JPH11207138A - 消臭装置 - Google Patents
消臭装置Info
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- JPH11207138A JPH11207138A JP10016822A JP1682298A JPH11207138A JP H11207138 A JPH11207138 A JP H11207138A JP 10016822 A JP10016822 A JP 10016822A JP 1682298 A JP1682298 A JP 1682298A JP H11207138 A JPH11207138 A JP H11207138A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 処理ガスの導入口12が設けられるととも
に、冷却水の噴霧ノズル15が設けられた冷却処理室２
と、酸液槽20を有する酸液処理室３と、オゾンの注入管
25が設けられたオゾン処理室４と、活性炭27が設けられ
るとともに、排気ブロアー29への接続口28が設けられた
活性炭処理室５とをこの順に処理ガスの通路６〜８を有
する仕切り壁９〜11を介して１つのチャンバ１内に構成
してなる消臭装置であって、冷却処理室２と酸液処理室
３及びオゾン処理室４と活性炭処理室５のそれぞれの処
理ガスの通路６，８にデミスタ19, 26を設ける一方、酸
液処理室３に、冷却処理室２と酸液処理室３との間の処
理ガスの通路に接続され、且つ、出口が酸液槽20に浸漬
された処理ガスの導入管21を設けてなる。 【効果】この消臭装置によれば、消臭性能を長期に維持
して、有機廃棄物の処理設備内で発生する悪臭ガスの各
種臭気成分を効果的に除去することができる。
に、冷却水の噴霧ノズル15が設けられた冷却処理室２
と、酸液槽20を有する酸液処理室３と、オゾンの注入管
25が設けられたオゾン処理室４と、活性炭27が設けられ
るとともに、排気ブロアー29への接続口28が設けられた
活性炭処理室５とをこの順に処理ガスの通路６〜８を有
する仕切り壁９〜11を介して１つのチャンバ１内に構成
してなる消臭装置であって、冷却処理室２と酸液処理室
３及びオゾン処理室４と活性炭処理室５のそれぞれの処
理ガスの通路６，８にデミスタ19, 26を設ける一方、酸
液処理室３に、冷却処理室２と酸液処理室３との間の処
理ガスの通路に接続され、且つ、出口が酸液槽20に浸漬
された処理ガスの導入管21を設けてなる。 【効果】この消臭装置によれば、消臭性能を長期に維持
して、有機廃棄物の処理設備内で発生する悪臭ガスの各
種臭気成分を効果的に除去することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、悪臭ガスの消臭装
置に関し、特に悪臭ガスの発生源となるゴミ処理場、下
水処理場、し尿処理場、畜産事業場、肥料製造工場等に
おける有機廃棄物の処理設備に接続し、処理設備内で発
生する悪臭ガスの臭気を消臭して大気放散させる消臭装
置に関するものである。
置に関し、特に悪臭ガスの発生源となるゴミ処理場、下
水処理場、し尿処理場、畜産事業場、肥料製造工場等に
おける有機廃棄物の処理設備に接続し、処理設備内で発
生する悪臭ガスの臭気を消臭して大気放散させる消臭装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、悪臭ガスの消臭技術として
は、水洗浄、酸洗浄あるいはアルカリ洗浄などによる洗
浄法、オゾンによる酸化法、活性炭などによる吸着法、
燃焼法等種々の方法が知られそれぞれ実用されている。
そしてその中でも洗浄法、吸着法が一般に広く用いられ
ている。
は、水洗浄、酸洗浄あるいはアルカリ洗浄などによる洗
浄法、オゾンによる酸化法、活性炭などによる吸着法、
燃焼法等種々の方法が知られそれぞれ実用されている。
そしてその中でも洗浄法、吸着法が一般に広く用いられ
ている。
【０００３】一方、有機廃棄物の処理設備から発生する
悪臭ガスは、通常、アンモニア、トリメチルアミン、硫
化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル、スチレンな
どの臭気成分の幾つか又は全てが混合したものとなって
