JPH11209687A - Resin for film formation, production thereof, and coating liquid obtained therefrom - Google Patents

Resin for film formation, production thereof, and coating liquid obtained therefrom

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JPH11209687A
JPH11209687A JP13632498A JP13632498A JPH11209687A JP H11209687 A JPH11209687 A JP H11209687A JP 13632498 A JP13632498 A JP 13632498A JP 13632498 A JP13632498 A JP 13632498A JP H11209687 A JPH11209687 A JP H11209687A
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JP
Japan
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resin
bis
hydroxyphenyl
polyarylate
forming
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Application number
JP13632498A
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Japanese (ja)
Inventor
Soichiro Kishimoto
聡一郎 岸本
Shinya Takagi
伸哉 高木
Takamasa Owaki
隆正 大脇
Akihiko Hasegawa
明彦 長谷川
Kazuhiro Hamada
和宏 濱田
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Unitika Ltd
Original Assignee
Unitika Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polyarylate resin which has a high mol.wt. and is excellent in abrasion resistance and electrical properties by subjecting dicarboxylic halides dissolved in an org. solvent and a dihydric phenol dissolved in an aq. alkali soln. to interfacial polymn. in the presence of a specific catalyst. SOLUTION: A soln. of 10-90 mol.% terephthalic halide and 90-10 mol.% isophthalic halide in a water-immiscible org. solvent and a soln. of 2,2-bis(3- methyl-4-hydroxyphenyl)propane in an aq. alkali soln. are subjected to interfacial polymn. in the presence of a quaternary ammonium or phosphonium salt having at least three 3C or higher alkyl groups as a catalyst. Thus, a resin for film formation is obtd. as a polymn. product which is a polyarylate resin having an inherent viscosity (at 25 deg.C in 1,1,2,2-tetrachloroethane at a concn. of 1 g/dl) of 0.8 or higher and a carboxyl value of 20 mol/ton or lower.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、特定の二価フェノ
ール単位を含み、分子量が高く、電気的特性と耐摩耗性
に優れたポリアリレートからなる被膜形成用樹脂、及び
このような被膜形成用樹脂を容易に製造することができ
る製造方法、並びにこの樹脂を溶媒に溶解した塗工液に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin for forming a film comprising a polyarylate containing a specific dihydric phenol unit, having a high molecular weight, and having excellent electrical properties and abrasion resistance. The present invention relates to a production method capable of easily producing a resin, and a coating solution obtained by dissolving the resin in a solvent.

【0002】[0002]

【従来の技術】2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン〔ビスフェノールAと記すことがある〕の
残基とテレフタル酸及びイソフタル酸の残基とからなる
非晶性ポリアリレートはエンジニアリングプラスチック
として既によく知られている。かかるポリアリレートは
耐熱性が高く、衝撃強度に代表される機械的強度や寸法
安定性に優れ、加えて非晶性で透明であるためにその成
形品は電気・電子、自動車、機械などの分野に幅広く応
用されている。
2. Description of the Related Art Amorphous polyarylate comprising residues of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (sometimes referred to as bisphenol A) and residues of terephthalic acid and isophthalic acid is used as an engineering plastic. It is already well known. Such polyarylate has high heat resistance, excellent mechanical strength and dimensional stability typified by impact strength, and is amorphous and transparent. Widely applied to

【0003】また、二価フェノールとしてビスフェノー
ルAを原料としたポリアリレート樹脂(ビスフェノール
Aポリアリレートと記す)は、各種溶剤へ良好な溶解性
を有していること、電気的特性(絶縁性、誘電特性
等)、耐摩耗特性に優れていることを利用して、コンデ
ンサー用のフィルム等の電子部品に、また耐摩耗性と耐
擦傷性を利用して液晶表示装置の各種フィルムやコーテ
ィング樹脂の様な被膜を形成する用途への応用が行われ
ている。
[0003] A polyarylate resin using bisphenol A as a dihydric phenol (hereinafter referred to as bisphenol A polyarylate) has good solubility in various solvents, and has good electrical properties (insulating properties, dielectric properties, dielectric properties). Properties, etc.), making use of its excellent abrasion resistance to electronic parts such as films for capacitors, and making use of abrasion resistance and scratch resistance to various films and coating resins of liquid crystal display devices. It is applied to applications for forming various coatings.

【0004】しかしながら、フィルム等の表面光沢を要
求される分野や、コーティング材料など被膜を形成する
用途においては、樹脂の電気的な特性と耐摩耗性に対す
る要求は、ますます厳しいものになっており、ビスフェ
ノールAポリアリレートでの対応では、これらの特性が
不十分な用途が生じてきている。この様な、事情からさ
らに電気的な特性と耐摩耗特性に優れた樹脂が求められ
ている。
[0004] However, in fields where surface gloss such as a film is required, or in applications where a film is formed such as a coating material, the requirements for electrical properties and abrasion resistance of a resin are becoming increasingly severe. In response to the use of bisphenol A polyarylate, there have been applications where these properties are insufficient. Under these circumstances, there is a demand for a resin having further excellent electrical characteristics and wear resistance.

【0005】このような問題を解決する可能性のある樹
脂として、BP901605号明細書には、2,2−ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
〔ビスフェノールCと記すことがある〕とテレフタル酸
からなり、テトラクロロエタン中での固有粘度が0.8
4であるポリアリレートが記載されている。しかしなが
ら、この発明においては、このポリマーの耐摩耗性につ
いては言及されておらず、また実施例に挙げられている
ポリアリレートは酸成分がテレフタル酸のみからなるも
のであり、そのため脆く、また、固有粘度が0.84程
度であるために、耐摩耗性が不十分なものであった。
As a resin capable of solving such a problem, BP901605 discloses 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane (sometimes referred to as bisphenol C). It is composed of terephthalic acid and has an intrinsic viscosity of 0.8 in tetrachloroethane.
4 is described. However, in the present invention, the abrasion resistance of this polymer is not mentioned, and the polyarylate described in the examples has only an acid component of terephthalic acid, so that it is brittle and inherently Since the viscosity was about 0.84, the abrasion resistance was insufficient.

【0006】さらに、特開平9−22126号公報に
は、実施例としてビスフェノールCとテレフタル酸及び
イソフタル酸からなり、テトラクロロエタン中での1g
/dl濃度の25℃でのインヘレント粘度が0.833
のポリアリレートを用いた電子写真感光体が記載されて
おり、このポリマーを用いた電子写真感光体は、耐摩耗
性に優れていることが記載されているが、まだ分子量が
低く、被膜形成用樹脂としては耐摩耗性が不十分なもの
であった。さらに、同公報には比較例としてインヘレン
ト粘度が1.241のポリアリレートを用いた電子写真
感光体が記載されており、耐摩耗性には優れているもの
の、塗工液の保存安定性に問題があることが指摘されて
いる。さらに、このインヘレント粘度が1.241のポ
リマーは、テトラメチルベンジルアンモニウムクロライ
ドを触媒として合成されたポリマーであったため、カル
ボキシル価が高く、電気的な特性に問題があった。ま
た、塗工液の保存安定性に問題があったのも、カルボキ
シル価が高いことに起因していた。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-22126 discloses that, as an example, bisphenol C, terephthalic acid and isophthalic acid, each containing 1 g of tetrachloroethane.
/ Dl concentration at 25 ° C. of 0.833
An electrophotographic photoreceptor using polyarylate is described, and it is described that an electrophotographic photoreceptor using this polymer has excellent abrasion resistance, but still has a low molecular weight and is used for film formation. The resin had insufficient wear resistance. Further, the publication discloses an electrophotographic photosensitive member using a polyarylate having an inherent viscosity of 1.241 as a comparative example. Although the photosensitive member has excellent abrasion resistance, it has a problem in storage stability of a coating liquid. It has been pointed out that there is. Furthermore, since the polymer having an inherent viscosity of 1.241 was a polymer synthesized using tetramethylbenzylammonium chloride as a catalyst, it had a high carboxyl value and had a problem in electrical characteristics. Also, there was a problem in the storage stability of the coating liquid due to the high carboxyl value.

