JP2000230034A - Resin composition for insulation layer - Google Patents

Resin composition for insulation layer

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JP2000230034A
JP2000230034A JP3126899A JP3126899A JP2000230034A JP 2000230034 A JP2000230034 A JP 2000230034A JP 3126899 A JP3126899 A JP 3126899A JP 3126899 A JP3126899 A JP 3126899A JP 2000230034 A JP2000230034 A JP 2000230034A
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Japan
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weight
parts
epoxy compound
resin
epoxy
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Application number
JP3126899A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Akimoto
聡 秋本
Kenji Kawamoto
憲治 河本
Masaaki Chino
正晃 地野
Takuzo Watanabe
卓三 渡邉
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin compsn. for forming an insulation layer excellent in adhesiveness with an electroless plating film in a multi-layer wiring board and has also heat resistance. SOLUTION: This resin compsn. for insulation layer is obtd. by mixing and kneading an ultraviolet curing resin (A) obtd. by reacting a reaction product of a bisphenol type epoxy compd. and an unsaturated monocarboxylic acid, and an anhydride of a saturated or unsaturated polybasic acid, a multifunctional epoxy compd.(B), an epoxy compd. having not less than 2 alicyclic epoxy groups (C), an epoxy compd. having a (meth) acrylic group and an epoxy group in a molecule (D), a photo radical polymerization initiator (E), a photo-cation polymerization initiator (F), a filler (G), and a diluent (H).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は多層プリント配線板
の絶縁層形成に用いられる樹脂組成物に関するものであ
る。。
The present invention relates to a resin composition used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board. .

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子技術の進歩に伴い、大型コン
ピューターなどの電子機器に対する高密度化あるいは演
算機能の高速化が進めれている。その結果、プリント配
線板においても高密度化を目的として配線層が多層に形
成された多層プリント配線板が脚光を浴びている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the advance of electronic technology, electronic devices such as large-sized computers have been increased in density or operating functions. As a result, multilayer printed wiring boards, in which wiring layers are formed in multiple layers for the purpose of increasing the density of printed wiring boards, have been spotlighted.

【0003】従来、多層プリント配線板としては、例え
ば内装回路を積層接続し導通せしめた多層プリント配線
板が代表的なものであった。しかしながら、このような
多層プリント配線板は、複数の内装回路をスルーホール
を介して接続導通させたものであるため、配線回路が複
雑になりすぎて高密度化あるいは高速化を実現すること
が困難であった。
Conventionally, a typical multilayer printed wiring board is, for example, a multilayer printed wiring board in which internal circuits are stacked and connected to conduct. However, in such a multilayer printed wiring board, since a plurality of internal circuits are connected and conducted through through holes, the wiring circuit becomes too complicated, and it is difficult to realize high density or high speed. Met.

【0004】このような問題点を克服することのできる
多層プリント配線板として、最近、導体配線層と絶縁層
とを交互にビルトアップして形成した多層プリント配線
板が開発されている。この多層プリント配線板は、超高
密度化と高速化に適合したものであるが、欠点は絶縁層
上に無電解めっき膜を信頼性よく形成させることが困難
なことにあった。
As a multilayer printed wiring board capable of overcoming such a problem, recently, a multilayer printed wiring board formed by alternately building up a conductor wiring layer and an insulating layer has been developed. This multilayer printed wiring board is suitable for ultra-high density and high speed, but has a drawback in that it is difficult to form an electroless plating film on an insulating layer with high reliability.

【0005】このため、かかる多層プリント配線板にお
いては、導体配線層を形成している導体膜を蒸着やスパ
ッタリングなどのPVD法もしくは前記PVD法と無電
解めっきとの併用法で形成しているが、このようなPV
D法による導体膜の形成方法は生産性が劣り、コストが
高い点にあった。
For this reason, in such a multilayer printed wiring board, the conductor film forming the conductor wiring layer is formed by a PVD method such as evaporation or sputtering, or a combination of the PVD method and electroless plating. , Such PV
The method of forming a conductive film by the method D is inferior in productivity and high in cost.

【0006】最近、このような絶縁層上に無電解めっき
膜を信頼性よく形成する方法として、絶縁層中に酸化剤
などによって可溶な成分を混合し溶解除去することによ
って、無電解めっき膜に接する樹脂表面を荒らす方法が
提案されている。たとえば、特開昭64-47095号公報にあ
るように耐熱性の樹脂をマトリックスとして樹脂中に酸
化剤に可溶のエポキシ樹脂、ビスマレイミド・トリアジ
ン樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂と、酸化剤に不溶
の樹脂や無機フィラーを混合した樹脂組成物で絶縁層を
形成することにより、絶縁層の表面を酸化剤で荒らして
無電解めっき膜形成のアンカー効果を高めたものなどが
提案されている。また、これらの効果をさらに高めた特
開平7-34505号公報にあるように酸化剤に対して可溶な
樹脂粒子の大きさが異なるもので疑似粒子を形成させて
耐熱性マトリックス樹脂中に混ぜたものなどが提案され
ている。
Recently, as a method for forming an electroless plating film on such an insulating layer with high reliability, an electroless plating film is prepared by mixing and dissolving a component soluble in an insulating layer with an oxidizing agent or the like. There has been proposed a method of roughening the resin surface in contact with the resin. For example, as disclosed in JP-A-64-47095, a resin such as an epoxy resin, a bismaleimide / triazine resin, or a polyester resin, which is soluble in an oxidizing agent, and is insoluble in the oxidizing agent. A method in which an insulating layer is formed with a resin composition in which a resin or an inorganic filler is mixed to roughen the surface of the insulating layer with an oxidizing agent to enhance the anchor effect of forming an electroless plating film, and the like has been proposed. Further, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-34505, which further enhances these effects, pseudo particles are formed from resin particles having different sizes soluble in an oxidizing agent and mixed into a heat-resistant matrix resin. And others have been proposed.

