JPH11211352A - 雰囲気熱処理炉 - Google Patents
雰囲気熱処理炉Info
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- JPH11211352A JPH11211352A JP3426398A JP3426398A JPH11211352A JP H11211352 A JPH11211352 A JP H11211352A JP 3426398 A JP3426398 A JP 3426398A JP 3426398 A JP3426398 A JP 3426398A JP H11211352 A JPH11211352 A JP H11211352A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属処理品を炉内にて移動させ熱処理する雰
囲気熱処理炉であって、その雰囲気ガスを節約し得るよ
うにし、ランニングコストを軽減させる。 【解決手段】 金属処理品２を開閉扉１０によって仕切
られた低温度室１４から高温度室１または高温度室１か
ら低温度室４に移動させるとともに、該高温度室１に供
給した雰囲気ガスを該低温度室を経て排出させるように
した雰囲気熱処理炉において、高温度室に炉圧センサ３
０を設け、低温度室には該炉圧センサによって作動する
電磁排気バルブ３２，３３を設け該低温度室内の雰囲気
ガスを該電磁排気バルブより排出させる。
囲気熱処理炉であって、その雰囲気ガスを節約し得るよ
うにし、ランニングコストを軽減させる。 【解決手段】 金属処理品２を開閉扉１０によって仕切
られた低温度室１４から高温度室１または高温度室１か
ら低温度室４に移動させるとともに、該高温度室１に供
給した雰囲気ガスを該低温度室を経て排出させるように
した雰囲気熱処理炉において、高温度室に炉圧センサ３
０を設け、低温度室には該炉圧センサによって作動する
電磁排気バルブ３２，３３を設け該低温度室内の雰囲気
ガスを該電磁排気バルブより排出させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属処理品を炉内
にて移動させ熱処理する雰囲気熱処理炉に関するもので
ある。
にて移動させ熱処理する雰囲気熱処理炉に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】図４に金属処理品を炉内にて移動させ熱
処理する従来の雰囲気熱処理炉の一例を示す。同図にお
いて、１は金属処理品２を加熱するために設けられた高
温度室、３はその加熱用ヒータ、４は金属処理品２を冷
却するために設けられた低温度室、５はその冷却用ファ
ン、６は両室間を仕切している開閉扉、７は該開閉扉６
を昇降動させるシリンダ、８は高温度室１にＮ2等の雰
囲気ガスを供給する給ガス管、９はそのガス供給バルブ
である。
処理する従来の雰囲気熱処理炉の一例を示す。同図にお
いて、１は金属処理品２を加熱するために設けられた高
温度室、３はその加熱用ヒータ、４は金属処理品２を冷
却するために設けられた低温度室、５はその冷却用ファ
ン、６は両室間を仕切している開閉扉、７は該開閉扉６
を昇降動させるシリンダ、８は高温度室１にＮ2等の雰
囲気ガスを供給する給ガス管、９はそのガス供給バルブ
である。
【０００３】また、１０は該高温度室１の装入口に設け
られた開閉扉、１１は装入側真空パージ室、１２，１３
は該真空パージ室に設けられた気密性の開閉蓋、１４は
該開閉扉１０および開閉蓋１３を収容している扉室、１
５は該開閉扉１０および開閉蓋１３を扉室１４内にて昇
降動させるシリンダ、１６は該扉室１４に設けられた排
気管、１７は該排気管に設けられた重り閉弁式のリリー
フ弁、１８は装入テーブルである。また、２０は低温度
室４の抽出口に設けられた開閉扉、２１は抽出側真空パ
ージ室、２２，２３は該真空パージ室２１に設けられた
気密性の開閉蓋、２４は該開閉扉２０および開閉蓋２２
を収容している扉室、２５は該開閉扉２０および開閉蓋
２３を扉室２４内にて昇降動させるシリンダ、２６は該
扉室２４に設けられた排気管、２７は該排気管に設けら
れた重り閉弁式のリリーフ弁、２８は抽出テーブルであ
る。
られた開閉扉、１１は装入側真空パージ室、１２，１３