【0007】この様な事情から、耐摩耗性と電気的な特
性に優れ、かつ塗工液としたときに保存安定性に優れた
被膜形成用樹脂が求められてきた。
Under these circumstances, there has been a demand for a film-forming resin which is excellent in abrasion resistance and electrical properties and which has excellent storage stability when used as a coating liquid.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記のような実状に鑑
み、本発明の課題は、特定の二価フェノール単位を含
み、分子量が高く、従来よりもさらに耐摩耗性と電気的
特性に優れ、塗工液としたきに保存安定性に優れた被膜
形成用樹脂の提供、及びこのような樹脂を容易に得るこ
とができる被膜形成用樹脂の製造方法、並びに保存安定
性に優れた塗工液の提供にある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above situation, an object of the present invention is to contain a specific dihydric phenol unit, have a high molecular weight, and have more excellent abrasion resistance and electrical properties than conventional ones. Provision of a film-forming resin excellent in storage stability when used as a coating liquid, a method for producing a film-forming resin capable of easily obtaining such a resin, and a coating liquid excellent in storage stability In the offer.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らはこの様な課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、界面重合時に特
定の重合触媒を用いることによって、ビスフェノールC
とテレフタル酸及びイソフタル酸からなり、かつ特定の
値以上の分子量を有し、かつカルボキシル価の低いポリ
アリレートが得られ、このポリアリレートは従来のビス
フェノールAポリアリレートはもとより、従来から知ら
れているビスフェノールCポリアリレートよりも耐摩耗
性と電気的特性に優れ、被膜形成用樹脂として適してい
ることを見いだし、本発明に到達した。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve such problems, and as a result, by using a specific polymerization catalyst at the time of interfacial polymerization, bisphenol C
And a polyarylate consisting of terephthalic acid and isophthalic acid, and having a molecular weight not less than a specific value, and having a low carboxyl value. This polyarylate is known from conventional bisphenol A polyarylate as well as conventional polyarylate. The present inventors have found out that the abrasion resistance and the electrical properties are superior to those of bisphenol C polyarylate, and they are suitable as a resin for forming a film.

【0010】すなわち本発明の要旨は、第1に、ポリア
リレートを形成する二価フェノール成分が2,2−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンより
なり、二価カルボン酸成分ががテレフタル酸10〜90
モル%とイソフタル酸90〜10モル%よりなり、25
℃で1,1,2,2−テトラクロロエタン中で測定した
1g/dl濃度におけるインヘレント粘度が0.85以
上であり、かつカルボキシル価が20モル/トン以下で
あるポリアリレートからなるなることを特徴とする被膜
形成用樹脂である。
That is, the gist of the present invention is that, first, the dihydric phenol component forming the polyarylate is composed of 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane and the dihydric carboxylic acid component is Terephthalic acid 10-90
Mol% and 90 to 10 mol% of isophthalic acid.
A polyarylate having an inherent viscosity of 0.85 or more at a concentration of 1 g / dl measured in 1,1,2,2-tetrachloroethane at a temperature of 0.degree. C. and a carboxyl number of 20 mol / ton or less. For forming a film.

【0011】第2に、水と相溶しない有機溶剤に溶解さ
せた二価のカルボン酸ハライドとアルカリ水溶液に溶解
させた二価のフェノールとを界面重合法にて反応させポ
リアリレートを得る際、触媒として炭素数3以上のアル
キル基を3個以上有する第四級アンモニウム塩又は第四
級ホスホニウム塩を用いることを特徴とする被膜形成用
樹脂の製造方法である。
Second, when a divalent carboxylic acid halide dissolved in an organic solvent incompatible with water is reacted with a divalent phenol dissolved in an aqueous alkali solution by an interfacial polymerization method to obtain a polyarylate, A method for producing a resin for forming a film, wherein a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt having three or more alkyl groups having three or more carbon atoms is used as a catalyst.

【0012】第3に、前記被膜形成用樹脂とこの樹脂を
溶解する溶媒とよりなることを特徴とする塗工液であ
る。
Third, there is provided a coating liquid comprising the resin for forming a film and a solvent for dissolving the resin.

【0013】さらに、本発明の被膜形成用の樹脂におい
て、ポリアリレートの残留ナトリウム量が10ppm未
満であるもの、ガスクロマトグラフ法で測定したポリア
リレートの第四級アンモニウム塩又は第四級ホスホニウ
ム塩の含有量が100ppm未満であるもの、特に5p
pm未満であるもの、ポリアリレートのフェノール性水
酸基価が30モル/トン以下であるもの、ポリアリレー
トのポリスチレン換算の重量平均分子量Mwと数平均分
子量Mnの比Mw/Mnが3.0未満であるもの、ポリ
アリレートを形成する二価フェノール成分として2,2
−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン以外の二価フェノールが20モル%以下であるもの、
ポリアリレートを形成する二価カルボン酸成分が等モル
のテレフタル酸とイソフタル酸とよりなるもの、ポリア
リレートのインヘレント粘度が1.0〜2.5であるも
の、ポリアリレートのカルボキシル価が15モル/トン
以下であるものを用いることは好ましい態様である。ま
た、本発明の被膜形成用樹脂の製造方法において、触媒
として20℃で水−クロロホルム系で測定した分配比が
2.0×10-2以上2.5以下の範囲にある第4級アン
モニウム塩を用いることは好ましい態様である。さらに
また、本発明の塗工液において、被膜形成用樹脂の濃度
が少なくとも10重量%であるものは好ましい態様であ
る。
Further, in the resin for forming a film according to the present invention, the polyarylate having a residual sodium content of less than 10 ppm, and containing a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt of the polyarylate measured by gas chromatography. Those having an amount of less than 100 ppm, especially 5 p
pm, phenolic hydroxyl value of the polyarylate is 30 mol / ton or less, and the ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight Mw and the number average molecular weight Mn in terms of polystyrene of the polyarylate is less than 3.0. , 2,2 as a dihydric phenol component forming a polyarylate
A dihydric phenol other than -bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane is 20 mol% or less,
Polyarylate-forming dihydric carboxylic acid component comprising equimolar terephthalic acid and isophthalic acid, polyarylate having an inherent viscosity of 1.0 to 2.5, polyarylate having a carboxyl number of 15 mol / It is a preferred embodiment to use one that is less than ton. Further, in the method for producing a resin for forming a film according to the present invention, a quaternary ammonium salt having a distribution ratio of not less than 2.0 × 10 −2 and not more than 2.5 as a catalyst in a water-chloroform system at 20 ° C. Is a preferred embodiment. Further, in the coating liquid of the present invention, a coating liquid in which the concentration of the film-forming resin is at least 10% by weight is a preferred embodiment.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の被膜形成用樹脂はポリアリレートよりなり、こ
のポリアリレートを形成する二価フェノール成分は2,
2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パンよりなり、二価カルボン酸成分はテレフタル酸10
〜90モル%とイソフタル酸90〜10モル%よりな
る。このポリアリレートは二価フェノール成分として、
2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン(ビスフェノールC)以外の二価フェノールを
20モル%未満共重合することが可能である。ビスフェ
ノールC以外の二価フェノールが20モル%を超える
と、ビスフェノールCの持つ耐摩耗性が低下する傾向が
あるので好ましくない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The resin for forming a film of the present invention comprises polyarylate, and the dihydric phenol component forming this polyarylate is 2,2.
It consists of 2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane and the divalent carboxylic acid component is terephthalic acid 10
-90 mol% and 90-10 mol% isophthalic acid. This polyarylate is a dihydric phenol component,
2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl)
It is possible to copolymerize less than 20 mol% of dihydric phenols other than propane (bisphenol C). If the amount of the dihydric phenol other than bisphenol C exceeds 20 mol%, the abrasion resistance of bisphenol C tends to decrease, which is not preferable.

