JPH11203739A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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Publication number
JPH11203739A
JPH11203739A JP10000170A JP17098A JPH11203739A JP H11203739 A JPH11203739 A JP H11203739A JP 10000170 A JP10000170 A JP 10000170A JP 17098 A JP17098 A JP 17098A JP H11203739 A JPH11203739 A JP H11203739A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
functional film
recording
layer
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP10000170A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Furuta
正寛 古田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPH11203739A publication Critical patent/JPH11203739A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium which allows the stable writing of recording marks sufficiently smaller than a beam spot without the execution of strict control of a recording power and allows the reproduction of the written small recording marks while stably holding the marks. SOLUTION: The optical recording medium formed with >=1 functional films 13 contributing to the recording and reproducing of information on a substrate is composed of the functional films of a layer structure contiguously laminated with the first layer 13-1 consisting of an alloy of a prescribed compsn. and the second layer 13-2 consisting of an alloy of the compsn. different from the compsn. of the first layer 13-1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報の書き換えが
可能な光記録媒体に関する。
The present invention relates to an optical recording medium on which information can be rewritten.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスク(光記録媒体)は、情報の書
き換えが可能であることから、主としてオーディオ用や
コンピュータ用の記録媒体として注目され、その大容量
化が望まれている。この大容量化への要求に応えるため
には、情報を高密度に記録する技術と、高密度に記録さ
れた情報を正確に再生する技術との双方が必要であり、
近年その開発が進められている。
2. Description of the Related Art An optical disk (optical recording medium) is attracting attention mainly as a recording medium for audio and computers since information can be rewritten, and its large capacity is desired. In order to meet this demand for higher capacity, it is necessary to have both a technology for recording information at high density and a technology for accurately reproducing information recorded at high density.
In recent years, its development has been promoted.

【0003】ここで、このような書き換え可能な光ディ
スクは、情報の記録再生に寄与する機能膜(メモリー膜
など)の材料や記録再生方式の違いによって、光磁気デ
ィスクと相変化ディスクとに大別される。以下、光磁気
ディスクを例に、情報の記録再生について説明を行う。
光磁気ディスクに情報を記録するに当たっては、情報に
応じてパワーを断続させながら記録ビームが照射され、
かつ一定方向の外部磁界が印加される(光変調記録方
式)。
Here, such rewritable optical disks are roughly classified into a magneto-optical disk and a phase-change disk depending on the material of a functional film (such as a memory film) contributing to recording and reproducing of information and the recording / reproducing method. Is done. Hereinafter, the recording and reproduction of information will be described using a magneto-optical disk as an example.
When recording information on a magneto-optical disk, a recording beam is irradiated while intermittent power according to the information,
In addition, an external magnetic field in a fixed direction is applied (light modulation recording method).

【0004】記録ビームの照射により加熱されてメモリ
ー膜のキュリー温度Tcm近傍まで温度上昇した領域
(以下「加熱領域」という)では、メモリー膜の保磁力
が低下しているので、その磁化方向を外部磁界の向きに
倣って反転させることができる。このようにして周囲と
は逆の磁化方向となった磁区は、温度の低下に伴ってメ
モリー膜の保磁力が高くなると安定し、記録マークとな
る。
[0004] In a region heated by the irradiation of the recording beam and heated to a temperature near the Curie temperature Tcm of the memory film (hereinafter referred to as a "heated region"), the coercive force of the memory film is reduced, and the magnetization direction is changed to the outside. It can be reversed according to the direction of the magnetic field. The magnetic domain having the magnetization direction opposite to that of the surroundings becomes stable when the coercive force of the memory film increases as the temperature decreases, and becomes a recording mark.

【0005】したがって、記録ビームを情報に応じて断
続させながら照射することによって、上記の記録マーク
を次々に光磁気ディスクのメモリー膜に形成し、情報を
記録することができる。ここで、情報を高密度に記録す
るためには、隣り合う記録マーク間の距離を縮めるだけ
でなく、記録マーク自体の大きさを小さくすることも必
要となる。
Therefore, by irradiating the recording beam intermittently according to the information, the above-described recording marks can be successively formed on the memory film of the magneto-optical disk, and the information can be recorded. Here, in order to record information at high density, it is necessary not only to reduce the distance between adjacent recording marks, but also to reduce the size of the recording marks themselves.

【0006】上記した光変調記録方式を用いて小さな記
録マークを形成する場合、記録ビームの照射によってビ
ームスポット内に生じる温度分布を利用し、ビームスポ
ット内の小さな領域にのみ上記の加熱領域(温度がTc
m近傍まで上昇した領域)を形成させればよい。このよ
うに、加熱領域をビームスポットよりも小さくして、小
さい記録マークを形成する方法は、筆先記録法と呼ばれ
ている。
When a small recording mark is formed by using the above-described light modulation recording method, a temperature distribution generated in a beam spot by irradiation of a recording beam is used, and the above-described heating area (temperature) is applied only to a small area in the beam spot. Is Tc
m). The method of forming a small recording mark by making the heating area smaller than the beam spot in this way is called a pen tip recording method.

【0007】したがって、この筆先記録法を用いれば、
ビームスポットよりも小さい記録マークを次々に光磁気
ディスクに形成することができ、情報を高密度に記録す
ることができる。一方、筆先記録法を用いて高密度に記
録された情報は、再生ビームの照射によってビームスポ
ット内に生じる温度分布を利用する磁気超解像(Magnet
icallyinduced Super Resolution)技術を用いて正確に
再生できる。
Therefore, if this pen tip recording method is used,
Recording marks smaller than the beam spot can be successively formed on the magneto-optical disk, and information can be recorded at a high density. On the other hand, information recorded at high density using the pen tip recording method is based on magnetic super-resolution (Magnet
It can be accurately reproduced using the ically induced Super Resolution technology.

【0008】この磁気超解像技術には、近年、様々な方
式のものが提案されており、例えば、ビームスポット内
の所定温度よりも高温となった領域で再生を行うCAD
(Cen- ter Aperture Detection)方式,静磁結合方式
や、ビームスポット内の低温領域で再生するFAD(Fro
nt Aperture Detection)方式や、ビームスポット内の中
温領域で再生するD−RAD(Doublemasked Rear Apert
ure Detection)方式(例えば、特開平4-255946号公報)
がある。
In recent years, various types of magnetic super-resolution techniques have been proposed. For example, CAD which performs reproduction in a region in a beam spot where the temperature is higher than a predetermined temperature is proposed.
(Center Aperture Detection) method, magnetostatic coupling method, and FAD (Fro
nt Aperture Detection) and D-RAD (Doublemasked Rear Apert
ure Detection) method (for example, JP-A-4-255946)
There is.

【0009】これら何れの方式であっても、筆先記録法
を用いて形成されたビームスポットよりも小さい記録マ
ークは、ビームスポットよりも小さい領域のみで1つず
つ正確に再生することができる。このように、光磁気デ
ィスクでは、筆先記録法を用いて情報を高密度に書き込
み、この高密度に書き込まれた情報を磁気超解像技術を
用いて正確に再生することによって、大容量化への試み
がなされている。
In any of these methods, recording marks smaller than a beam spot formed by using the pen tip recording method can be accurately reproduced one by one only in an area smaller than the beam spot. As described above, in a magneto-optical disk, information can be written at a high density by using a pen tip recording method, and the information written at a high density can be accurately reproduced by using a magnetic super-resolution technique, thereby increasing the capacity. Attempts have been made.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した筆
先記録法によって、ビームスポットよりも小さい記録マ
ークを1つ書き込むに当たっては、通常、その記録マー
クの大きさが小さいほど、記録ビームの照射時間を短く
しなければならない。これは、記録ビームの照射時間が
短いほど、上記の加熱領域(温度がTcm近傍まで上昇
した領域)を小さくできるからである。
In writing one recording mark smaller than the beam spot by the above-described pen tip recording method, usually, the smaller the size of the recording mark, the longer the irradiation time of the recording beam. Must be shorter. This is because the shorter the recording beam irradiation time, the smaller the above-mentioned heating area (the area where the temperature has increased to near Tcm).