は該真空パージ室に設けられた気密性の開閉蓋、１４は
該開閉扉１０および開閉蓋１３を収容している扉室、１
５は該開閉扉１０および開閉蓋１３を扉室１４内にて昇
降動させるシリンダ、１６は該扉室１４に設けられた排
気管、１７は該排気管に設けられた重り閉弁式のリリー
フ弁、１８は装入テーブルである。また、２０は低温度
室４の抽出口に設けられた開閉扉、２１は抽出側真空パ
ージ室、２２，２３は該真空パージ室２１に設けられた
気密性の開閉蓋、２４は該開閉扉２０および開閉蓋２２
を収容している扉室、２５は該開閉扉２０および開閉蓋
２３を扉室２４内にて昇降動させるシリンダ、２６は該
扉室２４に設けられた排気管、２７は該排気管に設けら
れた重り閉弁式のリリーフ弁、２８は抽出テーブルであ
る。
【０００４】真空パージ室１１に装入された金属処理品
２は、開閉扉１０および開閉蓋１３を開けることによっ
て該真空パージ室１１から高温度室１に移動され、雰囲
気ガスの基で所定の高温度に加熱された後、さらに開閉
扉６を開けることによって低温度室４に移動され所定温
度に冷却される。そして該金属処理品２は開閉扉２０お
よび開閉蓋２３を開けることにより真空パージ室２１に
移動される。高温度室１には給ガス管８から常に雰囲気
ガスが供給され、その雰囲気ガスは開閉扉６，開閉扉１
０の隙間を通ってそれぞれ隣接する低温度室４および扉
室１４に流入する。このように雰囲気ガスは常に高温部
から低温部に流れリリーフ弁１７，２７等から排出され
るようにすることで、炉壁内面等から気散したＯ2，Ｈ2
Ｏ等の酸化性ガスや汚染ガスが高温部にて金属処理品２
になるべく接触しないようにし、その酸化等が防がれる
ようにしている。
２は、開閉扉１０および開閉蓋１３を開けることによっ
て該真空パージ室１１から高温度室１に移動され、雰囲
気ガスの基で所定の高温度に加熱された後、さらに開閉
扉６を開けることによって低温度室４に移動され所定温
度に冷却される。そして該金属処理品２は開閉扉２０お
よび開閉蓋２３を開けることにより真空パージ室２１に
移動される。高温度室１には給ガス管８から常に雰囲気
ガスが供給され、その雰囲気ガスは開閉扉６，開閉扉１
０の隙間を通ってそれぞれ隣接する低温度室４および扉
室１４に流入する。このように雰囲気ガスは常に高温部
から低温部に流れリリーフ弁１７，２７等から排出され
るようにすることで、炉壁内面等から気散したＯ2，Ｈ2
Ｏ等の酸化性ガスや汚染ガスが高温部にて金属処理品２
になるべく接触しないようにし、その酸化等が防がれる
ようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
構成された従来の雰囲気熱処理炉では、開閉扉１０およ
び開閉蓋１３を開けて金属処理品２を真空パージ室１１
から高温度室１に移動させる際は、扉室１４が高温度室
１からの輻射熱により温度上昇し該扉室１４中のガスが
熱膨張するために該扉室内のガス圧力が一時的に上昇し
リリーフ弁１７が開かれて大量の雰囲気ガスが排出され
ていた。そして開閉扉１０および開閉蓋１３を閉じた後
は、該扉室１４内の温度が高かった雰囲気ガスが冷える
ことによって収縮しそのガス圧力は急に下がる。そのと
きリリーフ弁１７は外気が扉室１４に浸入するのを防ぐ
が、実際上はこのリリーフ弁１７は重り閉弁式のもので
あって高度な負圧に耐えられないので、扉室１４が負圧
にならないように給ガス管８からの雰囲気ガスの供給量
を一時的に増大させる必要があった。
構成された従来の雰囲気熱処理炉では、開閉扉１０およ
び開閉蓋１３を開けて金属処理品２を真空パージ室１１
から高温度室１に移動させる際は、扉室１４が高温度室
１からの輻射熱により温度上昇し該扉室１４中のガスが
熱膨張するために該扉室内のガス圧力が一時的に上昇し
リリーフ弁１７が開かれて大量の雰囲気ガスが排出され
ていた。そして開閉扉１０および開閉蓋１３を閉じた後
は、該扉室１４内の温度が高かった雰囲気ガスが冷える
ことによって収縮しそのガス圧力は急に下がる。そのと
きリリーフ弁１７は外気が扉室１４に浸入するのを防ぐ
が、実際上はこのリリーフ弁１７は重り閉弁式のもので
あって高度な負圧に耐えられないので、扉室１４が負圧
にならないように給ガス管８からの雰囲気ガスの供給量