【0015】共重合可能なビスフェノールC以外の二価
フェノールを例示すれば、2−メチル−4,4’−ジヒ
ドロキシビフェニル、3−メチル−4,4’−ジヒドロ
キシビフェニル、2−クロロ−4,4’−ジヒドロキシ
ビフェニル、3−クロロ−4,4’−ジヒドロキシビフ
ェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシ
ビフェニル、2,2’−ジメチル−4,4’−ジヒドロ
キシビフェニル、2,3’−ジメチル−4,4’−ジヒ
ドロキシビフェニル、3,3’−ジクロロ−4,4’−
ジヒドロキシビフェニル、3,3’−ジ−tert−ブ
チル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’−
ジメトキシ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,
3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキ
シビフェニル、3,3’,5,5’−テトラ−tert
−ブチル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,
3’,5,5’−テトラクロロ−4,4’−ジヒドロキ
シビフェニル、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジ
メチルビフェニル、
Examples of dihydric phenols other than the copolymerizable bisphenol C include 2-methyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3-methyl-4,4'-dihydroxybiphenyl and 2-chloro-4,4. '-Dihydroxybiphenyl, 3-chloro-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,3 '-Dimethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-
Dihydroxybiphenyl, 3,3'-di-tert-butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3'-
Dimethoxy-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,
3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxybiphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetra-tert
-Butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,
3 ′, 5,5′-tetrachloro-4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,2′-dihydroxy-3,3′-dimethylbiphenyl,

【0016】3,3’−ジフルオロ−4,4’−ビフェ
ノール、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’
−テトラメチルビフェニル、3,3’,5,5’−テト
ラフルオロ−4,4’−ビフェノール、2,2’,3,
3’,5,5’−ヘキサメチル−4,4’−ビフェノー
ル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(4−メ
チル−2−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチル
ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−エチルヘキサ
ン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ブタン、
3,3'-difluoro-4,4'-biphenol, 2,2'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'
-Tetramethylbiphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-biphenol, 2,2', 3
3 ', 5,5'-hexamethyl-4,4'-biphenol, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-
Bis (4-hydroxyphenyl) ethane, bis (4-methyl-2-hydroxyphenyl) methane, bis (3,5
-Dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane,
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2 -Bis (3,5-dimethyl-
4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4
-Hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) -2-ethylhexane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis ( 4-hydroxyphenyl) butane,

【0017】1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−2−メチルプロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)フェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)オクタン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(3
−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(3−tert−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s
ec−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−te
rt−ブチルフェニル)−2−メチルプロパン、4,
4’−〔1,4−フェニレン−ビス(1−メチルエチリ
デン)〕ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)、1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、ビス(2−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、2,4’−メチレンビスフェノール、ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1
−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)エタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メ
チル−ブタン、ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロペンタン、
1,1-bis (4-hydroxyphenyl)
-2-methylpropane, bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2- Screw (3
-Allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2
-Bis (3-isopropyl-4-hydroxyphenyl)
Propane, 2,2-bis (3-tert-butyl-4-
Hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-s
ec-butyl-4-hydroxyphenyl) propane,
1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-te
rt-butylphenyl) -2-methylpropane, 4,
4 '-[1,4-phenylene-bis (1-methylethylidene)] bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl), 1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (2 -Hydroxyphenyl) methane, 2,4'-methylenebisphenol, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,
1-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1
-Bis (2-hydroxy-5-methylphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methyl-butane, bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, 1,1 -Bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane,

【0018】1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)シクロペンタン、3,3−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)ペンタン、3,3−ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、3,3−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)ノナン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)デ
カン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)デカ
ン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3−tert−ブ
チル−5−メチルフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)ジフェニルメタン、テルペンジフェノー
ル、1,1−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(2−メ
チル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニ
ル)−2−メチルプロパン、2,2−ビス(3−シクロ
ヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、ビス(3,5−ジ−sec−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(3−シ
クロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−te
rt−ブチルフェニル)エタン、1,1−ビス(3−ノ
ニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,
5−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メタ
ン、
1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 3,3-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) pentane , 3,3-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) pentane, 2,2-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) Nonane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4- Hydroxyphenyl) decane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) decane, 1,1-bis (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphen) L) methane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, terpene diphenol, 1,1-bis (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy- 5-tert-butylphenyl) -2-methylpropane, 2,2-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) propane, bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3,5-di-sec-butyl-4
-Hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-di-te
rt-butylphenyl) ethane, 1,1-bis (3-nonyl-4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1 -Bis (2-hydroxy-3,
5-di-tert-butyl-6-methylphenyl) methane,

【0019】1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロ
キシフェニル)−1−フェニルエタン、α,α’−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)酢酸ブチルエステル、1,
1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)メ
タン、ビス(2−ヒドロキシ−5−フルオロフェニル)
メタン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、1,1−ビス(3−フルオロ−4
−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、1,1
−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−1
−(p−フルオロフェニル)メタン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−1−(p−フルオロフェニ
ル)メタン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジブロモ−4−
ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5−
ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルシラン、
ビス(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)ドデカン、2,2−ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)ドデカン、2,2−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ドデカ
ン、1,1−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(2−メチ
ル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニル)−
2−メチルプロパン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)エタン、
1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, α, α'-bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid butyl ester,
1-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) methane, bis (2-hydroxy-5-fluorophenyl)
Methane, 2,2-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3-fluoro-4
-Hydroxyphenyl) -1-phenylmethane, 1,1
-Bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) -1
-(P-fluorophenyl) methane, 1,1-bis (4
-Hydroxyphenyl) -1- (p-fluorophenyl) methane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxy-5-methylphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dichloro-4-) Hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3,5-dibromo-4-
Hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3,5-
Dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2
-Bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) dimethylsilane,
Bis (2,3,5-trimethyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) dodecane, 2,2-bis (3-methyl-
4-hydroxyphenyl) dodecane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) dodecane, 1,1-bis (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl)-
2-methylpropane, 1,1-bis (2-hydroxy-
3,5-di-tert-butylphenyl) ethane,

