JP2002356544A - Low-dielectric electronic material and resin composition for the same - Google Patents

Low-dielectric electronic material and resin composition for the same

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JP2002356544A
JP2002356544A JP2001274938A JP2001274938A JP2002356544A JP 2002356544 A JP2002356544 A JP 2002356544A JP 2001274938 A JP2001274938 A JP 2001274938A JP 2001274938 A JP2001274938 A JP 2001274938A JP 2002356544 A JP2002356544 A JP 2002356544A
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polyarylate
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resin
sheet
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康弘 桑名
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雅生 山田
Yoshinari Santo
善成 山東
Sukeaki Usami
祐章 宇佐見
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low-dielectric electronic material having an excellent low-dielectric property with processability required for an electronic material, a sheet and laminated board composed of the material, and a production method of a polyarylate having the low-dielectric property used as the material. SOLUTION: The low-dielectric electronic material comprises the polyarylate which consists of a residue of a dicarboxylic acid such as isophthalic acid and a residue of a dihydric phenol having a fluorene structure without having a bisphenol structure and/or an alkyl group and has a dielectric coefficient of below 2.0×10<-3> at 1 GHz. The production method of the same, a resin composition for an electronic material comprising the polyarylate and a thermosetting resin such as an epoxy resin with a compound having an active ester group as a curing agent, the low-dielectric electric materials comprising these resin compositions for an electric material and the sheet and laminated board comprising these low-dielectric electronic materials, are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高周波対応の絶縁用
シート、プリント配線板材料等の電子材料として有用
な、優れた低誘電正接を有するポリアリレートから成る
低誘電性電子材料、前記ポリアリレートと特定の熱硬化
性樹脂から成る低誘電性電子材料、それらから成るシー
トと金属箔を有する積層板、ポリアリレートの製造方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low dielectric electronic material comprising a polyarylate having an excellent low dielectric loss tangent, which is useful as an electronic material such as an insulating sheet and a printed wiring board material for high frequencies. The present invention relates to a low dielectric electronic material made of a specific thermosetting resin, a laminate having a sheet and a metal foil made of the same, and a method for producing a polyarylate.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近の情報化社会においては、膨大な情
報量を伝達・処理するために、MHz〜GHz帯の高周
波域が情報通信に用いられるようになって来ており、特
に情報通信分野では伝送損失の抑制、すなわち絶縁体の
低誘電正接が非常に重要となっており、1GHzにおけ
る誘電正接2.0×10−3以下の極めて低い誘電正接
を有する電子材料が求められている。
2. Description of the Related Art In the recent information society, in order to transmit and process an enormous amount of information, a high frequency band in a MHz to GHz band has been used for information communication. Therefore, suppression of transmission loss, that is, low dielectric loss tangent of an insulator is very important, and an electronic material having an extremely low dielectric loss tangent of 2.0 × 10 −3 or less at 1 GHz is required.

【0003】また、これらはプリント配線板等の積層板
として使用されることから、優れた機械的特性や加工時
の半田処理熱に耐えうる高耐熱性も併せて求められる。
これらの要求に応える為に、2価フェノールとイソフタ
ル酸・テレフタル酸との縮合ポリマーであるポリアリレ
ートが機械的特性、特性の等方性および電気的特性に優
れることから、電子材料として注目され、多くの報告が
為されている。
Further, since these are used as a laminate such as a printed wiring board, they are also required to have excellent mechanical properties and high heat resistance capable of withstanding the heat of soldering during processing.
To meet these demands, polyarylate, a condensation polymer of dihydric phenol and isophthalic acid / terephthalic acid, has been attracting attention as an electronic material because of its excellent mechanical properties, isotropic properties and electrical properties, Many reports have been made.

【0004】例えば、特開昭58−180525号公報
には、本発明の低誘電性電子材料に用いるポリアリレー
トの一つであるビフェノール構造を有するポリアリレー
ト、該ポリアリレートの一般的な製法および、それから
成るフィルムが開示されている。
For example, JP-A-58-180525 discloses a polyarylate having a biphenol structure, which is one of the polyarylates used for the low dielectric electronic material of the present invention, a general production method of the polyarylate, and A film comprising the same is disclosed.

【0005】特開平10−17658号公報には、本発
明に用いるビフェノール構造を有するポリアリレートを
ビスフェノールAなどの主鎖に脂肪族鎖を含む2価フェ
ノールと共にジカルボン酸と重縮合して得たポリアリレ
ートの1MHzにおける誘電率および誘電正接が3.1
および1.82×10―2であることが開示されてい
る。
JP-A-10-17658 discloses that polyarylate having a biphenol structure used in the present invention is polycondensed with a dicarboxylic acid together with a dihydric phenol containing an aliphatic chain in a main chain such as bisphenol A. The dielectric constant and the dielectric loss tangent of the allylate at 1 MHz are 3.1
And 1.82 × 10 −2 .

【0006】特開昭57−192432号公報には、同
じく本発明で用いるフルオレン骨格のビフェノール構造
を有するポリアリレートの1.0KHzにおける誘電正
接と誘電率が各々3.0×10―3と3.3であり、電
気特性に優れるポリアリレートとして開示されている。
これらは本発明の特定構造を有し、かつ特定方法により
精製したポリアリレートと異なり、二桁、一桁低い低誘
電正接しか示していない。
JP-A-57-192432 discloses that the polyarylate having a biphenol structure having a fluorene skeleton used in the present invention has a dielectric loss tangent and a dielectric constant at 1.0 KHz of 3.0 × 10 −3 and 3.0 × 10 −3 , respectively. 3, which is disclosed as a polyarylate having excellent electrical properties.
These have a specific structure of the present invention and, unlike polyarylate purified by a specific method, show a low dielectric loss tangent that is two or one orders of magnitude lower.

【0007】また、特開平10−306146号公報や
本発明者らによる特願2000―053373号には、
本発明に用いるビフェノール構造を有するポリアリレー
トを得る際に、ポリアリレートを含む溶液を貧溶媒に通
じてポリアリレートを沈殿させる方法が開示されている
が、本発明での比較例に示すように、その後の沈殿物の
洗浄による高純度化を行っておらず、誘電正接は本発明
の目的とする極めて高い水準である、1GHzにおける
誘電正接2.0×10−3以下に達していなかった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-306146 and Japanese Patent Application No. 2000-053373 by the present inventors disclose:
When obtaining a polyarylate having a biphenol structure used in the present invention, a method of precipitating the polyarylate by passing a solution containing the polyarylate through a poor solvent is disclosed, as shown in Comparative Examples of the present invention. Subsequent purification of the precipitate by washing was not performed, and the dielectric loss tangent did not reach an extremely high level of the object of the present invention, ie, 2.0 × 10 −3 or less at 1 GHz.

【0008】一方、再公表特許WO99/18141号
公報には、2価フェノール成分がアルキル置換基を有す
るフルオレン残基である新規なポリアリレートで、その
カルボキシル価が30モル/トン以下、残留するアルカ
リ金属量が50ppm未満、残留触媒が200ppm未
満、残留フェノールモノマーおよびジカルボン酸量が各
々1000ppm以下である高耐熱性高純度ポリアリレ
ートおよびそれからなるフィルムが開示されており、こ
の新規なポリアリレートが透明性、耐熱性および低複屈
折性に優れることがデータを以て開示されている。
On the other hand, WO 99/18141 discloses a novel polyarylate in which the dihydric phenol component is a fluorene residue having an alkyl substituent, the carboxyl value of which is 30 mol / ton or less, and the remaining alkali. A highly heat-resistant and high-purity polyarylate having a metal content of less than 50 ppm, a residual catalyst of less than 200 ppm, and a residual phenol monomer and dicarboxylic acid content of 1000 ppm or less, respectively, and a film comprising the same are disclosed. Excellent heat resistance and low birefringence are disclosed with data.

【0009】しかし、該公報には、これらの新規なポリ
アリレートが、如何なる電気特性を有するのか全く開示
されていない。また、この新規なポリアリレートのカル
ボキシル価、残留するアルカリ金属量、残留触媒および
残留フェノールモノマーおよびジカルボン酸量が上述の
数値を越えると電気特性が低下する傾向にあるとの記載
はあるが、これらの数値が上述の数値を越えると、如何
なる電気特性がどのように低下するのか全く開示されて
いない。
However, the publication does not disclose at all what electrical properties these novel polyarylates have. In addition, although the carboxyl number of the novel polyarylate, the amount of the remaining alkali metal, the amount of the remaining catalyst and the remaining phenol monomer and dicarboxylic acid exceed the above-mentioned values, there is a description that the electrical properties tend to decrease, Does not disclose how any electrical property is degraded when the numerical value exceeds the above-mentioned numerical value.

【0010】また、本発明者らによる特開2000−2
73297号公報には、ビフェノール骨格を有するポリ
アリレートとエポキシ樹脂との樹脂組成物が記載されて
いるが、例示されたエポキシ樹脂組成物の用途は主とし
て塗料用であり、エポキシ樹脂の硬化剤は一般の酸無水
物、アミン、フェノール、メルカプタン系のものであっ
て、本発明の比較例が示す如く、このエポキシ樹脂組成
物では優れた低誘電正接は得られなかった。
[0010] Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-2 by the present inventors.
No. 73297 describes a resin composition of a polyarylate having a biphenol skeleton and an epoxy resin, but the exemplified use of the epoxy resin composition is mainly for a paint, and a curing agent for the epoxy resin is generally used. An acid anhydride, an amine, a phenol, and a mercaptan-based epoxy resin composition. As shown in Comparative Examples of the present invention, no excellent low dielectric loss tangent was obtained with this epoxy resin composition.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来にない1GHzにおける誘電正接が
3.0×10−3以下である極めて優れた低誘電特性を
有し、かつ優れた耐熱性、引っ張り強度等の機械的特
性、および溶剤溶解性、溶液粘度の調整が容易である等
の電子材料として要求される加工性を併せ持つ低誘電性
電子材料、該低誘電性電子材料から成るシートと積層
板、および該低誘電性電子材料に用いられる低誘電特性
のポリアリレートの製造法を提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is to provide an extremely low dielectric constant having a dielectric loss tangent at 1 GHz of 3.0 × 10 -3 or less, which has not been achieved before. A low-dielectric electronic material having both heat resistance, mechanical properties such as tensile strength, and workability required for an electronic material such as easy adjustment of solvent solubility and solution viscosity, and the like. An object of the present invention is to provide a sheet and a laminate, and a method for producing a polyarylate having low dielectric properties used for the low dielectric electronic material.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、特定のビスフェノール構造およびアルキル置換
基を有しないフルオレン構造のいずれか一つ以上の2価
フェノールとフタル酸、イソフタル酸およびテレフタル
酸からなる群から選ばれ、テレフタル酸の割合が全ジカ
ルボン酸中の40モル%以下であるジカルボン酸とを界
面重縮合して得られるポリアリレートを貧溶媒で微細な
沈殿として沈殿させ、次いで親水性溶媒で該沈殿を洗浄
して精製することにより極めて優れた低誘電正接を有す
るポリアリレートが得られることを見出し本発明を完成
するに至った。
The present inventors have conducted intensive studies and have found that a specific bisphenol structure and / or a dihydric phenol having at least one of a fluorene structure having no alkyl substituent and phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid. A polyarylate obtained by interfacial polycondensation with a dicarboxylic acid selected from the group consisting of acids and having a proportion of terephthalic acid of 40 mol% or less of the total dicarboxylic acid is precipitated as a fine precipitate with a poor solvent, and then hydrophilically precipitated. The present inventors have found that a polyarylate having an extremely low dielectric loss tangent can be obtained by washing and purifying the precipitate with a neutral solvent, thereby completing the present invention.

【0013】すなわち、本発明は、構造単位(A)と
(B)の繰り返し単位(−(A)−(B)−)から成
り、前記構造単位(A)がフタル酸、イソフタル酸およ
びテレフタル酸からなる群から選ばれるジカルボン酸の
残基であり、かつ前記ジカルボン酸の残基中のテレフタ
ル酸残基の割合が40モル%以下であり、前記構造単位
(B)が、一般式(I)
That is, the present invention comprises a repeating unit (-(A)-(B)-) of the structural units (A) and (B), wherein the structural unit (A) is phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid. And the proportion of terephthalic acid residues in the residues of the dicarboxylic acid is 40 mol% or less, and the structural unit (B) is represented by the general formula (I):

【0014】[0014]

【化10】 Embedded image

【0015】(式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜
4のアルキル基、mとnは各々0〜4の整数を表す)お
よび一般式(II)
(Wherein Q and R each have 1 to 1 carbon atoms)
An alkyl group of 4 and m and n each represent an integer of 0 to 4);

【0016】[0016]

【化11】 Embedded image

【0017】で示される、いずれか1つ以上の2価フェ
ノール残基であり、アルカリ金属、アルカリ土類金属お
よび遊離ハロゲンの含有率の合計が250ppm以下
で、1GHzにおける誘電正接が2.0×10―3以下
であるポリアリレート(C)から成る低誘電性電子材料
を提供する。
Wherein the total content of alkali metal, alkaline earth metal and free halogen is 250 ppm or less and the dielectric loss tangent at 1 GHz is 2.0 × Provided is a low dielectric electronic material comprising polyarylate (C) having a density of 10 −3 or less.

【0018】本発明は、構造単位(A)と(B)の繰り
返し単位(−(A)−(B)−)から成り、前記構造単
位(A)がフタル酸、イソフタル酸およびテレフタル酸
からなる群から選ばれるジカルボン酸の残基であり、か
つ前記ジカルボン酸の残基中のテレフタル酸残基の割合
が40モル%以下であり、前記構造単位(B)が、一般
式(I)
The present invention comprises repeating units (-(A)-(B)-) of the structural units (A) and (B), wherein the structural unit (A) comprises phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid. A residue of a dicarboxylic acid selected from the group, the proportion of terephthalic acid residues in the residue of the dicarboxylic acid is 40 mol% or less, and the structural unit (B) is represented by the general formula (I)

【0019】[0019]

【化12】 Embedded image

【0020】(式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜
4のアルキル基、mとnは各々0〜4の整数を表す)お
よび一般式(II)
(Wherein Q and R each have 1 to 1 carbon atoms)
An alkyl group of 4 and m and n each represent an integer of 0 to 4);

【0021】[0021]

【化13】 Embedded image

【0022】で示される、いずれか1つ以上の2価フェ
ノール残基とから成るポリアリレート(C)と、エポキ
シ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ビスマレイミドート
リアジン樹脂、ビニルベンジルエーテル系樹脂、イソシ
アヌレート系樹脂、ベンゾジクロブテン系樹脂、ジビニ
ルベンゼン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂から成る群か
ら選ばれる一種以上の熱硬化性樹脂(D)とから成る、
アルカリ金属とアルカリ土類金属および遊離ハロゲンの
含有率が250ppm以下である電子材料用樹脂組成物
を提供する。
A polyarylate (C) comprising at least one dihydric phenol residue, an epoxy resin, a diallyl phthalate resin, a bismaleimide-triazine resin, a vinyl benzyl ether-based resin, and an isocyanurate-based resin A resin, a benzodiclobutene-based resin, a divinylbenzene-based resin, and one or more thermosetting resins (D) selected from the group consisting of polybutadiene-based resins;
Provided is a resin composition for electronic materials, wherein the content of alkali metal, alkaline earth metal and free halogen is 250 ppm or less.

【0023】また本発明は、上述のポリアリレート
(C)と熱硬化性樹脂(D)がエポキシ樹脂である電子
材料用樹脂組成物であり、前記エポキシ樹脂の硬化剤と
して一般式(III)
The present invention also provides a resin composition for electronic materials wherein the above-mentioned polyarylate (C) and thermosetting resin (D) are epoxy resins, wherein the epoxy resin has a general formula (III)

【0024】[0024]

【化14】 Embedded image

【0025】(式中、kは2〜4の整数であり、R1Wherein k is an integer of 2 to 4, and R 1 is

【0026】[0026]

【化15】 Embedded image

【0027】のいずれかの芳香族環(式中、S、T、
U、V及びWは各々炭素原子数1〜4のアルキル基、o
及びtは各々0〜5の整数、q及びrは各々0〜4の整
数、pは各々0〜3の整数を表す)であり、R2は、
Any aromatic ring of the formula (wherein S, T,
U, V and W are each an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, o
And t are each an integer of 0 to 5, q and r are each an integer of 0 to 4, p is an integer of 0 to 3), and R 2 is

【0028】[0028]

【化16】 Embedded image

【0029】のいずれかの芳香族環を表す)で示される
芳香族エステルを前記エポキシ樹脂と併せて含む電子材
料用樹脂組成物を提供する。
The present invention provides a resin composition for an electronic material, which comprises an aromatic ester represented by any one of the above (2) and (3) in combination with the epoxy resin.