を一時的に増大させる必要があった。
【０００６】また、開閉扉６を開けて金属処理品２を高
温度室１から低温度室４に移動させる際には、低温度室
４内の雰囲気ガスが熱膨張し、該低温度室４および扉室
２４内のガス圧力が一時的に上昇するためリリーフ弁２
７が開かれて大量の雰囲気ガスが排出されている。そし
て開閉扉６を閉じた後は、該低温度室４および扉室２４
内の雰囲気ガスが急冷することによってそのガス圧力が
下がるので、その際も給ガス管８からの雰囲気ガスの供
給量を増大させる必要があった。
温度室１から低温度室４に移動させる際には、低温度室
４内の雰囲気ガスが熱膨張し、該低温度室４および扉室
２４内のガス圧力が一時的に上昇するためリリーフ弁２
７が開かれて大量の雰囲気ガスが排出されている。そし
て開閉扉６を閉じた後は、該低温度室４および扉室２４
内の雰囲気ガスが急冷することによってそのガス圧力が
下がるので、その際も給ガス管８からの雰囲気ガスの供
給量を増大させる必要があった。
【０００７】このように従来の雰囲気熱処理炉では金属
処理品２を移動させる際に高価な雰囲気ガスを大量にそ
の高温度室側へ供給する必要があり、このためにランニ
ングコストが高くなるという問題があった。
処理品２を移動させる際に高価な雰囲気ガスを大量にそ
の高温度室側へ供給する必要があり、このためにランニ
ングコストが高くなるという問題があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで本発明は、雰囲気
ガスを節約し得る雰囲気熱処理炉を提供しようとするも
のである。そのために本発明は、金属処理品を開閉扉に
よって仕切られた低温度室から高温度室または高温度室
から低温度室に移動させるとともに、該高温度室に供給
した雰囲気ガスを該低温度室を経て排出させるようにし
た雰囲気熱処理炉において、高温度室または低温度室に
炉圧センサを設け、低温度室には該炉圧センサによって
作動する電磁排気バルブを設け該低温度室内の雰囲気ガ
スを該電磁排気バルブより排出させるようにしたことを
特徴とする。また本発明は上記雰囲気熱処理炉におい
て、低温度室は扉室であることを特徴とする。また本発
明は上記雰囲気熱処理炉において、高温度室に炉圧セン
サによって作動する電磁排気バルブを設け該高温度室の
雰囲気ガスを直接排出し得るようにしたことを特徴とす
る。また本発明は上記雰囲気熱処理炉において、高温度
室に雰囲気ガスを予熱して供給することを特徴とする。
ガスを節約し得る雰囲気熱処理炉を提供しようとするも
のである。そのために本発明は、金属処理品を開閉扉に
よって仕切られた低温度室から高温度室または高温度室
から低温度室に移動させるとともに、該高温度室に供給
した雰囲気ガスを該低温度室を経て排出させるようにし
た雰囲気熱処理炉において、高温度室または低温度室に
炉圧センサを設け、低温度室には該炉圧センサによって
作動する電磁排気バルブを設け該低温度室内の雰囲気ガ
スを該電磁排気バルブより排出させるようにしたことを
特徴とする。また本発明は上記雰囲気熱処理炉におい
て、低温度室は扉室であることを特徴とする。また本発
明は上記雰囲気熱処理炉において、高温度室に炉圧セン
サによって作動する電磁排気バルブを設け該高温度室の
雰囲気ガスを直接排出し得るようにしたことを特徴とす
る。また本発明は上記雰囲気熱処理炉において、高温度
室に雰囲気ガスを予熱して供給することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に図１〜図３に従い本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の第１の実施形態で
ある雰囲気熱処理炉の縦断面図で、同図中、図４と同一
符号は同一部分を示す。即ち、１は高温度室、２は金属
処理品、３は加熱用ヒータ、４は低温度室、５は冷却用
ファン、６は開閉扉、７はシリンダ、８は給ガス管、９
はガス供給バルブ、１０は開閉扉、１１は装入側真空パ
ージ室、１２，１３は開閉蓋、１４は扉室、１５はシリ
ンダ、１６は排気管、１７はリリーフ弁、１８は装入テ
ーブル、２０は開閉扉、２１は抽出側真空パージ室、２
２，２３は開閉蓋、２４は扉室、２５はシリンダ、２６