【0020】2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパン酸メチルエステル、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン酸エチルエステル、2,2’,
3,3’,5,5’−ヘキサメチル−4,4’−ビフェ
ノール、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、2,
4’−メチレンビスフェノール、1,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)エタン、2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−(2−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビ
ス(2−ヒドロキシ−3−アリルフェニル)メタン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル)−2−メチルプロパン、1,1−ビス(2−ヒド
ロキシ−5−tert−ブチルフェニル)エタン、ビス
(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)メタン、
1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−te
rt−ブチルフェニル)ブタン、ビス(2−メチル−4
−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニル)メタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタデカ
ン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタデカン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)ペンタデカン、1,2−ビス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)エタン、ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t
ert−ブチルフェニル)メタン、2,2−ビス(3−
スチリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(p−ニトロ
フェニル)エタン、ビス(3,5−ジフルオロ−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジフルオロ
−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、ビ
ス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ジ
フェニルメタン、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシ
フェニル)ジフェニルメタン、
2,2-bis (4-hydroxyphenyl)
Propanoic acid methyl ester, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanoic acid ethyl ester, 2,2 ′,
3,3 ′, 5,5′-hexamethyl-4,4′-biphenol, bis (2-hydroxyphenyl) methane, 2,
4'-methylenebisphenol, 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2- (4-hydroxyphenyl) -2- (2-hydroxyphenyl) propane, bis (2-hydroxy-3-allylphenyl) methane ,
1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane, 1,1-bis (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) ethane, bis (2-hydroxy-5 Phenylphenyl) methane,
1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-te
rt-butylphenyl) butane, bis (2-methyl-4)
-Hydroxy-5-cyclohexylphenyl) methane,
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentadecane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) pentadecane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-
4-hydroxyphenyl) pentadecane, 1,2-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) ethane, bis (2-hydroxy-3,5-di-t
tert-butylphenyl) methane, 2,2-bis (3-
Styryl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) -1- (p-nitrophenyl) ethane, bis (3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl) -1- Phenylmethane, bis (3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) diphenylmethane,

【0021】2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−3,3−ジメチル−5−メチル−シクロヘ
キサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
3,3−ジメチル−5,5−ジメチル−シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3
−ジメチル−4−メチル−シクロヘキサン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチル−5
−エチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−3,3−ジメチル−5−メチル−シク
ロペンタン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−3,3−ジメチル−5−メチル−
シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジフェニル−
4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチル−5−メ
チル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチル−5−メチ
ル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3−フェニル−4
−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチル−5−メチ
ル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジクロロ
−4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチル−5−
メチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジブ
ロモ−4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチル−
5−メチル−シクロヘキサン、1,4−ジ(4−ヒドロ
キシフェニル)−p−メンタン、1,4−ジ(3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)−p−メンタン、1,4
−ジ(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−
p−メンタン等のテルペンジフェノール類等を挙げるこ
とができる。
2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5-methyl-cyclohexane, 1,1-bis ( 4-hydroxyphenyl)-
3,3-dimethyl-5,5-dimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3
-Dimethyl-4-methyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5
-Ethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5-methyl-cyclopentane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3, 3-dimethyl-5-methyl-
Cyclohexane, 1,1-bis (3,5-diphenyl-
4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5-methyl-cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4
-Hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5-methyl-cyclohexane, 1,1-bis (3-phenyl-4)
-Hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5-methyl-cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5-
Methyl-cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-
5-methyl-cyclohexane, 1,4-di (4-hydroxyphenyl) -p-menthane, 1,4-di (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -p-menthane, 1,4
-Di (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl)-
Terpene diphenols such as p-menthane and the like can be mentioned.

【0022】特に好ましい二価フェノールとしては、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビ
スフェノールA)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキサン(ビスフェノールZ)、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン
(ビスフェノールAP)が挙げられる。
Particularly preferred dihydric phenols include:
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (bisphenol Z), 1,1-
Bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane (bisphenol AP) is mentioned.

【0023】また本発明におけるのポリアリレート形成
する二価のカルボン酸成分は、テレフタル酸10〜90
モル%とイソフタル酸90〜10モル%からなる混合物
であり、テレフタル酸が10モル%未満では、塗工液の
保存安定性が悪くなる傾向がり、90モル%を超えると
耐摩耗性が低下する傾向があり、特にテレフタル酸とイ
ソフタル酸の等量混合物であることが好ましい。
In the present invention, the divalent carboxylic acid component forming a polyarylate is terephthalic acid 10 to 90.
It is a mixture of mol% and isophthalic acid of 90 to 10 mol%. If the terephthalic acid is less than 10 mol%, the storage stability of the coating solution tends to deteriorate, and if it exceeds 90 mol%, the abrasion resistance decreases. There is a tendency, and it is particularly preferable to use an equal mixture of terephthalic acid and isophthalic acid.

【0024】また、本発明におけるポリアリレートの末
端は一価のフェノール、一価の酸クロライド、一価のア
ルコール、一価のカルボン酸などで封止されていてもよ
い。一価のフェノールとしては、フェノール、クレゾー
ル、p−tert−ブチルフェノール、o−フェニルフ
ェノールなどが挙げられ、一価の酸クロライドとして
は、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライ
ド、フェニルクロロホルメートなどが挙げられ、一価の
アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−
ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ドデシルア
ルコール、ステアリルアルコール、ベンジルアルコー
ル、フェネチルアルコールなどが挙げられ、一価のカル
ボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、シ
クロヘキサンカルボン酸、安息香酸、トルイル酸、フェ
ニル酢酸、p−tert−ブチル安息香酸、p−メトキ
シフェニル酢酸などが挙げられる。
Further, the terminal of the polyarylate in the present invention may be sealed with a monovalent phenol, a monovalent acid chloride, a monovalent alcohol, a monovalent carboxylic acid or the like. Examples of the monovalent phenol include phenol, cresol, p-tert-butylphenol, and o-phenylphenol, and examples of the monovalent acid chloride include benzoic acid chloride, methanesulfonyl chloride, and phenyl chloroformate. And monohydric alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol,
Butanol, pentanol, hexanol, dodecyl alcohol, stearyl alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, and the like.Examples of monovalent carboxylic acids include acetic acid, propionic acid, octanoic acid, cyclohexanecarboxylic acid, benzoic acid, toluic acid, and phenyl. Acetic acid, p-tert-butylbenzoic acid, p-methoxyphenylacetic acid and the like can be mentioned.

【0025】ポリアリレートの分子量は、テトラクロロ
エタンを粘度測定溶媒に用い、25℃における1g/d
l溶液のインヘレント粘度は0.85以上であり、好ま
しくは1.0〜2.5である。インヘレント粘度が0.
85未満であると耐摩耗性が不十分な場合があり、一方
2.5を超えるとコーティングに用いる場合に、曳糸性
が生じたり、コーティング時に調整する溶液の粘度が上
昇して取扱いが困難になる傾向があるので好ましくな
い。本発明の樹脂の分子量は、製造時に前述した末端封
止材料の添加量によってコントロールすることができ
る。
The molecular weight of the polyarylate is determined by using tetrachloroethane as a solvent for viscosity measurement at 25 ° C. and 1 g / d.
The inherent viscosity of the solution is 0.85 or more, preferably 1.0 to 2.5. The inherent viscosity is 0.
If it is less than 85, the abrasion resistance may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 2.5, spinnability may occur or the viscosity of the solution to be adjusted during coating may increase, making it difficult to handle. This is not preferred because of the tendency. The molecular weight of the resin of the present invention can be controlled by the amount of the above-mentioned terminal blocking material added at the time of production.

【0026】また、本発明におけるポリアリレートの分
子量分布は、ポリスチレン換算の重量平均分子量Mwと
数平均分子量Mnの比であるMw/Mnの値が3.0未
満であることが好ましく、より好ましくは2.8以下で
ある。Mw/Mnの値が3.0以上であると、低分子量
成分の可塑化効果によって、耐摩耗性が低下する傾向が
あるので好ましくない。
In the molecular weight distribution of the polyarylate in the present invention, the value of Mw / Mn, which is the ratio of the weight average molecular weight Mw to the number average molecular weight Mn in terms of polystyrene, is preferably less than 3.0, more preferably 2.8 or less. If the value of Mw / Mn is 3.0 or more, the wear resistance tends to decrease due to the plasticizing effect of the low molecular weight component, which is not preferable.