【0007】しかしながら、これらの方法で形成した絶
縁層は酸化剤などで溶解させる樹脂粒子などの樹脂改質
剤自体の耐熱性が劣っているため、結果として絶縁層の
耐熱性を低下させることが問題となっていた。
However, the insulating layer formed by these methods has poor heat resistance of a resin modifier itself such as resin particles dissolved by an oxidizing agent or the like. As a result, the heat resistance of the insulating layer may be reduced. Had been a problem.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みなされたもので、多層プリント配線板において無電
解めっき膜との密着性に優れ、且つ耐熱性を有する絶縁
層を形成するための樹脂組成物を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and is intended to form an insulating layer having excellent heat resistance and excellent adhesion to an electroless plating film in a multilayer printed wiring board. An object is to provide a resin composition.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は上記問題を解決
するために、まず請求項1においては、ビスフェノール
型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物と
飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られ
る紫外線硬化性樹脂(A)と、多官能エポキシ類化合物
(B)と、脂環式エポキシ基を2個以上有するエポキシ
類化合物(C)と、分子内に(メタ)アクリル基とエポ
キシ基とを有するエポキシ類化合物(D)と、光ラジカ
ル重合開始剤(E)と、光カチオン重合開始剤(F)
と、フィラー(G)と、希釈剤(H)とからなることを
特徴とする絶縁層用樹脂組成物としたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, first, a reaction product of a bisphenol-type epoxy compound and an unsaturated monocarboxylic acid is combined with a saturated or unsaturated polybasic anhydride. (A), a polyfunctional epoxy compound (B), an epoxy compound (C) having two or more alicyclic epoxy groups, and A) an epoxy compound having an acrylic group and an epoxy group (D), a photoradical polymerization initiator (E), and a photocationic polymerization initiator (F)
And a filler (G) and a diluent (H).

【0010】また、請求項2においては、前記脂環式エ
ポキシ基を2個以上有する前記エポキシ類化合物(C)
が3,4−エポキシシクロヘキシル基もしくは3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル基を有することを特徴と
する請求項1記載の絶縁層用樹脂組成物としたものであ
る。
The epoxy compound (C) having two or more alicyclic epoxy groups according to the present invention.
Is a 3,4-epoxycyclohexyl group or 3,4-
The resin composition for an insulating layer according to claim 1, wherein the resin composition has an epoxycyclohexylmethyl group.

【0011】また、請求項3においては、分子内に(メ
タ)アクリル基とエポキシ基とを有する前記エポキシ類
化合物(D)が3,4−エポキシシクロヘキシルメチル
基を有するアクリレートもしくはメタクリレートである
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の絶縁層用樹脂
組成物としたものである。
According to a third aspect of the present invention, the epoxy compound (D) having a (meth) acryl group and an epoxy group in the molecule is an acrylate or methacrylate having a 3,4-epoxycyclohexylmethyl group. A resin composition for an insulating layer according to claim 1 or 2.

【0012】また、請求項4においては、前記多官能エ
ポキシ類化合物(B)が下記の化学式1に示す構造であ
ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記
載の絶縁層用樹脂組成物としたものである。
Further, according to claim 4, the polyfunctional epoxy compound (B) has a structure represented by the following chemical formula (1): The insulating layer according to any one of claims 1 to 3, And a resin composition for use.

【0013】[0013]

【化2】 Embedded image

【0014】さらにまた、請求項5においては、前記紫
外線硬化性樹脂(A)、前記多官能エポキシ類化合物
(B)、前記エポキシ類化合物(C)及び前記エポキシ
類化合物(D)の合計量100重量部に対して前記光ラ
ジカル重合開始剤(E)が0.1〜20.0重量部及び
前記光カチオン重合開始剤(F)が0.1〜20.0重
量部含まれていることを特徴とする請求項1乃至4のい
ずれか1項に記載の絶縁層用樹脂組成物としたものであ
る。
Further, in claim 5, the total amount of the ultraviolet curable resin (A), the polyfunctional epoxy compound (B), the epoxy compound (C) and the epoxy compound (D) is 100. 0.1 to 20.0 parts by weight of the photo-radical polymerization initiator (E) and 0.1 to 20.0 parts by weight of the photo-cationic polymerization initiator (F) based on parts by weight. A resin composition for an insulating layer according to any one of claims 1 to 4.

【0015】一般に光ラジカル重合型の感光性樹脂は、
耐溶剤性、耐熱性、耐水性が優れているものの光感度や
接着性が十分ではなく、また光カチオン重合型エポキシ
樹脂は光感度や接着性がラジカル重合型よりは優れてい
るものの、多くの場合、耐溶剤性、耐水性、苛撓性が十
分ではない。
In general, a photo-radical polymerization type photosensitive resin is
Although the solvent resistance, heat resistance, and water resistance are excellent, the photosensitivity and adhesiveness are not sufficient, and the photocationic polymerization type epoxy resin has excellent photosensitivity and adhesiveness even though it is superior to the radical polymerization type. In this case, the solvent resistance, water resistance and stiffness are not sufficient.

【0016】そこで、光ラジカル重合開始剤とともに、
光カチオン重合開始剤を併用することにより、エポキシ
類化合物に含まれる脂環式エポキシ基を効率良く反応さ
せ、適度の苛撓性を有し耐熱性を低下させることなく、
接着性に優れた性質の硬化物を得ることができる。
Thus, together with the photoradical polymerization initiator,
By using the photocationic polymerization initiator in combination, efficiently react the alicyclic epoxy group contained in the epoxy compound, without reducing the heat resistance with moderate stiffness,
A cured product having excellent adhesive properties can be obtained.

【0017】上記絶縁性用樹脂組成物を用いることによ
り高耐熱性で、且つ無電解めっき膜の密着性に優れた絶
縁層を形成でき、信頼性のある多層プリント配線板を得
ることができる。
By using the above resin composition for insulation, an insulation layer having high heat resistance and excellent adhesion of the electroless plating film can be formed, and a reliable multilayer printed wiring board can be obtained.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。ビスフェノール型エポキシ化合物と不飽和モノ
カルボン酸との反応物と飽和又は不飽和多塩基酸無水物
とを反応せしめて得られる紫外線硬化性樹脂(A)にお
いて、ビスフェノール成分の具体例としては、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)ケトン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ケトン、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、ビス(4−
ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)スルホン、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)メタン、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジクロロフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルシラン、ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジメチ
ルシラン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフ
ェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロ
フェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
ブロモフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−ク
ロロフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジクロロフェニル)エーテル等が挙げられる。
Embodiments of the present invention will be described below. In an ultraviolet curable resin (A) obtained by reacting a reaction product of a bisphenol type epoxy compound with an unsaturated monocarboxylic acid with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride, a specific example of a bisphenol component is bis ( 4
-Hydroxyphenyl) ketone, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ketone, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ketone, bis (4
-Hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) sulfone, bis (4-
Hydroxy-3,5-dichlorophenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, bis (4
-Hydroxy-3,5-dichlorophenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-
3,5-dichlorophenyl) hexafluoropropane,
Bis (4-hydroxyphenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxyphenyl) methane, Bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2- Bis (4-hydroxy-3-chlorophenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) ether, (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ether, bis (4-hydroxy-3,5
-Dichlorophenyl) ether and the like.