は排気管、２７はリリーフ弁、２８は抽出テーブルであ
る。
施の形態を説明する。図１は本発明の第１の実施形態で
ある雰囲気熱処理炉の縦断面図で、同図中、図４と同一
符号は同一部分を示す。即ち、１は高温度室、２は金属
処理品、３は加熱用ヒータ、４は低温度室、５は冷却用
ファン、６は開閉扉、７はシリンダ、８は給ガス管、９
はガス供給バルブ、１０は開閉扉、１１は装入側真空パ
ージ室、１２，１３は開閉蓋、１４は扉室、１５はシリ
ンダ、１６は排気管、１７はリリーフ弁、１８は装入テ
ーブル、２０は開閉扉、２１は抽出側真空パージ室、２
２，２３は開閉蓋、２４は扉室、２５はシリンダ、２６
は排気管、２７はリリーフ弁、２８は抽出テーブルであ
る。
【００１０】この実施形態では、高温度室１に炉圧セン
サ３０を設け、該炉圧センサ３０の信号をコントローラ
３１に入力させるとともに、扉室１４の排気管１６およ
び扉室２４の排気管２６にそれぞれ該コントローラ３１
から出力される電気信号によって作動する電磁排気バル
ブ３２，３３を設ける。また３４は高温度室１に設けた
排気管で、該排気管にもコントローラ３１からの電気信
号によって作動する電磁排気バルブ３５を設けている。
サ３０を設け、該炉圧センサ３０の信号をコントローラ
３１に入力させるとともに、扉室１４の排気管１６およ
び扉室２４の排気管２６にそれぞれ該コントローラ３１
から出力される電気信号によって作動する電磁排気バル
ブ３２，３３を設ける。また３４は高温度室１に設けた
排気管で、該排気管にもコントローラ３１からの電気信
号によって作動する電磁排気バルブ３５を設けている。
【００１１】また３６は給ガス管８により高温度室１に
供給する雰囲気ガスを予熱するために設けられたヒータ
である。なお、ヒータ３６に関しては、図２に示したよ
うに、炉壁に該高温度室１内の輻射熱により高温度とな
り得る通気性固体３７を設け、給ガス管８を該通気性固
体３７の部位に接続し、雰囲気ガスが該通気性固体３７
を通過して高温度室１内に供給されるようにすること
で、該雰囲気ガスが予熱されるようにしてもよい。
供給する雰囲気ガスを予熱するために設けられたヒータ
である。なお、ヒータ３６に関しては、図２に示したよ
うに、炉壁に該高温度室１内の輻射熱により高温度とな
り得る通気性固体３７を設け、給ガス管８を該通気性固
体３７の部位に接続し、雰囲気ガスが該通気性固体３７
を通過して高温度室１内に供給されるようにすること
で、該雰囲気ガスが予熱されるようにしてもよい。
【００１２】しかしてこの雰囲気熱処理炉では、常態で
はガス供給バルブ９を開けて高温度室１にＮ2 等の雰囲
気ガスを常時一定流量供給するとともに、電磁排気バル
ブ３２，３３は開状態とし、電磁排気バルブ３５は閉状
態とすることにより、高温度室１に供給された雰囲気ガ
スが一方は扉室１４を通って排気管１６より排出され、
他方は低温度室４に流れるようにする。また開閉扉１０
および開閉蓋１３を開けて金属処理品２を真空パージ室
１１から高温度室１に移動させる際は、コントローラ３
１からの電気信号によって電磁排気バルブ３５を開作動
させ、高温度室１内の雰囲気ガスが排気管３４に直接排
出されるようにし、該高温度室１の圧力上昇を防ぐこと
により扉室１４に雰囲気ガスが多量に流れ込むことがな
いようにする。即ち、炉圧センサ３０により高温度室１
内の雰囲気ガス圧力を検出し一定圧力以上になった場
合、電磁排気バルブ３５を開かしめることにより高温度
室１の圧力上昇を防ぐ。
はガス供給バルブ９を開けて高温度室１にＮ2 等の雰囲
気ガスを常時一定流量供給するとともに、電磁排気バル
ブ３２，３３は開状態とし、電磁排気バルブ３５は閉状
態とすることにより、高温度室１に供給された雰囲気ガ
スが一方は扉室１４を通って排気管１６より排出され、
他方は低温度室４に流れるようにする。また開閉扉１０
および開閉蓋１３を開けて金属処理品２を真空パージ室
１１から高温度室１に移動させる際は、コントローラ３
１からの電気信号によって電磁排気バルブ３５を開作動
させ、高温度室１内の雰囲気ガスが排気管３４に直接排
出されるようにし、該高温度室１の圧力上昇を防ぐこと
により扉室１４に雰囲気ガスが多量に流れ込むことがな
いようにする。即ち、炉圧センサ３０により高温度室１
内の雰囲気ガス圧力を検出し一定圧力以上になった場