【0027】また、ポリアリレートのカルボキシル価は
20モル/トン以下であることが必須である。カルボキ
シル価は、耐アーク性や誘電率など電気的な特性に影響
を与えるため、15モル/トン以下にすることが好まし
い。樹脂のカルボキシル価は、電位差滴定装置を利用し
た中和滴定など公知の方法で測定することができる。カ
ルボキシル価は、樹脂を後述する溶剤に溶解して塗工液
としたとき、塗工液の保存安定性にも影響をするため2
0モル/トン以下にすることが必要である。塗工液の樹
脂濃度が20重量%程度の高濃度でかつ長期の保存安定
性が必要な場合には、15モル/トン未満とすることが
好ましい。溶液の保存安定性は、樹脂を15〜20重量
%程度の濃度で前述した溶剤に溶解した後溶剤が蒸発し
ないように密閉し、室温ないしは所定の温度で保存する
ことによって評価することができる。保存安定性が悪い
場合には、時間の経過とともに、溶液が白濁して固形物
が沈澱したり増粘してゲル化したりする。
It is essential that the carboxyl number of the polyarylate be 20 mol / ton or less. Since the carboxyl number affects electric characteristics such as arc resistance and dielectric constant, the carboxyl number is preferably 15 mol / ton or less. The carboxyl number of the resin can be measured by a known method such as neutralization titration using a potentiometric titrator. Since the carboxyl number affects the storage stability of a coating solution when a resin is dissolved in a solvent described below to form a coating solution,
It is necessary to make it 0 mol / ton or less. When the resin concentration of the coating liquid is as high as about 20% by weight and long-term storage stability is required, the concentration is preferably less than 15 mol / ton. The storage stability of the solution can be evaluated by dissolving the resin in the above-described solvent at a concentration of about 15 to 20% by weight, sealing the solvent so that the solvent does not evaporate, and storing at room temperature or a predetermined temperature. If the storage stability is poor, the solution becomes cloudy and the solid precipitates or thickens and gels over time.

【0028】ポリアリレートの残留ナトリウム量は、1
0ppm未満であることが好ましい。残留ナトリウム量
が10ppm以上であると、上述した電気的な特性が低
下する傾向があるので、好ましくない。樹脂中の残留ナ
トリウム量は、イオンクロマトグラフ分析法、原子吸光
分析法、プラズマ発光分光分析法など公知の方法を利用
して定量することができる。
The residual sodium content of polyarylate is 1
Preferably it is less than 0 ppm. If the amount of residual sodium is 10 ppm or more, the above-mentioned electric characteristics tend to deteriorate, which is not preferable. The amount of residual sodium in the resin can be quantified by using a known method such as ion chromatography, atomic absorption analysis, or plasma emission spectroscopy.

【0029】ポリアリレートの末端のフェノール性水酸
基価は、30モル/トン以下であることが好ましい。フ
ェノール性水酸基価が30モル/トンを超えると、電気
的な特性が低下したり、加熱した場合にはフェノール性
水酸基が酸化して樹脂が着色する傾向があるので好まし
くない。樹脂のフェノール性水酸基価は、プロトンNM
Rで直接定量することができる。
The terminal phenolic hydroxyl value of the polyarylate is preferably 30 mol / ton or less. If the phenolic hydroxyl value is more than 30 mol / ton, the electrical properties are lowered, and when heated, the phenolic hydroxyl groups are oxidized and the resin tends to be undesirably colored. The phenolic hydroxyl value of the resin is determined by the proton NM
It can be directly quantified by R.

【0030】さらにまた、ポリアリレート中に残留する
第四級アンモニウム塩又は第四級ホスホニウム塩の量
は、ガスクロマトグラフ法で測定した場合に、100p
pm未満であることが好ましく、より好ましくは5pp
m未満である。残留する第四級アンモニウム塩又は第四
級ホスホニウム塩の量が100ppm以上であると絶縁
破壊強度が低下する傾向があるので好ましくない。
Furthermore, the amount of the quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium salt remaining in the polyarylate is 100 p when measured by gas chromatography.
pm, more preferably 5 pp
m. If the amount of the remaining quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium salt is 100 ppm or more, the dielectric breakdown strength tends to decrease, which is not preferable.

【0031】本発明の被膜形成用樹脂を得るためのポリ
アリレートの製造方法としては、水と相溶しない有機溶
剤に溶解せしめた二価のカルボン酸ハライドとアルカリ
水溶液に溶解せしめた二価のフェノールとを混合する界
面重合法(W.M.EARECKSON J.Pol
y.Sci.XL399 1959年、特公昭40−1
959号公報)が好適に採用される。界面重合法は、溶
液重合法と比較して反応が早く、そのため酸ハライドの
加水分解を最小限に押さえることが可能であり、特に後
述する重合触媒を選ぶことにより本発明のような高分子
量のポリマーを得る場合には有利である。
As a method for producing a polyarylate for obtaining the resin for forming a film according to the present invention, a divalent carboxylic acid halide dissolved in an organic solvent incompatible with water and a divalent phenol dissolved in an aqueous alkali solution are used. And an interfacial polymerization method (WM EARCKSON J. Pol)
y. Sci. XL399 1959, Tokiko 40-1
959) is preferably employed. The interfacial polymerization method is faster in reaction than the solution polymerization method, so it is possible to minimize the hydrolysis of the acid halide, and particularly by selecting a polymerization catalyst described later, a high molecular weight as in the present invention. It is advantageous when obtaining a polymer.

【0032】界面重合法での製造方法をさらに詳細に説
明すると、二価フェノールのアルカリ水溶液を調製し、
続いて、重合触媒を添加する。ここで用いることができ
るアルカリには、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等
がある。重合触媒としては、分子量が高くカルボキシル
価の低いポリマーが得られるものであれば特に限定はさ
れないが、炭素数3以上のアルキル基を3個以上有する
第四級アンモニウム塩又は第四級ホスホニウム塩が高分
子量で低カルボキシル価のポリマーを与える点で好まし
い。炭素数が3以上のアルキル基を2個以下有する第四
級アンモニウム塩や第四級ホスホニウムは、重合速度が
遅く高分子量のポリマーが得られなかったり、たとえ得
られたとしても、カルボキシル価が高くなる傾向がある
ので好ましくない。前述したようにポリマー中の重合触
媒の残留量を勘案すれば、20℃で水−クロロホルム系
で測定した分配比が2.0×10-2以上1.5以下の範
囲にある第4級アンモニウム塩が、重合速度が速くかつ
重合後のポリマー溶液からの除去が容易である点からよ
り好ましい。分配比が、2.0×10-2未満であると、
重合速度が遅くなる傾向があり、1.5を超えると親油
性が高くなるため、ポリマー中からの除去が困難になる
傾向がある。
The production method by the interfacial polymerization method will be described in more detail. An alkaline aqueous solution of a dihydric phenol is prepared,
Subsequently, a polymerization catalyst is added. Examples of the alkali that can be used here include sodium hydroxide and potassium hydroxide. The polymerization catalyst is not particularly limited as long as a polymer having a high molecular weight and a low carboxyl value can be obtained, but a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt having three or more alkyl groups having three or more carbon atoms is preferable. It is preferable in that a polymer having a high molecular weight and a low carboxyl number is provided. A quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium having two or less alkyl groups having three or more carbon atoms has a low polymerization rate and a high molecular weight polymer cannot be obtained. This is not preferred because of the tendency to occur. Considering the residual amount of the polymerization catalyst in the polymer as described above, a quaternary ammonium having a distribution ratio of 2.0 × 10 −2 or more and 1.5 or less at 20 ° C. in a water-chloroform system is used. Salts are more preferred because of their high polymerization rate and easy removal from the polymer solution after polymerization. When the distribution ratio is less than 2.0 × 10 −2 ,
The polymerization rate tends to be low, and if it exceeds 1.5, the lipophilicity tends to be high, so that removal from the polymer tends to be difficult.