【0011】しかしその反面、記録ビームの照射時間が
短くなると、記録ビームのパワーの時間的な変動(雑
音)が大きく影響するようになり、上記した小さい加熱
領域の大きさにばらつきが生じることになる。周知のよ
うに、記録マークが書き込まれる光磁気ディスクのメモ
リー膜は、1つの組成の合金膜(例えば、希土類金属と
遷移金属との均一な合金膜や、希土類金属の層と遷移金
属の層とを一定の周期で積層した合金膜)にて構成され
ている。
However, on the other hand, when the irradiation time of the recording beam is shortened, the temporal fluctuation (noise) of the power of the recording beam greatly influences, and the size of the small heating region varies. Become. As is well known, a memory film of a magneto-optical disk on which a recording mark is written is an alloy film of one composition (for example, a uniform alloy film of a rare earth metal and a transition metal, or a rare earth metal layer and a transition metal layer). (An alloy film obtained by laminating at a constant cycle).

【0012】したがって、筆先記録法を用いてビームス
ポットよりも小さい記録マークをメモリー膜に書き込む
際の記録パワーマージンは、記録ビームの照射時間が短
いほど(記録マークが小さいほど)狭くなってしまう。
このため、加熱領域の大きさのばらつきがそのまま記録
マークの大きさのばらつきとして反映し、光磁気ディス
クに次々形成される小さい記録マークの大きさが不均一
となりやすい。
Therefore, the recording power margin when writing a recording mark smaller than the beam spot on the memory film using the pen tip recording method becomes narrower as the irradiation time of the recording beam is shorter (the smaller the recording mark is).
For this reason, the variation in the size of the heating area is directly reflected as the variation in the size of the recording marks, and the size of the small recording marks formed one after another on the magneto-optical disk tends to be non-uniform.

【0013】ここで、希望する大きさの小さな記録マー
クのみを光磁気ディスクに安定して次々形成させるため
には、記録パワーを極めて厳密に制御することが必要と
なる。この場合、記録ビームのパワーの制御回路が非常
に複雑となってしまう。
Here, in order to form only small recording marks of a desired size one after another stably on the magneto-optical disk, it is necessary to control recording power extremely strictly. In this case, the control circuit of the power of the recording beam becomes very complicated.

【0014】また、上記した筆先記録法によって形成さ
れる小さい記録マークは、トラックに沿った方向に縮小
されるだけでなく、トラック幅方向にも縮小され、面積
が非常に小さいものとなる。したがって、筆先記録法に
よって小さい記録マークがメモリー膜に形成できたとし
ても、1つの組成の合金膜にて構成されたメモリー膜で
は保磁力が低く、記録マークの磁化方向が、逆の磁化方
向である周囲の影響を受けて消滅したり、消滅しないま
でも確実に再生できない不安定な状態となる可能性があ
る。
Further, the small recording mark formed by the above-mentioned pen tip recording method is reduced not only in the direction along the track but also in the track width direction, and has a very small area. Therefore, even if a small recording mark can be formed in the memory film by the pen tip recording method, the coercive force is low in the memory film composed of the alloy film of one composition, and the magnetization direction of the recording mark is opposite to the magnetization direction. It may disappear due to the influence of a certain surrounding, or may be in an unstable state where it cannot be reliably reproduced even if it does not disappear.

【0015】本発明の目的は、記録パワーの厳密な制御
を行うことなく、ビームスポットよりも十分小さな記録
マークでも安定して書き込むことができると共に、書き
込まれた小さな記録マークを安定して保持しつつ再生す
ることもできる光記録媒体を提供することにある。
An object of the present invention is to stably write even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot without strictly controlling the recording power, and to stably hold the written small recording mark. An object of the present invention is to provide an optical recording medium that can reproduce information while reproducing.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、情報の記録再生に寄与する1つ以上の機能膜が基板
上に形成された光記録媒体において、上記した1つ以上
の機能膜の少なくとも1つを、所定の組成の合金からな
る第1層と、該第1層とは異なる組成の合金からなる第
2層とが隣接して積層された層構造の機能膜にて構成し
たものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium in which one or more functional films contributing to recording and reproduction of information are formed on a substrate. At least one of the films is formed of a functional film having a layer structure in which a first layer made of an alloy having a predetermined composition and a second layer made of an alloy having a different composition from the first layer are stacked adjacent to each other. It was done.

【0017】したがって、請求項1に記載の発明によれ
ば、上記した1つ以上の機能膜の全てを1つの組成の合
金膜にて構成する場合と比べて、記録パワーマージンが
拡大するので、ビームスポットよりも十分小さな記録マ
ークでも安定して書き込むことができる。さらに、上記
した1つ以上の機能膜の全てを1つの組成の合金膜にて
構成する場合と比べて、広い温度範囲にわたって情報を
安定して保持することができるので、書き込まれた小さ
な記録マークを安定して保持しつつ再生することもでき
る。
Therefore, according to the first aspect of the present invention, the recording power margin is increased as compared with the case where all of the one or more functional films are formed of an alloy film having one composition. Even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot can be stably written. Further, as compared with the case where all of the one or more functional films are formed of an alloy film of one composition, information can be stably held over a wide temperature range, so that a small recorded mark written can be obtained. Can be reproduced while maintaining the stability.

【0018】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の光記録媒体において、層構造の機能膜を、第1
層と第2層とからなる基本層が繰り返し積層された構成
としたものである。したがって、請求項2に記載の発明
によれば、記録パワーマージンが確実に拡大され、ビー
ムスポットよりも十分小さな記録マークでも安定して書
き込むことができる。さらに、より広い温度範囲にわた
って情報を安定して保持することができるので、書き込
まれた小さな記録マークを安定して保持しつつ再生する
こともできる。
The invention described in claim 2 is the same as the invention described in claim 1.
3. The optical recording medium according to item 1, wherein the functional film having a layered structure is
In this configuration, a basic layer including a layer and a second layer is repeatedly laminated. Therefore, according to the second aspect of the present invention, the recording power margin is reliably expanded, and it is possible to stably write even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot. Further, since information can be stably held over a wider temperature range, a small recorded mark can be reproduced while being stably held.

【0019】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
または請求項2に記載の光記録媒体において、第1層お
よび第2層を共に、希土類金属と遷移金属とで構成され
た合金を含む磁性層としたものである。したがって、請
求項3に記載の発明によれば、記録パワーマージンの拡
大によってビームスポットよりも十分小さな記録マーク
でも安定して書き込むことができ、かつ、広い温度範囲
にわたって情報を保持するに十分保磁力が高いため小さ
な記録マークでも安定して保持しつつ再生できる光磁気
記録媒体が得られる。
Further, the invention described in claim 3 is the first invention.
Alternatively, in the optical recording medium according to claim 2, both the first layer and the second layer are magnetic layers containing an alloy composed of a rare earth metal and a transition metal. Therefore, according to the third aspect of the present invention, it is possible to stably write even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot by expanding the recording power margin, and to have a sufficient coercive force to hold information over a wide temperature range. As a result, a magneto-optical recording medium capable of reproducing even small recording marks stably can be obtained.

【0020】また、請求項4に記載の発明は、請求項3
に記載の光記録媒体において、第1層を構成する希土類
金属と第2層を構成する希土類金属とを同一の元素、第
1層を構成する遷移金属と第2層を構成する遷移金属と
を同一の元素にて構成したものである。したがって、請
求項4に記載の発明によれば、記録パワーマージンの拡
大によってビームスポットよりも十分小さな記録マーク
でも安定して書き込むことができ、かつ、広い温度範囲
にわたって情報を保持するに十分保磁力が高いため小さ
な記録マークでも安定して保持しつつ再生できる簡易な
構成の光磁気記録媒体が得られる。
The invention described in claim 4 is the third invention.
Wherein the rare-earth metal forming the first layer and the rare-earth metal forming the second layer are the same element, and the transition metal forming the first layer and the transition metal forming the second layer are the same. These are composed of the same element. Therefore, according to the fourth aspect of the present invention, it is possible to stably write even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot by enlarging the recording power margin, and to have a sufficient coercive force to hold information over a wide temperature range. Therefore, a magneto-optical recording medium having a simple configuration capable of stably holding and reproducing even small recording marks can be obtained.

【0021】また、請求項5に記載の発明は、請求項4
に記載の光記録媒体において、第1層を希土類金属の副
格子磁化が優勢の磁性層、第2層を遷移金属の副格子磁
化が優勢の磁性層にて構成したものである。
The invention described in claim 5 is the same as the invention in claim 4.
Wherein the first layer is composed of a magnetic layer in which sub-lattice magnetization of rare earth metal is predominant, and the second layer is a magnetic layer in which sub-lattice magnetization of transition metal is predominant.