合、電磁排気バルブ３５を開かしめることにより高温度
室１の圧力上昇を防ぐ。
【００１３】また、金属処理品２を真空パージ室１１か
ら高温度室１に移動させ開閉扉１０を閉じた後では、コ
ントローラ３１からの電気信号によって電磁排気バルブ
３２および電磁排気バルブ３５を閉じ、扉室１４内の雰
囲気ガスが冷えて圧力が下がっても外気が侵入すること
のないようにすると同時に高温度室１から雰囲気ガスが
流れ込むことで該扉室１４の圧力が大きく大気圧以下に
下がるようなことのないようにする。このように開閉扉
１０を閉じた後は、電磁排気バルブ３２を閉じ扉室１４
に外気が侵入するおそれがないようにし、かつ電磁排気
バルブ３２を閉じて高温度室１から扉室１４に雰囲気ガ
スが流れ易いようにすることで、雰囲気ガスの所要量を
大幅に節減できる。ちなみに、従来では開閉扉１０を閉
じた後では扉室１４内の気圧を２０mmＡｑのプラス圧に
保つため、雰囲気ガスの供給量を一時的に３ｍ3／ｈか
ら２０ｍ3／ｈに増大する必要性があったものを、本発
明では常態と同じ３ｍ3／ｈのままでも何等支障がな
い。
ら高温度室１に移動させ開閉扉１０を閉じた後では、コ
ントローラ３１からの電気信号によって電磁排気バルブ
３２および電磁排気バルブ３５を閉じ、扉室１４内の雰
囲気ガスが冷えて圧力が下がっても外気が侵入すること
のないようにすると同時に高温度室１から雰囲気ガスが
流れ込むことで該扉室１４の圧力が大きく大気圧以下に
下がるようなことのないようにする。このように開閉扉
１０を閉じた後は、電磁排気バルブ３２を閉じ扉室１４
に外気が侵入するおそれがないようにし、かつ電磁排気
バルブ３２を閉じて高温度室１から扉室１４に雰囲気ガ
スが流れ易いようにすることで、雰囲気ガスの所要量を
大幅に節減できる。ちなみに、従来では開閉扉１０を閉
じた後では扉室１４内の気圧を２０mmＡｑのプラス圧に
保つため、雰囲気ガスの供給量を一時的に３ｍ3／ｈか
ら２０ｍ3／ｈに増大する必要性があったものを、本発
明では常態と同じ３ｍ3／ｈのままでも何等支障がな
い。
【００１４】なお、この実施形態では、開閉扉６を開け
て高温度室１の金属処理品２を低温度室４に移動させる
に際して、或いは、低温度室４の金属処理品２を開閉扉
２０，開閉蓋２２を開けて抽出側真空パージ室２１に移
動させるに際しても、コントローラ３１からの指令によ
り電磁排気バルブ３３を開閉作動させることにより扉室
１４の場合と同様に少ない雰囲気ガス量でも扉室２４に
外気が侵入するのを防ぐことができる。即ち、本発明は
高温度室１と扉室１４との関係だけでなく、高温度室１
と低温度室４または扉室２４との関係においても同様に
成立する。さらに、この実施形態のように排気管１６は
雰囲気ガスが淀みやすい場所に設けるのが好ましい。こ
うすることにより炉壁内面等から気散したＯ2 ，Ｈ2 Ｏ
等の酸化性ガスや汚染ガスの淀みが少なくなり、淀んだ
酸化性ガスや汚染ガスが熱処理炉内に拡散して炉内雰囲
気を汚染するのを防止することができるからである。雰
囲気ガスが淀みやすい場所としてはこの実施形態のよう
な扉室の上方の他に低温度室の角部等があげられる。
て高温度室１の金属処理品２を低温度室４に移動させる
に際して、或いは、低温度室４の金属処理品２を開閉扉
２０，開閉蓋２２を開けて抽出側真空パージ室２１に移
動させるに際しても、コントローラ３１からの指令によ
り電磁排気バルブ３３を開閉作動させることにより扉室
１４の場合と同様に少ない雰囲気ガス量でも扉室２４に
外気が侵入するのを防ぐことができる。即ち、本発明は
高温度室１と扉室１４との関係だけでなく、高温度室１
と低温度室４または扉室２４との関係においても同様に
成立する。さらに、この実施形態のように排気管１６は
雰囲気ガスが淀みやすい場所に設けるのが好ましい。こ
うすることにより炉壁内面等から気散したＯ2 ，Ｈ2 Ｏ
等の酸化性ガスや汚染ガスの淀みが少なくなり、淀んだ
酸化性ガスや汚染ガスが熱処理炉内に拡散して炉内雰囲
気を汚染するのを防止することができるからである。雰
囲気ガスが淀みやすい場所としてはこの実施形態のよう
な扉室の上方の他に低温度室の角部等があげられる。
【００１５】また、本発明の第２の実施形態として図３