【0033】重合触媒を具体的に例示すれば、トリプロ
ピルベンジルアンモニウムハライド、トリブチルベンジ
ルアンモニウムハライド、トリブチルメチルアンモニウ
ムハライド、テトラブチルアンモニウムハライド、テト
ラブチルホスホニウムハライドウムハライド、トリブチ
ルベンジルアンモニウムハライド等を挙げることがで
き、ハライドとしては、塩素、臭素、沃素など特に限定
されない。
Specific examples of the polymerization catalyst include tripropylbenzylammonium halide, tributylbenzylammonium halide, tributylmethylammonium halide, tetrabutylammonium halide, tetrabutylphosphonium halideium halide, and tributylbenzylammonium halide. The halide is not particularly limited, such as chlorine, bromine, and iodine.

【0034】一方、水と相溶せず、かつポリアリレート
を溶解する様な溶媒、例えば塩化メチレン、1,2−ジ
クロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベン
ゼン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、1,1,
1−トリクロロエタン、o−、m−,p−ジクロロベン
ゼンなどの塩素系溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレン
などの芳香族系炭化水素などに二価のカルボン酸ハライ
ドを溶解させた溶液を先のアルカリ溶液に混合する。2
5℃以下の温度で1時間〜5時間撹拌しながら反応を行
うことによって本発明の樹脂を得ることができ、この被
膜形成用樹脂は、実質的に非晶性であり、分子量が高
く、電気的特性と耐摩耗性に優れたポリアリレートであ
る。
On the other hand, a solvent which is not compatible with water and dissolves polyarylate, for example, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene, 1,1,2,2-tetrachloroethane , 1,1,
The solution obtained by dissolving a divalent carboxylic acid halide in a chlorine-based solvent such as 1-trichloroethane, o-, m-, p-dichlorobenzene, or an aromatic hydrocarbon such as toluene, benzene, or xylene is used as the alkali solution. Mix. 2
The resin of the present invention can be obtained by carrying out the reaction with stirring at a temperature of 5 ° C. or lower for 1 hour to 5 hours. The resin for forming a film is substantially amorphous, has a high molecular weight, Polyarylate with excellent mechanical properties and abrasion resistance.

【0035】また、この被膜形成用樹脂は汎用溶媒に対
して高い溶解性を有しているので、溶媒に溶解して、容
易に塗工液とすることができる。塗工液とするときに用
いる溶媒としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエ
タン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、
1,1,2,2−テトラクロロエタン、1,1,1−ト
リクロロエタン、o−、m−,p−ジクロロベンゼンな
どの塩素系溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレン及びテ
トラヒドロフラン等が挙げられる。
Further, since the resin for forming a film has high solubility in general-purpose solvents, it can be easily dissolved in the solvent to form a coating liquid. Solvents used when forming the coating liquid include methylene chloride, 1,2-dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene,
Examples thereof include chlorinated solvents such as 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1,1,1-trichloroethane, o-, m-, and p-dichlorobenzene, toluene, benzene, xylene, and tetrahydrofuran.

【0036】塗工液には、必要により各種添加物を含有
させ、基材上に塗工して、溶剤を除去して被膜を形成さ
せ、被覆物としてあるいはこれを剥離してフィルムとし
て用いることができる。塗工液とする際には、樹脂を少
なくとも10重量%程度の濃度、好ましくは15〜20
重量%程度の濃度で完溶することが好ましい。10重量
%未満の濃度では塗工性が低下したり、塗工した場合の
膜厚が不均一になったりすることがある。
The coating liquid may contain various additives as necessary, and may be coated on a substrate, and the solvent may be removed to form a film, which may be used as a coating or as a film after peeling off the coating. Can be. When the coating liquid is used, the resin is at a concentration of at least about 10% by weight, preferably 15 to 20%.
It is preferable to completely dissolve at a concentration of about% by weight. If the concentration is less than 10% by weight, the coatability may be reduced or the film thickness when coated may be non-uniform.

【0037】本発明の被膜形成用樹脂には、その特性を
損なわない範囲で、ヒンダードフェノール系、ヒンダー
ドアミン系、チオエーテル系、燐系等各種酸化防止剤を
添加することができる。また、各種性能を付与するため
に、カーボンブラック、アセチレンブラック、ケッチェ
ンブラック、金属粉などの導電性フィラーやシリカやタ
ルクなど各種フィラーを含有させることもできる。
Various antioxidants such as a hindered phenol type, a hindered amine type, a thioether type and a phosphorus type can be added to the resin for forming a film of the present invention as long as its properties are not impaired. In order to impart various performances, conductive fillers such as carbon black, acetylene black, Ketjen black, and metal powder, and various fillers such as silica and talc can be contained.

【0038】また、本発明の被膜形成用樹脂は、バイン
ダー用樹脂やフィルム用樹脂として用いられ、前記のよ
うな塗工液として流延法により、あるいは溶融押出法又
はカレンダー法等により、被覆物やフィルムを製造する
ことができ、モータ、変圧器、発電機等の電気機器の絶
縁材料として、電線の被覆材料として、あるいはコンデ
ンサなどの誘電体フィルム材料として用いられ、さらに
は、液晶の表示板や各種基板などへ応用が可能であり、
電気・電子材料分野へ広く応用することができる。
The resin for forming a film of the present invention is used as a resin for a binder or a resin for a film. The resin for coating is formed by a casting method as described above by a casting method, a melt extrusion method or a calender method. It can be used as an insulating material for electrical equipment such as motors, transformers, and generators, as a coating material for electric wires, or as a dielectric film material for capacitors and the like. And various substrates, etc.
It can be widely applied to electric and electronic materials.

【0039】[0039]

【実施例】次に、本発明を実施例及び比較例によって詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
なく、本発明の思想を逸脱しない範囲で種々の変形及び
応用が可能である。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these, and various modifications and applications are possible without departing from the spirit of the present invention. It is.

【0040】実施例1 撹拌装置を備えた反応容器中に2,2−ビス(3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン100重量部、
p−tert−ブチルフェノール(PTBPと記す)
1.17重量部、水酸化ナトリウム40.98重量部、
重合触媒であるトリ−n−ブチルベンジルアンモニウム
クロライド0.82重量部を仕込み、水2720重量部
に溶解した(水相)。これとは別に塩化メチレン202
3重量部に、テレフタル酸クロライド/イソフタル酸ク
ロライド=1/1混合物(MPCと略す)79.99重
量部を溶解した(有機相)。この有機相を先に調製した
水相中に強撹拌下で添加し、20℃で3時間重合反応を
行った。この後酢酸15重量部を添加して反応を停止
し、水相と有機相を分離した。この有機相に対し1回の
洗浄に対し有機相の2倍容のイオン交換水で洗浄と分離
を繰り返した。洗浄水の電気伝導度が20μSとなった
ところで洗浄を止め、50℃でホモミキサーを装着した
温水槽中に洗浄後の有機相を投入して塩化メチレンを蒸
発させ粉末状のポリマーを得た。この後脱水・乾燥して
被膜形成用樹脂を得た。得られた被膜形成用樹脂を塩化
メチレンに樹脂濃度が15重量%となるように溶解し、
塗工液を調製した。
Example 1 100 parts by weight of 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane was placed in a reaction vessel equipped with a stirrer.
p-tert-butylphenol (referred to as PTBP)
1.17 parts by weight, 40.98 parts by weight of sodium hydroxide,
0.82 parts by weight of tri-n-butylbenzylammonium chloride as a polymerization catalyst was charged and dissolved in 2720 parts by weight of water (aqueous phase). Separately, methylene chloride 202
79.99 parts by weight of a terephthalic acid chloride / isophthalic acid chloride = 1/1 mixture (abbreviated as MPC) was dissolved in 3 parts by weight (organic phase). This organic phase was added to the previously prepared aqueous phase under vigorous stirring, and a polymerization reaction was carried out at 20 ° C. for 3 hours. Thereafter, 15 parts by weight of acetic acid was added to stop the reaction, and an aqueous phase and an organic phase were separated. Washing and separation were repeated once for the organic phase with twice the volume of ion-exchanged water for the organic phase. When the electric conductivity of the washing water reached 20 μS, the washing was stopped. At 50 ° C., the washed organic phase was put into a hot water tank equipped with a homomixer, and methylene chloride was evaporated to obtain a powdery polymer. Thereafter, dehydration and drying were performed to obtain a resin for forming a film. The obtained film-forming resin is dissolved in methylene chloride so that the resin concentration becomes 15% by weight,
A coating solution was prepared.