【0019】さらに、不飽和モノカルボン酸の具体例と
しては、アクリル酸、メタクリル酸及びケイ皮酸等が挙
げられる。
Further, specific examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid and cinnamic acid.

【0020】さらに、飽和又は不飽和多塩基酸無水物の
具体例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水
イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル
酸、無水へキサヒドロフタル酸、メチルへキサヒドロ無
水フタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル
酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、
無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸な
どの二塩基性酸無水物;無水トリメリット酸、無水ピロ
メリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
などの芳香族多価カルボン酸無水物;その他これに付随
する例えば5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリ
ル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物のような多価カルボン酸無水物誘導体な
どが使用できる。
Further, specific examples of the saturated or unsaturated polybasic acid anhydride include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methyl anhydride. Xahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendmethylenetetrahydrophthalic anhydride,
Dibasic acid anhydrides such as chlorendic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride; aromatic polycarboxylic anhydrides such as trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride and benzophenonetetracarboxylic dianhydride; For example, a polycarboxylic anhydride derivative such as 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride can be used.

【0021】多官能エポキシ類化合物(B)の具体例と
しては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂や、フェニル
グリシジルエーテル、p−ブチルフェノールグリシジル
エーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、ジグリシ
ジルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、グ
リシジルメタクリレート等のエポキシ基を少なくとも3
個以上有する化合物等が挙げられる。また、シクロヘキ
センオキシドの各種誘導体や前記芳香族エポキシ類の水
素添加化合物や、化学式1に示す構造の脂環式エポキシ
類化合物などが挙げられる。これらのうち、化学式1に
示す構造の脂環式エポキシ類化合物を用いた系は高いガ
ラス転移温度を示すことから耐熱性に優れ、特に望まし
い。
Specific examples of the polyfunctional epoxy compound (B) include phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin. Resin, an epoxy resin such as an alicyclic epoxy resin, or an epoxy group such as phenylglycidyl ether, p-butylphenol glycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, diglycidyl isocyanurate, allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate.
And the like. In addition, various derivatives of cyclohexene oxide, hydrogenated compounds of the aromatic epoxies, and alicyclic epoxies having the structure shown in Chemical Formula 1 may be used. Among these, a system using an alicyclic epoxy compound having a structure represented by Chemical Formula 1 is particularly preferable since it exhibits a high glass transition temperature and thus has excellent heat resistance.

【0022】脂環式エポキシ基を2個以上有するエポキ
シ類化合物(C)の具体例としては、3、4−エポキシ
シクロヘキシルメチルー3、4−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート、及びそのカプロラクトン変性物、
3、4−エポキシシクロヘキシルメチルー3、4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレートのトリメチルカプ
ロラクトン変性物、3、4−エポキシシクロヘキシルメ
チルー3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
トのバレロラクトン変性物などが挙げられる。また、下
記の化学式2、化学式3で示される脂環式エポキシ化合
物なども挙げることができる。
Specific examples of the epoxy compound (C) having two or more alicyclic epoxy groups include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and caprolactone-modified products thereof.
Examples include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate modified with trimethylcaprolactone, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate modified with valerolactone. In addition, alicyclic epoxy compounds represented by the following chemical formulas 2 and 3 can also be mentioned.

【0023】[0023]

【化3】 Embedded image

【0024】[0024]

【化4】 Embedded image

【0025】分子内に(メタ)アクリル基とエポキシ基
とを有するエポキシ類化合物(D)の具体例としては、
グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、
メチルグリシジルアクリレート、メチルグリシジルメタ
クリレート、9、10−エポキシステアリルアクリレー
ト、9、10−エポキシステアリルメタクリレート、
3、4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、
3、4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレー
ト、3、4−エポキシシクロヘキシルメチルカプロラク
トンアクリレート、3、4−エポキシシクロヘキシルメ
チルカプロラクトンメタクリレートなどが挙げられる。
これらのうち、3、4−エポキシシクロヘキシルメチル
基を有する系は他の材料と混合したときの安定性に優
れ、特に望ましい。
Specific examples of the epoxy compound (D) having a (meth) acryl group and an epoxy group in the molecule include:
Glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate,
Methyl glycidyl acrylate, methyl glycidyl methacrylate, 9,10-epoxystearyl acrylate, 9,10-epoxystearyl methacrylate,
3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate,
3,4-epoxycyclohexylmethylcaprolactone acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethylcaprolactone methacrylate, and the like.
Of these, a system having a 3,4-epoxycyclohexylmethyl group is excellent in stability when mixed with another material, and is particularly desirable.