【0022】したがって、請求項5に記載の発明によれ
ば、記録パワーマージンの確実な拡大によってビームス
ポットよりも十分小さな記録マークでも安定して書き込
むことができ、かつ、広い温度範囲にわたって情報を保
持するに十分保磁力が高いため小さな記録マークでも安
定して保持しつつ再生できる簡易な構成の光磁気記録媒
体が得られる。
Therefore, according to the fifth aspect of the present invention, it is possible to stably write even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot by reliably expanding the recording power margin, and to retain information over a wide temperature range. Therefore, a magneto-optical recording medium having a simple configuration capable of stably holding and reproducing even small recording marks can be obtained.

【0023】また、請求項6に記載の発明は、請求項1
から請求項5の何れか1項に記載の光記録媒体におい
て、基板上に少なくとも、記録された情報を保持する第
1の機能膜を形成したものである。この場合、この第1
の機能膜が、第1層と第2層とが隣接して積層された層
構造の機能膜にて構成されている。したがって、請求項
6に記載の発明によれば、上記した第1の機能膜を1つ
の組成の合金膜にて構成する場合と比べて、記録パワー
マージンが拡大するので、ビームスポットよりも十分小
さな記録マークでも安定して書き込むことができる。さ
らに、上記した第1の機能膜を1つの組成の合金膜にて
構成する場合と比べて、広い温度範囲にわたって情報を
安定して保持することができるので、書き込まれた小さ
な記録マークを安定して保持しつつ再生することもでき
る。
[0023] The invention described in claim 6 is the first invention.
6. The optical recording medium according to claim 1, wherein at least a first functional film for holding recorded information is formed on a substrate. In this case, this first
Is composed of a functional film having a layered structure in which a first layer and a second layer are stacked adjacent to each other. Therefore, according to the sixth aspect of the present invention, the recording power margin is enlarged as compared with the case where the first functional film is formed of an alloy film having one composition, and therefore, is sufficiently smaller than the beam spot. Even a recording mark can be stably written. Further, compared to the case where the first functional film is formed of an alloy film having one composition, information can be stably held over a wide temperature range, so that small written recording marks can be stably written. You can also play while holding.

【0024】また、請求項7に記載の発明は、請求項1
から請求項5の何れか1項に記載の光記録媒体におい
て、基板上に少なくとも、記録された情報を保持する第
1の機能膜と、再生ビーム照射領域内の温度分布に応じ
た一部の領域に、第1の機能膜の磁化方向に応じた垂直
磁化領域が形成される第2の機能膜とを形成したもので
ある。この場合、少なくとも第1の機能膜が、第1層と
第2層とが隣接して積層された層構造の機能膜にて構成
されている。
[0024] Further, the invention described in claim 7 is based on claim 1.
6. The optical recording medium according to claim 1, wherein at least a first functional film holding recorded information on the substrate and a part of the first functional film corresponding to a temperature distribution in a reproduction beam irradiation area. A second functional film in which a perpendicular magnetization region corresponding to the magnetization direction of the first functional film is formed in the region. In this case, at least the first functional film is formed of a functional film having a layer structure in which the first layer and the second layer are stacked adjacent to each other.

【0025】したがって、請求項7に記載の発明によれ
ば、記録パワーマージンが拡大されるので、ビームスポ
ットよりも十分小さな記録マークでも安定して第1の機
能膜に書き込むことができる。さらに、広い温度範囲に
わたって情報を安定して保持することができるので、第
1の機能膜に書き込まれた小さな記録マークを安定して
保持しつつ、第2の機能膜の働きによる磁気超解像技術
によって正確に再生することもできる。
Therefore, according to the invention of claim 7, since the recording power margin is expanded, even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot can be stably written on the first functional film. Further, since the information can be stably held over a wide temperature range, the magnetic super-resolution by the function of the second functional film can be stably held while the small recording mark written on the first functional film is stably retained. It can also be accurately reproduced by technology.

【0026】また、請求項8に記載の発明は、請求項7
に記載の光記録媒体において、第1の機能膜と第2の機
能膜との間に、第1の機能膜の磁化方向を一部の領域に
おいて第2の機能膜に転写させる第3の機能膜を形成し
たものである。この場合、第3の機能膜は、面内磁化膜
であって、その面内磁化状態が垂直磁化状態に変化する
温度よりもキュリー温度の方が高い膜である。そして、
再生ビーム照射領域のうち、第3の機能膜の面内磁化状
態が垂直磁化状態に変化する温度よりも高温でかつ、第
3の機能膜のキュリー温度よりも低温の領域に、一部の
領域が形成される。
The invention described in claim 8 is the same as that in claim 7.
In the optical recording medium described in the above, the third function of transferring the magnetization direction of the first functional film to the second functional film in a partial region between the first functional film and the second functional film It is a film formed. In this case, the third functional film is an in-plane magnetization film, and has a higher Curie temperature than a temperature at which the in-plane magnetization state changes to a perpendicular magnetization state. And
In the reproduction beam irradiation region, a partial region is set in a region where the temperature is higher than the temperature at which the in-plane magnetization state of the third functional film changes to the perpendicular magnetization state and lower than the Curie temperature of the third functional film. Is formed.

【0027】したがって、請求項8に記載の発明によれ
ば、記録パワーマージンの拡大によってビームスポット
よりも十分小さな記録マークでも安定して第1の機能膜
に書き込むことができる。さらに、広い温度範囲にわた
って情報を安定して保持することができるので、第1の
機能膜に書き込まれた小さな記録マークを安定して保持
しつつ、第2の機能膜および第3の機能膜の働きによる
D−RAD方式によって正確に再生することもできる。
Therefore, according to the present invention, even a recording mark sufficiently smaller than the beam spot can be stably written on the first functional film by expanding the recording power margin. Further, since the information can be stably held over a wide temperature range, the small recording mark written on the first function film can be stably held while the second function film and the third function film are kept. Accurate reproduction can also be performed by the D-RAD method by function.

【0028】また、請求項9に記載の発明は、請求項7
に記載の光記録媒体において、第1の機能膜と第2の機
能膜との間に、第1の機能膜の磁化方向を一部の領域に
おいて第2の機能膜に転写させる第3の機能膜を形成し
たものである。この場合、第3の機能膜は、垂直磁化膜
である。そして、再生ビーム照射領域のうち、第3の機
能膜のキュリー温度よりも低温の領域に、一部の領域が
形成される。
Further, the invention according to claim 9 is the same as the invention according to claim 7.
In the optical recording medium described in the above, the third function of transferring the magnetization direction of the first functional film to the second functional film in a partial region between the first functional film and the second functional film It is a film formed. In this case, the third functional film is a perpendicular magnetization film. Then, a part of the reproduction beam irradiation region is formed in a region lower than the Curie temperature of the third functional film.

【0029】したがって、請求項9に記載の発明によれ
ば、記録パワーマージンの拡大によってビームスポット
よりも十分小さな記録マークでも安定して第1の機能膜
に書き込むことができる。さらに、広い温度範囲にわた
って情報を安定して保持することができるので、第1の
機能膜に書き込まれた小さな記録マークを安定して保持
しつつ、第2の機能膜および第3の機能膜の働きによる
FAD方式によって正確に再生することもできる。
Therefore, according to the ninth aspect of the present invention, even if the recording mark is sufficiently smaller than the beam spot, the first functional film can be stably written by expanding the recording power margin. Further, since the information can be stably held over a wide temperature range, the small recording mark written on the first function film can be stably held while the second function film and the third function film are kept. Accurate reproduction can also be performed by the FAD method based on the function.

【0030】また、請求項10に記載の発明は、請求項
7に記載の光記録媒体において、第1の機能膜と第2の
機能膜との間に、非磁性膜または常磁性膜を形成したも
のである。したがって、請求項10に記載の発明によれ
ば、記録パワーマージンの拡大によってビームスポット
よりも十分小さな記録マークでも安定して第1の機能膜
に書き込むことができる。さらに、広い温度範囲にわた
って情報を安定して保持することができるので、第1の
機能膜に書き込まれた小さな記録マークを安定して保持
しつつ、第2の機能膜および、非磁性膜または常磁性膜
の働きによる静磁結合方式によって正確に再生すること
もできる。
According to a tenth aspect of the present invention, in the optical recording medium according to the seventh aspect, a nonmagnetic film or a paramagnetic film is formed between the first functional film and the second functional film. It was done. Therefore, according to the tenth aspect, even if the recording mark is sufficiently smaller than the beam spot, it is possible to stably write to the first functional film by expanding the recording power margin. Further, since the information can be stably held over a wide temperature range, the small recording mark written on the first function film can be stably held while the second function film and the non-magnetic film or the normal Accurate reproduction can also be performed by the magnetostatic coupling system by the action of the magnetic film.