【0030】また本発明は前記ポリアリレート(C)か
ら成る低誘電性電子材料から成るシートや、該シートの
片面または両面に金属箔を有する金属箔付シート、また
はポリアリレート(C)と熱硬化性樹脂(D)とから成
る、アルカリ金属とアルカリ土類金属および遊離ハロゲ
ンの含有率が250ppm以下である電子材料用樹脂組
成物、該電子材料用樹脂組成物を硬化させてなる1GH
zにおける誘電正接が3.0×10―3以下である低誘
電性電子材料や、該電子材料用樹脂組成物の半硬化物か
ら成るシートや、該半硬化物から成るシートの片面また
は両面に金属箔を有する金属箔付シート、前記ポリアリ
レート(C)から成る低誘電性電子材料から成るシート
と前記電子材料用樹脂組成物の半硬化物から成るシート
とこれらの金属箔付シートの2つ以上を加熱加圧成形し
て形成される積層板を提供する。
The present invention also relates to a sheet made of a low dielectric electronic material comprising the polyarylate (C), a sheet with a metal foil having a metal foil on one or both sides of the sheet, or a thermoset with the polyarylate (C). Resin composition for electronic materials, comprising a reactive resin (D) and having an alkali metal, alkaline earth metal and free halogen content of 250 ppm or less, and 1 GH obtained by curing the electronic material resin composition.
A low-dielectric electronic material having a dielectric loss tangent at z of 3.0 × 10 −3 or less, a sheet made of a semi-cured product of the resin composition for electronic material, or one or both surfaces of a sheet made of the semi-cured material A sheet with a metal foil having a metal foil, a sheet made of a low-dielectric material made of the polyarylate (C), a sheet made of a semi-cured product of the resin composition for an electronic material, and a sheet made of these metal foils The above provides a laminated plate formed by heating and pressing.

【0031】また本発明は、フタル酸、イソフタル酸お
よびテレフタル酸からなる群から選ばれ、テレフタル酸
の割合が全ジカルボン酸中の40モル%以下であるジカ
ルボン酸のハロゲン化物(A’)と一般式(IV)
The present invention also relates to a dicarboxylic acid halide (A ') selected from the group consisting of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, wherein the proportion of terephthalic acid is not more than 40 mol% of the total dicarboxylic acid. Formula (IV)

【0032】[0032]

【化17】 Embedded image

【0033】(式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜
4のアルキル基、mとnは各々0〜4の整数を表す)お
よび一般式(V)
(Wherein Q and R each have 1 to 1 carbon atoms)
An alkyl group of 4, m and n each represent an integer of 0 to 4) and a general formula (V)

【0034】[0034]

【化18】 Embedded image

【0035】で示される、いずれか一つ以上の2価フェ
ノール化合物(B’)とを界面重縮合させて得られるポ
リアリレートの有機溶媒溶液をポリアリレートの貧溶媒
に接触させ、前記ポリアリレートの微細な沈殿を得て、
次いで前記ポリアリレートの微細な沈殿を水および親水
性溶媒の一種以上により洗浄することを特徴とする、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属および遊離ハロゲンの含
有率の合計が250ppm以下で、1GHzにおける誘
電正接が2.0×10―3以下であるポリアリレートの
製造方法を提供する。
An organic solvent solution of polyarylate obtained by interfacial polycondensation with any one or more dihydric phenol compounds (B ') is brought into contact with a poor solvent of polyarylate, and Get a fine precipitate,
Next, the fine precipitate of the polyarylate is washed with at least one of water and a hydrophilic solvent, wherein the total content of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens is 250 ppm or less and the dielectric loss tangent at 1 GHz. Is 2.0 × 10 −3 or less.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。まず本発明に用いる特定構造を有するポリアリレー
トを説明する。本発明に用いるポリアリレートは、繰り
返し単位(−(A)−(B)−)から成る。構造単位
(A)は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸から
選ばれるジカルボン酸の残基で、かつジカルボン酸残基
中のテレフタル酸残基の割合が40モル%以下である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. First, the polyarylate having a specific structure used in the present invention will be described. The polyarylate used in the present invention is composed of repeating units (-(A)-(B)-). The structural unit (A) is a residue of a dicarboxylic acid selected from phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid, and the proportion of the terephthalic acid residue in the dicarboxylic acid residue is 40 mol% or less.

【0037】テレフタル酸の残基の割合が40モル%を
越えると、ポリアリレート分子鎖中のパラ位で連結され
る芳香族環の割合が多くなり、分子鎖が屈曲性でなく剛
直性になり、NMPなどの高い溶解力を有する有機溶媒
への溶解性も得られなくなる。特に、構成単位(A)が
イソフタロイル基/テレフタロイル基のみから構成さ
れ、そのモル比が61/39〜95/5、特に72/2
5〜84/16)であることが、耐熱性および有機溶媒
への溶解性を両立させるために好ましい。
When the proportion of terephthalic acid residues exceeds 40 mol%, the proportion of aromatic rings connected at the para-position in the polyarylate molecular chain increases, and the molecular chain becomes rigid instead of flexible. , NMP or other organic solvents having a high dissolving power cannot be obtained. In particular, the structural unit (A) is composed of only an isophthaloyl group / terephthaloyl group, and the molar ratio thereof is 61/39 to 95/5, particularly 72/2.
5 to 84/16) is preferable in order to achieve both heat resistance and solubility in an organic solvent.

【0038】例えば、構造単位(B)が3,3’,5,
5’−テトラメチルビフェノール残基である場合は、構
造単位(A)のイソフタル酸残基/テレフタル酸残基の
モル比が75/25〜84/16の範囲であれば、クロ
ロホルム、塩化メチレン、テトラクロロエタン、クロロ
ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、N−メ
チルピロリジノン(NMP)、およびアニソール等への
溶媒に5重量%以上の濃度で溶解可能であり、シートや
積層板等の作成や熱可塑性樹脂との樹脂組成物の製造に
際し好ましい加工性を有する。
For example, when the structural unit (B) is 3, 3 ', 5,
In the case of a 5′-tetramethylbiphenol residue, chloroform, methylene chloride, and the like, if the molar ratio of isophthalic acid residue / terephthalic acid residue in the structural unit (A) is in the range of 75/25 to 84/16, It can be dissolved in solvents such as tetrachloroethane, chlorobenzene, tetrahydrofuran, dioxolane, N-methylpyrrolidinone (NMP), and anisole at a concentration of 5% by weight or more. It has favorable processability in producing the composition.

【0039】次に構造単位(B)を説明する。構造単位
(B)は、一般式(I)
Next, the structural unit (B) will be described. The structural unit (B) has the general formula (I)

【0040】[0040]

【化19】 Embedded image

【0041】(式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜
4のアルキル基、mとnは各々0〜4の整数を表す)で
示されるビスフェノール構造を有する2価フェノール、
および一般式(II)
(Wherein Q and R each have 1 to 1 carbon atoms)
An alkyl group of 4, m and n each represent an integer of 0 to 4), and a dihydric phenol having a bisphenol structure
And general formula (II)

【0042】[0042]

【化20】 Embedded image

【0043】で示される、アルキル置換基を有しないフ
ルオレン構造の2価フェノールのいずれか一つ以上の2
価フェノール残基である。
Any one or more of dihydric phenols having a fluorene structure having no alkyl substituent represented by
It is a phenol residue.

【0044】ビフェノール構造を有する2価フェノール
残基の場合は、QおよびRの炭素原子数1〜4のアルキ
ル基は、それぞれ独立に直鎖および鎖状のアルキル基が
挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチ
ル基またはn−ブチル基等が挙げられる。
In the case of a dihydric phenol residue having a biphenol structure, the alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms for Q and R are each independently a linear or chain alkyl group. , A methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group or an n-butyl group.

【0045】特にQおよびRがメチル基であることが好
ましく、さらにmおよびnは各々2であることが好まし
い。またその置換位置が3,3’,5,5’の位置である
と難燃性を呈しさらに好ましく、構造単位(B)が3,
3’,5,5’−テトラメチルビフェノール残基である
ことが最も好ましい。また、フルオレン構造を有する2
価フェノールの場合は、フルオレン構造にアルキル置換
基を有しないことが誘電正接を低く抑える点から好まし
い。
Particularly, Q and R are preferably a methyl group, and m and n are each preferably 2. When the substitution position is 3,3 ', 5,5', it is more preferable to exhibit flame retardancy.
Most preferably, it is a 3 ', 5,5'-tetramethylbiphenol residue. In addition, 2 having a fluorene structure
In the case of a divalent phenol, it is preferable that the fluorene structure has no alkyl substituent from the viewpoint of suppressing the dielectric loss tangent.

【0046】なお、上述の2価フェノールとしては、一
般式(I)のビフェニル骨格を有する2価フェノールが
低誘電正接と有機溶媒溶解性に優れ、かつ後述する洗浄
によるアルカリ金属等の不純物の除去が効率的に行える
ことから、優れた加工性と誘電特性とを有するポリアリ
レートを得る観点から特に好ましい。
As the above-mentioned dihydric phenol, a dihydric phenol having a biphenyl skeleton represented by the general formula (I) has a low dielectric loss tangent and excellent organic solvent solubility, and removes impurities such as alkali metals by washing described later. Is particularly preferable from the viewpoint of obtaining a polyarylate having excellent workability and dielectric properties.

【0047】構造単位(A)と構造単位(B)の比率
は、本発明の効果を達成する範囲で有れば特に制限はな
いが、モル比で(A)/(B)が0.8〜1.2が好ま
しく、さらに、十分な機械的強度を示す分子量を得るた
めに0.9〜1.1がより好ましく挙げられる。
The ratio of the structural unit (A) to the structural unit (B) is not particularly limited as long as the effect of the present invention is achieved, but the molar ratio of (A) / (B) is 0.8. To 1.2, more preferably 0.9 to 1.1 in order to obtain a molecular weight showing sufficient mechanical strength.

【0048】本発明に用いるポリアリレート(C)は特
定の構造の屈曲性ポリマーであり有機溶媒へ溶解した状
態から薄膜化できる点で、他のポリアリレートに比し有
利であり、高温条件下で溶融する剛直な液晶ポリアリレ
ートとは本質的に異なり、260〜320℃の半田浴へ
の浸せきによっても流動変形を起こさない。また、本発
明に用いるポリアリレートは、液晶ポリアリレートで実
用上大きな問題となっている特性発現の異方性が抑制さ
れている長所も有する。
The polyarylate (C) used in the present invention is a flexible polymer having a specific structure and is advantageous over other polyarylates in that it can be formed into a thin film from a state dissolved in an organic solvent. Unlike a rigid liquid crystal polyarylate that melts, it does not undergo flow deformation even when immersed in a solder bath at 260 to 320 ° C. Further, the polyarylate used in the present invention also has an advantage in that the anisotropy of the characteristic manifestation, which is a practically significant problem in liquid crystal polyarylate, is suppressed.

【0049】ポリアリレート(C)の分子量は特に限定
されないが、機械的強度と溶媒への溶解性や溶液の塗工
性を得るためには適切な分子量範囲のものが好ましい。
具体的には、クロロホルム溶液でのインヘレント粘度値
が0.6〜3.2dL/gであることが好ましく、1.
0〜2.6dL/gがさらに好ましい。
The molecular weight of the polyarylate (C) is not particularly limited, but is preferably in an appropriate molecular weight range in order to obtain mechanical strength, solubility in a solvent and coatability of a solution.
Specifically, the inherent viscosity value in the chloroform solution is preferably 0.6 to 3.2 dL / g, and
0 to 2.6 dL / g is more preferred.

【0050】特に、ポリアリレート(C)を後述する熱
硬化性樹脂(D)との組成物の形で使用する場合は、優
れた強靱性を得るために、インヘレント粘度値は2.0
〜2.6dL/であることが好ましい。インヘレント粘
度値が0.6dL/g以上で有れば機械的強度の向上と
化学的安定性と十分な耐熱性が得られる。また3.2d
L/g以下であれば有機溶媒への溶解性、溶媒に溶解し
た状態での粘度の安定性、ゲル化、沈降などの問題を生
じにくい点で有利である。
In particular, when the polyarylate (C) is used in the form of a composition with the thermosetting resin (D) to be described later, the inherent viscosity is 2.0 to obtain excellent toughness.
It is preferably ~ 2.6 dL /. When the inherent viscosity is 0.6 dL / g or more, improvement in mechanical strength, chemical stability and sufficient heat resistance can be obtained. 3.2d
L / g or less is advantageous in terms of solubility in an organic solvent, stability of viscosity in a state of being dissolved in a solvent, and difficulty in causing problems such as gelation and sedimentation.

【0051】ポリアリレート(C)には、製造の際の界
面重合時に使用するアルカリ金属やそれに含まれるアル
カリ土類金属、また原料中に混在するアルカリ金属やア
ルカリ土類金属が不純物として混入して来る。また、残
留モノマーの除去にアルカリ性の水溶液を用いて洗浄す
る場合にもアルカリ金属やアルカリ土類金属が混入す
る。また、遊離ハロゲンとして、例えば未反応のカルボ
ン酸塩化物、副生物であるアルカリ金属またはアルカリ
土類金属のハロゲン化物や塩酸、相間移動触媒、界面活
性剤由来のものも含まれる。
In the polyarylate (C), the alkali metal used in the interfacial polymerization during the production, the alkaline earth metal contained therein, and the alkali metal or alkaline earth metal mixed in the raw materials are mixed as impurities. come. Further, when washing is performed using an alkaline aqueous solution to remove the residual monomer, an alkali metal or an alkaline earth metal is mixed. The free halogens include, for example, unreacted carboxylic acid chlorides, alkali metal or alkaline earth metal halides as by-products, hydrochloric acid, phase transfer catalysts, and those derived from surfactants.

【0052】優れた低誘電正接を有する低誘電性電子材
料として用いるポリアリレートを得るためには、ポリア
リレート中のアルカリ金属、アルカリ土類金属および遊
離ハロゲンの含有率の合計を250ppm以下に抑える
ことが必要であり、好ましくは150ppm以下、更に
好ましくは50ppm以下、最も好ましくは20ppm
以下である。低誘電正接は、ポリアリレートを電子材料
として使用する際に、伝送損失を低減できる点で、最も
重用な特性であり、この値が低いほど伝送損失の少ない
好適な電子材料となる。
In order to obtain a polyarylate used as a low dielectric electronic material having an excellent low dielectric loss tangent, the total content of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens in the polyarylate must be suppressed to 250 ppm or less. Is required, preferably 150 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, and most preferably 20 ppm or less.
It is as follows. The low dielectric loss tangent is the most important characteristic in that when polyarylate is used as an electronic material, transmission loss can be reduced. The lower this value is, the lower the loss becomes, the more preferable the electronic material is.

【0053】更に詳述すると、アルカリ金属とアルカリ
土類金属の含有率は100ppm以下がより好ましく、
30ppm以下がさらに好ましく、10ppm以下が最
も好ましい。またポリアリレート(C)中の遊離ハロゲ
ンの含有量は100ppm以下が好ましく、30ppm
以下がより好ましく、10ppm以下が最も好ましい。
これら金属と遊離ハロゲンの低減は、高温・高湿環境下
での酷使に耐えうる安定した低誘電正接を得る点でも重
要である。
More specifically, the content of alkali metal and alkaline earth metal is more preferably 100 ppm or less.
It is more preferably at most 30 ppm, most preferably at most 10 ppm. The content of free halogen in the polyarylate (C) is preferably 100 ppm or less, more preferably 30 ppm.
The following is more preferable, and 10 ppm or less is most preferable.
Reduction of these metals and free halogens is also important in obtaining a stable low dielectric loss tangent that can withstand abuse in a high temperature and high humidity environment.