【0026】光ラジカル重合開始剤(E)の具体例とし
ては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェ
ノン、p−ジメチルアセ卜フェノン、p−ジメチルアミ
ノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリク
ロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェ
ノン等のアセトフェノン類や、ベンゾフェノン、2−ク
ロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベ
ンゾフェノン等のベンゾフェノン類や、ベンジル、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、等の
ベンゾインエーテル類や、ベンジルジメチルケタール、
チオキサンソン、2−クロロチオキサンソン、2,4−
ジエチルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、
2−イソプロピルチオキサンソン等のイオウ化合物や、
2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノ
ン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニ
ルアントラキノン等のアントラキノン類や、アゾビスイ
ソブチルニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメン
パーオキシド等の有機過酸化物や、2−メルカプ卜ベン
ゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、
2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物等
が挙げられる。これらの化合物は、2種以上を組み合わ
せて使用することもできる。また、それ自体では光重合
開始剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせ
て用いることによリ、光重合開始剤の能力を増大させ得
るような化合物を添加することもできる。そのような化
合物としては、例えば、ベンゾフエノンと組み合わせて
使用すると効果のあるトリエタノールアミン等の第三級
アミンを挙げることができる。
Specific examples of the photoradical polymerization initiator (E) include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, and p-tert. Acetophenones such as -butylacetophenone; benzophenones such as benzophenone, 2-chlorobenzophenone and p, p'-bisdimethylaminobenzophenone; and benzoin such as benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether. Ethers, benzyldimethyl ketal,
Thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-
Diethylthioxanthone, 2-methylthioxanthone,
A sulfur compound such as 2-isopropylthioxanthone,
Anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone and 2,3-diphenylanthraquinone; organic peroxides such as azobisisobutylnitrile, benzoyl peroxide and cumene peroxide; Mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole,
Thiol compounds such as 2-mercaptobenzothiazole are exemplified. These compounds may be used in combination of two or more. In addition, a compound which does not act as a photopolymerization initiator by itself, but can be used in combination with the above compound, can increase the ability of the photopolymerization initiator. Such compounds include, for example, tertiary amines such as triethanolamine, which are effective when used in combination with benzophenone.

【0027】光ラジカル重合開始剤(E)の添加量は、
紫外線硬化性樹脂(A)、多官能エポキシ類化合物
(B)、エポキシ類化合物(C)及びエポキシ類化合物
(D)の合計量100重量部に対して0.1〜20.0
重量部含有することが特に好ましい。光ラジカル重合開
始剤(E)の添加量が、0.1重量部未満であると十分
な硬化性が得られなく、また20重量部を越えると耐熱
性が低下する。
The addition amount of the photo-radical polymerization initiator (E)
0.1 to 20.0 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the ultraviolet curable resin (A), the polyfunctional epoxy compound (B), the epoxy compound (C) and the epoxy compound (D).
It is particularly preferred to contain the parts by weight. If the amount of the photo-radical polymerization initiator (E) is less than 0.1 part by weight, sufficient curability cannot be obtained, and if it exceeds 20 parts by weight, heat resistance decreases.

【0028】光カチオン重合開始剤(F)の具体例とし
ては、下記の化学式4及び化学式5に示されるようなジ
アゾニウム塩、化学式6、化学式7、化学式8及び化学
式9に示されるようなスルホニウム塩、化学式10に示
されるようなヨードニウム塩、化学式11、化学式12
及び化学式13に示されるような金属化合物などが挙げ
られる。
Specific examples of the cationic photopolymerization initiator (F) include diazonium salts represented by the following chemical formulas 4 and 5, and sulfonium salts represented by the following chemical formulas 6, 7, 8, and 9: , An iodonium salt as shown in Chemical Formula 10, Chemical Formula 11, Chemical Formula 12
And a metal compound represented by Chemical Formula 13.

【0029】[0029]

【化5】 Embedded image

【0030】[0030]

【化6】 Embedded image

【0031】[0031]

【化7】 Embedded image

【0032】[0032]

【化8】 Embedded image

【0033】[0033]

【化9】 Embedded image

【0034】[0034]

【化10】 Embedded image

【0035】[0035]

【化11】 Embedded image

【0036】[0036]

【化12】 Embedded image

【0037】[0037]

【化13】 Embedded image

【0038】[0038]

【化14】 Embedded image

【0039】また、これらの化合物は、2種以上を組み
合わせて使用することもできる。
These compounds can be used in combination of two or more kinds.

【0040】光カチオン重合開始剤(F)の添加量は、
紫外線硬化性樹脂(A)と多官能エポキシ類化合物
(B)とエポキシ類化合物(C)とエポキシ類化合物
(D)との合計量100重量部に対して0.1〜20.
0重量部含有することが特に好ましい。光カチオン重合
開始剤(F)の添加量が0.1重量部未満であると十分
な硬化性が得られなく、また20重量部を越えると耐熱
性が低下する。
The addition amount of the cationic photopolymerization initiator (F)
0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the ultraviolet curable resin (A), the polyfunctional epoxy compound (B), the epoxy compound (C) and the epoxy compound (D).
It is particularly preferred to contain 0 parts by weight. If the amount of the cationic photopolymerization initiator (F) is less than 0.1 part by weight, sufficient curability cannot be obtained, and if it exceeds 20 parts by weight, heat resistance decreases.

【0041】フィラー(G)の具体例としては、フッソ
樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機
質充填剤あるいはシリカ、タルク、アルミナ、クレー、
炭酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機質
充填剤を配合することができる。
Specific examples of the filler (G) include organic fillers such as a fluorine resin, a polyimide resin, and a benzoguanamine resin, silica, talc, alumina, clay, and the like.
Inorganic fillers such as calcium carbonate, titanium oxide and barium sulfate can be blended.

【0042】希釈剤(H)の具体例としては、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブアセテート、ブチルカルビトール、ブチルセルロ
ース、テトラリン、ジメチルホルムアミド、ノルマルメ
チルピロリドン等が挙げられる。
Specific examples of the diluent (H) include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol, butyl cellulose, tetralin, dimethylformamide, and normal methylpyrrolidone. .

【0043】さらに、上記感光性を有する絶縁層用樹脂
組成物中には、必要に応じて、エポキシ基硬化促進剤、
熱重合禁止剤、可塑剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線
吸収剤、難燃化剤等の添加剤や着色用顔料等を添加する
ことが可能である。
The resin composition for an insulating layer having photosensitivity may further include an epoxy group curing accelerator, if necessary.
It is possible to add additives such as a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a leveling agent, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a coloring pigment, and the like.