【0031】また、請求項11に記載の発明は、請求項
6から請求項10の何れか1項に記載の光記録媒体にお
いて、第1の機能膜の反基板側に、情報が一時的に記録
され該情報を表す磁化方向を第1の機能膜に転写する第
4の機能膜と、第4の機能膜の磁化方向が第1の機能膜
に転写されたのちに第4の機能膜の磁化方向を強制的に
一方向に揃える第5の機能膜とを順次形成したものであ
る。この場合、第4の機能膜と第5の機能膜は共に、垂
直磁化膜である。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the optical recording medium according to any one of the sixth to tenth aspects, information is temporarily stored on an opposite side of the first functional film from the substrate. A fourth functional film for transferring the recorded magnetization direction representing the information to the first functional film; and a fourth functional film for transferring the magnetization direction of the fourth functional film to the first functional film. And a fifth functional film for forcibly aligning the magnetization direction in one direction. In this case, both the fourth functional film and the fifth functional film are perpendicular magnetization films.

【0032】したがって、請求項11に記載の発明によ
れば、第4の機能膜および第5の機能膜の働きによるオ
ーバーライト記録方式を用い、ビームスポットよりも十
分小さな記録マークを、記録パワーマージンの拡大によ
って安定して第1の機能膜に書き込むことができる。さ
らに、広い温度範囲にわたって情報を安定して保持する
ことができるので、第1の機能膜に書き込まれた小さな
記録マークを安定して保持しつつ磁気超解像技術によっ
て正確に再生することもできる。
Therefore, according to the eleventh aspect of the present invention, a recording mark sufficiently smaller than the beam spot is formed by using the overwrite recording system by the function of the fourth functional film and the fifth functional film. Can be stably written to the first functional film. Further, since information can be stably held over a wide temperature range, small recording marks written on the first functional film can be stably held and accurately reproduced by the magnetic super-resolution technique. .

【0033】また、請求項12に記載の発明は、請求項
11に記載の光記録媒体において、第1の機能膜と第4
の機能膜との間に、面内磁化膜であって、第4の機能膜
の磁化方向が強制的に一方向に揃えられるときに、第4
磁性膜から第1磁性膜への磁気的結合力を弱める第6の
機能膜を形成したものである。したがって、請求項12
に記載の発明によれば、第4の機能膜、第5の機能膜お
よび第6の機能膜の働きによるオーバーライト記録方式
を用い、ビームスポットよりも十分小さな記録マーク
を、記録パワーマージンの拡大によって安定して第1の
機能膜に書き込むことができる。さらに、広い温度範囲
にわたって情報を安定して保持することができるので、
第1の機能膜に書き込まれた小さな記録マークを安定し
て保持しつつ磁気超解像技術によって正確に再生するこ
ともできる。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the optical recording medium of the eleventh aspect, the first functional film and the fourth
When the magnetization direction of the fourth functional film is forcibly aligned in one direction between the fourth functional film and the fourth functional film,
A sixth functional film for weakening a magnetic coupling force from the magnetic film to the first magnetic film is formed. Therefore, claim 12
According to the invention described in (1), a recording mark sufficiently smaller than a beam spot is formed by using an overwrite recording method by the function of the fourth functional film, the fifth functional film, and the sixth functional film, thereby increasing the recording power margin. Accordingly, writing can be stably performed on the first functional film. Furthermore, since information can be stably held over a wide temperature range,
The small recording mark written on the first functional film can be accurately reproduced by the magnetic super-resolution technique while being stably held.

【0034】また、請求項13に記載の発明は、請求項
11または請求項12に記載の光記録媒体において、第
4の機能膜と第5の機能膜との間に、垂直磁化膜であっ
て、第4の機能膜に情報が一時的に記録されるときに、
第5の機能膜から第4の機能膜への磁気的結合力を弱め
る第7の機能膜を形成したものである。したがって、請
求項13に記載の発明によれば、少なくとも第4の機能
膜、第5の機能膜および第7の機能膜の働きによるオー
バーライト記録方式を用い、ビームスポットよりも十分
小さな記録マークを、記録パワーマージンの拡大によっ
て安定して第1の機能膜に書き込むことができる。さら
に、広い温度範囲にわたって情報を安定して保持するこ
とができるので、第1の機能膜に書き込まれた小さな記
録マークを安定して保持しつつ磁気超解像技術によって
正確に再生することもできる。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the optical recording medium according to the eleventh or twelfth aspect, a perpendicular magnetization film is provided between the fourth functional film and the fifth functional film. Thus, when information is temporarily recorded on the fourth functional film,
A seventh functional film for weakening the magnetic coupling force from the fifth functional film to the fourth functional film is formed. Therefore, according to the thirteenth aspect of the present invention, at least the fourth functional film, the fifth functional film, and the seventh functional film use an overwrite recording method, and a recording mark sufficiently smaller than the beam spot is formed. In addition, it is possible to stably write on the first functional film by increasing the recording power margin. Further, since information can be stably held over a wide temperature range, small recording marks written on the first functional film can be stably held and accurately reproduced by the magnetic super-resolution technique. .

【0035】また、請求項14に記載の発明は、請求項
11から請求項13の何れか1項に記載の光記録媒体に
おいて、第1の機能膜と第3の機能膜との間に、垂直磁
化膜であって、そのキュリー温度が第1の機能膜のキュ
リー温度よりも低い第8の機能膜を形成したものであ
る。したがって、請求項14に記載の発明によれば、少
なくとも第4の機能膜および第5の機能膜の働きによる
オーバーライト記録方式を用い、ビームスポットよりも
十分小さな記録マークを、記録パワーマージンの拡大に
よって安定して第1の機能膜に書き込むことができる。
さらに、広い温度範囲にわたって情報を安定して保持す
ることができるので、第1の機能膜に書き込まれた小さ
な記録マークを安定して保持しつつ、第2の機能膜、第
3の機能膜および第8の機能膜の働きによる磁気超解像
技術によって正確に再生することもできる。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided the optical recording medium according to any one of the eleventh to thirteenth aspects, wherein the first functional film and the third functional film are disposed between the first functional film and the third functional film. An eighth functional film, which is a perpendicular magnetization film and whose Curie temperature is lower than the Curie temperature of the first functional film, is formed. Therefore, according to the fourteenth aspect of the present invention, the recording mark sufficiently smaller than the beam spot is formed by using the overwrite recording method by the operation of at least the fourth functional film and the fifth functional film, thereby increasing the recording power margin. Accordingly, writing can be stably performed on the first functional film.
Further, since information can be stably held over a wide temperature range, the second function film, the third function film, and the like can be stably held while the small recording mark written on the first function film is stably held. Accurate reproduction can also be performed by the magnetic super-resolution technique by the function of the eighth functional film.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)まず、本発明の
第1実施形態について図1〜図9を用いて説明する。な
お、この第1実施形態は、請求項1〜請求項8に対応す
る。第1実施形態の光磁気ディスク10は、書き換え型
ディスクであり、図1の上方から下方に向かって、基板
21に、保護膜22、再生膜11、再生中間膜12、メ
モリー膜13および保護膜23が順次形成された構造と
なっている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that the first embodiment corresponds to claims 1 to 8. The magneto-optical disk 10 according to the first embodiment is a rewritable disk, and a protective film 22, a reproducing film 11, a reproducing intermediate film 12, a memory film 13, and a protective film are formed on a substrate 21 from above to below in FIG. 23 are sequentially formed.

【0037】このうちメモリー膜13(請求項6〜8の
第1の機能膜に対応する)は、記録された情報を保持す
る膜である。また、再生膜11(請求項7,8の第2の
機能膜に対応する),再生中間膜12(請求項8の第3
の機能膜に対応する)は、メモリー膜13に記録された
情報の再生動作を行う膜である。なお、保護膜22,2
3は、上記した各膜11〜13を保護する膜である。
The memory film 13 (corresponding to the first functional film of claims 6 to 8) is a film for retaining recorded information. The reproducing film 11 (corresponding to the second functional film of claims 7 and 8) and the reproducing intermediate film 12 (third of claim 8)
Is a film that performs an operation of reproducing information recorded in the memory film 13. The protective films 22 and 2
Reference numeral 3 denotes a film that protects each of the films 11 to 13 described above.