【0054】さらに優れた低誘電性電子材料を得るため
には、ポリアリレート(C)中の原料モノマーに由来す
るフェノール性水酸基の含有量を200ppm以下に抑
えることが好ましく、100ppm以下がより好まし
く、30ppm以下がさらに好ましく、10ppm以下
が最も好ましい。
In order to obtain a further excellent low dielectric electronic material, the content of the phenolic hydroxyl group derived from the raw material monomer in the polyarylate (C) is preferably suppressed to 200 ppm or less, more preferably 100 ppm or less. It is more preferably at most 30 ppm, most preferably at most 10 ppm.

【0055】これらの不純物の低減により、特に誘電正
接が低く抑えられ、高温高湿環境下での信頼性が高い電
子材料を提供することが可能となる。高温高湿環境下で
の信頼性としては、60℃、95%RH(相対湿度)の
条件下で1000時間保存した場合の誘電正接の変化が
35%未満であることが好ましく、20%未満であるこ
とがさらに好ましい。
By reducing these impurities, it is possible to provide an electronic material having a low dielectric loss tangent and a high reliability under a high temperature and high humidity environment. The reliability under a high-temperature and high-humidity environment is preferably such that the change in the dielectric loss tangent when stored at 60 ° C. and 95% RH (relative humidity) for 1000 hours is less than 35%, and less than 20%. It is more preferred that there be.

【0056】これらの2つの条件、すなわち、上述した
特定の構造を有するポリアリレートで、かつそのアルカ
リ金属、アルカリ土類金属および遊離ハロゲンの含有率
の合計が250ppm以下であるポリアリレートを用い
ることにより、1GHzにおける誘電正接が2.0×1
―3以下である低誘電性電子材料を得ることが出来
る。すなわち、本発明で言う低誘電性とは、1GHzに
おける誘電正接が2.0×10―3以下であることを意
味し、なかでも1GHzにおける誘電率が2.9以下で
あることが好ましい。
By using these two conditions, that is, a polyarylate having the specific structure described above and having a total content of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens of 250 ppm or less, The dielectric loss tangent at 1 GHz is 2.0 × 1
0 -3 can be obtained a low-dielectric electronic material or less. That is, the low dielectric property in the present invention means that the dielectric loss tangent at 1 GHz is 2.0 × 10 −3 or less, and it is particularly preferable that the dielectric constant at 1 GHz is 2.9 or less.

【0057】次に本発明に用いるポリアリレート(C)
の製造法について詳細に説明する。ポリアリレートの合
成法としては、界面重合法、溶液重合法等が知られてい
るが、本発明に用いるポリアリレート(C)の製造方法
としては、得られるポリアリレートの純度が高く誘電正
接が低いものが、短時間で得られることから、界面重合
法が好ましい。
Next, the polyarylate (C) used in the present invention
The production method will be described in detail. As a method for synthesizing polyarylate, an interfacial polymerization method, a solution polymerization method, and the like are known, but as a method for producing polyarylate (C) used in the present invention, the obtained polyarylate has high purity and low dielectric loss tangent. Since the product can be obtained in a short time, the interfacial polymerization method is preferable.

【0058】まず、フタル酸、イソフタル酸およびテレ
フタル酸からなる群から選ばれる一種以上のジカルボン
酸のハロゲン化物で、ジカルボン酸中のテレフタル酸の
割合が40モル%以下であるジカルボン酸のハロゲン化
物(A’)の有機溶媒溶液と一般式(IV)
First, a halide of one or more dicarboxylic acids selected from the group consisting of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, wherein the proportion of terephthalic acid in the dicarboxylic acid is 40 mol% or less ( A ′) Organic Solvent Solution and General Formula (IV)

【0059】[0059]

【化21】 Embedded image

【0060】(式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜
4のアルキル基、mとnは各々0〜4の整数を表す)お
よび一般式(V)
(Wherein Q and R each have 1 to 1 carbon atoms)
An alkyl group of 4, m and n each represent an integer of 0 to 4) and a general formula (V)

【0061】[0061]

【化22】 Embedded image

【0062】で示される2価フェノール化合物(B’)
のフェノラートイオンとを接触させ、ジカルボン酸のハ
ロゲン化物(A’)と2価フェノール化合物(B’)と
を界面重縮合させてポリアリレートを得る。
Dihydric phenol compound (B ')
And a polyhydric acid is obtained by interfacial polycondensation of the dicarboxylic acid halide (A ′) and the dihydric phenol compound (B ′).

【0063】より具体的な製法としては、上述のジカル
ボン酸のハロゲン化物(A’)をトルエンや塩化メチレ
ン等の有機溶媒に溶解させ、また上述の2価フェノール
(B‘)をアルカリ金属の水溶液に各々0.1〜2モル
/Lの範囲で溶解させ、それら2液を接触させることに
より、ジカルボン酸ハロゲン化物と、2価フェノールを
界面重合させてポリアリレートを得る例が挙げられる。
As a more specific production method, the above-mentioned dicarboxylic acid halide (A ′) is dissolved in an organic solvent such as toluene or methylene chloride, and the above-mentioned dihydric phenol (B ′) is dissolved in an aqueous alkali metal solution. Are dissolved in the range of 0.1 to 2 mol / L, and the two solutions are brought into contact with each other to interfacially polymerize a dicarboxylic acid halide and a dihydric phenol to obtain a polyarylate.

【0064】この際、有機溶媒に相間移動触媒を添加す
ると反応が促進されて好ましい。かかる相間移動触媒と
しては、塩化メチルトリオクチルアンモニウム、塩化ベ
ンジルトリエチルアンモニウムなどのアンモニウム塩、
臭化テトラブチルホスホニウムなどのホスホニウム塩が
挙げられる。
At this time, it is preferable to add a phase transfer catalyst to the organic solvent since the reaction is accelerated. Examples of such a phase transfer catalyst include ammonium salts such as methyltrioctylammonium chloride and benzyltriethylammonium chloride;
And phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide.

【0065】用いる水の酸素を除去しておくと、得られ
るポリアリレートの着色が抑制できるので好ましい。ま
た、界面活性剤を添加することも可能である。重縮合反
応はバッチ式でも連続式でも良い。反応温度は、−5〜
100℃の温度で且つ溶媒の沸点を超えない温度が挙げ
られるが、0〜80℃が好ましい。
It is preferable to remove the oxygen of the water to be used since the coloring of the resulting polyarylate can be suppressed. It is also possible to add a surfactant. The polycondensation reaction may be a batch type or a continuous type. The reaction temperature is between -5 and
A temperature of 100 ° C. and a temperature not exceeding the boiling point of the solvent may be mentioned, but a temperature of 0 to 80 ° C. is preferred.

【0066】本発明は、上述のようにジカルボン酸ハロ
ゲン化物と2価フェノール化合物とを界面重縮合させて
得られるポリアリレートを反応溶媒のまま、もしくは他
の有機溶媒に溶解した有機溶媒溶液をポリアリレートの
貧溶媒に接触させてポリアリレートを微細な沈殿として
沈殿させ、次いでポリアリレートの沈殿を水および親水
性溶媒の一種以上により洗浄する。
According to the present invention, a polyarylate obtained by interfacial polycondensation of a dicarboxylic acid halide and a dihydric phenol compound as described above is used as a reaction solvent or an organic solvent solution obtained by dissolving it in another organic solvent. The polyarylate is precipitated as a fine precipitate by contacting it with a poor solvent of the arylate, and the polyarylate precipitate is then washed with one or more of water and a hydrophilic solvent.

【0067】すなわち、(a)得られたポリアリレート
の有機溶媒溶液をポリアリレートの貧溶媒に接触させて
ポリアリレートを微細な沈殿として得る沈殿精製操作、
および(b)得られたポリアリレートの微細な沈殿を水
および親水性溶媒の一種以上により洗浄する洗浄精製操
作とを組み合わせることにより、アルカリ金属、アルカ
リ土類金属および遊離ハロゲンの含有率の合計が250
ppm以下で、1GHzにおける誘電正接が2.0×1
―3以下であるポリアリレート(C)が得られる。
That is, (a) a precipitation and purification operation in which the resulting polyarylate in an organic solvent is brought into contact with a poor solvent for polyarylate to obtain polyarylate as fine precipitates;
And (b) by combining the obtained fine precipitate of polyarylate with a washing and purifying operation of washing with water or at least one hydrophilic solvent, whereby the total content of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens is reduced. 250
ppm or less, the dielectric loss tangent at 1 GHz is 2.0 × 1
0 -3 or less polyarylate (C) is obtained.

【0068】(a)の沈殿精製操作は、ポリアリレート
を溶解した有機溶媒溶液に貧溶媒を接触させてポリアリ
レートを微細な沈殿として析出させる方法であり、ポリ
アリレートを溶解させる有機溶媒としては、クロロホル
ム、塩化メチレン、テトラクロロエタン、クロロベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、N−
メチルピロリジノンまたはアニソールが挙げられる。
The precipitation purification operation (a) is a method in which a poor solvent is brought into contact with an organic solvent solution in which polyarylate is dissolved to precipitate polyarylate as fine precipitates. Chloroform, methylene chloride, tetrachloroethane, chlorobenzene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolan, N-
Examples include methylpyrrolidinone or anisole.

【0069】ポリアリレートの貧溶媒としてはポリアリ
レートを溶解した有機溶媒溶液に可溶で、かつポリアリ
レートを溶解させないものであれば特に限定されない
が、例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトン
や2−ブタノンなどのケトン類が挙げられる。
The poor solvent for polyarylate is not particularly limited as long as it is soluble in an organic solvent solution in which polyarylate is dissolved and does not dissolve polyarylate. For example, alcohols such as methanol, acetone and 2- And ketones such as butanone.

【0070】特に精製効率を高めるためには、ポリアリ
レートを溶解した有機溶媒溶液とポリアリレートの貧溶
媒とを連続的に高剪断型のミキシング機に導入し、連続
的に沈殿操作を行うことが好ましい。また、バッチ式
や、自公転する高回転速翼や、高速翼を含む複数翼で撹
拌を行うキシング機などでの沈殿精製操作も有効であ
る。いずれの場合も、撹拌翼の周速は10〜30m/秒
であると精製効率が高い。周速が該範囲未満だと、沈殿
が粗大になり精製効率が十分でなく、また、この範囲を
超えた高回転では、剪断による発熱が過多になる不具合
を生じ易い。
In particular, in order to increase the purification efficiency, it is necessary to continuously introduce the organic solvent solution in which the polyarylate is dissolved and the poor solvent of the polyarylate into a high-shear type mixing machine, and to continuously perform a precipitation operation. preferable. It is also effective to use a batch type, a high-rotation speed blade that revolves on its own axis, or a sedimentation purification operation using a mixing machine that performs stirring with a plurality of blades including a high-speed blade. In any case, if the peripheral speed of the stirring blade is 10 to 30 m / sec, the purification efficiency is high. If the peripheral speed is less than the above range, the precipitation becomes coarse and the purification efficiency is not sufficient, and if the rotation speed is higher than this range, the problem of excessive heat generation due to shearing tends to occur.

【0071】この精製工程において、ポリアリレートの
微細な沈殿を得ることは、ポリアリレートからの不純物
の除去を効率化する。微細な沈殿としては、具体的に
は、100μm以下の粒径のポリアリレート粉体とした
沈殿が例示できる。
Obtaining a fine precipitate of polyarylate in this purification step makes removal of impurities from polyarylate more efficient. Specific examples of the fine precipitate include a precipitate formed as a polyarylate powder having a particle diameter of 100 μm or less.

【0072】上述の沈殿操作には、ポリアリレートを溶
解した有機溶媒の溶液を用いるが、この操作を簡便に行
うために、ポリアリレートの合成工程を行って得た有機
溶液相をそのまま、貧溶媒に接触させるのが良い。この
場合、ポリアリレート合成に用いる有機溶媒は塩化メチ
レンなどのポリアリレートの溶解性の高い溶媒で行うこ
とが好ましい。この際、ポリアリレートの有機溶媒への
溶解性が不十分であると、沈殿操作による精製が十分行
われず、フェノールモノマーに由来する残留フェノール
性水酸基の除去が不十分となる場合がある。
In the above-mentioned precipitation operation, a solution of an organic solvent in which polyarylate is dissolved is used. In order to easily perform this operation, the organic solution phase obtained by performing the polyarylate synthesis step is directly used as a poor solvent. It is good to contact. In this case, the organic solvent used for polyarylate synthesis is preferably a solvent having high solubility of polyarylate such as methylene chloride. At this time, if the solubility of the polyarylate in the organic solvent is insufficient, the purification by the precipitation operation is not sufficiently performed, and the removal of the residual phenolic hydroxyl group derived from the phenol monomer may be insufficient.

【0073】(b)のポリアリレートの洗浄精製操作で
は、上記の沈殿操作で得たポリアリレートの微細な沈殿
をイオン交換水および親水性溶媒の一種以上により洗浄
する。このときの洗浄液の温度は50℃以上が好まし
く、75℃以上だと更に好ましい。また親水性溶媒はア
ルコール類が好ましい。アルカリ金属、アルカリ土類金
属および遊離ハロゲンの含有率を効果的に低減する上
で、洗浄操作は2回以上繰り返すことが好ましい。
In the (b) washing and purifying operation of polyarylate, the fine precipitate of polyarylate obtained by the above-mentioned sedimentation operation is washed with at least one of ion-exchanged water and a hydrophilic solvent. The temperature of the cleaning liquid at this time is preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 75 ° C. or higher. Further, the hydrophilic solvent is preferably an alcohol. In order to effectively reduce the contents of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens, it is preferable that the washing operation is repeated at least twice.

【0074】なお、ポリアリレートの洗浄精製として
は、上述したポリアリレートの沈殿精製前に、ポリアリ
レートの有機溶媒溶液を水やアルカリ性の水で洗浄する
ことも可能であるが、微細なポリアリレートの沈殿をイ
オン交換水や親水性溶媒によって洗浄する方法の方が、
アルカリ金属、アルカリ土類金属および遊離ハロゲンの
含有率を効果的に低減する上で、より有効であり、ポリ
アリレートの有機溶媒溶液を水やアルカリ水で洗浄する
ことは、微細なポリアリレート沈殿の洗浄と組み合わせ
て行う必要がある。
As for the purification and purification of polyarylate, it is possible to wash the organic solvent solution of polyarylate with water or alkaline water before the above-mentioned precipitation and purification of polyarylate. The method of washing the precipitate with ion-exchanged water or a hydrophilic solvent,
It is more effective in effectively reducing the content of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens.Washing an organic solvent solution of polyarylate with water or alkaline water can reduce fine polyarylate precipitation. Must be performed in combination with cleaning.

【0075】これらの精製操作によりポリアリレート中
に残留するアルカリ金属、アルカリ土類金属および遊離
ハロゲンの含有率の合計が250ppm以下で、好まし
くは各々を100ppm以下、さらに好ましくは30p
pm以下、より好ましくは10ppm以下に低減せしめ
ることができ、1GHzにおける誘電正接が2.0×1
―3以下であるポリアリレート(C)を製造すること
ができる。
The total content of alkali metal, alkaline earth metal and free halogen remaining in the polyarylate by these purification operations is 250 ppm or less, preferably 100 ppm or less, more preferably 30 ppm or less.
pm or less, more preferably 10 ppm or less, and the dielectric loss tangent at 1 GHz is 2.0 × 1
0 -3 or less is polyarylate (C) can be produced.

【0076】本発明のポリアリレート(C)は、アルカ
リ金属とアルカリ土類金属および遊離ハロゲンの含有率
の合計が250ppm以下で、1GHzにおける誘電正
接が2.0×10―3以下である。また、本発明のポリ
アリレート(C)は、ガラス転移温度(Tg)が260
〜310℃で示される高耐熱性を示し、その引っ張り強
度は、一般に100〜240MPaであり、好ましい例
では、140〜240MPaであり、その引っ張り弾性
率は、一般に1.5〜3.0GPaであり、好ましい例
では、2.5〜3.0GPaであり、その破断伸び値
は、一般に30〜120%であり、好ましい例では70
〜120%である。
The polyarylate (C) of the present invention has a total content of alkali metal, alkaline earth metal and free halogen of 250 ppm or less and a dielectric loss tangent at 1 GHz of 2.0 × 10 −3 or less. The polyarylate (C) of the present invention has a glass transition temperature (Tg) of 260.
It exhibits high heat resistance shown at ℃ 310 ° C., its tensile strength is generally 100-240 MPa, and in a preferred example, it is 140-240 MPa, and its tensile elastic modulus is generally 1.5-3.0 GPa. In a preferred example, it is 2.5 to 3.0 GPa, and its elongation at break is generally 30 to 120%, and in a preferred example, it is 70 to 120 GPa.
~ 120%.