【0044】次に多層プリント配線板の製造方法につい
て具体的に説明する。まず、基板上に上記感光性を有す
る絶縁層用樹脂組成物を用いて塗膜を形成し、露光・現
像処理して絶縁層を形成する。基板としては、例えばプ
ラスチック基板、セラミック基板、金属基板、フィルム
基板などを使用することができ、具体的にはガラスエポ
キシ基板、ビスマレイミドートリアジン基板、低温焼成
セラミック基板、窒化アルミニウム基板、アルミニウム
基板、鉄基板、ポリイミドフィルム基板などを使用する
ことができる。
Next, a method for manufacturing a multilayer printed wiring board will be specifically described. First, a coating film is formed on a substrate using the above-mentioned resin composition for an insulating layer having photosensitivity, and exposed and developed to form an insulating layer. As the substrate, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate, and the like can be used.Specifically, a glass epoxy substrate, a bismaleimide-triazine substrate, a low-temperature fired ceramic substrate, an aluminum nitride substrate, an aluminum substrate, An iron substrate, a polyimide film substrate, or the like can be used.

【0045】塗膜の形成方法としては、上記感光性の樹
脂組成物をローラーコート法、ディップコート法、スプ
レーコート法、スピナーコート法、カーテンコート法、
スクリーン印刷法等により塗布・乾燥する方法、或いは
上記感光性樹脂組成物をフィルム状に加工した樹脂フィ
ルムを貼付して塗膜とする方法等が適用できる。塗膜の
厚さは通常20〜100μm程度であるが、特に高い絶
縁性が要求される場合にはそれ以上厚くすることもでき
る。
As a method of forming a coating film, the above photosensitive resin composition is coated by a roller coating method, a dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a curtain coating method,
A method of applying and drying by a screen printing method or the like, a method of applying a resin film obtained by processing the above-mentioned photosensitive resin composition into a film, and forming a coating film can be applied. The thickness of the coating film is usually about 20 to 100 μm, but it is possible to increase the thickness if a particularly high insulating property is required.

【0046】次に、塗膜上に活性光線を照射して露光
し、弱アルカリ水溶液を用いて現像処理を行う。また、
必要に応じて露光後に加熱してもよい。アルカリ水溶液
としては、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム
水溶液、ジエタノールアミン水溶液、トリエタノールア
ミン水溶液、水酸化アンモニウム水溶液、水酸化ナトリ
ウム水溶液等があげられる。なかでも炭酸ナトリウム水
溶液は適度なアルカリ性を有し、作業環境的にも水酸化
ナトリウムなどの強アルカリと違って安全であり特に好
ましい。
Next, the coating film is exposed by irradiating it with actinic rays, and is developed using a weak alkaline aqueous solution. Also,
If necessary, heating may be performed after exposure. Examples of the aqueous alkali solution include an aqueous sodium carbonate solution, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, an aqueous diethanolamine solution, an aqueous triethanolamine solution, an aqueous ammonium hydroxide solution, and an aqueous sodium hydroxide solution. Among them, an aqueous solution of sodium carbonate has an appropriate alkalinity, and is safe and particularly preferable in terms of working environment unlike strong alkalis such as sodium hydroxide.

【0047】次に、現像処理後加熱・硬化して絶縁層を
形成する。本発明の絶縁層用樹脂組成物では加熱処埋を
行うことによリ、強アルカリ水に対する耐久性が著しく
向上するばかリでなく、ガラス、銅等の金属に対する密
着性、耐熱性、表面硬度等の諸性質も向上する。
Next, after the development processing, heating and curing are performed to form an insulating layer. In the resin composition for an insulating layer of the present invention, by performing heat treatment, not only is it possible to significantly improve the durability to strong alkaline water, but also to glass, adhesion to metals such as copper, heat resistance, and surface hardness. Etc. are also improved.

【0048】次に、絶縁層の表面を酸或いは酸化剤を用
いて粗面化した後、公知のアディティブ法又はセミアデ
ィティブ法にて導体配線層を形成する。
Next, after the surface of the insulating layer is roughened using an acid or an oxidizing agent, a conductive wiring layer is formed by a known additive method or semi-additive method.

【0049】以上の工程を所定回数繰り返すことにより
多層プリント配線板を作製することができる。
By repeating the above steps a predetermined number of times, a multilayer printed wiring board can be manufactured.

【0050】[0050]

【実施例】以下、実施例により本発明のを詳細に説明す
る。 <実施例1>ビスフェノールA型エポキシアクリレート
(リポキシVR−90、昭和高分子社製)と無水フタル
酸を反応せしめて得られる酸価約158(mgKOH/
g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ樹脂EHPE3
150(ダイセル化学社製)12重量部、脂環式エポキ
シ樹脂セロキサイド2021(ダイセル化学社製)5重
量部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリ
レート(商品名M100;ダイセル化学社製)13重量
部、シリカ微粉末15重量部、レベリング剤(ビックケ
ミー社製)1重量部、光ラジカル重合開始剤TPO(B
ASF社製)2重量部、光カチオン重合開始剤FX51
2(スリーM社製)2重量部及びプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート溶剤を加えて撹拌した
後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶液Aを作製し
た。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. <Example 1> An acid value of about 158 (mgKOH / mg) obtained by reacting bisphenol A type epoxy acrylate (Ripoxy VR-90, manufactured by Showa Kogyo Co., Ltd.) with phthalic anhydride
g) 50 parts by weight of ultraviolet resin, epoxy resin EHPE3
150 (manufactured by Daicel Chemical) 12 parts by weight, alicyclic epoxy resin celloxide 2021 (manufactured by Daicel Chemical) 5 parts by weight, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (trade name M100; manufactured by Daicel Chemical) 13 parts by weight, 15 parts by weight of a silica fine powder, 1 part by weight of a leveling agent (manufactured by BYK-Chemie), TPO (B
ASF) 2 parts by weight, photocationic polymerization initiator FX51
2 (manufactured by Three M) and propylene glycol monomethyl ether acetate solvent were added and stirred, and then kneaded with three rolls to prepare a photosensitive resin solution A.

【0051】次に、上記樹脂溶液Aをスロットコーター
を用いて、脱脂洗浄したガラスエポキシ基板に塗布して
乾燥した後、フォトマスクを通して150mJ/cm2
で密着露光し、有機アミン系のアルカリ現像液で30
℃、1分間現像し、未露光部を除去した。その後、乾燥
オーブンを用いて、100℃で1時間、更に200℃で
1時間加熱硬化して、40μm厚の絶縁層を形成した。
Next, the above resin solution A was applied to a degreased and washed glass epoxy substrate using a slot coater and dried, and then passed through a photomask to 150 mJ / cm 2.
Exposure with organic amine-based alkaline developer for 30 minutes
C., development was performed for 1 minute to remove unexposed portions. Thereafter, the resultant was heated and cured at 100 ° C. for 1 hour and further at 200 ° C. for 1 hour using a drying oven to form an insulating layer having a thickness of 40 μm.

