾燥オーブンを用いて、200℃で1時間加熱硬化
処理を行い、樹脂絶縁層を形成した。Next, the solution of the insulating resin composition having photosensitivity obtained above was applied to a degreased and washed copper-clad glass epoxy substrate to a thickness of about 40 μm using a slot coater and dried. , 150 through photomask
The substrate was exposed to light at a pressure of mJ / cm 2 and developed with a triethanolamine developer at 30 ° C. for 1 minute to remove unexposed portions. Thereafter, heat curing treatment was performed at 200 ° C. for 1 hour using a drying oven to form a resin insulating layer.
【0034】続いて、上記樹脂絶縁層を形成した基板を
通常のプリント基板の銅めっき工程にて、厚さ約25μ
mの銅めっきを施し、プリント配線板を得た。Subsequently, the board on which the resin insulating layer is formed is subjected to a copper plating process on an ordinary printed board to a thickness of about 25 μm.
m of copper plating was obtained to obtain a printed wiring board.
【0035】〈実施例2〉ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約207
(mgKOH/g)の紫外線硬化樹脂200重量部、エ
ポキシポリブタジエンゴムPB4700(ダイセル化学社
製)35重量部、3、4ーエポキシシクロヘキシルメチ
ルメタクリレートM ー100(ダイセル化学社製)60
重量部、エポキシ樹脂EHPE3150(ダイセル化学
社製)16重量部、平均粒径3μmのシリカ微粉末43
重量部、レベリング剤BYK 110(ビックケミー社製)
1.4重量部、分散剤BYK 307(ビックケミー社製)
0.44重量部、光重合開始剤LucilnTPO(BASF
社製)9.6重量部を3ーメトキシブチルアセテート溶
剤を加えて撹拌した後、3本ロールで混練し、感光性を
有する絶縁性樹脂組成物の溶液を得た。<Example 2> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Acid value of about 207 obtained by reacting
(MgKOH / g) UV curable resin 200 parts by weight, epoxy polybutadiene rubber PB4700 (manufactured by Daicel Chemical) 35 parts by weight, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate M-100 (manufactured by Daicel Chemical) 60
Parts by weight, 16 parts by weight of epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), fine silica powder 43 having an average particle diameter of 3 μm 43
Parts by weight, leveling agent BYK 110 (by Big Chemie)
1.4 parts by weight, dispersant BYK 307 (by Big Chemie)
0.44 parts by weight, photopolymerization initiator Luciln TPO (BASF
9.6 parts by weight of a 3-methoxybutyl acetate solvent was added thereto, and the mixture was stirred and kneaded with a three-roll mill to obtain a photosensitive insulating resin composition solution.
【0036】以下、実施例1と同様の材料、操作等によ
り、樹脂絶縁層の形成と銅めっきの形成を行い、プリン
ト配線板を得た。Thereafter, a resin insulating layer and copper plating were formed using the same materials and operations as in Example 1 to obtain a printed wiring board.
【0037】〈実施例3〉ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約207
(mgKOH/g)の紫外線硬化樹脂200重量部、エ
ポキシポリブタジエンゴムPB4700(ダイセル化学社
製)25重量部、3、4ーエポキシシクロヘキシルメチ
ルメタクリレートM ー100(ダイセル化学社製)60
重量部、エポキシ樹脂EHPE3150(ダイセル化学
社製)26重量部、平均粒径3μmのシリカ微粉末43
重量部、レベリング剤BYK 110(ビックケミー社製)
1.4重量部、分散剤BYK 307(ビックケミー社製)
0.44重量部、光重合開始剤LucilnTPO(BASF
社製)9.6重量部を3ーメトキシブチルアセテート溶
剤を加えて撹拌した後、3本ロールで混練し、感光性を
有する絶縁性樹脂組成物の溶液を得た。<Example 3> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Acid value of about 207 obtained by reacting
(MgKOH / g) UV curable resin 200 parts by weight, epoxy polybutadiene rubber PB4700 (manufactured by Daicel Chemical) 25 parts by weight, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate M-100 (manufactured by Daicel Chemical) 60
By weight, 26 parts by weight of epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), fine silica powder 43 having an average particle diameter of 3 μm 43
Parts by weight, leveling agent BYK 110 (by Big Chemie)
1.4 parts by weight, dispersant BYK 307 (by Big Chemie)
0.44 parts by weight, photopolymerization initiator Luciln TPO (BASF
9.6 parts by weight of a 3-methoxybutyl acetate solvent was added thereto, followed by stirring and kneading with a three-roll mill to obtain a solution of a photosensitive insulating resin composition.
【0038】以下、実施例1と同様の材料、操作等によ
り、樹脂絶縁層の形成と銅めっきの形成を行い、プリン
ト配線板を得た。Thereafter, a resin insulating layer and copper plating were formed using the same materials and operations as in Example 1 to obtain a printed wiring board.