【0077】従って、本発明のポリアリレート(C)か
ら成る低誘電性電子材料は、優れた機械的特性、高耐熱
性、および低誘電正接を有し、例えばシートや積層板等
の形態で用いることができる。なお、本発明において
「シート」とは、平版状に成形した連続構造をなすシー
トまたはフィルムを意味し、その厚みは特に制限される
ものではないが通常1〜500μmである。
Therefore, the low dielectric electronic material comprising the polyarylate (C) of the present invention has excellent mechanical properties, high heat resistance and low dielectric loss tangent, and is used in the form of, for example, a sheet or a laminate. be able to. In the present invention, "sheet" means a sheet or film having a continuous structure formed into a planographic shape, and its thickness is not particularly limited, but is usually 1 to 500 µm.

【0078】次に、ポリアリレート(C)と熱硬化性樹
脂(D)とを含む電子材料用樹脂組成物の硬化物から得
られる低誘電性電子材料について説明する。すなわち、
この低誘電性電子材料は、ポリアリレート(C)と熱硬
化性樹脂(D)とを含む電子材料用樹脂組成物の硬化物
からなり、組成物中のアルカリ金属とアルカリ土類金属
および遊離ハロゲンの含有率が200ppm以下で、そ
の熱硬化性樹脂成分を硬化せしめた後の、1GHzにお
ける誘電正接が3.0×10―3以下であり、金属膜な
どとの接着性に優れる低誘電性電子材料である。
Next, a low dielectric electronic material obtained from a cured product of a resin composition for electronic materials containing a polyarylate (C) and a thermosetting resin (D) will be described. That is,
This low-dielectric electronic material comprises a cured product of a resin composition for electronic materials containing a polyarylate (C) and a thermosetting resin (D), and contains an alkali metal, an alkaline earth metal, and a free halogen in the composition. Is less than 200 ppm, the dielectric loss tangent at 1 GHz after the thermosetting resin component is cured is 3.0 × 10 −3 or less, and the low dielectric element has excellent adhesiveness to a metal film or the like. Material.

【0079】また、本発明のポリアリレート(C)と熱
硬化性樹脂(D)とを含む組成物から形成される低誘電
性電子材料に含まれる残留フェノール性水酸基の含有率
は、200ppm以下であることが、低い誘電正接や誘
電率の電子材料用樹脂組成物を得る観点から好ましい。
また、本発明のポリアリレート(C)と熱硬化性樹脂
(D)とを含む組成物から形成される低誘電性電子材料
の好ましい1GHzでの誘電率は3.0以下である。
The content of residual phenolic hydroxyl groups contained in the low dielectric electronic material formed from the composition containing the polyarylate (C) of the present invention and the thermosetting resin (D) is 200 ppm or less. It is preferable from the viewpoint of obtaining a resin composition for electronic materials having a low dielectric loss tangent and a low dielectric constant.
The low dielectric electronic material formed from the composition containing the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) of the present invention preferably has a dielectric constant at 1 GHz of 3.0 or less.

【0080】上述したポリアリレート(C)は、熱硬化
性樹脂(D)との相溶性に優れ、その配合が容易である
特徴を有する。本発明のポリアリレート(C)と熱硬化
性樹脂(D)とを含む電子材料用樹脂組成物は、高い機
械的特性(例えば、60〜100MPPaの引っ張り強
度)と高い接着性(例えば金属箔との接着強度が1.9
〜2.3N/m)を有する低誘電性電子材料を与え、そ
の上に優れた耐薬品性や、加熱加圧成型時での優れた流
動性を示す。
The above-mentioned polyarylate (C) is excellent in compatibility with the thermosetting resin (D), and is characterized in that its compounding is easy. The resin composition for electronic materials containing the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) of the present invention has high mechanical properties (for example, a tensile strength of 60 to 100 MPa) and high adhesiveness (for example, a metal foil). Has an adhesive strength of 1.9
(2.3 N / m), and exhibits excellent chemical resistance and excellent fluidity during hot press molding.

【0081】耐薬品性としては、酸や塩基への耐性があ
り、例えば、40℃の10%の水酸化ナトリム溶液や4
0℃の30%の塩酸溶液に浸漬しても何ら異常を示さ
ず、その重量変化は0.4重量%以下である。また、上
述したポリアリレートを溶解する溶媒種への耐溶剤性が
増強される特徴を有する。熱加圧成形時の流動性として
は、配線板への積層の際にも回路への組成物の充填性は
良好であり、ポリアリレート単独では困難な250℃以
下の温度での加熱加圧成形が容易となる。
As chemical resistance, it has resistance to acids and bases. For example, a 10% sodium hydroxide solution at 40 ° C. or 4%
No abnormality is shown when immersed in a 30% hydrochloric acid solution at 0 ° C., and the weight change is 0.4% by weight or less. Further, it has a feature that the solvent resistance to the solvent species that dissolves the polyarylate described above is enhanced. As for the fluidity at the time of hot press molding, the filling property of the composition into the circuit is good even when laminated on a wiring board, and the hot press molding at a temperature of 250 ° C or less is difficult with polyarylate alone. Becomes easier.

【0082】用いる熱硬化性樹脂(D)としては、エポ
キシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ビスマレイミドー
トリアジン樹脂、ビニルベンジルエーテル系樹脂、イソ
シアヌレート系樹脂、ベンゾジクロブテン系樹脂、ジビ
ニルベンゼン系樹脂およびポリブタジエン系樹脂から成
る群から選ばれる一種以上の熱硬化性樹脂が挙げられる
が、中でも、エポキシ樹脂が好ましく、とりわけ活性エ
ステル硬化型のエポキシ樹脂が特に好ましい。
Examples of the thermosetting resin (D) used include epoxy resin, diallyl phthalate resin, bismaleimide-triazine resin, vinylbenzyl ether resin, isocyanurate resin, benzodiclobutene resin, divinylbenzene resin and polybutadiene. Examples include one or more thermosetting resins selected from the group consisting of base resins. Among them, epoxy resins are preferable, and active ester-curable epoxy resins are particularly preferable.

【0083】本発明に用いられるエポキシ樹脂は、主剤
と硬化剤から構成される。かかるエポキシ樹脂の主剤と
しては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール変性ノボラ
ック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、
トリフェニル型エポキシ樹脂、テトラフェニル型エポキ
シ樹脂などのフェノール系のグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂、
The epoxy resin used in the present invention comprises a main component and a curing agent. The main components of the epoxy resin include cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, naphthol-modified novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin. resin,
Phenolic glycidyl ether type epoxy resin such as triphenyl type epoxy resin and tetraphenyl type epoxy resin,

【0084】ポリプロピレングリコール、水添ビスフェ
ノール−Aなどのアルコール系のグリシジルエーテル型
エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を含有するジ
シクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を
含有するナフタレン型エポキシ樹脂、ヘキサヒドロ無水
フタル酸やダイマー酸などを原料としたグリシジルエス
テル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタンなどの
ポリアミンを原料としたグリシジルアミン型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂及びそれらの混合物などが挙げ
られる。
Alcohol-based glycidyl ether type epoxy resins such as polypropylene glycol and hydrogenated bisphenol-A, dicyclopentadiene type epoxy resins containing a dicyclopentadiene skeleton, naphthalene type epoxy resins containing a naphthalene skeleton, hexahydrophthalic anhydride And glycidylamine-type epoxy resins using polyamines such as diaminodiphenylmethane as raw materials, alicyclic epoxy resins, and mixtures thereof.

【0085】これらのエポキシ樹脂の中でも、良好な耐
熱性と低誘電正接を得る為には、クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂、ビフェニル型(アルキルビフェノール型)エポキシ
樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂からなる群
から選ばれる一種以上のエポキシ樹脂が特に好ましい。
Among these epoxy resins, in order to obtain good heat resistance and low dielectric loss tangent, cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, biphenyl type (alkylbiphenol type) epoxy resin, dicyclopentadiene type One or more epoxy resins selected from the group consisting of epoxy resins are particularly preferred.

【0086】また、エポキシ樹脂の硬化剤としては、低
誘電正接を与える観点で、活性エステルが好ましい。活
性エステルとしては、分子内に2個以上のエステル基を
有する脂肪族または芳香族エステルが挙げられる。これ
らの活性エステルは多官能フェノールまたはナフトール
等の芳香族化合物のフェノール性水酸基が芳香族酸また
は脂肪族酸でエステル化されている化合物で、該エステ
ル基がエポキシ樹脂のエポキシ基と反応するものであ
り、エポキシ基の開環反応に際して、極性の高い水酸基
が生じるのを抑制する効果を有する。
As a curing agent for the epoxy resin, an active ester is preferable from the viewpoint of providing a low dielectric loss tangent. Examples of the active ester include an aliphatic or aromatic ester having two or more ester groups in a molecule. These active esters are compounds in which the phenolic hydroxyl group of an aromatic compound such as polyfunctional phenol or naphthol is esterified with an aromatic acid or an aliphatic acid, and the ester group reacts with the epoxy group of the epoxy resin. In addition, it has an effect of suppressing the generation of a highly polar hydroxyl group during the ring opening reaction of the epoxy group.

【0087】なかでも優れた耐熱性や低誘電正接を与え
る観点で、芳香族エステルが特に好ましく、なかでも下
記の一般式(III)
From the viewpoint of providing excellent heat resistance and a low dielectric loss tangent, aromatic esters are particularly preferable. Among them, the following general formula (III):

【0088】[0088]

【化23】 Embedded image

【0089】(式中、R1(Wherein R 1 is

【化24】 のいずれかの芳香族環(式中、S、T、U、V及びWは
各々炭素原子数1〜4のアルキル基、o及びtは各々0
〜5の整数、pは各々0〜3の整数、q及びrは各々0
〜4の整数を表す)を表し、R2
Embedded image Wherein S, T, U, V and W are each an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and o and t are each 0
P is an integer of 0 to 3, q and r are each 0
R 2 represents an integer of

【化25】 Embedded image

【0090】のいずれかの芳香族環を表し、kは2〜4
の整数である)で表される芳香族エステルが好ましい。
なかでも、上述したポリアリレート(C)を溶解する溶
媒への優れた溶解性を有し、かつ、低誘電正接である硬
化物を与える観点から、α−ナフトールとイソフタル酸
から得られる2価エステル、即ちジ(α−ナフチル)イ
ソフタレートが特に好ましい。
Wherein k represents 2 to 4
And an aromatic ester represented by the following formula:
Among them, divalent esters obtained from α-naphthol and isophthalic acid have excellent solubility in a solvent that dissolves the above-mentioned polyarylate (C) and provide a cured product having a low dielectric loss tangent. That is, di (α-naphthyl) isophthalate is particularly preferred.

【0091】これらの芳香族エステルは、R2の部分を
有する多価カルボン酸、もしくは多価カルボン酸ハロゲ
ン化物と、R1の部分を有する1価フェノールから、公
知慣用のショッテンバウマン法、無水酢酸法または直接
合成法によって合成することができる。これら芳香族エ
ステルの合成の際に、アルキルビフェノール、ビスフェ
ノールA、レゾルシン等の2価フェノールを共存させ
て、長鎖をもつ芳香族エステルとしても良い。
These aromatic esters can be prepared from a polycarboxylic acid or a polycarboxylic acid halide having an R 2 portion and a monohydric phenol having an R 1 portion by a known and ordinary Schotten-Baumann method, It can be synthesized by an acetic acid method or a direct synthesis method. When synthesizing these aromatic esters, a dihydric phenol such as alkyl biphenol, bisphenol A, resorcin and the like may coexist to form an aromatic ester having a long chain.

【0092】本発明のポリアリレート(C)と熱硬化性
樹脂(D)とを含む電子材料用樹脂組成物には、必要に
応じて、イミダゾール化合物、有機ホスフィン化合物、
有機ホスファイト化合物、ホスホニウム塩、アミン化合
物、4級アンモニウム塩、尿素化合物等の硬化促進剤を
添加して使用する。また本発明の電子材料用樹脂組成物
には、該電子材料用樹脂組成物を塗工や含浸させる際に
適当な溶液粘度に調整する目的で、ポリアリレート
(C)、熱硬化性樹脂(D)および硬化剤を溶解する有
機溶媒を含んでいて良い。
The resin composition for electronic materials containing the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) of the present invention may contain an imidazole compound, an organic phosphine compound,
A curing accelerator such as an organic phosphite compound, a phosphonium salt, an amine compound, a quaternary ammonium salt, or a urea compound is used. In addition, the resin composition for electronic materials of the present invention has a polyarylate (C) and a thermosetting resin (D) for the purpose of adjusting the solution viscosity to an appropriate value when coating or impregnating the resin composition for electronic materials. ) And an organic solvent that dissolves the curing agent.

【0093】本発明のポリアリレート(C)と熱硬化性
樹脂(D)とを含む電子材料用樹脂組成物を得る方法は
特に限定されないが、例えば、ポリアリレート(C)と
熱硬化性樹脂(D)とをクロロホルム、塩化メチレン、
テトラクロロエタン、クロロベンゼン、テトラヒドロフ
ラン、1,3―ジオキソラン、N−メチル−2−ピロリ
ジノン、アニソールから成る群から選ばれる溶媒に溶解
後、用いた溶媒を10〜200℃の温度下で揮散させる
方法が例示できる。その後、必要に応じて100〜30
0℃の温度で、0.1〜3時間程度、加熱処理し、熱硬
化性樹脂(D)の熱硬化を行うことにより、上述の電子
材料用樹脂組成物からなる低誘電性電子材料を得ること
ができる。
The method for obtaining the resin composition for electronic materials containing the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) of the present invention is not particularly limited. For example, the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) may be used. D) and chloroform, methylene chloride,
An example is a method of dissolving in a solvent selected from the group consisting of tetrachloroethane, chlorobenzene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, N-methyl-2-pyrrolidinone, and anisole, and then evaporating the used solvent at a temperature of 10 to 200 ° C. it can. Then, if necessary, 100-30
A heat treatment is performed at a temperature of 0 ° C. for about 0.1 to 3 hours, and the thermosetting resin (D) is thermoset to obtain a low dielectric electronic material comprising the above resin composition for electronic materials. be able to.

【0094】この間、ポリアリレート(C)のエステル
と熱硬化性樹脂(D)間の反応も行われて差し支えな
い。さらに本発明の組成物は、熱硬化性樹脂も高純度で
あって、アルカリ金属、アルカリ土類金属および遊離ハ
ロゲンの含有率の合計が250ppm以下であることが
好ましい。
During this time, the reaction between the ester of the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) may be performed. Further, in the composition of the present invention, it is preferable that the thermosetting resin also has high purity, and the total content of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens is 250 ppm or less.

【0095】組成物中の熱硬化性樹脂(D)/ポリアリ
レート(C)の重量比が4/96以上であると、ポリア
リレート(C)単独の場合よりも、さらに優れた接着
性、耐薬品性および加熱加圧成型時の優れた流動性を付
与することができる。
When the weight ratio of the thermosetting resin (D) / polyarylate (C) in the composition is 4/96 or more, more excellent adhesion and resistance than the case of the polyarylate (C) alone. It can impart chemical properties and excellent fluidity during hot press molding.