【0052】絶縁層上にセミアディティブ法にて25μ
m厚の導体配線層を形成した。
25 μm on the insulating layer by the semi-additive method.
An m-thick conductor wiring layer was formed.

【0053】上記絶縁層及び導体配線層の形成工程を所
定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
The steps of forming the insulating layer and the conductor wiring layer were repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0054】<実施例2>ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約158
(mgKOH/g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)11重量
部、脂環式エポキシ樹脂セロキサイド2081(ダイセ
ル化学社製)7重量部、3,4−エポキシシシクロヘキ
シルメチルメタクリレート(商品名M100;ダイセル
化学社製)12重量部、シリカ微粉末15重量部、レベ
リング剤(ビックケミー社製)1重量部、光ラジカル重
合開始剤TPO(BASF社製)2重量部、光カチオン
重合開始剤FX512(スリーM社製)2重量部をプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤を
加えて撹拌した後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶
液Bを得た。
<Example 2> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Value obtained by reacting phthalic anhydride with phthalic anhydride
(MgKOH / g) 50 parts by weight of an ultraviolet resin, 11 parts by weight of an epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 7 parts by weight of an alicyclic epoxy resin celloxide 2081 (manufactured by Daicel Chemical), 3,4-epoxycyclohexylmethyl 12 parts by weight of methacrylate (trade name: M100; manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 15 parts by weight of silica fine powder, 1 part by weight of a leveling agent (manufactured by BYK Chemie), 2 parts by weight of photo-radical polymerization initiator TPO (manufactured by BASF), photocation 2 parts by weight of a polymerization initiator FX512 (manufactured by Three M Co.) was added with a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent, stirred, and kneaded with three rolls to obtain a photosensitive resin solution B.

【0055】次に、この絶脂溶液Bを用いて実施例1と
同様な方法で絶縁層及び導体配線層を形成し、この工程
を所定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
Next, using the degreasing solution B, an insulating layer and a conductor wiring layer were formed in the same manner as in Example 1, and this process was repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0056】<実施例3>ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約158
(mgKOH/g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)10重量
部、脂環式エポキシ樹脂セロキサイド2083(ダイセ
ル化学社製)10重量部、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチルメタクリレート(商品名M100;ダイセル
化学社製)10重量部、シリカ微粉末15重量部、レベ
リング剤(ビックケミー社製)1重量部、光ラジカル重
合開始剤TPO(BASF社製)2重量部、光カチオン
重合開始剤FX512(スリーM社製)2重量部をプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤を
加えて撹拌した後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶
液Cを得た。
<Example 3> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Value obtained by reacting phthalic anhydride with phthalic anhydride
(Mg KOH / g) 50 parts by weight of an ultraviolet resin, 10 parts by weight of an epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 10 parts by weight of an alicyclic epoxy resin celloxide 2083 (manufactured by Daicel Chemical), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate 10 parts by weight (trade name: M100, manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 15 parts by weight of silica fine powder, 1 part by weight of a leveling agent (manufactured by Big Chemie), 2 parts by weight of a photoradical polymerization initiator TPO (manufactured by BASF), photocationic polymerization 2 parts by weight of an initiator FX512 (manufactured by Three M) was added with a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent and stirred, and then kneaded with three rolls to obtain a photosensitive resin solution C.

【0057】次に、この樹脂溶液Cを用いて実施例1と
同様な方法で絶縁層及び導体配線層を形成し、この工程
を所定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
Next, using the resin solution C, an insulating layer and a conductor wiring layer were formed in the same manner as in Example 1, and this process was repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0058】<実施例4>ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約158
(mgKOH/g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)12重量
部、脂環式エポキシ樹脂エポリードGT301(ダイセ
ル化学社製)6重量部、3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチルメタクリレート(商品名M100;ダイセル化
学社製)12重量部、シリカ微粉末15重量部、レベリ
ング剤(ビックケミー社製)1重量部、光ラジカル重合
開始剤TPO(BASF社製)2重量部、光カチオン重
合開始剤FX512(スリーM社製)2重量部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤を加
えて撹拌した後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶液
Dを得た。
<Example 4> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Value obtained by reacting phthalic anhydride with phthalic anhydride
(MgKOH / g) 50 parts by weight of an ultraviolet resin, 12 parts by weight of an epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 6 parts by weight of an alicyclic epoxy resin Epode GT301 (manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Trade name: M100; Daicel Chemical Co., Ltd.) 12 parts by weight, silica fine powder 15 parts by weight, leveling agent (by Big Chemie) 1 part by weight, photoradical polymerization initiator TPO (by BASF) 2 parts by weight, photocationic polymerization 2 parts by weight of an initiator FX512 (manufactured by Three M) were added with a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent and stirred, and then kneaded with a three-roll mill to obtain a photosensitive resin solution D.

【0059】次に、この樹脂溶液Dを用いて実施例1と
同様な方法で絶縁層及び導体配線層を形成し、この工程
を所定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
Next, using the resin solution D, an insulating layer and a conductor wiring layer were formed in the same manner as in Example 1, and this process was repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0060】<実施例5>ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約158
(mgKOH/g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)11重量
部、脂環式エポキシ樹脂エポリードGT401(ダイセ
ル化学社製)7重量部、3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチルメタクリレート(商品名M100;ダイセル化
学社製)12重量部、シリカ微粉末15重量部、レベリ
ング剤(ビックケミー社製)1重量部、光ラジカル重合
開始剤TPO(BASF社製)2重量部、光カチオン重
合開始剤FX512(スリーM社製)2重量部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤を加
えて撹拌した後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶液
Eを得た。
<Example 5> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Value obtained by reacting phthalic anhydride with phthalic anhydride
(MgKOH / g) 50 parts by weight of an ultraviolet resin, 11 parts by weight of an epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 7 parts by weight of an alicyclic epoxy resin Epode GT401 (manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Trade name: M100; Daicel Chemical Co., Ltd.) 12 parts by weight, silica fine powder 15 parts by weight, leveling agent (by Big Chemie) 1 part by weight, photoradical polymerization initiator TPO (by BASF) 2 parts by weight, photocationic polymerization 2 parts by weight of an initiator FX512 (manufactured by Three M Co.) was added to a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent and stirred, and then kneaded with three rolls to obtain a photosensitive resin solution E.