【0038】ここで、光磁気ディスク10を構成する各
膜11〜13,22,23の組成、膜厚、成膜方法およ
び機能について個別に説明する。メモリー膜13は、希
土類金属であるテルビウム(Tb)と遷移金属である鉄
(Fe),コバルト(Co)とで構成された磁性膜であり、
図2に示されるように、隣接する2つの層13-1と層1
3-2とからなる基本層13aが、繰り返し積層された層
構造(マルチレイヤー)となっている。
Here, the composition, film thickness, film forming method and function of each of the films 11 to 13, 22, and 23 constituting the magneto-optical disk 10 will be individually described. The memory film 13 is made of terbium (Tb) which is a rare earth metal and iron which is a transition metal.
A magnetic film composed of (Fe) and cobalt (Co),
As shown in FIG. 2, two adjacent layers 13-1 and 1
The basic layer 13a composed of 3-2 has a layered structure (multilayer) repeatedly laminated.

【0039】このような層構造のメモリー膜13を構成
する基本層13aの一方の層13-1は、希土類金属の副
格子磁化が優勢の合金層(請求項1〜7の第1層に対応
する。以下「REリッチ合金層」という)であり、その
具体的な組成は、原子百分率で表すと、Tbが21原子
%、Feが63.2原子%、Coが15.8原子%であ
る(以下、組成の原子百分率を、Tb21Fe63.2Co1
5.8のように表す)。なお、このREリッチ合金層13-
1の厚さD1は、2nmである。
One of the layers 13-1 of the basic layer 13a constituting the memory film 13 having such a layer structure is an alloy layer in which the sub-lattice magnetization of the rare earth metal is dominant (corresponding to the first layer of claims 1 to 7). In the following, the specific composition is represented by atomic percentage, Tb is 21 atomic%, Fe is 63.2 atomic%, and Co is 15.8 atomic%. (Hereinafter, the atomic percentage of the composition is expressed as Tb21Fe63.2Co1
5.8). This RE-rich alloy layer 13-
The thickness D1 of 1 is 2 nm.

【0040】また、層構造のメモリー膜13を構成する
基本層13aの他方の層13-2は、上記したREリッチ
合金層13-1とは組成が異なり、遷移金属の副格子磁化
が優勢の合金層(請求項1〜7の第2層に対応する。以
下「TMリッチ合金層」という)である。このTMリッ
チ合金層13-2の具体的な組成は、Tb19Fe64.8Co
16.2である。また、TMリッチ合金層13-2の厚さD2
は、2nmである。
The other layer 13-2 of the basic layer 13a constituting the memory film 13 having a layered structure has a different composition from the above-mentioned RE-rich alloy layer 13-1, and the sub-lattice magnetization of the transition metal is dominant. An alloy layer (corresponding to the second layer in claims 1 to 7; hereinafter, referred to as a “TM-rich alloy layer”). The specific composition of the TM-rich alloy layer 13-2 is Tb19Fe64.8Co
16.2 The thickness D2 of the TM rich alloy layer 13-2
Is 2 nm.

【0041】なお、このような組成および膜厚のREリ
ッチ合金層13-1とTMリッチ合金層13-2とが積層さ
れた層構造のメモリー膜13は、磁化が膜面に対して垂
直(図1中、縦方向)に配向する垂直磁化膜である。ま
た、このメモリー膜13の膜厚D13は、50nmであ
り、そのキュリー温度Tc13は260℃程度である。因
みに、このような層構造のメモリー層13の成膜は、図
3に示されるように、REリッチ合金層13-1の組成
(Tb21Fe63.2Co15.8)に応じてTb,Fe,Coが
混合された合金ターゲット51と、TMリッチ合金層1
3-2の組成(Tb19Fe64.8Co16.2)に応じてTb,
Fe,Coが混合された合金ターゲット52とが別々に
配置された周知の同時スパッタリング装置50内(アル
ゴンガスが導入され、ガス圧力は5×10-3Torr)
において、パレット54に取り付けた基板21を軸L5
4まわりに公転(例えば、90rpm)させながら行わ
れる。なお、REリッチ合金層13-1の厚さD1,TM
リッチ合金層13-2の厚さD2は、基板21の回転数,
ガス圧力,各合金ターゲット51,52への印加電力に
よって調節され、メモリー層13全体の膜厚D13はスパ
ッタリング時間によって調整される。
The memory film 13 having a layer structure in which the RE-rich alloy layer 13-1 and the TM-rich alloy layer 13-2 having such compositions and film thicknesses are stacked has magnetization perpendicular to the film surface ( This is a perpendicular magnetization film oriented in the vertical direction in FIG. The memory film 13 has a thickness D13 of 50 nm and a Curie temperature Tc13 of about 260 ° C. In this connection, as shown in FIG. 3, the formation of the memory layer 13 having such a layer structure is performed by mixing Tb, Fe, and Co according to the composition (Tb21Fe63.2Co15.8) of the RE-rich alloy layer 13-1. Alloy target 51 and TM rich alloy layer 1
According to the composition of 3-2 (Tb19Fe64.8Co16.2), Tb,
In a known co-sputtering apparatus 50 in which an alloy target 52 in which Fe and Co are mixed is separately arranged (argon gas is introduced, and gas pressure is 5 × 10 −3 Torr).
, The substrate 21 attached to the pallet 54 is
It is performed while revolving around 4 (for example, 90 rpm). The thickness D1, TM of the RE-rich alloy layer 13-1
The thickness D2 of the rich alloy layer 13-2 depends on the rotation speed of the substrate 21,
The thickness D13 of the entire memory layer 13 is adjusted by the sputtering time, which is adjusted by the gas pressure and the power applied to each of the alloy targets 51 and 52.

【0042】また、上記した層構造のメモリー膜13の
基板21側に隣接して形成された再生中間膜12(図
1)は、希土類金属であるガドリウム(Gd)と遷移金属
であるFeとの均一な合金にて構成された1つの組成の
磁性膜である。この再生中間膜12の具体的な組成は、
Gd29Fe71である。また、再生中間膜12の膜厚D12
は、50nmである。
The reproducing intermediate film 12 (FIG. 1) formed adjacent to the memory film 13 having the above-mentioned layer structure on the substrate 21 side is composed of gadolinium (Gd) which is a rare earth metal and Fe which is a transition metal. It is a magnetic film of one composition composed of a uniform alloy. The specific composition of the reproducing intermediate film 12 is as follows:
Gd29Fe71. The thickness D12 of the reproducing intermediate film 12
Is 50 nm.

【0043】このような組成および膜厚の再生中間膜1
2は、室温Tr(記録ビームや再生ビームが照射されな
いときの光磁気ディスク10の温度に相当する。例え
ば、20℃〜30℃)で、磁化が面内(図1中、横方
向)に配向する面内磁化膜である。また、この再生中間
膜12は、室温Trよりも高い所定温度Txで、その磁
化が面内磁化状態から垂直磁化状態(図1中、縦方向)
に変化する。なお、この所定温度Txは、110℃近傍
にある。
The recycled intermediate film 1 having such a composition and thickness is as follows.
Reference numeral 2 denotes room temperature Tr (corresponding to the temperature of the magneto-optical disk 10 when no recording beam or reproduction beam is irradiated. For example, 20 ° C. to 30 ° C.), the magnetization is oriented in-plane (in the horizontal direction in FIG. 1). In-plane magnetization film. At a predetermined temperature Tx higher than the room temperature Tr, the reproduction intermediate film 12 changes its magnetization from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state (vertical direction in FIG. 1).
Changes to The predetermined temperature Tx is around 110 ° C.

【0044】さらに、この再生中間膜12のキュリー温
度Tc12は、上記した所定温度Tx(110℃)よりも
高く、220℃程度である。なお、このキュリー温度T
c12(220℃)は、上記したメモリー膜13のキュリ
ー温度Tc13(260℃),後述する再生膜11のキュ
リー温度Tc11の何れよりも低い。因みに、このような
1つの組成の均一な合金からなる再生中間膜12の成膜
は、Gd,Feが再生中間膜12の組成(Gd29Fe7
1)に応じて混合された合金ターゲットを用い、周知の
枚葉式スパッタリング装置内(アルゴンガスが導入さ
れ、ガス圧力は5×10-3Torr)で行われる。
Further, the Curie temperature Tc12 of the reproduced intermediate film 12 is higher than the above-mentioned predetermined temperature Tx (110 ° C.) and is about 220 ° C. The Curie temperature T
c12 (220 ° C.) is lower than either the Curie temperature Tc13 (260 ° C.) of the memory film 13 described above or the Curie temperature Tc11 of the reproduced film 11 described later. By the way, in the formation of the reproduction intermediate film 12 made of such a uniform alloy having one composition, the composition of the reproduction intermediate film 12 (Gd29Fe7
Using an alloy target mixed according to 1), the sputtering is performed in a known single-wafer sputtering apparatus (argon gas is introduced, and gas pressure is 5 × 10 −3 Torr).