【0096】また、ポリアリレート(C)と熱硬化性樹
脂(D)とを含む電子材料用樹脂組成物を有機溶媒に溶
解し、ワニスとして基板の塗工やクロスや不織布などの
含浸を行う場合、熱硬化性樹脂(D)96重量部に対し
てポリアリレート(C)4重量部以上を配合すると、ポ
リアリレート(C)による好適なワニスの増粘効果が明
確となる。すなわち、熱硬化性樹脂(D)96重量部に
対してポリアリレート(C)4重量部以上を配合した場
合、ワニスの粘度が500〜3000センチポイズとな
り、塗工乾燥工程での賦形維持性、含浸操作での加工性
およびシリカなどの高比重の無機充填剤を混合した場合
の該充填剤の沈降防止に好適な粘度とすることが出来
る。
Further, when a resin composition for an electronic material containing a polyarylate (C) and a thermosetting resin (D) is dissolved in an organic solvent, and a substrate is coated as a varnish or a cloth or a nonwoven fabric is impregnated. When 96 parts by weight of the thermosetting resin (D) is mixed with 4 parts by weight or more of the polyarylate (C), a suitable varnish thickening effect by the polyarylate (C) becomes clear. That is, when 4 parts by weight or more of the polyarylate (C) is blended with 96 parts by weight of the thermosetting resin (D), the viscosity of the varnish becomes 500 to 3000 centipoise, and the shape retention in the coating and drying step is improved. It is possible to obtain a viscosity suitable for processability in the impregnation operation and for preventing sedimentation of the filler when a high specific gravity inorganic filler such as silica is mixed.

【0097】本発明のポリアリレート(C)と熱硬化性
樹脂(D)とを含む電子材料用樹脂組成物の硬化物は、
優れた機械的特性、高耐熱性、および低誘電正接を示す
ことから、シートや積層板等の形態で用いることがで
き、接着シート、ビルドアップ塗工材、クロスや不織布
を基材とするプリプレグ、樹脂付き銅箔やフレキシブル
配線板用金属箔張り積層板などの金属箔付シートなどの
形で供される低誘電性電子材料、例えばプリント配線板
や半導体封止剤として好適に用いられる。
The cured product of the resin composition for electronic materials containing the polyarylate (C) of the present invention and the thermosetting resin (D) is as follows:
Because of its excellent mechanical properties, high heat resistance, and low dielectric loss tangent, it can be used in the form of sheets and laminates, etc., and prepregs based on adhesive sheets, build-up coating materials, cloth or nonwoven fabric It is suitably used as a low dielectric electronic material provided in the form of a sheet with a metal foil such as a copper foil with a resin or a metal foil-clad laminate for a flexible wiring board, for example, a printed wiring board or a semiconductor encapsulant.

【0098】本発明のポリアリレート(C)と熱硬化性
樹脂(D)との電子材料用樹脂組成物の硬化物からなる
低誘電性電子材料およびそれから成るシートは、アルカ
リ金属とアルカリ土類金属および遊離ハロゲンの含有率
の合計が250ppm以下で、1GHzにおける誘電正
接が3.0×10―3以下である。
The low dielectric electronic material comprising a cured product of the resin composition for an electronic material of the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) of the present invention and a sheet comprising the same are made of an alkali metal and an alkaline earth metal. And the total content of free halogens is 250 ppm or less, and the dielectric loss tangent at 1 GHz is 3.0 × 10 −3 or less.

【0099】また、本発明のポリアリレート(C)と熱
硬化性樹脂(D)との電子材料用樹脂組成物の硬化物か
ら成る低誘電性電子材料およびそれから成るシートは、
ポリアリレート単独の場合よりも、やや誘電特性を低下
するが、上述の如く接着性、耐薬品性、成型時の流動性
に優れ、そのガラス転移温度(Tg)は、用いる熱硬化
性樹脂(D)により異なるが、一般に120〜300℃
であり、好ましい例は160〜300℃で高耐熱性を示
す。
Further, a low dielectric electronic material comprising a cured product of the resin composition for an electronic material of the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) of the present invention, and a sheet comprising the same,
Although the dielectric properties are slightly lower than those of polyarylate alone, the adhesiveness, chemical resistance and fluidity during molding are excellent as described above, and the glass transition temperature (Tg) of the thermosetting resin (D ), But generally 120-300 ° C
And a preferred example shows high heat resistance at 160 to 300 ° C.

【0100】さらに、本発明のポリアリレート(C)と
熱硬化性樹脂(D)との電子材料用樹脂組成物の硬化物
から成る低誘電性電子材料シートは24時間23℃の水
中浸漬での吸水性試験でも低吸水率を示し、吸水率が僅
かに0.1〜0.7重量%である。低吸水率は絶縁信頼
性とともに、誘電性を高める悪影響を抑制する点でも重
要である。
Further, the low dielectric electronic material sheet made of a cured product of the resin composition for electronic materials of the polyarylate (C) of the present invention and the thermosetting resin (D) is immersed in water at 23 ° C. for 24 hours. The water absorption test also shows a low water absorption, and the water absorption is only 0.1 to 0.7% by weight. Low water absorption is important not only for insulation reliability but also for suppressing the adverse effect of enhancing dielectric properties.

【0101】ここで、本発明のシートの製造方法につい
て説明する。本発明のポリアリレート(C)からなる低
誘電性電子材料を用いてシートを製造する場合は、ポリ
アリレート(C)を有機溶媒に溶解させて溶液とし、該
溶液を流延した後に、公知慣用の溶媒キャスト法により
溶媒を揮散させ除去することにより、シートに加工する
ことができる。
Here, the method for producing the sheet of the present invention will be described. When a sheet is produced using the low dielectric electronic material comprising the polyarylate (C) of the present invention, the polyarylate (C) is dissolved in an organic solvent to form a solution. By evaporating and removing the solvent by the solvent casting method described above, the sheet can be processed.

【0102】用いる有機溶媒としては、クロロホルム、
塩化メチレン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、
テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、ジメチル
アセトアミド、N-メチルピロリジノン、アニソール、
シクロヘキサノン、トルエン、キシレンなどが挙げら
れ、これらの2種以上混合して用いても良い。
As the organic solvent used, chloroform,
Methylene chloride, tetrachloroethane, chlorobenzene,
Tetrahydrofuran, 1,3-dioxolan, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone, anisole,
Examples thereof include cyclohexanone, toluene, and xylene, and two or more of these may be used in combination.

【0103】また、本発明のポリアリレート(C)と熱
硬化性樹脂(D)とから成る電子材料用樹脂組成物を用
いてシートを製造する場合は、例えば、まず熱硬化性樹
脂(D)を有機溶媒に溶解させ、該有機溶媒溶液にポリ
アリレート(C)を溶解させ、次いで該溶液を流延した
後に、公知慣用の溶媒キャスト法等により有機溶媒を揮
散させ除去させた後に、熱硬化させることにより、シー
トとして製造することができる。両者の溶解順をかえて
も差し支えない。
When a sheet is manufactured using the resin composition for an electronic material comprising the polyarylate (C) of the present invention and the thermosetting resin (D), for example, first, the thermosetting resin (D) is used. Is dissolved in an organic solvent, the polyarylate (C) is dissolved in the organic solvent solution, and then the solution is cast. The organic solvent is volatilized and removed by a known conventional solvent casting method and the like. By doing so, it can be manufactured as a sheet. The order of dissolution of both may be changed.

【0104】積層板の成形に供されるシートは、電子材
料用樹脂組成物に含まれる熱硬化性樹脂(D)の熱硬化
を完遂させてしまうと、電子材料用樹脂組成物の流動性
が損なわれるため、半硬化物から成るシートを用いるこ
とが重要である。電子材料用樹脂組成物の半硬化の条件
は、用いる電子材料用樹脂組成物の半硬化物が賦形でき
れば良く、特に限定されないが、一般に60〜160℃
で4〜30分加熱することで半硬化物が得られる。
When the thermosetting resin (D) contained in the resin composition for an electronic material is completed, the fluidity of the resin composition for an electronic material is reduced. It is important to use a sheet made of semi-cured material because it is damaged. The condition of the semi-curing of the resin composition for electronic materials is not particularly limited as long as the semi-cured product of the resin composition for electronic materials to be used can be shaped, and is not particularly limited.
And a semi-cured product is obtained by heating for 4 to 30 minutes.

【0105】続いて、本発明のシートを積層してなる積
層板について説明する。本発明のシートは単独で用いて
もよいが、複数枚積層し加熱加圧成形して、所望の厚み
の積層板として用いることもできる。また、本発明のシ
ートとプリント配線基板等を積層成形し、接着させるこ
とも可能で、高周波通信用の多層配線基板の製造にも有
用である。
Next, a laminate obtained by laminating the sheets of the present invention will be described. The sheet of the present invention may be used alone, or a plurality of sheets may be laminated, heated and pressed, and used as a laminate having a desired thickness. Further, the sheet of the present invention and a printed wiring board or the like can be formed by lamination and adhered, which is also useful for manufacturing a multilayer wiring board for high-frequency communication.

【0106】さらに本発明のシートの両面または片面に
金、銅、アルミ等の金属箔を積層成形して両面または片
面が金属箔を張った、金属箔付きシートとすることも容
易である。金属箔付きシートの製法としては、上記シー
トと金属箔を加熱加圧成形する方法(両面または片面に
金属箔を張ったものに適用可能)、金属箔の上で上記の
溶媒キャスト法を行う方法(片面に金属箔を張ったもの
に適用可能)が挙げられる。
Further, a metal foil such as gold, copper, aluminum or the like may be laminated and formed on both sides or one side of the sheet of the present invention to easily form a sheet with a metal foil in which both sides or one side are covered with a metal foil. As a method for producing a sheet with a metal foil, a method in which the sheet and the metal foil are heated and pressed (applicable to a sheet having a metal foil on both sides or one side), and a method in which the above solvent casting method is performed on the metal foil (Applicable to metal foil on one side).

【0107】特に、ポリアリレート(C)と熱硬化性樹
脂(D)とから成る電子材料用樹脂組成物の積層板を成
形するために適した片面金属箔付きのシートを得るに
は、金属箔上での溶媒キャスト法が、適切な半硬化状態
を得やすい点で有利である。本発明の金属箔付きシート
は、必要に応じて銅箔をエッチングして回路形成をした
後に、上述のシートや、プリント配線基板と積層成形さ
れてよく、高周波通信用の多層配線基板の製造にも有用
である。
In particular, to obtain a sheet with a single-sided metal foil suitable for forming a laminate of a resin composition for an electronic material comprising a polyarylate (C) and a thermosetting resin (D), The solvent casting method described above is advantageous in that an appropriate semi-cured state is easily obtained. The sheet with a metal foil of the present invention may be formed by laminating the above-mentioned sheet or a printed wiring board after etching a copper foil as necessary to form a circuit, and for manufacturing a multilayer wiring board for high frequency communication. Is also useful.

【0108】本発明のシートおよび金属付きシートの積
層成形方法としては、プラテンに当該シートを2枚以上
はさみ、例えば250〜350℃、好ましくは280〜
350℃の温度で圧着させる方法が挙げられる。なかで
も、ポリアリレート(C)と熱硬化性樹脂(D)との電
子材料用樹脂組成物の半硬化物のシートを用いる場合
は、この温度を150〜240℃程度に下げることも可
能となるが、この場合は、熱硬化性樹脂を硬化させる加
熱時間が必要である。この時の圧力は特に限定されない
が、1〜40MPaの範囲で行うことが好ましい。真空
下で行うと空隙の発生率を低下できることが多く好まし
い。
In the method of laminating the sheet and the sheet with metal according to the present invention, two or more sheets are sandwiched between platens, for example, at 250 to 350 ° C., preferably 280 to 350 ° C.
A method of performing pressure bonding at a temperature of 350 ° C. is exemplified. In particular, when a semi-cured sheet of the resin composition for an electronic material of the polyarylate (C) and the thermosetting resin (D) is used, the temperature can be reduced to about 150 to 240 ° C. However, in this case, a heating time for curing the thermosetting resin is required. The pressure at this time is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 40 MPa. It is preferable to perform the treatment in a vacuum in many cases because the rate of void generation can be reduced.

【0109】本発明のシートは、必要に応じガラス、ア
ラミド、ポリエステルなどから成るクロスや不織布、シ
リカやマイカなどの充填材を含んだ形で片面、両面およ
び多層プリント配線基板として好ましく応用され、クロ
ス基材や不織布基材を含むプリプレグ、多層配線板用の
ビルドアップ材である樹脂付き銅箔やフレキシブル配線
板用金属箔張り積層板などの金属箔付シート、接着シー
ト、ビルドアップ塗工材など、特に低誘電正接を活かし
た500MHz以上、好ましくは1.0〜20GHz帯
といった高周波用途で特に有用である。
The sheet of the present invention is preferably applied as a single-sided, double-sided or multi-layer printed wiring board in a form containing a cloth such as glass, aramid, polyester or the like, and a filler such as silica or mica, if necessary. Sheets with metal foil, adhesive sheets, build-up coating materials, such as prepregs containing base materials and non-woven fabric base materials, resin-coated copper foil as a build-up material for multilayer wiring boards and metal foil-clad laminates for flexible wiring boards It is particularly useful for high frequency applications such as 500 MHz or higher, preferably 1.0 to 20 GHz band utilizing low dielectric loss tangent.

【0110】[0110]

【実施例】以下に、本発明を実施例で具体的に説明する
が、もとより本発明の範囲はこれらに限定されるもので
はない。用いた測定、評価方法を先に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples. The measurement and evaluation methods used will be described first.

【0111】<ガラス転移温度(Tg)の測定>セイコ
ーDMS200による1Hz、5℃/分の昇温速度にお
ける動的固体粘弾性試験のtanδピーク温度をTgと
した。
<Measurement of Glass Transition Temperature (Tg)> The tan δ peak temperature in a dynamic solid viscoelasticity test at 1 Hz and 5 ° C./min with Seiko DMS200 was defined as Tg.

【0112】<誘電特性の測定>誘電特性評価器(横河
電機製Qメータ QM−102D)を用いて周波数1M
Hzにおける誘電正接と誘電率を23℃にて決定した。
また、別途、誘電特性評価器アジレントテクノロジー製
4291Bを用いて、周波数1GHzにおける誘電正接
と誘電率を23℃にて決定した。
<Measurement of Dielectric Characteristics> A 1M frequency was measured using a dielectric characteristic evaluation device (Q meter QM-102D manufactured by Yokogawa Electric Corporation).
The dielectric loss tangent and dielectric constant in Hz were determined at 23 ° C.
Separately, the dielectric loss tangent and the dielectric constant at a frequency of 1 GHz were determined at 23 ° C. using a dielectric property evaluator 4291B manufactured by Agilent Technologies.

【0113】また、誘電特性評価に用いた試料を、60
℃、95%RH(相対湿度)の条件で1000時間保存
した後、再度上記の周波数1GHzにおける測定を行
い、誘電正接上昇率(%)=[(保存後の誘電正接―保
存前の誘電正接)/保存前の誘電正接]×100を求め
た。
The sample used for the dielectric property evaluation was 60
After storing at 1000 ° C. and 95% RH (relative humidity) for 1000 hours, the above measurement at the frequency of 1 GHz is performed again, and the dielectric loss tangent increase rate (%) = [(dielectric tangent after storage−dielectric tangent before storage) / Dielectric tangent before storage] × 100.

【0114】<半田耐熱性の評価>試料を300℃の溶
融半田浴に30秒浸漬させた後、膨れ、剥がれ、および
表面粗れ等の外観変化を調べた。
<Evaluation of Solder Heat Resistance> After the sample was immersed in a 300 ° C. molten solder bath for 30 seconds, changes in appearance such as swelling, peeling, and surface roughness were examined.

【0115】<引っ張り特性の測定>試料を、万能試験
機(島津製作所オートグラフAG−2000)を用い、
クロスヘッド速度=1mm/分で引っ張り試験を行っ
て、引っ張り強度を決定した。 <銅箔との接着性の測定>万能試験機(島津製作所オー
トグラフAG−2000)を用い、クロスヘッド速度=
5cm/分で銅箔の垂直剥離を行って、剥離強度を決定
した。
<Measurement of Tensile Characteristics> A sample was measured using a universal testing machine (Shimadzu Corporation, Autograph AG-2000).
A tensile test was performed at a crosshead speed of 1 mm / min to determine the tensile strength. <Measurement of Adhesion to Copper Foil> Using a universal testing machine (Shimadzu Autograph AG-2000), crosshead speed =
The copper foil was vertically peeled at 5 cm / min to determine the peel strength.