いる。
悪臭ガスは、通常、アンモニア、トリメチルアミン、硫
化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル、スチレンな
どの臭気成分の幾つか又は全てが混合したものとなって
いる。
【０００４】そして、上記悪臭ガスからの悪臭（臭気）
を上述した消臭技術を適用して消臭することが行われて
いる。この場合、上記したように悪臭ガスは通常複数の
臭気成分を含むとともに各臭気成分の性質が判明してい
ることから、例えば、アンモニアやトリメチルアミンな
どの塩基性系臭気成分には、硫酸、塩酸などの希釈水溶
液による酸洗浄が、また硫化水素やメチルメルカプタン
などの酸性系臭気成分には、カセイソーダなどのアルカ
リ水溶液によるアルカリ洗浄が、またトリメチルアミン
やメチルメルカプタンのような有機性の臭気成分には、
活性炭などによる吸着法が一般に適用されている。ま
た、硫化メチル、スチレンなどの中性の臭気成分には、
オゾンなどの酸化力を利用した酸化法による消臭が効果
的とされている。また更に、一般にガスは粉塵などを含
むとともに温度を有することから、予め水による水洗浄
が行われる場合があり、この水洗浄では水溶性のアンモ
ニアやトリメチルアミンなどの臭気成分がかなりの割合
で除去できることが知られており、この水洗浄を前処理
として他の酸洗浄、アルカリ洗浄、酸化法又は吸着法な
どと組み合わせて悪臭ガスの消臭を行う場合もある。
を上述した消臭技術を適用して消臭することが行われて
いる。この場合、上記したように悪臭ガスは通常複数の
臭気成分を含むとともに各臭気成分の性質が判明してい
ることから、例えば、アンモニアやトリメチルアミンな
どの塩基性系臭気成分には、硫酸、塩酸などの希釈水溶
液による酸洗浄が、また硫化水素やメチルメルカプタン
などの酸性系臭気成分には、カセイソーダなどのアルカ
リ水溶液によるアルカリ洗浄が、またトリメチルアミン
やメチルメルカプタンのような有機性の臭気成分には、
活性炭などによる吸着法が一般に適用されている。ま
た、硫化メチル、スチレンなどの中性の臭気成分には、
オゾンなどの酸化力を利用した酸化法による消臭が効果
的とされている。また更に、一般にガスは粉塵などを含
むとともに温度を有することから、予め水による水洗浄
が行われる場合があり、この水洗浄では水溶性のアンモ
ニアやトリメチルアミンなどの臭気成分がかなりの割合
で除去できることが知られており、この水洗浄を前処理
として他の酸洗浄、アルカリ洗浄、酸化法又は吸着法な
どと組み合わせて悪臭ガスの消臭を行う場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うに悪臭ガスの消臭には種々の消臭技術が知られ、また
具体的な消臭装置も種々実用されそれぞれに消臭効果を
発揮しているものの、臭気成分の内の多種を除去するこ
とが難しいためか、必ずしも十分な消臭が行われておら
ず、装置周りで悪臭を感じることが多々ある。
うに悪臭ガスの消臭には種々の消臭技術が知られ、また
具体的な消臭装置も種々実用されそれぞれに消臭効果を
発揮しているものの、臭気成分の内の多種を除去するこ
とが難しいためか、必ずしも十分な消臭が行われておら
ず、装置周りで悪臭を感じることが多々ある。
【０００６】本発明は、上記の事情に基づいてなしたも
のであって、その目的は、有機廃棄物の処理設備内で発
生する悪臭ガスの各種臭気成分を効果的に除去し得ると
ともに、長期間にわたり消臭性能を維持して使用し得る
消臭装置を提供するものである。
のであって、その目的は、有機廃棄物の処理設備内で発
生する悪臭ガスの各種臭気成分を効果的に除去し得ると
ともに、長期間にわたり消臭性能を維持して使用し得る
消臭装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係る消臭装置は、処理ガスの導入口が設け
られるとともに、冷却水の噴霧ノズルが設けられた冷却
処理室と、酸液槽を有する酸液処理室と、オゾンの注入
管が設けられたオゾン処理室と、活性炭が設けられると
ともに、排気ブロアーへの接続口が設けられた活性炭処
理室とをこの順に処理ガスの通路を有する仕切り壁を介
して１つのチャンバ内に構成してなる消臭装置であっ
て、冷却処理室と酸液処理室及びオゾン処理室と活性炭