【0045】また、再生膜11は、希土類金属であるG
dと遷移金属であるFe,Coとの均一な合金にて構成
された1つの組成の磁性膜である。この再生膜11の具
体的な組成は、Gd25Fe60Co15である。また、再生
膜11の膜厚D11は、30nmである。このような組成
および膜厚の再生膜11は、上記のメモリー膜13と同
様、磁化が垂直に配向する垂直磁化膜である。また、こ
の再生膜11のキュリー温度Tc11は、少なくとも上記
した再生中間膜12のキュリー温度Tc12(220℃)
よりも高い。
The reproducing film 11 is made of G which is a rare earth metal.
This is a magnetic film of one composition composed of a uniform alloy of d and transition metals Fe and Co. The specific composition of the reproducing film 11 is Gd25Fe60Co15. The thickness D11 of the reproducing film 11 is 30 nm. The reproduction film 11 having such a composition and thickness is a perpendicular magnetization film in which the magnetization is vertically oriented, like the memory film 13 described above. The Curie temperature Tc11 of the reproduced film 11 is at least the Curie temperature Tc12 of the reproduced intermediate film 12 (220 ° C.).
Higher than.

【0046】因みに、このような1つの組成の均一な合
金からなる再生膜11の成膜は、上記した再生中間膜1
2の成膜と同様、再生膜11の組成(Gd25Fe60Co
15)に応じてGd,Fe,Feが混合された合金ターゲッ
トを用い、周知の枚葉式スパッタリング装置内(アルゴ
ンガスが導入され、ガス圧力は5×10-3Torr)で
行われる。
Incidentally, the formation of the reproduction film 11 made of a uniform alloy having one composition as described above is performed by the above-described reproduction intermediate film 1.
2, the composition of the reproducing film 11 (Gd25Fe60Co
Using an alloy target in which Gd, Fe, and Fe are mixed according to (15), the sputtering is performed in a known single-wafer sputtering apparatus (introducing an argon gas and at a gas pressure of 5 × 10 −3 Torr).

【0047】また、保護膜22,23は、窒化シリコン
からなり、その膜厚D22,D23は共に70nmである。
このような保護層22,23は、シリコンターゲットが
配置されたスパッタリング装置内(ガス圧力を1×10
-6Torr以下まで減圧した後、アルゴンと窒素との混
合ガスを導入して5×10-3Torrにしてある)で、
周知のRFマグネトロンスパッタリングによって成膜さ
れる。
The protective films 22 and 23 are made of silicon nitride, and each of the film thicknesses D22 and D23 is 70 nm.
Such protective layers 22 and 23 are formed in a sputtering apparatus in which a silicon target is arranged (gas pressure is set to 1 × 10
After reducing the pressure to -6 Torr or less, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced to make the pressure 5 × 10 -3 Torr.)
The film is formed by well-known RF magnetron sputtering.

【0048】なお、基板21は、透明ポリカーボネート
製基板(直径86mm)であり、その片面には、ガイド
溝がスパイラル状に形成されている。次に、上記のよう
に構成された書き換え可能な光磁気ディスク10におい
て、層構造のメモリー膜13に、筆先記録法を用いて情
報を記録する動作について説明する。なお、記録動作を
説明する図4では、各膜11〜13の磁化の向きが矢印
で示されている。
The substrate 21 is a transparent polycarbonate substrate (86 mm in diameter), and a guide groove is spirally formed on one surface thereof. Next, an operation of recording information on the memory film 13 having a layer structure in the rewritable magneto-optical disk 10 configured as described above by using the pen tip recording method will be described. In FIG. 4 illustrating the recording operation, the directions of magnetization of the films 11 to 13 are indicated by arrows.

【0049】この書き換え可能な光磁気ディスク10に
おける情報の記録動作は、メモリー膜13に既に書き込
まれている情報を一旦消去(光磁気ディスク10の初期
化)した後に行われる。ここでは、光磁気ディスク10
の初期化動作についての説明を省略する。なお、光磁気
ディスク10の初期化が終了すると、メモリー膜13の
磁化の向きは、一様に消去方向(図4中、下向き)に揃
えられた状態(以下「初期状態」という)となる。
The operation of recording information on the rewritable magneto-optical disk 10 is performed after the information already written on the memory film 13 is once erased (initialization of the magneto-optical disk 10). Here, the magneto-optical disk 10
The description of the initialization operation is omitted. When the initialization of the magneto-optical disk 10 is completed, the magnetization direction of the memory film 13 is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 4) (hereinafter, referred to as “initial state”).

【0050】情報の記録に当たって、この初期化された
光磁気ディスク10は、図示されない記録再生装置のモ
ータによって一定の線速度(例えば、9m/sec)で
回転される(その方向は図4,図5に矢印10Aで示さ
れている)。また、情報の記録に当たって、この光磁気
ディスク10には、図示されない記録再生装置の半導体
レーザ(波長680nm)から、記録ビーム31(パワ
ーは、例えば8mW)が照射される(図4)。
In recording information, the initialized magneto-optical disk 10 is rotated at a constant linear velocity (for example, 9 m / sec) by a motor of a recording / reproducing apparatus (not shown) (the direction is shown in FIGS. 4 and 5). 5 as indicated by arrow 10A). In recording information, the magneto-optical disk 10 is irradiated with a recording beam 31 (power is, for example, 8 mW) from a semiconductor laser (wavelength: 680 nm) of a recording / reproducing device (not shown) (FIG. 4).

【0051】このとき、記録ビーム31は、図示されな
い記録再生装置の対物レンズ(開口数0.55)によっ
て回折限界まで集光されており、光磁気ディスク10上
でのビームスポット31Aの径がおよそ1.1μmとな
っている。また、このような記録ビーム31の照射は、
記録される情報に応じた半導体レーザの点灯/非点灯に
よって断続される。例えば、マーク長0.3μmの記録
マークをマーク間距離0.3μmで記録する場合、光磁
気ディスク10の線速度,半導体レーザの点灯/非点灯
周期を考慮して、記録ビーム31は、デューティー比3
0%で断続される。
At this time, the recording beam 31 is condensed to the diffraction limit by an objective lens (numerical aperture 0.55) of a recording / reproducing apparatus (not shown), and the diameter of the beam spot 31A on the magneto-optical disk 10 is approximately 1.1 μm. The irradiation of the recording beam 31 is as follows.
The operation is interrupted by turning on / off the semiconductor laser according to the information to be recorded. For example, when a recording mark having a mark length of 0.3 μm is recorded at a mark-to-mark distance of 0.3 μm, the recording beam 31 is given a duty ratio in consideration of the linear velocity of the magneto-optical disk 10 and the lighting / non-lighting cycle of the semiconductor laser. 3
Intermittent at 0%.

【0052】さらに、情報の記録に当たって、ビームス
ポット31Aには、図示されない記録再生装置の磁気コ
イルから発生される一定の大きさの記録磁界Hw(例え
ば、300(Oe))が継続的に印加される(図4)。こ
の記録磁界Hwの向きは、上記の初期状態にあるメモリ
ー膜13の磁化の向き(消去方向)とは逆である(記録
方向、図4中の上向き)。
In recording information, a recording magnetic field Hw (for example, 300 (Oe)) having a constant magnitude generated from a magnetic coil of a recording / reproducing apparatus (not shown) is continuously applied to the beam spot 31A. (FIG. 4). The direction of the recording magnetic field Hw is opposite to the direction of magnetization (erasing direction) of the memory film 13 in the initial state (recording direction, upward in FIG. 4).