【0116】<不純物の定量> (アルカリ金属およびアルカリ土類金属の定量)理学電
機製ZSX100eを用い、試料紛の蛍光X線分析を先
ず行い、試料中に含まれるアルカリ金属とアルカリ土類
金属とを分析した結果、99%以上がNaであることを
予備的に確認した。次いで、Naの高精度定量を誘導結
合プラズマ発光分析装置で行った。プラズマ発光分析操
作は、まず試料を硫酸と硝酸の混合水溶液中でマイクロ
ウェーブを照射して分解して得た測定用溶液をICP装
置(パーキンエルマーOPTIMA3300DV)にか
け、発光分析を行い定量した。結果を表にNa(ppm)
で示した。
<Quantitative Determination of Impurities> (Quantification of Alkali Metals and Alkaline Earth Metals) First, a sample powder was subjected to fluorescent X-ray analysis using ZSX100e manufactured by Rigaku Denki, and alkali metal and alkaline earth metal contained in the sample were analyzed. As a result, it was preliminary confirmed that 99% or more was Na. Subsequently, high-precision quantification of Na was performed with an inductively coupled plasma emission analyzer. In the plasma emission analysis operation, first, a sample was irradiated with microwaves in a mixed aqueous solution of sulfuric acid and nitric acid to decompose the sample, and the solution for measurement was applied to an ICP apparatus (Perkin Elmer OPTIMA 3300DV) to perform luminescence analysis and quantitate. The results are shown in the table as Na (ppm)
Indicated by

【0117】(遊離ハロゲンの定量)先に試料中に含ま
れる遊離ハロゲンが99%以上塩素であることを前述の
蛍光X線分析により確認した。次いで、三菱化成製TO
X−10Σを用い、試料をアルゴン/酸素気流中で燃焼
させて生成した塩化水素を滴定セルに導き、ついで銀イ
オンを用いて自動滴定して遊離塩素を定量した。表にC
l(ppm)で示した。
(Quantitative Determination of Free Halogen) First, it was confirmed by the above-mentioned X-ray fluorescence analysis that 99% or more of the free halogen contained in the sample was chlorine. Next, the Mitsubishi Chemical TO
Using X-10 °, the sample was burned in a stream of argon / oxygen to introduce hydrogen chloride into a titration cell, and then the amount of free chlorine was determined by automatic titration using silver ions. C in the table
1 (ppm).

【0118】(残留フェノール性水酸基の定量)試料を
アセトニトリルに分散し、次いでN,O−ビス(トリメ
チルシリル)トリフルオロアセトアミドを添加して5分
間超音波を照射し、原料由来の残留2価フェノールをシ
リル化した形で抽出して、ガスクロマトグラフ(GC−
14B、OV−1カラム)にて分析・定量し、表に-O
H基の重量%で示した。
(Quantitative Determination of Residual Phenolic Hydroxyl Group) A sample was dispersed in acetonitrile, N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide was added, and the mixture was irradiated with ultrasonic waves for 5 minutes to remove residual dihydric phenol derived from the raw material. Extraction in a silylated form is performed by gas chromatography (GC-
14B, OV-1 column).
It was shown by weight% of H group.

【0119】(実施例1)1.031kgの塩化イソテ
レフタロイル、0.258kgの塩化テレフタロイル、
0.057kgの塩化メチルトリオクチルアンモニウ
ム、および27.3kgのトルエンからなる溶液と、
1.540kgの3,3’−5,5’−テトラメチルビフ
ェノール、0.648kgの水酸化ナトリウム、および
19.2kgの脱酸素水からなる溶液を100L釜の中
で11℃、30分間、撹拌混合し接触させた。
Example 1 1.031 kg of isoterephthaloyl chloride, 0.258 kg of terephthaloyl chloride,
A solution consisting of 0.057 kg of methyltrioctylammonium chloride, and 27.3 kg of toluene;
A solution consisting of 1.540 kg of 3,3′-5,5′-tetramethylbiphenol, 0.648 kg of sodium hydroxide, and 19.2 kg of deoxygenated water was stirred in a 100 L kettle at 11 ° C. for 30 minutes. Mix and contact.

【0120】生成液を静置分離後、水相を除去し、次い
でトルエン相を3回繰り返し水で洗浄した。続いて得ら
れたトルエン相に、貧溶媒であるメタノールを各々10
L/分、100L/分の供給速度で連続式剪断機(太平
洋機工製ファインフローミルFM−25、ブレード周速
=15m/秒)に連続的に通じて、沈殿操作(ポリアリ
レートの析出)を行った。次いで得られたポリアリレー
トを濾材上に捕集し、ついで釜中で80℃の温水で30
分間洗浄、濾過を3回繰り返し、その後、乾燥してポリ
アリレートの粉体を得た。
After the resulting solution was separated by standing, the aqueous phase was removed, and then the toluene phase was washed three times with water. Subsequently, methanol, which is a poor solvent, was added to the obtained toluene phase for 10 minutes each.
L / min, 100 L / min at a feed rate of a continuous type shearing machine (Taipei Kiko Fine Flow Mill FM-25, blade peripheral speed = 15 m / sec) to continuously perform a settling operation (precipitation of polyarylate). went. Next, the obtained polyarylate was collected on a filter medium, and then heated in a kettle at 80 ° C. for 30 minutes.
Washing and filtration were repeated three times for one minute and then dried to obtain a polyarylate powder.

【0121】ポリアリレートの粉体をクロロホルム中
(0.1g/dL)30℃で、ウベローデ粘度計にて決
定したインヘレント粘度は、1.5dL/gであった。
次いで、得られたポリアリレート5gを95gのアニソ
ールに室温で溶解させて得た透明な溶液をガラス板上に
流延し、90℃の空気流下に配しアニソールを揮散させ
て、厚み60μmの透明で空隙のないポリアリレートの
シートを得た。このシートの引っ張り強度試験結果を表
1に示す。尚、引っ張り弾性率は2GPa、さらに破断
伸び値は70%と優れるものであった。
The powder of polyarylate in chloroform (0.1 g / dL) at 30 ° C. had an inherent viscosity determined by an Ubbelohde viscometer of 1.5 dL / g.
Next, a transparent solution obtained by dissolving 5 g of the obtained polyarylate in 95 g of anisole at room temperature was cast on a glass plate, and placed under an air stream of 90 ° C. to volatilize the anisole, thereby forming a transparent film having a thickness of 60 μm. To obtain a polyarylate sheet without voids. Table 1 shows the tensile strength test results of this sheet. The tensile modulus was 2 GPa and the elongation at break was 70%, which was excellent.

【0122】得られたシートを11枚積層し、310
℃、8MPaで2分加熱加圧成形して、約600μm厚
の積層板を得た。その誘電特性評価結果を表1に示す。
別途、上述のポリアリレートのシートを6枚および銅箔
(古河サーキットテクノロジーの18μm厚)1枚を銅
箔(光沢面が表側、粗化面が内側)が表層になる様に積
層し、300℃、5MPaで1分加熱加圧成形して、約
550μm厚の銅張り積層板を得た。その銅箔ピール強
度、半田耐熱性を表1に示す。
11 sheets obtained were laminated, and 310
It was heated and pressed at 2 ° C. and 8 MPa for 2 minutes to obtain a laminate having a thickness of about 600 μm. Table 1 shows the results of the evaluation of the dielectric properties.
Separately, six sheets of the above polyarylate and one piece of copper foil (18 μm thick by Furukawa Circuit Technology) are laminated so that the copper foil (the glossy side is on the front side and the roughened side is on the inside) is the surface layer, and the temperature is 300 ° C. It was heated and pressed at 5 MPa for 1 minute to obtain a copper-clad laminate having a thickness of about 550 μm. Table 1 shows the copper foil peel strength and solder heat resistance.

【0123】(実施例2)1.031kgの塩化イソテ
レフタロイル、0.258kgの塩化テレフタロイル、
0.057kgの塩化メチルトリオクチルアンモニウ
ム、および27.3kgの塩化メチレンからなる溶液
と、1.540kgの3,3’−5,5’−テトラメチル
ビフェノール、0.648kgの水酸化ナトリウム、お
よび19.2kgの脱酸素水からなる溶液を、100L
釜のなかで25℃、30分間、撹拌混合し接触させた。
生成液を静置分離後、水相を除去し、残った塩化メチレ
ン相を10kgの炭酸ナトリウム溶液(0.25モル/
L)と撹拌混合し接触させて洗浄することを3回繰り返
した。
Example 2 1.031 kg of isoterephthaloyl chloride, 0.258 kg of terephthaloyl chloride,
A solution consisting of 0.057 kg of methyltrioctylammonium chloride and 27.3 kg of methylene chloride, 1.540 kg of 3,3'-5,5'-tetramethylbiphenol, 0.648 kg of sodium hydroxide, and 19 100 L of solution consisting of 2 kg of deoxygenated water
The mixture was stirred and mixed in a kettle at 25 ° C. for 30 minutes and brought into contact.
After standing and separating the resulting solution, the aqueous phase was removed and the remaining methylene chloride phase was replaced with a 10 kg sodium carbonate solution (0.25 mol /
Washing by stirring and mixing with L) was repeated three times.

【0124】得られた塩化メチレン相を200kgのア
セトンを含む2軸ミキサー(井上製作所製BDMミキサ
ー、高速ブレードの周速=20m/秒)中で沈殿操作
(ポリアリレート析出)を行い、次いで得られたポリア
リレートを濾材上に捕集し、ついで釜中で80℃の温水
で30分洗浄および濾過を各々3回繰り返し、その後、
乾燥してポリアリレートの粉体を得た。このポリアリレ
ートの粉体をクロロホルム中(0.1g/dL)30℃
で、ウベローデ粘度計にて決定したインヘレント粘度
は、2.1dL/gであった。
The obtained methylene chloride phase was subjected to a sedimentation operation (polyarylate precipitation) in a two-shaft mixer (BDM mixer manufactured by Inoue Seisakusho, peripheral speed of high-speed blade = 20 m / sec) containing 200 kg of acetone. The collected polyarylate was collected on a filter medium, and then washed and filtered three times with hot water at 80 ° C. for 30 minutes each in a kettle, and thereafter,
After drying, a powder of polyarylate was obtained. The powder of this polyarylate is put in chloroform (0.1 g / dL) at 30 ° C.
The inherent viscosity determined by an Ubbelohde viscometer was 2.1 dL / g.

【0125】かくして得られたポリアリレート5gを9
5gのテトラヒドロフランに室温で溶解させて得た透明
な溶液をガラス板上に流延し、40℃の空気流下に配し
テトラヒドロフランを揮散させ60μm厚みの透明で空
隙のないポリアリレートのシートを得た。このシートの
引っ張り強度試験結果を表1に示す。尚、引っ張り弾性
率は1.4GPa、破断伸び値は30%と優れるもので
あった。以下、実施例1と同様の操作、評価を行った結
果を表1に示す。
5 g of the polyarylate thus obtained was added to 9
A transparent solution obtained by dissolving in 5 g of tetrahydrofuran at room temperature was cast on a glass plate, and placed under an air stream at 40 ° C. to evaporate the tetrahydrofuran to obtain a 60 μm-thick transparent and void-free polyarylate sheet. . Table 1 shows the tensile strength test results of this sheet. The tensile modulus was excellent at 1.4 GPa and the elongation at break was excellent at 30%. The results of the same operation and evaluation as in Example 1 are shown in Table 1 below.

【0126】(実施例3)1.031kgの塩化イソテ
レフタロイル、0.258kgの塩化テレフタロイル、
0.057kgの塩化メチルトリオクチルアンモニウ
ム、および27.3kgの塩化メチレンからなる溶液
と、1.540kgの3,3’−5,5’−テトラメチル
ビフェノール、0.648kgの水酸化ナトリウム、お
よび19.2kgの脱酸素水からなる溶液を100L釜
のなかで25℃、30分間、撹拌混合し接触させた。生
成液を静置分離後、水相を除去し、残った塩化メチレン
相を10kgの炭酸ナトリウム溶液(0.25モル/
L)と撹拌混合し接触させて洗浄することを3回繰り返
した。
Example 3 1.031 kg of isoterephthaloyl chloride, 0.258 kg of terephthaloyl chloride,
A solution consisting of 0.057 kg of methyltrioctylammonium chloride and 27.3 kg of methylene chloride, 1.540 kg of 3,3'-5,5'-tetramethylbiphenol, 0.648 kg of sodium hydroxide and 19 A solution consisting of 0.2 kg of deoxygenated water was stirred and mixed in a 100 L kettle at 25 ° C. for 30 minutes and brought into contact. After standing and separating the resulting solution, the aqueous phase was removed and the remaining methylene chloride phase was replaced with a 10 kg sodium carbonate solution (0.25 mol /
Washing by stirring and mixing with L) was repeated three times.

【0127】得られた塩化メチレン相を100kgのア
セトンを含む2軸ミキサー(井上製作所製BDMミキサ
ー、高速ブレードの周速=13m/秒)中で沈殿操作
(ポリアリレート析出)を行い、次いで得られたポリア
リレートを濾材上に捕集し、さらに釜中で50℃の温水
で30分洗浄および濾過を各々1回行った。その後、乾
燥してポリアリレートの粉体を得た。このポリアリレー
トの粉体をクロロホルム中(0.1g/dL)30℃で
ウベローデ粘度計にて測定したインヘレント粘度は、
2.1dL/gであった。
The obtained methylene chloride phase was subjected to a precipitation operation (polyarylate precipitation) in a two-shaft mixer (BDM mixer manufactured by Inoue Seisakusho, peripheral speed of high-speed blade = 13 m / sec) containing 100 kg of acetone. The resulting polyarylate was collected on a filter medium, and further washed and filtered once with warm water at 50 ° C. for 30 minutes in a kettle. Then, it dried and obtained the powder of polyarylate. The inherent viscosity of this polyarylate powder measured with an Ubbelohde viscometer at 30 ° C. in chloroform (0.1 g / dL) is as follows:
It was 2.1 dL / g.

【0128】得られたポリアリレート5gを95gのテ
トラヒドロフランに室温で溶解させて得た透明な溶液を
ガラス板上に流延し、40℃の空気流下に配しテトラヒ
ドロフランを揮散させ60μm厚みの透明で空隙のない
ポリアリレートのシートを得た。以下、実施例1と同様
の操作、評価を行った結果を表1に示す。
A transparent solution obtained by dissolving 5 g of the obtained polyarylate in 95 g of tetrahydrofuran at room temperature was cast on a glass plate, and placed under an air stream at 40 ° C. to volatilize the tetrahydrofuran and evaporate the tetrahydrofuran to a thickness of 60 μm. A void-free polyarylate sheet was obtained. The results of the same operation and evaluation as in Example 1 are shown in Table 1 below.

【0129】(実施例4)1.031kgの塩化イソテ
レフタロイル、0.258kgの塩化テレフタロイル、
0.017kgの塩化ベンゾイル、0.057kgの塩
化メチルトリオクチルアンモニウム、および27.3k
gの塩化メチレンからなる溶液と、0.770kgの
3,3’−5,5’−テトラメチルビフェノール、1.1
14kgの9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フ
ルオレン、0.648kgの水酸化ナトリウム、および
19.2kgの脱酸素水からなる溶液を100L釜のな
かで11℃、30分間、撹拌混合し接触させた。
Example 4 1.031 kg of isoterephthaloyl chloride, 0.258 kg of terephthaloyl chloride,
0.017 kg benzoyl chloride, 0.057 kg methyltrioctylammonium chloride, and 27.3 k
g of methylene chloride and 0.770 kg of 3,3'-5,5'-tetramethylbiphenol, 1.1
A solution consisting of 14 kg of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 0.648 kg of sodium hydroxide, and 19.2 kg of deoxygenated water was stirred and mixed in a 100 L kettle at 11 ° C. for 30 minutes and contacted. I let it.

【0130】得られた混合液を静置分離後、水相を除去
し、次いで塩化メチレン相を10kgの水と撹拌混合し
接触させて洗浄することを3回繰り返した。得た塩化メ
チレン相を200kgのアセトンを含む2軸ミキサー
(井上製作所製BDMミキサー、高速ブレードの周速=
20m/秒)中で沈殿操作(ポリアリレート析出)を行
った。次いで得られたポリアリレートを濾材上に捕集
し、ついで釜中で70℃の温水で30分洗浄、濾過を2
回繰り返し、その後、乾燥してポリアリレートの粉体を
得た。このポリアリレートの粉体をクロロホルム中
(0.1g/dL)30℃でウベローデ粘度計にて測定
したインヘレント粘度は、1.5dL/gであった。
After the resulting mixed solution was separated by standing, the aqueous phase was removed, and then the washing was repeated three times with stirring and mixing the methylene chloride phase with 10 kg of water to bring them into contact with each other. The obtained methylene chloride phase was mixed with 200 kg of acetone using a twin-screw mixer (BDM mixer manufactured by Inoue Seisakusho, peripheral speed of high-speed blade =
(20 m / sec) to perform a precipitation operation (polyarylate precipitation). Next, the obtained polyarylate was collected on a filter medium, and then washed with warm water at 70 ° C. for 30 minutes in a kettle.
This was repeated twice and then dried to obtain a polyarylate powder. The inherent viscosity of this polyarylate powder measured with a Ubbelohde viscometer at 30 ° C. in chloroform (0.1 g / dL) was 1.5 dL / g.