【0039】〈実施例4〉ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約207
(mgKOH/g)の紫外線樹脂200重量部、エポキ
シポリブタジエンゴムPB4700(ダイセル化学社製)
15重量部、3、4ーエポキシシクロヘキシルメチルメ
タクリレートM ー100(ダイセル化学社製)60重量
部、エポキシ樹脂EHPE3150(ダイセル化学社
製)36重量部、平均粒径3μmのシリカ微粉末43重
量部、レベリング剤BYK 110(ビックケミー社製)
1.4重量部、分散剤BYK 307(ビックケミー社製)
0.44重量部、光重合開始剤LucilnTPO(BASF
社製)9.6重量部を3ーメトキシブチルアセテート溶
剤を加えて撹拌した後、3本ロールで混練し、感光性を
有する絶縁性樹脂組成物の溶液を得た。<Example 4> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Acid value of about 207 obtained by reacting
(MgKOH / g) UV resin 200 parts by weight, epoxy polybutadiene rubber PB4700 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
15 parts by weight, 60 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate M-100 (manufactured by Daicel Chemical), 36 parts by weight of epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 43 parts by weight of silica fine powder having an average particle diameter of 3 μm, Leveling agent BYK 110 (by Big Chemie)
1.4 parts by weight, dispersant BYK 307 (by Big Chemie)
0.44 parts by weight, photopolymerization initiator Luciln TPO (BASF
9.6 parts by weight of a 3-methoxybutyl acetate solvent was added thereto, followed by stirring and kneading with a three-roll mill to obtain a solution of a photosensitive insulating resin composition.
【0040】以下、実施例1と同様の材料、操作等によ
り、樹脂絶縁層の形成と銅めっきの形成を行い、プリン
ト配線板を得た。Thereafter, a resin insulating layer and copper plating were formed by using the same materials and operations as in Example 1 to obtain a printed wiring board.
【0041】〈実施例5〉ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約207
(mgKOH/g)の紫外線樹脂200重量部、エポキ
シポリブタジエンゴムPB4700(ダイセル化学社製)
5.0重量部、3、4ーエポキシシクロヘキシルメチル
メタクリレートM ー100(ダイセル化学社製)60重
量部、エポキシ樹脂EHPE3150(ダイセル化学社
製)47重量部、平均粒径3μmのシリカ微粉末43重
量部、レベリング剤BYK 110(ビックケミー社製)
1.4重量部、分散剤BYK 307(ビックケミー社製)
0.44重量部、光重合開始剤LucilnTPO(BASF
社製)9.6重量部を3ーメトキシブチルアセテート溶
剤を加えて撹拌した後、3本ロールで混練し、感光性を
有する絶縁性樹脂組成物の溶液を得た。Example 5 Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Kogyo KK)
Acid value of about 207 obtained by reacting
(MgKOH / g) UV resin 200 parts by weight, epoxy polybutadiene rubber PB4700 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
5.0 parts by weight, 60 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate M-100 (manufactured by Daicel Chemical), 47 parts by weight of epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 43 parts by weight of silica fine powder having an average particle diameter of 3 μm Part, leveling agent BYK 110 (by Big Chemie)
1.4 parts by weight, dispersant BYK 307 (by Big Chemie)
0.44 parts by weight, photopolymerization initiator Luciln TPO (BASF
9.6 parts by weight of a 3-methoxybutyl acetate solvent was added thereto, followed by stirring and kneading with a three-roll mill to obtain a solution of a photosensitive insulating resin composition.
【0042】以下、実施例1と同様の材料、操作等によ
り、樹脂絶縁層の形成と銅めっきの形成を行い、プリン
ト配線板を得た。Thereafter, a resin insulating layer and copper plating were formed by using the same materials and operations as in Example 1 to obtain a printed wiring board.
【0043】〈比較例1〉ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約207
(mgKOH/g)の紫外線硬化樹脂200重量部、
3、4ーエポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート
M ー100(ダイセル化学社製)60重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)52重量
部、平均粒径3μmのシリカ微粉末43重量部、レベリ
ング剤BYK 110(ビックケミー社製)1.4重量部、
分散剤BYK307(ビックケミー社製)0.44重量
部、光重合開始剤LucilnTPO(BASF社製)9.6
重量部を3ーメトキシブチルアセテート溶剤を加えて撹
拌した後、3本ロールで混練し、感光性を有する絶縁性
樹脂組成物の溶液を得た。Comparative Example 1 Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Acid value of about 207 obtained by reacting
(MgKOH / g) 200 parts by weight of an ultraviolet curable resin,
3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate
60 parts by weight of M-100 (manufactured by Daicel Chemical), 52 parts by weight of epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 43 parts by weight of fine silica powder having an average particle diameter of 3 μm, and a leveling agent BYK 110 (manufactured by Big Chemie) 1.4 Parts by weight,
0.44 parts by weight of dispersant BYK307 (manufactured by Big Chemie) and 9.6 of photopolymerization initiator Luciln TPO (manufactured by BASF)
A part by weight of a 3-methoxybutyl acetate solvent was added and stirred, and then kneaded with a three-roll mill to obtain a solution of a photosensitive insulating resin composition.