【0041】実施例2〜17、比較例1〜3 2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン100重量部に対し、p−tert−ブチルフ
ェノール、水酸化ナトリウム、重合触媒の種類と量、M
PCの仕込み、有機相の洗浄度を変える他は、実施例1
と同様にして被膜形成用樹脂を製造し、塗工液を調製し
た。
Examples 2 to 17, Comparative Examples 1 to 3, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl)
With respect to 100 parts by weight of propane, p-tert-butylphenol, sodium hydroxide, type and amount of polymerization catalyst, M
Example 1 except that the preparation of PC and the degree of washing of the organic phase were changed.
In the same manner as in the above, a film-forming resin was produced, and a coating liquid was prepared.

【0042】比較例4及び5 2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパンのかわりに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン及び1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキサン100重量部を用いた以外は、実
施例1と同様にして樹脂を製造し、塗工液を調製した。
Comparative Examples 4 and 5 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl)
A resin was produced in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by weight of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane were used instead of propane. A coating solution was prepared.

【0043】比較例6 BP901605号公報に記載されている実施例に準じ
て、MPCのかわりにテレフタル酸クロライドを用いた
以外は全て実施例1と同様に、表1の製造条件で行い、
樹脂を製造し、塗工液を調製した。
Comparative Example 6 In the same manner as in Example 1 except that terephthalic acid chloride was used instead of MPC according to the example described in BP901605,
A resin was manufactured and a coating liquid was prepared.

【0044】樹脂及び塗工液の評価 上記のようにして得られた樹脂及び塗工液を用い、各種
評価を次に述べるようにして行った。これらの結果を表
2に示す。なお樹脂の製造条件を表1に示す。
Evaluation of Resin and Coating Liquid Various evaluations were performed as described below using the resin and the coating liquid obtained as described above. Table 2 shows the results. Table 1 shows the resin production conditions.

【0045】1)インヘレント粘度 溶媒として1,1,2,2−テトラクロロエタンを用
い、温度25℃、濃度1g/dlの条件で行った。 2)カルボキシル価 試験管に樹脂0.15gを精秤し、ベンジルアルコール
5mlに加熱溶解する。クロロフォルム10mlとポリ
マーのベンジルアルコール溶液とを混合した後フェノー
ルレッドを指示薬として加え、撹拌しながら0.1N−
KOHベンジルアルコール溶液で中和滴定を行ってカル
ボキシル価を求めた。
1) Inherent Viscosity Using 1,1,2,2-tetrachloroethane as a solvent, the reaction was carried out at a temperature of 25 ° C. and a concentration of 1 g / dl. 2) Carboxyl number 0.15 g of the resin is precisely weighed in a test tube, and dissolved by heating in 5 ml of benzyl alcohol. After mixing 10 ml of chloroform and a benzyl alcohol solution of the polymer, phenol red is added as an indicator, and 0.1N-
Neutralization titration was performed with a KOH benzyl alcohol solution to determine the carboxyl number.

【0046】3)分子量分布 ウォーターズ社製、液体クロマトグラフ(600シリー
ズ)を用い、カラムとして、ポリマーラボラトリィ社製
MIX−Gelを用いて、ポリスチレン換算の数平均分
子量と重量平均分子量を測定した。なお、測定は、クロ
ロホルムを溶媒とし40℃で行った。この値より、分子
量分散度を計算した。 4)フェノール性水酸基価 ポリマーを重クロロホルムに溶解し、プロトンNMRに
より、測定した。
3) Molecular weight distribution The number average molecular weight and the weight average molecular weight in terms of polystyrene were measured using a liquid chromatograph (600 series) manufactured by Waters, and using MIX-Gel manufactured by Polymer Laboratory as a column. The measurement was performed at 40 ° C. using chloroform as a solvent. From this value, the molecular weight dispersity was calculated. 4) Phenolic hydroxyl value The polymer was dissolved in heavy chloroform and measured by proton NMR.

【0047】5)残留ナトリウム量 ポリマーに、硝酸を添加しマイクロウエーブ湿式分解装
置により加熱処理をおこなった。順次、硫酸、過塩素酸
を添加して同様に加熱分解処理を繰り返すことにより試
料を溶液化した。得られた溶液を、原子吸光分析装置に
より分析して、ポリマー中の残留ナトリウム量を測定し
た。 6)残留触媒量 ポリマーをクロロホルムに溶解させた後、メタノールを
加えて再沈殿させ、内部標準として一定量のジフェニル
を添加し、この残留触媒を含むメタノール溶液をグスク
ロマトグラフ装置(ヒューレットパッカード社製 HP
−5890seriesII)で分析しポリマー中に残留
する触媒量を定量した。
5) Residual sodium content Nitric acid was added to the polymer, and a heat treatment was performed by a microwave wet decomposition apparatus. The sample was made into a solution by sequentially adding sulfuric acid and perchloric acid and repeating the same thermal decomposition treatment. The obtained solution was analyzed with an atomic absorption spectrometer to measure the amount of residual sodium in the polymer. 6) Amount of residual catalyst After dissolving the polymer in chloroform, methanol was added to cause reprecipitation, a certain amount of diphenyl was added as an internal standard, and a methanol solution containing the residual catalyst was passed through a gus chromatographic apparatus (HP, manufactured by Hewlett-Packard Company).
The amount of the catalyst remaining in the polymer was quantified by analysis using -5890 series II).

【0048】7)保存安定性 実施例及び比較例で得た塗工液を、25℃で1ヶ月間放
置して溶液の状態を目視にて評価した。 8)耐摩耗性 実施例及び比較例で得た塗工液から、厚み100μmの
キャストフィルムを作成した。このフィルムについて、
テーバー摩耗試験機(摩耗輪CS−10F)を用い、荷
重250gで10000サイクル試験後の重量減少を測
定し、耐摩耗性の指標とした。
7) Storage stability The coating solutions obtained in Examples and Comparative Examples were allowed to stand at 25 ° C. for one month, and the state of the solutions was visually evaluated. 8) Abrasion resistance A cast film having a thickness of 100 μm was prepared from the coating liquids obtained in Examples and Comparative Examples. About this film,
Using a Taber abrasion tester (wear wheel CS-10F), the weight loss after a 10,000 cycle test under a load of 250 g was measured and used as an index of wear resistance.