処理室のそれぞれの処理ガスの通路にデミスタを設ける
一方、酸液処理室に、冷却処理室と酸液処理室との間の
処理ガスの通路に接続され、且つ、出口が酸液槽に浸漬
された処理ガスの導入管を設けてなるものである。
め、本発明に係る消臭装置は、処理ガスの導入口が設け
られるとともに、冷却水の噴霧ノズルが設けられた冷却
処理室と、酸液槽を有する酸液処理室と、オゾンの注入
管が設けられたオゾン処理室と、活性炭が設けられると
ともに、排気ブロアーへの接続口が設けられた活性炭処
理室とをこの順に処理ガスの通路を有する仕切り壁を介
して１つのチャンバ内に構成してなる消臭装置であっ
て、冷却処理室と酸液処理室及びオゾン処理室と活性炭
処理室のそれぞれの処理ガスの通路にデミスタを設ける
一方、酸液処理室に、冷却処理室と酸液処理室との間の
処理ガスの通路に接続され、且つ、出口が酸液槽に浸漬
された処理ガスの導入管を設けてなるものである。
【０００８】上記構成では、冷却処理室、酸液処理室、
オゾン処理室、活性炭処理室とをこの順に処理ガスの通
路を有する仕切り壁を介して１つのチャンバ内に構成し
ているので、消臭装置全体がコンパクトに構成できる。
また、最初に冷却処理室を設けているので、導入口から
導入された処理ガスは冷却水の噴霧によって所望温度
（30℃以下）に低減でき、温度の低下によって処理ガス
中の水分が凝縮分離され、また粉塵などが除去される。
この後に酸液処理室を設け、その室内の酸液槽内に出口
が浸漬された処理ガスの導入管を冷却処理室と酸液処理
室との間の処理ガスの通路に接続して設けているので、
冷却処理室からの処理ガスが酸液槽内を通って酸液処理
室に導入されるため、アンモニアやトリメチルアミンな
どの塩基性系臭気成分が酸（クエン酸などの有機酸が好
ましい。）の水溶液によって効率的に除去できる。また
この後にオゾン処理室を設け、オゾンの注入管よりオゾ
ンガスを吹き込むので、処理ガス中の不飽和臭気有機物
がオゾンにより酸化され消臭化がなされる。そしてこの
後に活性炭処理室を設けているので、メチルメルカプタ
ンのような有機性の臭気成分が効率的に除去できるとと
もに、オゾン処理による残存オゾンガスも吸着される。
また活性炭に付着する雑菌は、前記オゾンにより殺菌さ
れるため繁殖が抑制され、特に処理ガスが通る活性炭の
入口側表面での雑菌の繁殖がないことから、活性炭によ
る吸着作用が長期に維持され、消臭装置の消臭性能を長
期間にわたり維持できる。
オゾン処理室、活性炭処理室とをこの順に処理ガスの通
路を有する仕切り壁を介して１つのチャンバ内に構成し
ているので、消臭装置全体がコンパクトに構成できる。
また、最初に冷却処理室を設けているので、導入口から
導入された処理ガスは冷却水の噴霧によって所望温度
（30℃以下）に低減でき、温度の低下によって処理ガス
中の水分が凝縮分離され、また粉塵などが除去される。
この後に酸液処理室を設け、その室内の酸液槽内に出口
が浸漬された処理ガスの導入管を冷却処理室と酸液処理
室との間の処理ガスの通路に接続して設けているので、
冷却処理室からの処理ガスが酸液槽内を通って酸液処理
室に導入されるため、アンモニアやトリメチルアミンな
どの塩基性系臭気成分が酸（クエン酸などの有機酸が好
ましい。）の水溶液によって効率的に除去できる。また
この後にオゾン処理室を設け、オゾンの注入管よりオゾ
ンガスを吹き込むので、処理ガス中の不飽和臭気有機物
がオゾンにより酸化され消臭化がなされる。そしてこの
後に活性炭処理室を設けているので、メチルメルカプタ
ンのような有機性の臭気成分が効率的に除去できるとと
もに、オゾン処理による残存オゾンガスも吸着される。
また活性炭に付着する雑菌は、前記オゾンにより殺菌さ
れるため繁殖が抑制され、特に処理ガスが通る活性炭の
入口側表面での雑菌の繁殖がないことから、活性炭によ
る吸着作用が長期に維持され、消臭装置の消臭性能を長
期間にわたり維持できる。
【０００９】そして、上記本発明に係る消臭装置におい
ては、活性炭処理室の排気ブロアーへの接続口には、各
室が負圧に維持され得る容量の排気ブロアーを備える管
路が接続されてあってもよい。このように消臭装置の全
室を負圧に維持することにより、処理過程で処理ガスが
外部に洩れることがなくなり、装置周りにおける悪臭を
