JPH11214287A - マーク検出方法、マーク検出装置、露光方法、露光装置、および、マーク検出プログラムを記録した記録媒体 - Google Patents
マーク検出方法、マーク検出装置、露光方法、露光装置、および、マーク検出プログラムを記録した記録媒体Info
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- JPH11214287A JPH11214287A JP10016200A JP1620098A JPH11214287A JP H11214287 A JPH11214287 A JP H11214287A JP 10016200 A JP10016200 A JP 10016200A JP 1620098 A JP1620098 A JP 1620098A JP H11214287 A JPH11214287 A JP H11214287A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10016200A JPH11214287A (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | マーク検出方法、マーク検出装置、露光方法、露光装置、および、マーク検出プログラムを記録した記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10016200A JPH11214287A (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | マーク検出方法、マーク検出装置、露光方法、露光装置、および、マーク検出プログラムを記録した記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11214287A true JPH11214287A (ja) | 1999-08-06 |
| JPH11214287A5 JPH11214287A5 (enExample) | 2005-08-18 |
Family
ID=11909877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10016200A Withdrawn JPH11214287A (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | マーク検出方法、マーク検出装置、露光方法、露光装置、および、マーク検出プログラムを記録した記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11214287A (enExample) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN114253095A (zh) * | 2020-09-23 | 2022-03-29 | 株式会社斯库林集团 | 基板位置检测方法、描绘方法、基板位置检测装置及描绘装置 |
-
1998
- 1998-01-28 JP JP10016200A patent/JPH11214287A/ja not_active Withdrawn
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