【0044】以下、実施例1と同様の材料、操作等によ
り、樹脂絶縁層の形成と銅めっきの形成を行い、プリン
ト配線板を得た。Thereafter, a resin insulating layer was formed and copper plating was formed by using the same materials and operations as in Example 1 to obtain a printed wiring board.
【0045】以上実施例1〜5および比較例1で得られ
た多層プリント配線板用絶縁性樹脂組成物を以下の項目
について評価し、表1に示した。 1)解像度(μm)・・・丸型ビアパターンの解像度
(μm)であって、樹脂絶縁層最下層までビアが通じて
いることを目視によって測定したものである。 2)ピール強度(Kg/cm)・・・樹脂絶縁層と銅め
っきとの剥離強度をJIS4681に従い、幅10mm
の銅めっきをテンシロン引張試験機RTC−1250
(オリエンテック社製)により測定した。 3)半田耐熱性・・・JIS6481に従い、25×5
0mmの銅積層板を260℃のはんだ浴に20秒間浸
し、膨れのないことを目視で判定した。 4)絶縁性・・・JIS6481に従い、表面抵抗及び
体積抵抗を超絶縁抵抗/微小電流計TR8601(タケ
ダ理研工業)にて測定して判定した。The insulating resin compositions for multilayer printed wiring boards obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were evaluated for the following items, and are shown in Table 1. 1) Resolution (μm): The resolution (μm) of the round via pattern, which is obtained by visually observing that the via extends to the lowermost layer of the resin insulating layer. 2) Peel strength (Kg / cm): The peel strength between the resin insulating layer and the copper plating is 10 mm in width according to JIS4681.
Copper plating of Tensilon tensile tester RTC-1250
(Orientec). 3) Solder heat resistance: 25 × 5 according to JIS6481
The copper laminate of 0 mm was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 20 seconds, and it was visually determined that there was no blister. 4) Insulation: Surface resistance and volume resistance were measured and determined using a super insulation resistance / microammeter TR8601 (Takeda Riken Kogyo) according to JIS6481.
【0046】[0046]
【表1】 [Table 1]
【0047】上記表1に示すように、実施例1〜5で
は、成分(C)の添加量増加に伴い樹脂絶縁層と銅めっ
き層との密着性が上昇した。しかし、疏水性である成分
(C)を添加することにより、解像度が劣るようになる
が、実施例4,5では、添加量を調整することにより、
解像度の低下を伴うことなくめっきの密着強度が上昇す
るものである。また、実施例1〜5において、はんだ耐
熱性および絶縁性が損なわれることはなかった。また、
比較例1においては、解像度、はんだ耐熱性、絶縁性に
は問題はなかったが、絶縁層と銅めっき層との密着性に
おとるものであった。As shown in Table 1 above, in Examples 1 to 5, the adhesion between the resin insulating layer and the copper plating layer increased with an increase in the addition amount of the component (C). However, by adding the hydrophobic component (C), the resolution becomes inferior. In Examples 4 and 5, however, by adjusting the amount of addition,
The adhesion strength of the plating increases without a decrease in resolution. In Examples 1 to 5, solder heat resistance and insulation were not impaired. Also,
In Comparative Example 1, there was no problem with the resolution, solder heat resistance, and insulation, but the adhesion between the insulating layer and the copper plating layer was reduced.