【0053】実際に記録ビーム31(8mW)が照射さ
れると、光磁気ディスク10には温度分布が生じ、次の
ようにして、ビームスポット31A(1.1μm)より
も小さい1つの記録マーク(0.3μm)がメモリー膜
13に書き込まれる。記録ビーム31が照射された光磁
気ディスク10は、ビームスポット31Aの中心付近に
位置する小さい領域31B内でのみ、メモリー膜13の
キュリー温度Tc13(260℃)近傍の温度T1(以下
「記録温度」という)まで加熱される。そして、記録温
度T1まで加熱されたメモリー膜13の領域(以下「加
熱領域」という)13Bでは、保磁力が低下した状態ま
たは磁化が消失した状態となる。
When the recording beam 31 (8 mW) is actually irradiated, a temperature distribution is generated in the magneto-optical disk 10, and one recording mark (1 μm) smaller than the beam spot 31A (1.1 μm) is obtained as follows. 0.3 μm) is written in the memory film 13. The magneto-optical disk 10 irradiated with the recording beam 31 has a temperature T1 (hereinafter, “recording temperature”) near the Curie temperature Tc13 (260 ° C.) of the memory film 13 only in a small area 31B located near the center of the beam spot 31A. ). Then, in a region 13B of the memory film 13 heated to the recording temperature T1 (hereinafter, referred to as a "heating region"), the coercive force is reduced or the magnetization is lost.

【0054】その後、光磁気ディスク10の回転に伴っ
て加熱領域13Bがビームスポット31Aから外れ、温
度が記録温度T1から低下し始めると、加熱領域13B
の磁化は回復し始める。このとき、加熱領域13Bの磁
化は、継続的に印加されている記録磁界Hwの影響を受
けて、上記の初期状態から反転した記録状態(磁化が記
録方向(図4中、上向き)の状態)となる。
Thereafter, when the heating area 13B comes off the beam spot 31A with the rotation of the magneto-optical disk 10, and the temperature starts to decrease from the recording temperature T1, the heating area 13B
Magnetization starts to recover. At this time, the magnetization of the heating region 13B is affected by the continuously applied recording magnetic field Hw, and the recording state is reversed from the above initial state (the magnetization is in the recording direction (upward in FIG. 4)). Becomes

【0055】加熱領域13Bの温度がさらに低下して室
温Tr近傍に達すると、加熱領域13Bの保磁力が高く
なり、記録磁界Hwの影響で記録状態となっていた加熱
領域13Bの磁化は、自身の保磁力によって記録状態
(磁化が記録方向)に保持される。このようにして、ビ
ームスポット31A(1.1μm)よりも小さい加熱領
域13Bに、1つの記録マーク13A(磁化が記録方向
の磁区、マーク長さ0.3μm)が書き込まれる。
When the temperature of the heating area 13B further decreases and reaches near the room temperature Tr, the coercive force of the heating area 13B increases, and the magnetization of the heating area 13B in the recording state due to the effect of the recording magnetic field Hw becomes itself. The recording state (the magnetization is in the recording direction) is maintained by the coercive force of. In this way, one recording mark 13A (magnetic domain in the recording direction, mark length 0.3 μm) is written in the heating area 13B smaller than the beam spot 31A (1.1 μm).

【0056】ここで、上記のような小さい記録マーク1
3Aを1つ書き込むに当たっては、半導体レーザの点灯
/非点灯周期を速めると共にデューティー比を小さくす
ることで、記録ビーム31の1回分の照射時間を短く
し、加熱領域13Bを小さくするようにしている。この
ように記録ビーム31の照射時間が短くなると、記録ビ
ーム31のパワー(8mW)の時間的な変動(雑音)に
よって、加熱領域13Bの大きさにばらつきが生じやす
くなってしまう。
Here, the small recording mark 1 as described above
In writing one 3A, the on / off cycle of the semiconductor laser is accelerated and the duty ratio is reduced, so that the irradiation time for one recording beam 31 is shortened and the heating area 13B is reduced. . As described above, when the irradiation time of the recording beam 31 is shortened, the size of the heating region 13B tends to vary due to a temporal variation (noise) of the power (8 mW) of the recording beam 31.

【0057】しかし、この第1実施形態の光磁気ディス
ク10では、上述したように、メモリー膜13が、1つ
の組成の合金膜ではなく、組成の異なるREリッチ合金
層13-1とTMリッチ合金層13-2とが積層された層構
造の膜となっている(図2)。このように、メモリー膜
13の構造を、組成の異なる2つの合金層13-1,13
-2を積層した層構造とすることによって、メモリー膜1
3の記録パワーマージンΔPは、1つの組成の合金膜に
て構成されたメモリー膜の場合よりも拡大されたものと
なる。
However, in the magneto-optical disk 10 of the first embodiment, as described above, the memory film 13 is not an alloy film of one composition, but a RE-rich alloy layer 13-1 and a TM-rich alloy layer having different compositions. This is a film having a layer structure in which the layer 13-2 and the layer 13-2 are stacked (FIG. 2). Thus, the structure of the memory film 13 is changed to the two alloy layers 13-1 and 13-1 having different compositions.
-2 is a layer structure in which the memory film 1
The recording power margin ΔP of No. 3 is larger than that of the memory film composed of an alloy film having one composition.

【0058】この記録パワーマージン拡大の理由につい
ては、図6(記録パワーとCN比との関係を示す図)に
示されるように、一方の合金層13-1本来の記録パワー
マージンΔp1と、他方の合金層13-2本来の記録パワ
ーマージンΔp2とはその組成の違いにより微妙にずれ
ているため、これら2つの合金層13-1,13-2を層構
造にすることにより記録パワーマージンΔPが拡大する
と考えられている。
As shown in FIG. 6 (a diagram showing the relationship between the recording power and the CN ratio), the reason for the expansion of the recording power margin is that the original recording power margin Δp1 of one of the alloy layers 13-1 and the other, The recording power margin ΔP is slightly different from the original recording power margin Δp2 of the alloy layer 13-2 due to the difference in the composition. Therefore, the recording power margin ΔP can be reduced by forming these two alloy layers 13-1 and 13-2 into a layered structure. It is thought to expand.

【0059】このように、記録パワーマージンΔPが拡
大された層構造のメモリー膜13では、記録ビーム31
のパワーの時間変動(雑音)によって、ビームスポット
31A(1.1μm)よりも小さい加熱領域13Bの大
きさにばらつきが生じても、一定の大きさ(0.3μ
m)の記録マーク13A(磁化が記録方向)を、安定し
て書き込むことができる。
As described above, in the memory film 13 having a layer structure in which the recording power margin ΔP is enlarged, the recording beam 31
Of the heating area 13B smaller than the beam spot 31A (1.1 μm) due to the time variation (noise) of the power, the fixed size (0.3 μm).
The recording mark 13A (the magnetization is in the recording direction) of m) can be stably written.

【0060】なお、記録ビーム31の照射は断続的であ
り、記録ビーム31が照射されなかった箇所では、メモ
リー膜13の磁化が上記の初期状態のまま保持される
(磁化が消去方向)。したがって、光磁気ディスク10
に対し、記録される情報に応じてパワーを断続させなが
ら記録ビーム31を照射することによって、ビームスポ
ット31A(1.1μm)よりも小さい記録マーク13
A,13A,…(各マーク長さ0.3μm)を次々、層
構造のメモリー膜13に安定して書き込むことができ
(各マーク間距離0.3μm)、高密度な情報を確実に
記録できる。
Note that the irradiation of the recording beam 31 is intermittent, and in a portion where the recording beam 31 is not irradiated, the magnetization of the memory film 13 is maintained in the above initial state (the magnetization is in the erasing direction). Therefore, the magneto-optical disk 10
By irradiating the recording beam 31 with intermittent power according to the information to be recorded, the recording mark 13 smaller than the beam spot 31A (1.1 μm) is formed.
A, 13A,... (Each mark length 0.3 μm) can be stably written to the memory film 13 having a layer structure one after another (distance between each mark 0.3 μm), and high-density information can be reliably recorded. .

【0061】なお、上記した情報の記録時、メモリー膜
13以外の膜11,12も、メモリー膜13と同様、ビ
ームスポット31A内の小さい領域31Bで一旦磁化が
消失するが、その後温度が低下して室温Tr近傍に達す
ると、再生中間膜12の磁化は面内磁化状態に、再生膜
11の磁化は垂直磁化状態に戻って安定する(図4)。
次に、上記のように高密度な情報が層構造のメモリー膜
13に記録された書き換え型光磁気ディスク10におい
て、D−RAD方式を用いてその情報を再生する動作に
ついて説明する。なお、再生動作を説明する図7でも、
各膜11〜13の磁化の向きが矢印で示されている。
At the time of recording the above information, the magnetization of the films 11 and 12 other than the memory film 13 disappears once in the small area 31B in the beam spot 31A similarly to the memory film 13, but thereafter the temperature decreases. When the temperature reaches around the room temperature Tr, the magnetization of the reproduction intermediate film 12 returns to the in-plane magnetization state, and the magnetization of the reproduction film 11 returns to the perpendicular magnetization state, and is stabilized (FIG. 4).
Next, an operation of reproducing the information using the D-RAD method in the rewritable magneto-optical disk 10 in which high-density information is recorded in the memory film 13 having a layer structure as described above will be described. In FIG. 7 illustrating the reproducing operation,
The direction of magnetization of each of the films 11 to 13 is indicated by an arrow.