【0049】9)誘電率 実施例及び比較例で得た塗工液から、厚み50μmの溶
媒キャストフィルムを作成した。このフィルムを試験片
として、ASTM D−150に従って1MHzで測定
を行った。 10)絶縁破壊電圧 9)と同じ厚み50μmのポリアリレートフィルムを用
いて、ASTM D149に従って測定を行った。
9) Dielectric constant A solvent cast film having a thickness of 50 μm was prepared from the coating solutions obtained in Examples and Comparative Examples. Using this film as a test piece, measurement was performed at 1 MHz according to ASTM D-150. 10) Dielectric breakdown voltage The measurement was performed according to ASTM D149 using the same polyarylate film having a thickness of 50 μm as in 9).

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】[0051]

【表2】 [Table 2]

【0052】以上の結果から、次のことことが明らかに
なった。 1)比較例1〜2及び6と実施例との比較から、本発明
のポリアリレートは、分子量が高く耐摩耗性に優れてい
ることがわかった。 2)比較例2〜3及び6と実施例との比較から、本発明
のポリアリレートはカルボキシル価が低いので、電気的
な特性に優れていることがわかった。 3)比較例4〜5と実施例との比較から本発明のポリア
リレートは、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン単位を含んでいるので耐摩耗性に
優れていることがわかった。
From the above results, the following has become clear. 1) Comparison of Comparative Examples 1 to 2 and 6 with the examples showed that the polyarylate of the present invention had a high molecular weight and excellent abrasion resistance. 2) From the comparison of Comparative Examples 2-3, 6 and 6 with the examples, it was found that the polyarylate of the present invention had a low carboxyl number, and thus had excellent electrical properties. 3) From the comparison between Comparative Examples 4 and 5 and Examples, the polyarylate of the present invention is excellent in abrasion resistance because it contains 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane unit. I understand.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明の被膜形成用樹脂は、分子量が高
く、電気的特性と耐摩耗性に優れたポリアリレートから
なり、溶媒に可溶で容易に保存安定性に優れる塗工液と
することができる。したがって、これを溶媒に溶解して
塗工液とし、基板上に塗工して、溶剤を除去して被膜を
形成させて被覆物として、又は被膜を剥離してフィルム
として、各種電気・電子用材料として応用が可能であ
る。また、本発明の製造方法によれば、このような被膜
形成用の樹脂を容易に製造できる。
The resin for forming a film according to the present invention comprises a polyarylate having a high molecular weight, excellent electrical properties and abrasion resistance, and is a coating liquid which is soluble in a solvent and has excellent storage stability. be able to. Therefore, it is dissolved in a solvent to form a coating liquid, coated on a substrate, and the solvent is removed to form a coating to form a coating, or the coating is peeled off as a film, for various electric and electronic applications. It can be applied as a material. Further, according to the manufacturing method of the present invention, such a resin for forming a film can be easily manufactured.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平9−139706 (32)優先日 平9(1997)5月29日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平9−187956 (32)優先日 平9(1997)7月14日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平9−316819 (32)優先日 平9(1997)11月18日 (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 長谷川 明彦 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内 (72)発明者 濱田 和宏 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 9-139706 (32) Priority date Hei 9 (1997) May 29 (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority Claim No. 9-187956 (32) Priority date Hei 9 (1997) July 14 (33) Priority claiming country Japan (JP) (31) Priority claim number Patent application No. 9-316819 (32) Priority Japan, Japan (JP) (72) Inventor Akihiko Hasegawa 23 Uji Kozakura, Uji-city, Kyoto Prefecture Unitika Corporation Central Research Laboratory (72) Inventor Kazuhiro Hamada 23 Uji Kozakura, Uji City, Kyoto Unitika Unit Research Laboratory

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリアリレートを形成する二価フェノー
ル成分が2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパンよりなり、二価カルボン酸成分がテレ
フタル酸10〜90モル%とイソフタル酸90〜10モ
ル%よりなり、25℃で1,1,2,2−テトラクロロ
エタン中で測定した1g/dl濃度におけるインヘレン
ト粘度が0.85以上であり、かつカルボキシル価が2
0モル/トン以下であるポリアリレートからなるなるこ
とを特徴とする被膜形成用樹脂。
1. A dihydric phenol component forming a polyarylate comprises 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, and a dihydric carboxylic acid component comprises 10 to 90 mol% of terephthalic acid and isophthalic acid. 90 to 10 mol%, having an inherent viscosity of 0.85 or more at a concentration of 1 g / dl measured in 1,1,2,2-tetrachloroethane at 25 ° C. and a carboxyl number of 2
A resin for forming a film, comprising a polyarylate of 0 mol / ton or less.
【請求項2】 ポリアリレートの残留ナトリウム量が1
0ppm未満である請求項1記載の皮膜形成用樹脂。
2. The polyarylate having a residual sodium content of 1
The resin for forming a film according to claim 1, wherein the amount is less than 0 ppm.
【請求項3】 ガスクロマトグラフ法で測定したポリア
リレートの第四級アンモニウム塩又は第四級ホスホニウ
ム塩の含有量が100ppm未満である請求項1記載の
被膜形成用樹脂。
3. The resin for forming a film according to claim 1, wherein the content of the quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium salt of the polyarylate measured by gas chromatography is less than 100 ppm.
【請求項4】 ガスクロマトグラフ法で測定したポリア
リレートの第四級アンモニウム塩量又は第四級ホスホニ
ウム塩が5ppm未満である請求項3記載の樹脂。
4. The resin according to claim 3, wherein the amount of the quaternary ammonium salt or the quaternary phosphonium salt of the polyarylate measured by gas chromatography is less than 5 ppm.
【請求項5】 ポリアリレートのフェノール性水酸基価
が30モル/トン以下である請求項1記載の被膜形成用
樹脂。
5. The resin according to claim 1, wherein the polyarylate has a phenolic hydroxyl value of 30 mol / ton or less.
【請求項6】 ポリアリレートのポリスチレン換算の重
量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnが
3.0未満である請求項1記載の被膜形成用樹脂。
6. The resin for forming a film according to claim 1, wherein the ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight Mw to the number average molecular weight Mn of the polyarylate in terms of polystyrene is less than 3.0.
【請求項7】 水と相溶しない有機溶剤に溶解させた二
価のカルボン酸ハライドとアルカリ水溶液に溶解させた
二価のフェノールとを界面重合法にて反応させポリアリ
レートを得る際、触媒として炭素数3以上のアルキル基
を3個以上有する第四級アンモニウム塩又は第四級ホス
ホニウム塩を用いることを特徴とする被膜形成用樹脂の
製造方法。
7. A catalyst for obtaining a polyarylate by reacting a divalent carboxylic acid halide dissolved in an organic solvent incompatible with water with a divalent phenol dissolved in an aqueous alkali solution by an interfacial polymerization method. A method for producing a resin for forming a film, comprising using a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt having three or more alkyl groups having three or more carbon atoms.
【請求項8】 触媒として20℃で水−クロロホルム系
で測定した分配比が2.0×10-2以上2.5以下の範
囲にある第4級アンモニウム塩を用いることを特徴とす
る請求項7記載の被膜形成用樹脂の製造方法。
8. A quaternary ammonium salt having a distribution ratio of 2.0 × 10 −2 or more and 2.5 or less measured at 20 ° C. in a water-chloroform system as a catalyst. 8. The method for producing a resin for forming a film according to 7 above.
【請求項9】 請求項1記載の被膜形成用樹脂とこの樹
脂を溶解する溶媒とよりなることを特徴とする塗工液。
9. A coating liquid comprising the resin for forming a film according to claim 1 and a solvent for dissolving the resin.
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