【0131】かくして得られたポリアリレート5gを9
5gのアニソールに室温で溶解させて得た透明な溶液を
ガラス板上に流延し、100℃の空気流下に配しアニソ
ールを揮散させ60μmの厚みの透明で空隙のないポリ
アリレートのシートを得た。以下、実施例1と同様の評
価を行った結果を表1に示す。
5 g of the polyarylate thus obtained was added to 9
A transparent solution obtained by dissolving in 5 g of anisole at room temperature was cast on a glass plate and placed under an air flow of 100 ° C. to volatilize the anisole to obtain a 60 μm thick transparent and void-free polyarylate sheet. Was. Table 1 below shows the results of the same evaluation as in Example 1.

【0132】(比較例1)1.031kgの塩化イソテ
レフタロイル、0.258kgの塩化テレフタロイル、
0.057kgの塩化メチルトリオクチルアンモニウ
ム、および27.3kgのトルエンからなる溶液と、
1.540kgの3,3’−5,5’−テトラメチルビフ
ェノール、0.648kgの水酸化ナトリウム、および
19.2kgの脱酸素水からなる溶液を100L釜のな
かで11℃、30分間、撹拌混合し接触させた。
Comparative Example 1 1.031 kg of isoterephthaloyl chloride, 0.258 kg of terephthaloyl chloride,
A solution consisting of 0.057 kg of methyltrioctylammonium chloride, and 27.3 kg of toluene;
A solution consisting of 1.540 kg of 3,3′-5,5′-tetramethylbiphenol, 0.648 kg of sodium hydroxide, and 19.2 kg of deoxygenated water was stirred in a 100 L kettle at 11 ° C. for 30 minutes. Mix and contact.

【0133】生成液を静置分離後、水相を除去し、次い
でトルエン相を3回繰り返し水で洗浄した。続いて釜内
を減圧にしてトルエン、水を留去し、得られたポリアリ
レート(インヘレント粘度=1.6dL/g)を釜中で
40℃の温水で30分洗浄、濾過を1回行い、その後、
乾燥してポリアリレートの粉体を得て、以降は実施例1
と同様の操作を行った。得られたシートにたいし実施例
1と同様の操作、評価を行った結果を表1に示す。
After the resulting solution was separated by standing, the aqueous phase was removed, and then the toluene phase was washed three times with water. Subsequently, the pressure inside the kettle was reduced to remove toluene and water, and the obtained polyarylate (inherent viscosity = 1.6 dL / g) was washed with warm water at 40 ° C. for 30 minutes in the kettle and filtered once. afterwards,
The powder was dried to obtain a polyarylate powder.
The same operation as described above was performed. The same operation and evaluation as in Example 1 were performed on the obtained sheet, and the results are shown in Table 1.

【0134】(比較例2)実施例3において、1.54
0kgの3,3’−5,5’−テトラメチルビフェノール
に代えて等モルのビスフェノールAを用いた以外は、実
施例2と同様の操作を行い、ポリアリレートの粉体(イ
ンヘレント粘度=1.7dL/g)を得た。以降は実施
例1と同様の操作、評価を行った結果を表1に示す。
(Comparative Example 2) In Example 3, 1.54
The same operation as in Example 2 was carried out except that an equimolar amount of bisphenol A was used in place of 0 kg of 3,3′-5,5′-tetramethylbiphenol to obtain a polyarylate powder (inherent viscosity = 1. 7 dL / g). After that, the same operation and evaluation as in Example 1 were performed, and the results are shown in Table 1.

【0135】(比較例3)実施例3において、1.54
0kgの3,3’−5,5’−テトラメチルビフェノール
に代えて等モルの3,3’−5,5’−テトラメチルビス
フェノールFを用いた以外は実施例2と同様の操作を行
い、ポリアリレートの粉体(インヘレント粘度=1.6
dL/g)を得た。以降は実施例1と同様の操作を行
い、評価した結果を表1に示す。
(Comparative Example 3) In Example 3, 1.54
The same operation as in Example 2 was performed, except that an equimolar amount of 3,3′-5,5′-tetramethylbisphenol F was used instead of 0 kg of 3,3′-5,5′-tetramethylbiphenol, Polyarylate powder (inherent viscosity = 1.6
dL / g). Thereafter, the same operation as in Example 1 was performed, and the evaluation results are shown in Table 1.

【0136】(比較例4)実施例3において、1.54
0kgの3,3’−5,5’−テトラメチルビフェノール
に代えて等モルの9,9−ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)フルオレン(新日鉄化学製)を用いた
以外は、実施例3と同様の操作を行い、ポリアリレート
の粉体(インヘレント粘度=1.3dL/g)を得た。
次いで得られたポリアリレート5gを95gの塩化メチ
レンに室温で溶解させて得た透明な溶液をガラス板上に
流延し、40℃の空気流下に配しテトラヒドロフランを
揮散させ60μm厚みの透明で空隙のないポリアリレー
トのシートを得た。以下、実施例1と同様の操作、評価
を行った結果を表1に示す。
(Comparative Example 4) In Example 3, 1.54
Example 1 except that 0 kg of 3,3′-5,5′-tetramethylbiphenol was replaced with an equimolar amount of 9,9-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene (manufactured by Nippon Steel Chemical). By performing the same operation as in Example 3, a powder of polyarylate (inherent viscosity = 1.3 dL / g) was obtained.
Next, a transparent solution obtained by dissolving 5 g of the obtained polyarylate in 95 g of methylene chloride at room temperature was cast on a glass plate, and placed under an air stream at 40 ° C. to evaporate tetrahydrofuran to evaporate the transparent void having a thickness of 60 μm. To obtain a sheet of polyarylate free of polystyrene. The results of the same operation and evaluation as in Example 1 are shown in Table 1 below.

【0137】(比較例5)1.031kgの塩化イソテ
レフタロイル、0.258kgの塩化テレフタロイル、
および1.540kgの3,3’−5,5’−テトラメチ
ルビフェノールを26.3kgのピリジンと265kg
の1,1,2,2−テトラクロロエタンからなる溶媒と
共に300L釜のなかで60℃で4時間、さらに10℃
で2時間撹拌、接触させて反応させた。生成液をメタノ
ール730kg中に徐々に加え、沈殿を得た。得られた
沈殿を濾別し、200kgのメタノール、更に200k
gのアセトンで洗浄後、乾燥してポリアリレートを得た
が、そのインヘレント粘度は0.3dL/gで、強靱な
シートは得られなかった。評価結果を表3に示す。
Comparative Example 5 1.031 kg of isoterephthaloyl chloride, 0.258 kg of terephthaloyl chloride,
And 1.540 kg of 3,3′-5,5′-tetramethylbiphenol with 26.3 kg of pyridine and 265 kg
With a solvent consisting of 1,1,2,2-tetrachloroethane in a 300 L kettle at 60 ° C. for 4 hours and further at 10 ° C.
For 2 hours. The resulting liquid was gradually added to 730 kg of methanol to obtain a precipitate. The resulting precipitate is filtered off, and 200 kg of methanol and further 200 k
After washing with g of acetone, it was dried to obtain polyarylate, but its inherent viscosity was 0.3 dL / g, and a tough sheet was not obtained. Table 3 shows the evaluation results.

【0138】(比較例6)1.624kg(8モル)の
塩化イソフタロイル、0.406kg(2モル)の塩化
テレフタロイル、2.423kg(10モル)の3,
3’−5,5’−テトラメチルビフェノール、3.16
kgのピリジン、およびクロロホルム28kgの溶液を
300L釜中で0℃で8時間撹拌し、その後にさらにク
ロロホルム42kgを加え、得られた溶液をメタノール
に注ぎ生成した塊状沈殿物を濾別後、メタノール次いで
アセトンで洗浄し、ポリアリレートのフレーク状物を得
た。このもののインヘレント粘度は、1.7dL/gで
あった。
Comparative Example 6 1.624 kg (8 mol) of isophthaloyl chloride, 0.406 kg (2 mol) of terephthaloyl chloride, 2.423 kg (10 mol) of 3,
3'-5,5'-tetramethylbiphenol, 3.16
A solution of 28 kg of pyridine and 28 kg of chloroform was stirred in a 300 L kettle at 0 ° C. for 8 hours. Thereafter, 42 kg of chloroform was further added, and the resulting solution was poured into methanol. After washing with acetone, polyarylate flakes were obtained. Its inherent viscosity was 1.7 dL / g.

【0139】得られたポリアリレート5gを95gのテ
トラヒドロフランに室温で溶解させて得た溶液を1Lオ
スターブレンダー中1万回転(周速=27m/秒)で高
速撹拌下のメタノールに注ぎ沈殿を得た。得られた沈殿
を0.5重量%の濃度の水分散液とし、濾紙上での吸
引、次いで乾燥を行い、ポリアリレートの粉体を得た。
以下、実施例1と同様の操作、評価を行った結果を表1
に示す。
A solution obtained by dissolving 5 g of the obtained polyarylate in 95 g of tetrahydrofuran at room temperature was poured into methanol under high-speed stirring at 10,000 revolutions (peripheral speed = 27 m / sec) in a 1 L Oster blender to obtain a precipitate. . The resulting precipitate was used as a 0.5% by weight aqueous dispersion, suctioned on a filter paper, and then dried to obtain a polyarylate powder.
Hereinafter, the results of performing the same operations and evaluations as in Example 1 are shown in Table 1.
Shown in

【0140】(実施例5)16.5gのジシクロペンタ
ジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製、エピ
クロンHP7200)、13.4gのジ(1−ナフチ
ル)イソフタレート、0.15gの2−エチル−4−メ
チルイミダゾールからなるエポキシ樹脂組成物(Na=
25ppm、遊離塩素=1ppm、残留フェノール性水
酸基=2ppm)と、実施例1で得たポリアリレート粉
体70gとを共に、テトラヒドロフラン990gに混合
し溶液を得た。次いで、この溶液をステンレス板上に流
延し70℃の空気流下に15分配しテトラヒドロフラン
を揮散させポリアリレートとエポキシ樹脂との樹脂組成
物の半硬化物のシートを得た。
Example 5 16.5 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (Epiclon HP7200, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), 13.4 g of di (1-naphthyl) isophthalate, 0.15 g of 2-ethyl Epoxy resin composition consisting of -4-methylimidazole (Na =
(25 ppm, free chlorine = 1 ppm, residual phenolic hydroxyl group = 2 ppm) and 70 g of the polyarylate powder obtained in Example 1 were mixed with 990 g of tetrahydrofuran to obtain a solution. Next, this solution was cast on a stainless steel plate and distributed in an air stream at 70 ° C. for 15 times to evaporate tetrahydrofuran to obtain a sheet of a semi-cured resin composition of a polyarylate and an epoxy resin.

【0141】得られたシートを10枚及積層し、190
℃、20MPaで100分加熱加圧成形して、約600
μm厚のポリアリレート組成物の積層板を得た。その誘
電特性、引っ張り強度の評価結果を表4に示す。別途、
上記のシート状物を9枚および銅箔(古河サーキットテ
クノロジーの18μm厚)1枚を銅箔(光沢面が表側、
粗化面が内側)が表層になる様に積層し、190℃、2
0MPaで100分加熱加圧成形して、約560μm厚
の銅張り積層板を得た。加熱加圧成型時に優れた流動性
を示すために、成形時の温度は実施例1のポリアレート
単独の場合に比して低くてすむ。得られた銅張り積層板
の銅箔ピール強度と、半田耐熱性の評価結果を表4に示
す。なお、表4中に記載の不純物量は組成物の不純物量
を示す。
A total of 10 sheets obtained were laminated, and
Approximately 600
A laminated plate of the polyarylate composition having a thickness of μm was obtained. Table 4 shows the evaluation results of the dielectric properties and the tensile strength. Separately,
Nine sheets of the above sheet-like material and one piece of copper foil (18 μm thick by Furukawa Circuit Technology) were coated with copper foil (the glossy surface was on the front side,
Laminated so that the roughened surface is on the inside) and
It was heated and pressed at 0 MPa for 100 minutes to obtain a copper-clad laminate having a thickness of about 560 μm. In order to exhibit excellent fluidity at the time of heat and pressure molding, the temperature at the time of molding may be lower than that of the polyalate alone of Example 1. Table 4 shows the evaluation results of the copper foil peel strength and the solder heat resistance of the obtained copper-clad laminate. The amount of impurities described in Table 4 indicates the amount of impurities in the composition.

【0142】(実施例6)44.0gのジシクロペンタ
ジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製、エピ
クロンHP7200H)、35.7gのジ(1−ナフチ
ル)イソフタレート、0.40gの2−エチル−4−メ
チルイミダゾールからなるエポキシ樹脂組成物(Na=
25ppm、遊離塩素=1ppm、残留フェノール性水
酸基=2ppm)と、実施例1で得たポリアリレート粉
体20gとを共に、テトラヒドロフラン990gに混合
して溶液を得た。次いで、この溶液をステンレス板上に
流延し70℃の空気流下に15分配しテトラヒドロフラ
ンを揮散させてポリアリレートとエポキシ樹脂との樹脂
組成物の半硬化物のシートを得た。以降は実施例5と同
様の操作を行い、評価した結果を表4に示す。
Example 6 44.0 g of dicyclopentadiene-type epoxy resin (Epiclon HP7200H, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, 35.7 g of di (1-naphthyl) isophthalate, 0.40 g of 2-ethyl Epoxy resin composition consisting of -4-methylimidazole (Na =
25 ppm, free chlorine = 1 ppm, residual phenolic hydroxyl group = 2 ppm) and 20 g of the polyarylate powder obtained in Example 1 were mixed with 990 g of tetrahydrofuran to obtain a solution. Next, this solution was cast on a stainless steel plate, distributed under an air flow of 70 ° C. for 15 times, and tetrahydrofuran was volatilized to obtain a sheet of a semi-cured resin composition of a polyarylate and an epoxy resin. Thereafter, the same operation as in Example 5 was performed, and the evaluation results are shown in Table 4.

【0143】[0143]

【表1】 [Table 1]

【0144】[0144]

【表2】 [Table 2]

【0145】[0145]

【表3】 [Table 3]

【0146】(比較例7)16.5gのジシクロペンタ
ジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製、エピ
クロンHP7200)、13.4gのジ(1−ナフチ
ル)イソフタレート、0.15gの2−エチル−4−メ
チルイミダゾールからなるエポキシ樹脂組成物(Na=
25ppm、遊離塩素=1ppm、残留フェノール性水
酸基=1ppm)と、比較例1で得たポリアリレート粉
体70gとをテトラヒドロフラン990gに混合し溶液
を得た。次いで、この溶液をステンレス板上に流延し7
0℃の空気流下に15分配しアニソールを揮散させてポ
リアリレートとエポキシ樹脂との樹脂組成物の半硬化物
のシートを得た。以降は、実施例5と同様の操作を行
い、評価した結果を表4に示す。
Comparative Example 7 16.5 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (Epiclon HP7200, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), 13.4 g of di (1-naphthyl) isophthalate, 0.15 g of 2-ethyl Epoxy resin composition consisting of -4-methylimidazole (Na =
(25 ppm, free chlorine = 1 ppm, residual phenolic hydroxyl groups = 1 ppm) and 70 g of the polyarylate powder obtained in Comparative Example 1 were mixed with 990 g of tetrahydrofuran to obtain a solution. Next, the solution was cast on a stainless steel plate.
Anisole was volatilized by distributing 15 pieces under an air flow of 0 ° C. to obtain a sheet of a semi-cured resin composition of a polyarylate and an epoxy resin. Thereafter, the same operation as in Example 5 was performed, and the evaluation results are shown in Table 4.