完全になくすことができる。
ては、活性炭処理室の排気ブロアーへの接続口には、各
室が負圧に維持され得る容量の排気ブロアーを備える管
路が接続されてあってもよい。このように消臭装置の全
室を負圧に維持することにより、処理過程で処理ガスが
外部に洩れることがなくなり、装置周りにおける悪臭を
完全になくすことができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１は、本発明に係る消臭装置の手
前壁面を除いて示す正面図、図２は、図１の平面図、図
３は、図１のＡ−Ａ断面図、図４は、図１のＢ−Ｂ断面
図である。１は消臭装置のチャンバ、２は冷却処理室、
３は酸液処理室、４はオゾン処理室、５は活性炭処理室
を示し、冷却処理室２、酸液処理室３、オゾン処理室
４、活性炭処理室５は、この順に処理ガスの通路６、
７、８を有する仕切り壁９、10、11を介してチャンバ１
内に構成されている。
基づいて説明する。図１は、本発明に係る消臭装置の手
前壁面を除いて示す正面図、図２は、図１の平面図、図
３は、図１のＡ−Ａ断面図、図４は、図１のＢ−Ｂ断面
図である。１は消臭装置のチャンバ、２は冷却処理室、
３は酸液処理室、４はオゾン処理室、５は活性炭処理室
を示し、冷却処理室２、酸液処理室３、オゾン処理室
４、活性炭処理室５は、この順に処理ガスの通路６、
７、８を有する仕切り壁９、10、11を介してチャンバ１
内に構成されている。
【００１１】冷却処理室２には、側壁に処理ガスの導入
管12が設けられており、その導入管12の室内側は管端が
閉塞され管壁には多数の処理ガスの放出孔13が開けられ
ている。また導入管12は外部において有機廃棄物の処理
設備（図示せず）に接続されるようになっている。ま
た、導入管12の室内側の下方には水槽14が、上方には噴
霧ノズル15がそれぞれ設けられるとともに、水槽14と噴
霧ノズル15とは室外に設置されたポンプ16に冷却装置17
を介在させて配管18によってつながれ、水槽14内の水が
ポンプ16によって揚水されるとともに、冷却装置17によ
って冷却されてのち、噴霧ノズル15から噴霧されて水槽
14内に循環するように構成されている。また、冷却処理
室２と酸液処理室３の間の処理ガスの通路６にはデミス
タ19が設けられ水分の凝縮除去が行われる。
管12が設けられており、その導入管12の室内側は管端が
閉塞され管壁には多数の処理ガスの放出孔13が開けられ
ている。また導入管12は外部において有機廃棄物の処理
設備（図示せず）に接続されるようになっている。ま
た、導入管12の室内側の下方には水槽14が、上方には噴
霧ノズル15がそれぞれ設けられるとともに、水槽14と噴
霧ノズル15とは室外に設置されたポンプ16に冷却装置17
を介在させて配管18によってつながれ、水槽14内の水が
ポンプ16によって揚水されるとともに、冷却装置17によ
って冷却されてのち、噴霧ノズル15から噴霧されて水槽
14内に循環するように構成されている。また、冷却処理
室２と酸液処理室３の間の処理ガスの通路６にはデミス
タ19が設けられ水分の凝縮除去が行われる。
【００１２】酸液処理室３には、下部に酸液槽20が設け
られ、また処理ガスの通路６に接続して処理ガスの導入
管21が設けられている。導入管21の処理ガスの出口部22
は導入管21にＴ字型に接続した管からなり、酸液槽20内
に浸漬される。また出口部22の管壁には多数の処理ガス
の放出孔23が形成されている。また、天井には酸液の補
給管24が設けられ、必要により酸液が酸液槽20内に補給
されるようになっている。
られ、また処理ガスの通路６に接続して処理ガスの導入
管21が設けられている。導入管21の処理ガスの出口部22
は導入管21にＴ字型に接続した管からなり、酸液槽20内
に浸漬される。また出口部22の管壁には多数の処理ガス
の放出孔23が形成されている。また、天井には酸液の補
給管24が設けられ、必要により酸液が酸液槽20内に補給
されるようになっている。
【００１３】オゾン処理室４には、天井にオゾンガスを
噴出注入する注入管25が設けられ、処理ガスの通路７を
通って酸液処理室３から導入された処理ガスに対して管
状に形成されたオゾン処理室４を通る過程でオゾン処理
が行われる。また、活性炭処理室５への処理ガスの通路