に示した雰囲気熱処理炉は、高温度室１と開閉扉６を介
して隣り合う低温度室４に設けられた排気管２６にコン
トローラ３１から出力される電気信号によって作動する
電磁排気バルブ３３を設け、常態ではガス供給バルブ９
を開けて高温度室１にＮ2等の雰囲気ガスを常時一定流
量供給し、該電磁排気バルブ３３を開状態とし、電磁排
気バルブ３５は閉状態とし、高温度室１に供給された雰
囲気ガスが低温度室４を通り排気管２６より排出される
ようにするとともに、開閉扉６を開けて金属処理品２を
低温度室４に移動させる際は、コントローラ３１からの
電気信号によって電磁排気バルブ３５を開作動させ高温
度室１内の雰囲気ガスを排気管３４より直接排出される
ようにし、該高温度室１の圧力上昇を防ぎ、低温度室４
に雰囲気ガスが多量に流れ込むことがないようにしてい
る。また、開閉扉６を閉じた後では、コントローラ３１
からの電気信号によって電磁排気バルブ３３および電磁
排気バルブ３５を閉じ、低温度室４内の雰囲気ガスが冷
えて圧力が下がっても外気が侵入することのないように
すると同時に高温度室１から雰囲気ガスが流れ込むこと
で、該低温度室４の圧力が大きく大気圧以下に下がるよ
うなことのないようにしている。こうすることで同様に
雰囲気ガスの所要量を大幅に節減できる。なお、図３
中、図１と同一符号は同一部分を示すのでその説明は割
愛する。
に示した雰囲気熱処理炉は、高温度室１と開閉扉６を介
して隣り合う低温度室４に設けられた排気管２６にコン
トローラ３１から出力される電気信号によって作動する
電磁排気バルブ３３を設け、常態ではガス供給バルブ９
を開けて高温度室１にＮ2等の雰囲気ガスを常時一定流
量供給し、該電磁排気バルブ３３を開状態とし、電磁排
気バルブ３５は閉状態とし、高温度室１に供給された雰
囲気ガスが低温度室４を通り排気管２６より排出される
ようにするとともに、開閉扉６を開けて金属処理品２を
低温度室４に移動させる際は、コントローラ３１からの
電気信号によって電磁排気バルブ３５を開作動させ高温
度室１内の雰囲気ガスを排気管３４より直接排出される
ようにし、該高温度室１の圧力上昇を防ぎ、低温度室４
に雰囲気ガスが多量に流れ込むことがないようにしてい
る。また、開閉扉６を閉じた後では、コントローラ３１
からの電気信号によって電磁排気バルブ３３および電磁
排気バルブ３５を閉じ、低温度室４内の雰囲気ガスが冷
えて圧力が下がっても外気が侵入することのないように
すると同時に高温度室１から雰囲気ガスが流れ込むこと
で、該低温度室４の圧力が大きく大気圧以下に下がるよ
うなことのないようにしている。こうすることで同様に
雰囲気ガスの所要量を大幅に節減できる。なお、図３
中、図１と同一符号は同一部分を示すのでその説明は割
愛する。
【００１６】
【発明の効果】このように本発明の雰囲気熱処理炉は、
金属処理品を開閉扉によって仕切られた低温度室から高
温度室または高温度室から低温度室に移動させるに際
し、低温度室に設けられた電磁排気バルブによってその
雰囲気ガスを排出させた後、閉止させ、雰囲気ガスを無
駄なく使用できるようにしたので、雰囲気ガスの所要量
が大幅に節減できランニングコストを軽減させる有益な
効果がある。
金属処理品を開閉扉によって仕切られた低温度室から高
温度室または高温度室から低温度室に移動させるに際
し、低温度室に設けられた電磁排気バルブによってその
雰囲気ガスを排出させた後、閉止させ、雰囲気ガスを無
駄なく使用できるようにしたので、雰囲気ガスの所要量
が大幅に節減できランニングコストを軽減させる有益な
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態を示す雰囲気熱処理炉
の縦断面図。
の縦断面図。
【図２】図１の雰囲気熱処理炉の雰囲気ガス供給口の拡
大断面図。
大断面図。
【図３】本発明の第２の実施形態を示す雰囲気熱処理炉
の縦断面図。
の縦断面図。
【図４】従来の雰囲気熱処理炉の縦断面図。
１ 高温度室 ２ 金属処理品 ４ 低温度室 ６ 開閉扉 ８ 給ガス管 ９ ガス供給バルブ １０ 開閉扉 １１ 装入側真空パージ室 １４ 扉室 １６ 排気管 １７ リリーフ弁 ２０ 開閉扉 ２１ 抽出側真空パージ室 ２４ 扉室 ２６ 排気管 ２７ リリーフ弁 ３０ 炉圧センサ ３１ コントローラ ３２，３３ 電磁排気バルブ ３４ 排気管 ３５ 電磁排気バルブ ３６ ヒータ ３７ 通気性固体