【0061】次に、この樹脂溶液Eを用いて実施例1と
同様な方法で絶縁層及び導体配線層を形成し、この工程
を所定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
Next, using this resin solution E, an insulating layer and a conductor wiring layer were formed in the same manner as in Example 1, and this process was repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0062】<比較例1>ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約158
(mgKOH/g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)15重量
部、3,4−エポキシシクロヘキシルシシクロヘキシル
メチルメタクリレート(商品名M100;ダイセル化学
社製)15重量部、シリカ微粉末15重量部、レベリン
グ剤(ビックケミー社製)1重量部、光ラジカル重合開
始剤TPO(BASF社製)4重量部をプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート溶剤を加えて撹拌
した後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶液Fを得
た。
<Comparative Example 1> Bisphenol A type epoxy acrylate (Ripoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Value obtained by reacting phthalic anhydride with phthalic anhydride
(MgKOH / g) 50 parts by weight of an ultraviolet resin, 15 parts by weight of an epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 15 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylcycyclohexylmethyl methacrylate (trade name: M100; manufactured by Daicel Chemical), silica 15 parts by weight of a fine powder, 1 part by weight of a leveling agent (manufactured by BIC Chemie), and 4 parts by weight of a photo-radical polymerization initiator TPO (manufactured by BASF) are mixed with a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent, and then kneaded with a three-roll mill. Then, a photosensitive resin solution F was obtained.

【0063】次に、この樹脂溶液Fを用いて実施例1と
同様な方法で絶縁層及び導体配線層を形成し、この工程
を所定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
Next, using this resin solution F, an insulating layer and a conductive wiring layer were formed in the same manner as in Example 1, and this process was repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0064】<比較例2>ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約158
(mgKOH/g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)10重量
部、脂環式エポキシ樹脂セロキサイド2083(ダイセ
ル化学社製)10重量部、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチルメタクリレート(商品名M100;ダイセル
化学社製)10重量部、シリカ微粉末15重量部、レベ
リング剤(ビックケミー社製)1重量部、光ラジカル重
合開始剤TPO(BASF社製)4重量部をプロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤を加えて
撹拌した後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶液Gを
得た。
<Comparative Example 2> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Value obtained by reacting phthalic anhydride with phthalic anhydride
(Mg KOH / g) 50 parts by weight of an ultraviolet resin, 10 parts by weight of an epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 10 parts by weight of an alicyclic epoxy resin celloxide 2083 (manufactured by Daicel Chemical), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate 10 parts by weight (trade name: M100, manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 15 parts by weight of silica fine powder, 1 part by weight of a leveling agent (manufactured by BYK Chemie), 4 parts by weight of a photo-radical polymerization initiator TPO (manufactured by BASF), and propylene glycol monomethyl After adding and stirring an ether acetate solvent, the mixture was kneaded with three rolls to obtain a photosensitive resin solution G.

【0065】次に、この樹脂溶液Gを用いて実施例1と
同様な方法で絶縁層及び導体配線層を形成し、この工程
を所定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
Next, using this resin solution G, an insulating layer and a conductor wiring layer were formed in the same manner as in Example 1, and this process was repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0066】<比較例3>ビスフェノールA型エポキシ
アクリレート(リポキシVR−90、昭和高分子社製)
と無水フタル酸を反応せしめて得られる酸価約158
(mgKOH/g)の紫外線樹脂50重量部、エポキシ
樹脂EHPE3150(ダイセル化学社製)10重量
部、脂環式エポキシ樹脂セロキサイド2083(ダイセ
ル化学社製)10重量部、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチルメタクリレート(商品名M100;ダイセル
化学社製)10重量部、シリカ微粉末15重量部、レベ
リング剤(ビックケミー社製)1重量部、光カチオン重
合開始剤FX512(スリーM社製)4重量部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤を加
えて撹拌した後、3本ロールで混練し感光性の樹脂溶液
Hを得た。
<Comparative Example 3> Bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.)
Value obtained by reacting phthalic anhydride with phthalic anhydride
(Mg KOH / g) 50 parts by weight of an ultraviolet resin, 10 parts by weight of an epoxy resin EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical), 10 parts by weight of an alicyclic epoxy resin celloxide 2083 (manufactured by Daicel Chemical), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate 10 parts by weight (trade name: M100, manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 15 parts by weight of silica fine powder, 1 part by weight of a leveling agent (manufactured by Big Chemie), and 4 parts by weight of photocationic polymerization initiator FX512 (manufactured by Three M) are propylene glycol. After adding and stirring a monomethyl ether acetate solvent, the mixture was kneaded with three rolls to obtain a photosensitive resin solution H.

【0067】次に、この樹脂溶液Hを用いて実施例1と
同様な方法で絶縁層及び導体配線層を形成し、この工程
を所定回数繰り返して、多層プリント配線板を得た。
Next, using this resin solution H, an insulating layer and a conductor wiring layer were formed in the same manner as in Example 1, and this process was repeated a predetermined number of times to obtain a multilayer printed wiring board.

【0068】上記の実施例及び比較例で得られた多層プ
リント配線板の絶縁層と導体配線層を形成している無電
解めっき膜との接着強度をJIS-C-6481の方法で測定した
結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定装置によるガ
ラス転移温度の測定も同時に行った。
The results of measuring the adhesion strength between the insulating layer of the multilayer printed wiring board obtained in the above Examples and Comparative Examples and the electroless plating film forming the conductor wiring layer by the method of JIS-C-6481. Are shown in Table 1. The measurement of the glass transition temperature by a dynamic viscoelasticity measuring device was also performed at the same time.