８にはデミスタ26が設けられ水分の凝縮除去が行われ
る。
噴出注入する注入管25が設けられ、処理ガスの通路７を
通って酸液処理室３から導入された処理ガスに対して管
状に形成されたオゾン処理室４を通る過程でオゾン処理
が行われる。また、活性炭処理室５への処理ガスの通路
８にはデミスタ26が設けられ水分の凝縮除去が行われ
る。
【００１４】活性炭処理室５には、ハニカムに形成され
多数の処理ガスの通路を有する活性炭27が設けられてい
る。また、室内の下部壁部には処理ガスの排気ブロアー
への接続口28が設けられており、その接続口28に外部に
設置された排気ブロアー29が配管30によって接続されて
いる。なお、符号31は排気ブロアー29の出口側に接続し
た排気管である。
多数の処理ガスの通路を有する活性炭27が設けられてい
る。また、室内の下部壁部には処理ガスの排気ブロアー
への接続口28が設けられており、その接続口28に外部に
設置された排気ブロアー29が配管30によって接続されて
いる。なお、符号31は排気ブロアー29の出口側に接続し
た排気管である。
【００１５】本発明に係る消臭装置は、上記の如き構成
であるから、導入管12を有機廃棄物の処理設備に接続し
排気ブロアー29を作動すると、処理設備で発生した処理
ガス（悪臭ガス）は、先ず導入管12の放出孔13より冷却
処理室２内に導入され、次いで処理ガスの通路６に接続
して設けた導入管21の出口部22の放出孔23より酸液槽20
内を通って酸液処理室３を通過した後、オゾン処理室
４、活性炭処理室５と順次通過して排気ブロアー29の排
気管31より排気される。
であるから、導入管12を有機廃棄物の処理設備に接続し
排気ブロアー29を作動すると、処理設備で発生した処理
ガス（悪臭ガス）は、先ず導入管12の放出孔13より冷却
処理室２内に導入され、次いで処理ガスの通路６に接続
して設けた導入管21の出口部22の放出孔23より酸液槽20
内を通って酸液処理室３を通過した後、オゾン処理室
４、活性炭処理室５と順次通過して排気ブロアー29の排
気管31より排気される。
【００１６】上記の各室２〜５を通過する過程で、処理
設備で発生した処理ガスは次の如く消臭処理されて排気
管31より排気される。すなわち、冷却処理室２では、導
入管12の放出孔13から導入される処理ガスは、上方の噴
霧ノズル15から噴出される冷却水と交流して30℃以下の
温度に冷却され、処理ガス中の水分が凝縮分離されると
ともに、処理ガス中のアンモニア、トリメチルアミンな
どの臭気成分、及び粉塵などが除去される。また冷却水
の水分はデミスタ19によって除去される。この冷却処理
において、噴霧ノズル15から噴出される冷却水は、水槽
14、ポンプ16、冷却装置17、噴霧ノズル15を循環すると
ともに、その循環過程で冷却装置17によって30℃以下に
保持されている。
設備で発生した処理ガスは次の如く消臭処理されて排気
管31より排気される。すなわち、冷却処理室２では、導
入管12の放出孔13から導入される処理ガスは、上方の噴
霧ノズル15から噴出される冷却水と交流して30℃以下の
温度に冷却され、処理ガス中の水分が凝縮分離されると
ともに、処理ガス中のアンモニア、トリメチルアミンな
どの臭気成分、及び粉塵などが除去される。また冷却水
の水分はデミスタ19によって除去される。この冷却処理
において、噴霧ノズル15から噴出される冷却水は、水槽
14、ポンプ16、冷却装置17、噴霧ノズル15を循環すると
ともに、その循環過程で冷却装置17によって30℃以下に
保持されている。
【００１７】酸液処理室３では、導入管21の放出孔23か
ら導入される処理ガスは、酸液槽20内に多数の分散気泡
となって導入され、酸液槽20内に入れられている酸の水
溶液中を上昇する過程で、アンモニア、トリメチルアミ
ンなどの臭気成分が更に除去される。なお、ここで使用
する酸としては、塩基性臭気成分を効果的に除去すると
ともに塩酸や硫酸などと違い取扱いがし易い、クエン酸
などの有機酸が好ましい。また、酸液槽20内の酸水溶液
中の放出孔23までの深さは、 300〜 500mmが好ましく、
深さが 300mm未満では酸による臭気成分の除去効果が期
待できず、また500mmを超えると臭気成分の除去効果は
あるものの、ガスを導入するのに排気ブロアー29の容量