【0048】[0048]
【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。即ち、少なくとも光硬化性樹脂と
してのビスフェノール型エポキシ樹脂化合物と不飽和モ
ノカルボン酸との反応物と飽和又は不飽和他塩基酸無水
物とを反応せしめて得られる紫外線硬化樹脂(A)と、
熱硬化成分としての多官能エポキシ樹脂(B)と、分子
内に残存する二重結合部位の一部をエポキシ化したポリ
ブタジエン(C)と、光硬化成分と熱硬化成分とを併せ
持つエポキシ化合物(D)と光重合開始剤(E)と、フ
ィラー(F)を含有してなり、ポリブタジエン(C)
が、エポキシ当量150〜250で、かつ末端基が水素
あるいは水酸基である多層プリント配線板用絶縁性樹脂
組成物としたので、この絶縁性樹脂組成物を使用するこ
とによって、耐熱性に優れた樹脂絶縁層を形成すること
でき、無電解めっき膜との密着性を向上させ、信頼性に
優れた多層プリント配線板を容易にかつ安価に提供する
ことができる。As described above, the present invention has the following effects. That is, an ultraviolet curable resin (A) obtained by reacting at least a reaction product of a bisphenol type epoxy resin compound as a photocurable resin with an unsaturated monocarboxylic acid and a saturated or unsaturated polybasic anhydride,
An epoxy compound (D) having both a polyfunctional epoxy resin (B) as a thermosetting component, a polybutadiene (C) in which a part of a double bond site remaining in the molecule is epoxidized, and a photocuring component and a thermosetting component ), A photopolymerization initiator (E) and a filler (F), and a polybutadiene (C)
However, since the insulating resin composition for a multilayer printed wiring board having an epoxy equivalent of 150 to 250 and a terminal group being hydrogen or a hydroxyl group is used, a resin having excellent heat resistance can be obtained by using the insulating resin composition. An insulating layer can be formed, the adhesion to an electroless plating film can be improved, and a highly reliable multilayer printed wiring board can be easily and inexpensively provided.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河内 晋治 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Shinji Kawachi 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Letterpress Printing Co., Ltd.
Claims (4)
ノール型エポキシ樹脂化合物と不飽和モノカルボン酸と
の反応物と飽和又は不飽和他塩基酸無水物とを反応せし
めて得られる紫外線硬化樹脂(A)と、熱硬化成分とし
ての多官能エポキシ樹脂(B)と、分子内に残存する二
重結合部位の一部をエポキシ化したポリブタジエン
(C)と、光硬化成分と熱硬化成分とを併せ持つエポキ
シ化合物(D)と光重合開始剤(E)と、フィラー
(F)を含有してなり、希アルカリ溶液に現像可能な光
硬化性及び熱硬化性を有することを特徴とする多層プリ
ント配線板用絶縁性樹脂組成物。An ultraviolet curable resin (A) obtained by reacting at least a reaction product of a bisphenol type epoxy resin compound as a photocurable resin with an unsaturated monocarboxylic acid and a saturated or unsaturated polybasic anhydride. And a polyfunctional epoxy resin (B) as a thermosetting component, a polybutadiene (C) in which a part of the double bond site remaining in the molecule is epoxidized, and an epoxy compound having both a photocuring component and a thermosetting component (D), a photopolymerization initiator (E), and a filler (F), and have photocurability and thermosetting properties that can be developed in a dilute alkaline solution. Resin composition.
脂(B)が、脂環式エポキシ化合物であることを特徴と
する請求項1記載の多層プリント配線板用絶縁性樹脂組
成物。2. The insulating resin composition for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the polyfunctional epoxy resin (B) as the thermosetting component is an alicyclic epoxy compound.
をエポキシ化したポリブタジエン(C)が、エポキシ当
量150〜250で、かつ末端基が水素あるいは水酸基
であることを特徴とする請求項1記載の多層プリント配
線板用絶縁樹脂組成物。3. The polybutadiene (C) in which a part of the double bond site remaining in the molecule is epoxidized has an epoxy equivalent of 150 to 250 and a terminal group is hydrogen or a hydroxyl group. Item 4. The insulating resin composition for a multilayer printed wiring board according to Item 1.
エポキシ化合物(D)が、3 、4 ーエポキシシクロヘキ
シルメチル基を有するアクリレートもしくはメタクリレ
ート化合物であることを特徴とする請求項1記載の多層
プリント配線板用絶縁性樹脂組成物。4. The multilayer according to claim 1, wherein the epoxy compound (D) having both the photocuring component and the thermosetting component is an acrylate or methacrylate compound having a 3,4-epoxycyclohexylmethyl group. Insulating resin composition for printed wiring boards.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1564998A JPH11214813A (en) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | Insulating resin compound for multilayer printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1564998A JPH11214813A (en) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | Insulating resin compound for multilayer printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11214813A true JPH11214813A (en) | 1999-08-06 |
Family
ID=11894575
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1564998A Pending JPH11214813A (en) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | Insulating resin compound for multilayer printed wiring board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11214813A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008303362A (en) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Hitachi Chem Co Ltd | Photocurable moisture-proof insulating paint, electronic part moisture insulated by using the paint and method for producing the same |
US8013075B2 (en) | 2003-02-28 | 2011-09-06 | Kuraray Co., Ltd. | Curable composition |
-
1998
- 1998-01-28 JP JP1564998A patent/JPH11214813A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8013075B2 (en) | 2003-02-28 | 2011-09-06 | Kuraray Co., Ltd. | Curable composition |
JP2008303362A (en) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Hitachi Chem Co Ltd | Photocurable moisture-proof insulating paint, electronic part moisture insulated by using the paint and method for producing the same |
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