【0069】[0069]

【表1】 [Table 1]

【0070】表1の結果から明らかなように、実施例1
〜5は優れたピール強度及び耐熱性が得られたが、比較
例1及び比較例2では、耐熱性は十分なものの、ピール
強度が低く、導体配線層を信頼性よく形成させることが
困難であった。また、比較例3ではピール強度は十分な
ものの、耐熱性が低く材料の信頼性に欠けるものとなっ
た。
As is clear from the results in Table 1, Example 1
In Comparative Examples 1 and 2, the peel strength was sufficient, but the peel strength was low, and it was difficult to form the conductor wiring layer with high reliability. there were. In Comparative Example 3, the peel strength was sufficient, but the heat resistance was low and the material lacked reliability.

【0071】以上の結果より、本発明の絶縁層用樹脂組
成物を使用することにより、無電解めっき膜との接着性
に優れ、且つ耐熱性を有する絶縁層を形成できることが
確認できた。
From the above results, it was confirmed that by using the resin composition for an insulating layer of the present invention, an insulating layer having excellent adhesion to an electroless plating film and having heat resistance can be formed.

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明の絶縁層用樹脂組成物を使用する
ことにより、無電解めっき膜との接着性に優れ、且つ耐
熱性を有する絶縁層を形成でき、信頼性のある多層プリ
ント配線板を容易に、且つ安価に提供することが可能と
なる。
EFFECT OF THE INVENTION By using the resin composition for an insulating layer of the present invention, an insulating layer having excellent adhesion to an electroless plating film and heat resistance can be formed, and a reliable multilayer printed wiring board can be formed. Can be easily and inexpensively provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡邉 卓三 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA10 AA14 AA20 AB15 AC01 AD01 BC64 BC74 BC83 BE00 BE07 CA01 CA18 CA31 CC03 CC08 CC20 FA17 FA29 4J036 AA01 AA02 AA06 AB17 AC18 AD01 AD07 AD08 AD21 AF06 AF08 AJ02 AJ03 AJ08 AJ09 AK19 CA20 CA21 CB08 CB15 EA04 FA01 FA02 FA04 FA05 FA06 FA11 FB02 FB09 FB14 GA07 GA22 GA24 GA25 GA29 HA02 JA08 KA03 5E346 AA12 CC09 DD03 DD22 DD33 EE31 GG02 GG17 GG19 HH11 HH18  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takuzo Watanabe 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA00 AA10 AA14 AA20 AB15 AC01 AD01 BC64 BC74 BC83 BE00 BE07 CA01 CA18 CA31 CC03 CC08 CC20 FA17 FA29 4J036 AA01 AA02 AA06 AB17 AC18 AD01 AD07 AD08 AD21 AF06 AF08 AJ02 AJ03 AJ08 AJ09 AK19 CA20 CA21 CB08 CB15 EA04 FA01 FA02 FA04 FA05 FA06 FA11 FB02 FB09 GA03 GA03 GA03 GA24 GA03 GA24 DD22 DD33 EE31 GG02 GG17 GG19 HH11 HH18

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ビスフェノール型エポキシ化合物と不飽和
モノカルボン酸との反応物と飽和又は不飽和多塩基酸無
水物とを反応せしめて得られる紫外線硬化性樹脂(A)
と、多官能エポキシ類化合物(B)と、脂環式エポキシ
基を2個以上有するエポキシ類化合物(C)と、分子内
に(メタ)アクリル基とエポキシ基とを有するエポキシ
類化合物(D)と、光ラジカル重合開始剤(E)と、光
カチオン重合開始剤(F)と、フィラー(G)と、希釈
剤(H)とからなることを特徴とする絶縁層用樹脂組成
物。
An ultraviolet curable resin (A) obtained by reacting a reaction product of a bisphenol type epoxy compound with an unsaturated monocarboxylic acid with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride.
, A polyfunctional epoxy compound (B), an epoxy compound (C) having two or more alicyclic epoxy groups, and an epoxy compound (D) having a (meth) acryl group and an epoxy group in a molecule. And a photoradical polymerization initiator (E), a photocationic polymerization initiator (F), a filler (G), and a diluent (H).
【請求項2】前記脂環式エポキシ基を2個以上有する前
記エポキシ類化合物(C)が3,4−エポキシシクロヘ
キシル基もしくは3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル基を有することを特徴とする請求項1記載の絶縁層用
樹脂組成物。
2. The epoxy compound (C) having two or more alicyclic epoxy groups has a 3,4-epoxycyclohexyl group or a 3,4-epoxycyclohexylmethyl group. The resin composition for an insulating layer according to the above.
【請求項3】分子内に(メタ)アクリル基とエポキシ基
とを有する前記エポキシ類化合物(D)が3,4−エポ
キシシクロヘキシルメチル基を有するアクリレートもし
くはメタクリレートであることを特徴とする請求項1又
は2に記載の絶縁層用樹脂組成物。
3. The epoxy compound (D) having a (meth) acryl group and an epoxy group in the molecule is an acrylate or methacrylate having a 3,4-epoxycyclohexylmethyl group. Or the resin composition for an insulating layer according to 2.
【請求項4】前記多官能エポキシ類化合物(B)が化学
式1に示す構造であることを特徴とする請求項1乃至3
のいずれか1項に記載の絶縁層用樹脂組成物。 【化1】
4. The polyfunctional epoxy compound (B) has a structure represented by the following chemical formula 1.
The resin composition for an insulating layer according to any one of the above. Embedded image
【請求項5】前記紫外線硬化性樹脂(A)、前記多官能
エポキシ類化合物(B)、前記エポキシ類化合物(C)
及び前記エポキシ類化合物(D)の合計量100重量部
に対して前記光ラジカル重合開始剤(E)が0.1〜2
0.0重量部及び前記光カチオン重合開始剤(F)が
0.1〜20.0重量部含まれていることを特徴とする
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の絶縁層用樹脂組
成物。
5. The ultraviolet-curable resin (A), the polyfunctional epoxy compound (B), and the epoxy compound (C)
And the photo-radical polymerization initiator (E) is 0.1 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy compound (D).
5. The insulating layer according to claim 1, wherein the photocationic polymerization initiator (F) is included in an amount of 0.1 to 20.0 parts by weight. 6. Resin composition.
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