を大きくしなければならなくなり、装置のコスト高を招
く。
ら導入される処理ガスは、酸液槽20内に多数の分散気泡
となって導入され、酸液槽20内に入れられている酸の水
溶液中を上昇する過程で、アンモニア、トリメチルアミ
ンなどの臭気成分が更に除去される。なお、ここで使用
する酸としては、塩基性臭気成分を効果的に除去すると
ともに塩酸や硫酸などと違い取扱いがし易い、クエン酸
などの有機酸が好ましい。また、酸液槽20内の酸水溶液
中の放出孔23までの深さは、 300〜 500mmが好ましく、
深さが 300mm未満では酸による臭気成分の除去効果が期
待できず、また500mmを超えると臭気成分の除去効果は
あるものの、ガスを導入するのに排気ブロアー29の容量
を大きくしなければならなくなり、装置のコスト高を招
く。
【００１８】オゾン処理室４では、処理ガス通路７を通
って導入される処理ガスは、天井にに設けられた注入管
25から噴出注入されるオゾンガスによって攪拌されなが
ら下降し、その過程で不飽和（二重結合のある）臭気有
機物がオゾンにより酸化され消臭化される。また処理ガ
ス中の雑菌の殺菌がなされる。また処理ガス中に含まれ
る水分は、次の活性炭処理室５への処理ガスの通路８内
に設置したデミスタ26によって凝縮除去される。なお、
このときのオゾンガスの濃度は 2〜3ppm程度が好まし
く、濃度が2ppm未満では次の活性炭表面に付着繁殖する
雑菌の殺菌効果が期待できない。また3ppmを超えると次
の活性炭で吸着しきれず外部に排出規制値（0.024ppm以
下）以上の濃度でオゾンガスが排出される懸念がある。
って導入される処理ガスは、天井にに設けられた注入管
25から噴出注入されるオゾンガスによって攪拌されなが
ら下降し、その過程で不飽和（二重結合のある）臭気有
機物がオゾンにより酸化され消臭化される。また処理ガ
ス中の雑菌の殺菌がなされる。また処理ガス中に含まれ
る水分は、次の活性炭処理室５への処理ガスの通路８内
に設置したデミスタ26によって凝縮除去される。なお、
このときのオゾンガスの濃度は 2〜3ppm程度が好まし
く、濃度が2ppm未満では次の活性炭表面に付着繁殖する
雑菌の殺菌効果が期待できない。また3ppmを超えると次
の活性炭で吸着しきれず外部に排出規制値（0.024ppm以
下）以上の濃度でオゾンガスが排出される懸念がある。
【００１９】活性炭処理室５では、処理ガス通路８を通
って導入される処理ガスは、ハニカムに形成され多数の
処理ガスの通路を有する活性炭27を通る過程で、メチル
メルカプタンのような有機性の臭気成分が除去されると
ともに、前のオゾン処理による残存オゾンガスが吸着除
去される。そして、排気ブロアー29の出口側に接続した
排気管31から消臭された処理ガスが排気される。また、
活性炭処理室５においては、処理ガスの水分はデミスタ
26によって凝縮除去されているので活性炭への付着が少
なく雑菌の繁殖が抑制され、オゾンガスによる殺菌効果
と相まって活性炭による吸着作用が長期に維持され、消
臭装置の消臭性能を長期間にわたり維持できる。
って導入される処理ガスは、ハニカムに形成され多数の
処理ガスの通路を有する活性炭27を通る過程で、メチル
メルカプタンのような有機性の臭気成分が除去されると
ともに、前のオゾン処理による残存オゾンガスが吸着除
去される。そして、排気ブロアー29の出口側に接続した
排気管31から消臭された処理ガスが排気される。また、
活性炭処理室５においては、処理ガスの水分はデミスタ
26によって凝縮除去されているので活性炭への付着が少
なく雑菌の繁殖が抑制され、オゾンガスによる殺菌効果
と相まって活性炭による吸着作用が長期に維持され、消
臭装置の消臭性能を長期間にわたり維持できる。
【００２０】
【実施例】本実施例では、上記に説明した本発明に係る
消臭装置に有機廃棄物の処理設備を接続した。そして、
処理設備内に有機廃棄物の分解促進のためヒーターを取
付け設備内温度を約60℃に保持し、また処理設備を含め
全処理室が負圧になる容量の排気ブロアー29を設置し
た。また、冷却処理室２では、冷却水の循環水量を0.8
m3／h とし、その温度を30℃以下となるように制御し
た。また、酸液処理室３では、酸としてクエン酸を用
い、濃度 5％、pH： 2〜3 の水溶液とし、酸液槽20内に