【0147】(比較例8)26.1gのビスフェノール
A型エポキシ樹脂(チバ製、アラルダイトAER600
3)、5.1gのトリメリット酸無水物0.09gの2
−エチル−4−メチルイミダゾールからなるエポキシ樹
脂組成物(Na=10ppm、遊離塩素=1ppm、残
留フェノール性水酸基=0ppm)と、実施例1で得た
ポリアリレート粉体70gとをテトラヒドロフラン99
0gに混合し溶液を得た。次いで、この溶液をステンレ
ス板上に流延し70℃の空気流下に15分、配しテトラ
ヒドロフランを揮散させてポリアリレート組成物のシー
トを得た。以降、実施例5と同様の操作を行い、評価し
た結果を表4に示す。
(Comparative Example 8) 26.1 g of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Ciba, Araldite AER600)
3) 5.1 g of trimellitic anhydride 0.09 g of 2
-Ethyl-4-methylimidazole epoxy resin composition (Na = 10 ppm, free chlorine = 1 ppm, residual phenolic hydroxyl group = 0 ppm) and 70 g of the polyarylate powder obtained in Example 1 were mixed with tetrahydrofuran 99
0 g to obtain a solution. Next, this solution was cast on a stainless steel plate and placed under an air flow of 70 ° C. for 15 minutes to evaporate tetrahydrofuran to obtain a sheet of a polyarylate composition. Thereafter, the same operation as in Example 5 was performed, and the evaluation results are shown in Table 4.

【0148】[0148]

【表4】 [Table 4]

【0149】[0149]

【発明の効果】本発明は、従来にない1GHzにおける
誘電正接が2.0×10−3以下である極めて優れた低
誘電特性を有し、かつ優れた耐熱性、引っ張り強度等の
機械的特性を有するポリアリレートから成る誘電性電子
材料、および該ポリアリレートの優れた耐熱性、引っ張
り強度等の機械的特性に加え、溶剤溶解性、溶液粘度の
調整が容易である等の電子材料として要求される加工性
を併せ持つ、該ポリアリレートと熱硬化性樹脂とから成
る樹脂組成物の硬化物から成る低誘電性電子材料、該低
誘電性電子材料から成るシートと積層板、および該低誘
電性電子材料に用いられる低誘電特性のポリアリレート
の製造法を提供することができる。
Industrial Applicability The present invention has an extremely low dielectric constant of not more than 2.0 × 10 -3 at 1 GHz, and has excellent mechanical properties such as heat resistance and tensile strength. Dielectric electronic material composed of polyarylate having the following properties, and in addition to mechanical properties such as excellent heat resistance and tensile strength of the polyarylate, solvent solubility, easy adjustment of solution viscosity, etc. are required as electronic materials. Low-dielectric electronic material comprising a cured product of the resin composition comprising the polyarylate and the thermosetting resin, the sheet and the laminate comprising the low-dielectric electronic material, and the low-dielectric electronic It is possible to provide a method for producing a low dielectric constant polyarylate used for a material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01B 3/40 H01B 3/40 Z 3/42 3/42 E H05K 1/03 610 H05K 1/03 610J (72)発明者 桑名 康弘 千葉県千葉市緑区椎名崎町972−5 (72)発明者 山田 雅生 千葉県市原市君塚5−23−1−203 (72)発明者 山東 善成 千葉県佐倉市大崎台1−27−1−203 (72)発明者 宇佐見 祐章 千葉県佐倉市石川284−1−2−306 Fターム(参考) 4F071 AA03 AA36 AA42 AA43 AA48 AA81 AA86 AB17 AF02 AF03 AF14 AF40 AF45 AH12 AH13 BA01 BA02 BB02 BC01 4J002 BC132 BE042 BF052 BH022 CD002 CD012 CD022 CD042 CD052 CD062 CD102 CF161 CM022 FD141 FD150 GF00 GQ00 GQ01 HA05 4J029 AA04 AB01 AB07 AC01 AD01 AD03 AD07 AD10 AE03 AE17 BB10A BB10B BB12B BB12C CB04A CB05A CB06A HA01 HA05 HB05 JB063 JB123 JB132 JB143 JB153 JC091 JC631 JD08 JE023 JE153 JE213 KA01 KA04 KB06 KB12 KC02 KE01 KE11 KH04 KH05 LA08 LB05 5G305 AA06 AB10 BA12 BA13 CA08 CA11 CA13 CA15 CA46 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01B 3/40 H01B 3/40 Z 3/42 3/42 E H05K 1/03 610 H05K 1/03 610J ( 72) Inventor Yasuhiro Kuwana 972-5, Shiinazaki-cho, Midori-ku, Chiba-shi, Chiba Prefecture (72) Inventor Masao Yamada 5-2-3-1-203, Kimizuka, Ichihara-shi, Chiba Prefecture (72) Inventor Yoshinari Yamato Osakidai, Sakura-shi, Chiba Prefecture 1-27-1-203 (72) Inventor Yusho Usami 284-1-2-306 Ishikawa, Sakura-shi, Chiba F-term (reference) 4F071 AA03 AA36 AA42 AA43 AA48 AA81 AA86 AB17 AF02 AF03 AF14 AF40 AF45 AH12 AH13 BA01 BA02 BB02 BC01 4J002 BC132 BE042 BF052 BH022 CD002 CD012 CD022 CD042 CD052 CD062 CD102 CF161 CM022 FD141 FD150 GF00 GQ00 GQ01 HA05 4J029 AA04 AB01 AB07 AC01 AD01 AD03 AD07 AD10 AE03 AE17 BB10A BB12 BB12B BB10B BB12B CB06A HA01 HA05 HB05 JB063 JB123 JB132 JB143 JB153 JC091 JC631 JD08 JE023 JE153 JE213 KA01 KA04 KB06 KB12 KC02 KE01 KE11 KH04 KH05 LA08 LB05 5G305 AA06 AB10 BA12 BA13 CA15 CA11 CA13

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 構造単位(A)と(B)の繰り返し単位
(−(A)−(B)−)から成り、前記構造単位(A)
がフタル酸、イソフタル酸およびテレフタル酸からなる
群から選ばれるジカルボン酸の残基であり、かつ前記ジ
カルボン酸の残基中のテレフタル酸残基の割合が40モ
ル%以下であり、前記構造単位(B)が、一般式(I) 【化1】 (式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜4のアルキル
基、mとnは各々0〜4の整数を表す)および一般式
(II) 【化2】 で示される、いずれか1つ以上の2価フェノール残基で
あり、アルカリ金属、アルカリ土類金属および遊離ハロ
ゲンの含有率の合計が250ppm以下で、1GHzに
おける誘電正接が2.0×10―3以下であるポリアリ
レート(C)から成る低誘電性電子材料。
1. The structural unit (A) comprising a repeating unit (-(A)-(B)-) of the structural units (A) and (B).
Is a residue of a dicarboxylic acid selected from the group consisting of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, and the proportion of terephthalic acid residues in the residues of the dicarboxylic acid is 40 mol% or less, and the structural unit ( B) is a compound of the general formula (I) (Wherein Q and R each represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and m and n each represent an integer of 0 to 4) and a compound represented by the following general formula (II): Wherein the total content of alkali metal, alkaline earth metal and free halogen is 250 ppm or less, and the dielectric loss tangent at 1 GHz is 2.0 × 10 −3. A low dielectric electronic material comprising the following polyarylate (C).
【請求項2】 残留フェノール性水酸基の含有率が20
0ppm以下である請求項1に記載の低誘電性電子材
料。
2. The content of residual phenolic hydroxyl groups is 20.
2. The low dielectric electronic material according to claim 1, wherein the content is 0 ppm or less.
【請求項3】 1GHzにおける誘電率が2.9以下で
ある請求項1に記載の低誘電性電子材料。
3. The low dielectric electronic material according to claim 1, wherein the dielectric constant at 1 GHz is 2.9 or less.
【請求項4】 請求項1に記載の低誘電性電子材料から
成るシート。
4. A sheet comprising the low dielectric electronic material according to claim 1.
【請求項5】 請求項1に記載の低誘電性電子材料から
成るシートの片面または両面に金属箔を有する金属箔付
シート。
5. A sheet with a metal foil having a metal foil on one or both sides of the sheet made of the low dielectric electronic material according to claim 1.
【請求項6】 構造単位(A)と(B)の繰り返し単位
(−(A)−(B)−)から成り、前記構造単位(A)
がフタル酸、イソフタル酸およびテレフタル酸からなる
群から選ばれるジカルボン酸の残基であり、かつ前記ジ
カルボン酸の残基中のテレフタル酸残基の割合が40モ
ル%以下であり、前記構造単位(B)が、一般式(I) 【化3】 (式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜4のアルキル
基、mとnは各々0〜4の整数を表す)および一般式
(II) 【化4】 で示される、いずれか1つ以上の2価フェノール残基と
から成るポリアリレート(C)と、エポキシ樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、ビスマレイミドートリアジン樹
脂、ビニルベンジルエーテル系樹脂、イソシアヌレート
系樹脂、ベンゾジクロブテン系樹脂、ジビニルベンゼン
系樹脂、ポリブタジエン系樹脂から成る群から選ばれる
一種以上の熱硬化性樹脂(D)とから成る、アルカリ金
属とアルカリ土類金属および遊離ハロゲンの含有率が2
50ppm以下である電子材料用樹脂組成物。
6. The structural unit (A) comprising a repeating unit (-(A)-(B)-) of the structural units (A) and (B).
Is a residue of a dicarboxylic acid selected from the group consisting of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, and the proportion of terephthalic acid residues in the residues of the dicarboxylic acid is 40 mol% or less, and the structural unit ( B) is a compound of the general formula (I) (Wherein Q and R each represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and m and n each represent an integer of 0 to 4) and a compound represented by the following general formula (II): And a polyarylate (C) comprising at least one dihydric phenol residue, an epoxy resin, a diallyl phthalate resin, a bismaleimide-triazine resin, a vinylbenzyl ether-based resin, an isocyanurate-based resin, A content of an alkali metal, an alkaline earth metal and free halogen of at least one thermosetting resin (D) selected from the group consisting of a diclobutene resin, a divinylbenzene resin and a polybutadiene resin;
A resin composition for an electronic material having a content of 50 ppm or less.
【請求項7】 ポリアリレート(C)/熱硬化性樹脂
(D)の重量比が96/4〜4/96である請求項6に
記載の電子材料用樹脂組成物。
7. The resin composition for an electronic material according to claim 6, wherein the weight ratio of polyarylate (C) / thermosetting resin (D) is 96/4 to 4/96.
【請求項8】 熱硬化性樹脂(D)がエポキシ樹脂であ
り、前記エポキシ樹脂の硬化剤として一般式(III) 【化5】 (式中、kは2〜4の整数であり、R1は 【化6】 のいずれかの芳香族環(式中、S、T、U、V及びWは
各々炭素原子数1〜4のアルキル基、o及びtは各々0
〜5の整数、q及びrは各々0〜4の整数、pは各々0
〜3の整数を表す)であり、R2は、 【化7】 のいずれかの芳香族環を表す)で示される芳香族エステ
ルを前記エポキシ樹脂と併せて含む請求項6に記載の電
子材料用樹脂組成物。
8. The thermosetting resin (D) is an epoxy resin, and a curing agent for the epoxy resin is a compound represented by the general formula (III): Wherein k is an integer of 2 to 4, and R 1 is Wherein S, T, U, V and W are each an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and o and t are each 0
An integer of 0 to 5, q and r are each an integer of 0 to 4 and p is 0
And R 2 represents the following: The resin composition for an electronic material according to claim 6, which further comprises an aromatic ester represented by any of the following:
【請求項9】 アルカリ金属、アルカリ土類金属および
遊離ハロゲンの含有率の合計が250ppm以下である
請求項6に記載の電子材料用樹脂組成物。
9. The resin composition for an electronic material according to claim 6, wherein the total content of alkali metals, alkaline earth metals and free halogens is 250 ppm or less.
【請求項10】 残留フェノール性水酸基の含有率が2
00ppm以下である請求項6に記載の電子材料用樹脂
組成物。
10. The residual phenolic hydroxyl group content is 2%.
The resin composition for an electronic material according to claim 6, wherein the content is not more than 00 ppm.
【請求項11】 請求項6に記載の電子材料用樹脂組成
物の硬化物からなる1GHzにおける誘電正接が3.0
×10―3以下である低誘電性電子材料。
11. A dielectric material having a dielectric loss tangent of 3.0 at 1 GHz, comprising a cured product of the resin composition for electronic materials according to claim 6.
× 10 −3 or less low dielectric electronic material.
【請求項12】 1GHzにおける誘電率が3.0以下
である請求項6に記載の電子材料用樹脂組成物の硬化物
からなる低誘電性電子材料。
12. A low dielectric electronic material comprising a cured product of the resin composition for electronic materials according to claim 6, which has a dielectric constant at 1 GHz of 3.0 or less.
【請求項13】 請求項6に記載の電子材料用樹脂組成
物の半硬化物からなるシート。
13. A sheet comprising a semi-cured product of the resin composition for an electronic material according to claim 6.
【請求項14】 請求項6に記載の電子材料用樹脂組成
物の半硬化物からなるシートの片面または両面に金属箔
を有する金属箔付シート。
14. A sheet with a metal foil having a metal foil on one or both sides of a sheet comprising a semi-cured product of the resin composition for electronic materials according to claim 6.
【請求項15】 請求項13に記載の電子材料用樹脂組
成物の半硬化物からなるシートを硬化させて成る積層
板。
15. A laminate obtained by curing a sheet made of a semi-cured product of the resin composition for electronic materials according to claim 13.
【請求項16】 請求項14に記載の電子材料用樹脂組
成物の半硬化物からなるシートの片面または両面に金属
箔を有する金属箔付シートを硬化させて成る積層板。
16. A laminated board obtained by curing a sheet with a metal foil having a metal foil on one or both sides of a sheet made of a semi-cured product of the resin composition for electronic materials according to claim 14.
【請求項17】 請求項4と13に記載のシートと請求
項5と14に記載の金属箔付シートのいずれか2つ以上
を加熱加圧成形して形成される積層板。
17. A laminate formed by heating and pressing at least two of the sheet according to claim 4 and the sheet with a metal foil according to claim 5 and 14.
【請求項18】 フタル酸、イソフタル酸およびテレフ
タル酸からなる群から選ばれ、テレフタル酸の割合が全
ジカルボン酸中の40モル%以下であるジカルボン酸の
ハロゲン化物(A’)と一般式(IV) 【化8】 (式中、QおよびRは各々炭素原子数1〜4のアルキル
基、mとnは各々0〜4の整数を表す)および一般式
(V) 【化9】 で示される、いずれか一つ以上の2価フェノール化合物
(B’)とを界面重縮合させて得られるポリアリレート
の有機溶媒溶液をポリアリレートの貧溶媒に接触させ、
前記ポリアリレートの微細な沈殿を得て、次いで前記ポ
リアリレートの微細な沈殿を水および親水性溶媒の一種
以上により洗浄することを特徴とする、アルカリ金属、
アルカリ土類金属および遊離ハロゲンの含有率の合計が
250ppm以下で、1GHzにおける誘電正接が2.
0×10―3以下であるポリアリレートの製造方法。
18. A dicarboxylic acid halide (A ′) selected from the group consisting of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, wherein the proportion of terephthalic acid is 40 mol% or less of all dicarboxylic acids, and a compound represented by the general formula (IV): ) (Wherein Q and R each represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and m and n each represent an integer of 0 to 4) and a compound represented by the following general formula (V): In contact with an organic solvent solution of polyarylate obtained by interfacial polycondensation with any one or more dihydric phenol compounds (B ') represented by
Obtaining a fine precipitate of the polyarylate, and then washing the fine precipitate of the polyarylate with one or more of water and a hydrophilic solvent, an alkali metal,
The total content of alkaline earth metal and free halogen is 250 ppm or less, and the dielectric loss tangent at 1 GHz is 2.
A method for producing a polyarylate of 0 × 10 −3 or less.
【請求項19】 残留フェノール性水酸基の含有率が2
00ppm以下である請求項18に記載のポリアリレー
トの製造方法。
19. The content of residual phenolic hydroxyl groups is 2
19. The method for producing a polyarylate according to claim 18, wherein the amount is 00 ppm or less.
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