Claims (4)
- 【請求項１】 金属処理品を開閉扉によって仕切られた
低温度室から高温度室または高温度室から低温度室に移
動させるとともに、該高温度室に供給した雰囲気ガスを
該低温度室を経て排出させるようにした雰囲気熱処理炉
において、高温度室または低温度室に炉圧センサを設
け、低温度室には該炉圧センサによって作動する電磁排
気バルブを設け該低温度室内の雰囲気ガスを該電磁排気
バルブより排出させるようにしたことを特徴とする雰囲
気熱処理炉。 - 【請求項２】 低温度室は扉室である請求項１に記載の
雰囲気熱処理炉。 - 【請求項３】 高温度室に炉圧センサによって作動する
電磁排気バルブを設け該高温度室の雰囲気ガスを直接排
出し得るようにしたことを特徴とする請求項１または２
に記載の雰囲気熱処理炉。 - 【請求項４】 高温度室に雰囲気ガスを予熱して供給す
ることを特徴とした請求項１，２または３に記載の雰囲
気熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3426398A JPH11211352A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 雰囲気熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3426398A JPH11211352A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 雰囲気熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11211352A true JPH11211352A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=12409295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3426398A Pending JPH11211352A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 雰囲気熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11211352A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009515133A (ja) * | 2005-11-08 | 2009-04-09 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 半製品の材料組織を乾燥状態で変態させるための装置 |
| JP2011112030A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Ntn Corp | ガス供給装置および排ガス発電システム |
-
1998
- 1998-01-30 JP JP3426398A patent/JPH11211352A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009515133A (ja) * | 2005-11-08 | 2009-04-09 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 半製品の材料組織を乾燥状態で変態させるための装置 |
| JP4861425B2 (ja) * | 2005-11-08 | 2012-01-25 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 半製品の材料組織を乾燥状態で変態させるための装置 |
| JP2011112030A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Ntn Corp | ガス供給装置および排ガス発電システム |
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