おける酸水溶液中の放出孔23までの深さを 350mmとし
た。また、オゾン処理室４では、オゾン濃度が 2〜3ppm
となるように噴出注入した。また、活性炭処理室５で
は、ハニカムに形成され多数の処理ガスの通路を有する
活性炭27を設けた。
消臭装置に有機廃棄物の処理設備を接続した。そして、
処理設備内に有機廃棄物の分解促進のためヒーターを取
付け設備内温度を約60℃に保持し、また処理設備を含め
全処理室が負圧になる容量の排気ブロアー29を設置し
た。また、冷却処理室２では、冷却水の循環水量を0.8
m3／h とし、その温度を30℃以下となるように制御し
た。また、酸液処理室３では、酸としてクエン酸を用
い、濃度 5％、pH： 2〜3 の水溶液とし、酸液槽20内に
おける酸水溶液中の放出孔23までの深さを 350mmとし
た。また、オゾン処理室４では、オゾン濃度が 2〜3ppm
となるように噴出注入した。また、活性炭処理室５で
は、ハニカムに形成され多数の処理ガスの通路を有する
活性炭27を設けた。
【００２１】上記の諸条件の下で、各処理室に真空マノ
メータを取付けて室内圧を測定するとともに、臭気ガス
の測定を行った。その測定された室内圧と臭気成分の濃
度の変化を、各処理室に対応させて図５に示す。
メータを取付けて室内圧を測定するとともに、臭気ガス
の測定を行った。その測定された室内圧と臭気成分の濃
度の変化を、各処理室に対応させて図５に示す。
【００２２】図５から明らかなように、室内圧について
は、処理設備から冷却処理室２までは僅かに負圧に、そ
してその後の各室２〜５の室内圧は、−100 〜−550mmA
q にそれぞれ保持されていることが分かる。また、臭気
成分の濃度については、アンモニアやトリメチルアミン
は冷却処理室２でも除去されるが、酸液処理室３では大
きく除去されることが分かる。また本例では臭気成分と
してメチルメルカプタンが存在していたが、活性炭処理
室５で除去されていた。
は、処理設備から冷却処理室２までは僅かに負圧に、そ
してその後の各室２〜５の室内圧は、−100 〜−550mmA
q にそれぞれ保持されていることが分かる。また、臭気
成分の濃度については、アンモニアやトリメチルアミン
は冷却処理室２でも除去されるが、酸液処理室３では大
きく除去されることが分かる。また本例では臭気成分と
してメチルメルカプタンが存在していたが、活性炭処理
室５で除去されていた。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る消臭
装置によれば、消臭性能を長期に維持して、有機廃棄物
の処理設備内で発生する悪臭ガスの各種臭気成分を効果
的に除去することができる。また、各処理室の室内圧を
負圧とすることで、悪臭ガスを周囲に洩らすことなく臭
気が行える。
装置によれば、消臭性能を長期に維持して、有機廃棄物
の処理設備内で発生する悪臭ガスの各種臭気成分を効果
的に除去することができる。また、各処理室の室内圧を
負圧とすることで、悪臭ガスを周囲に洩らすことなく臭
気が行える。
【図１】本発明に係る消臭装置の手前壁面を除いて示す
正面図である。
正面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図４】図１のＢ−Ｂ断面図である。
【図５】本発明に係る消臭装置の各処理室における室内
圧と処理ガス中の臭気成分の濃度を各処理室に対応させ
て示すグラフ図である。
圧と処理ガス中の臭気成分の濃度を各処理室に対応させ
て示すグラフ図である。
１：消臭装置のチャンバ ２：冷却処理室
３：酸液処理室 ４：オゾン処理室 ５：活性炭処理室 ６
〜８：処理ガスの通路 ９〜11：仕切り壁 12：導入管 1
3：放出孔 14：水槽 15：噴霧ノズル 1
6：ポンプ 17：冷却装置 18：配管 1
9：デミスタ 20：酸液槽 21：導入管 2
2：出口部 23：放出孔 24：補給管 2
5：注入管 26：デミスタ 27：活性炭 2
8：接続口 29：排気ブロアー 30：配管 3
1：排気管
３：酸液処理室 ４：オゾン処理室 ５：活性炭処理室 ６
〜８：処理ガスの通路 ９〜11：仕切り壁 12：導入管 1
3：放出孔 14：水槽 15：噴霧ノズル 1
6：ポンプ 17：冷却装置 18：配管 1
9：デミスタ 20：酸液槽 21：導入管 2
2：出口部 23：放出孔 24：補給管 2
5：注入管 26：デミスタ 27：活性炭 2
8：接続口 29：排気ブロアー 30：配管 3
1：排気管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 53/77
Claims (2)
- 【請求項１】 処理ガスの導入口が設けられるととも
に、冷却水の噴霧ノズルが設けられた冷却処理室と、酸
液槽を有する酸液処理室と、オゾンの注入管が設けられ
たオゾン処理室と、活性炭が設けられるとともに、排気
ブロアーへの接続口が設けられた活性炭処理室とをこの
順に処理ガスの通路を有する仕切り壁を介して１つのチ
ャンバ内に構成してなる消臭装置であって、冷却処理室
と酸液処理室及びオゾン処理室と活性炭処理室のそれぞ
れの処理ガスの通路にデミスタを設ける一方、酸液処理
室に、冷却処理室と酸液処理室との間の処理ガスの通路
に接続され、且つ、出口が酸液槽に浸漬された処理ガス
の導入管を設けてなることを特徴とする消臭装置。 - 【請求項２】 排気ブロアーへの接続口に、各室が負圧
に維持され得る容量の排気ブロアーを備える管路が接続
されてなる請求項１記載の消臭装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10016822A JPH11207138A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 消臭装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10016822A JPH11207138A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 消臭装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11207138A true JPH11207138A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11926879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10016822A Withdrawn JPH11207138A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 消臭装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11207138A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004357908A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Akita Reidan Kiki Kk | 局所消臭器 |
| JP2011202836A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Ube Industries Ltd | 減温塔 |
| CN102585862A (zh) * | 2011-01-11 | 2012-07-18 | 周仁福 | 生物质综合转化方法和装置 |
-
1998
- 1998-01-29 JP JP10016822A patent/JPH11207138A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004357908A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Akita Reidan Kiki Kk | 局所消臭器 |
| JP2011202836A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Ube Industries Ltd | 減温塔 |
| CN102585862A (zh) * | 2011-01-11 | 2012-07-18 | 周仁福 | 生物质综合转化方法和装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050405 |