【0062】情報の再生に当たって、光磁気ディスク1
0には、記録再生装置(図示省略)の半導体レーザから
一定パワー(例えば、3.5mW)の再生ビーム41が
照射される(図7)。なお、この再生ビーム41は、偏
光フィルタを通過後、直線偏光の状態で光磁気ディスク
10に照射される。また、情報の再生に当たって、再生
ビーム41のビームスポット41Aには、上記の記録時
と同様、一定の大きさの再生磁界Hr(例えば、100
(Oe))が印加される(図7)。この再生磁界Hrの向
きは、上記の記録磁界Hwの向き(記録方向)と逆であ
る(消去方向)。
When reproducing information, the magneto-optical disk 1
0 is irradiated with a reproduction beam 41 having a constant power (for example, 3.5 mW) from a semiconductor laser of a recording / reproducing apparatus (not shown) (FIG. 7). After passing through the polarizing filter, the reproducing beam 41 is applied to the magneto-optical disk 10 in a state of linearly polarized light. In reproducing the information, the reproducing magnetic field Hr (for example, 100 μm) having a constant magnitude is applied to the beam spot 41A of the reproducing beam 41 as in the above-described recording.
(Oe)) is applied (FIG. 7). The direction of the reproducing magnetic field Hr is opposite to the direction of the recording magnetic field Hw (recording direction) (erasing direction).

【0063】さらに、情報の再生に当たって、この光磁
気ディスク10は、上記の記録時と同一の線速度(例え
ば、9m/sec)で回転され、ディスク移動方向10
A(図7,図8に矢印で示される左方)に、ビームスポ
ット41Aを横切りながら移動することになる。実際に
再生ビーム41が照射されると、光磁気ディスク10に
は熱が蓄積して温度分布が生じる。このとき、光磁気デ
ィスク10のビームスポット41A内では、ディスク移
動方向10Aの前方から後方(図7,図8中の左方から
右方)に向かってその温度が徐々に低くなる温度分布が
生じている。これは、ビームスポット41Aのうち、デ
ィスク移動方向10Aの前方ほど、再生ビーム41がよ
り長時間照射され、より多くの熱が蓄積したからであ
る。
Further, in reproducing the information, the magneto-optical disk 10 is rotated at the same linear velocity (for example, 9 m / sec) as in the above-described recording, and is moved in the disk moving direction 10.
A (to the left as indicated by the arrows in FIGS. 7 and 8) moves across the beam spot 41A. When the reproducing beam 41 is actually irradiated, heat is accumulated in the magneto-optical disk 10 and a temperature distribution occurs. At this time, in the beam spot 41A of the magneto-optical disk 10, a temperature distribution is generated in which the temperature gradually decreases from the front to the rear (from left to right in FIGS. 7 and 8) in the disk moving direction 10A. ing. This is because, in the beam spot 41A, the reproduction beam 41 is irradiated for a longer time, and more heat is accumulated in the forward direction of the disk moving direction 10A.

【0064】ここで、ビームスポット41A内を、温度
の異なる3つの領域に分けて考えることにする。その3
つの領域は、ディスク移動方向10Aの前方から順に、
高温領域41F,中温領域41E,低温領域41Dであ
る。なお、この第1実施形態では、再生ビーム41
(3.5mW)の照射によって、高温領域41Fでは、
メモリー膜13のキュリー温度Tc13(260℃),再
生膜11のキュリー温度Tc11の何れよりも低く、再生
中間膜12のキュリー温度Tc12(220℃)よりも高
い温度となる。また、中温領域41Eでは、再生中間膜
12のキュリー温度Tc12(220℃)よりも低く、再
生中間膜12の所定温度Tx(110℃)よりも高い温
度となる。さらに、低温領域41Dでは、再生中間膜1
2の所定温度Tx(110℃)よりも低く、室温Trよ
りも高い温度となる。
Here, it is assumed that the inside of the beam spot 41A is divided into three regions having different temperatures. Part 3
The two areas are arranged in order from the front in the disk moving direction 10A.
They are a high temperature area 41F, a medium temperature area 41E, and a low temperature area 41D. In the first embodiment, the reproduction beam 41
By the irradiation of (3.5 mW), in the high temperature region 41F,
The temperature is lower than the Curie temperature Tc13 of the memory film 13 (260 ° C.) or the Curie temperature Tc11 of the reproducing film 11 and higher than the Curie temperature Tc12 of the reproducing intermediate film 12 (220 ° C.). In the middle temperature region 41E, the temperature is lower than the Curie temperature Tc12 (220 ° C.) of the reproduction intermediate film 12 and higher than the predetermined temperature Tx (110 ° C.) of the reproduction intermediate film 12. Further, in the low temperature region 41D, the reproduced intermediate film 1
2 is lower than the predetermined temperature Tx (110 ° C.) and higher than the room temperature Tr.

【0065】このように、温度が異なる3つの領域41
D,41E,41Fに分けられたビームスポット41A
内において、光磁気ディスク10を構成する各膜11〜
13の磁化は各々、以下に説明するような状態となる。
まず、メモリー膜13の磁化について説明する。ビーム
スポット41A内の温度は、何れの領域41D〜41F
においてもメモリー膜13のキュリー温度Tc13(26
0℃)よりも低く、メモリー膜13の磁化が垂直磁化状
態のまま保たれる温度となっている。
As described above, three regions 41 having different temperatures are used.
Beam spot 41A divided into D, 41E and 41F
Within each of the films 11 to 11 constituting the magneto-optical disk 10
Each of the 13 magnetizations is in a state as described below.
First, the magnetization of the memory film 13 will be described. The temperature in the beam spot 41A is in any of the areas 41D to 41F.
Also, the Curie temperature Tc13 of the memory film 13 (26
0 ° C.), which is a temperature at which the magnetization of the memory film 13 is maintained in the perpendicular magnetization state.

【0066】さらに、第1実施形態のメモリー膜13
は、上述したように、1つの組成の合金膜ではなく、組
成の異なるREリッチ合金層13-1とTMリッチ合金層
13-2とが積層された層構造の膜となっている(図2)
ため、1つの組成の合金膜にて構成されたメモリー膜よ
りも広い温度範囲(ビームスポット41A内の全温度範
囲)にわたって、その保磁力が情報を保持するに十分に
高められたものとなっている。
Further, the memory film 13 of the first embodiment
Is not an alloy film having a single composition as described above, but a film having a layered structure in which an RE-rich alloy layer 13-1 and a TM-rich alloy layer 13-2 having different compositions are laminated (FIG. 2). )
Therefore, the coercive force is sufficiently increased to retain information over a wider temperature range (the entire temperature range within the beam spot 41A) than the memory film formed of the alloy film of one composition. I have.

【0067】したがって、層構造のメモリー膜13に書
き込まれた記録マーク13A(磁化が記録方向の磁区)
は、その大きさ(0.3μm)がビームスポット41A
(1.1μm)よりも十分小さく、面積が非常に小さい
ものであっても、逆の磁化方向(消去方向)である周囲
の影響を受けることなく、ビームスポット41A内の全
ての領域41D〜41Fで記録された通りの状態のまま
安定して保持される。
Accordingly, the recording mark 13A (the magnetic domain whose magnetization is in the recording direction) written in the memory film 13 having the layer structure.
Means that the size (0.3 μm) of the beam spot 41A
(1.1 μm), even if the area is very small, all the regions 41D to 41F in the beam spot 41A are not affected by the surroundings in the opposite magnetization direction (erasing direction). Is stably maintained in the state as recorded in.

【0068】一方、メモリー膜13に保持された情報の
再生動作に関わる再生膜11の磁化は、ビームスポット
41A内の何れの領域41D〜41Fにおいても、垂直
磁化状態のまま保持される。これは、ビームスポット4
1A内の最も高い温度(高温領域41Fの温度)が、再
生膜11のキュリー温度Tc11よりも低いからである。
また、再生膜11と同様、メモリー膜13に保持された
情報の再生動作に関わる再生中間膜12の磁化は、ビー
ムスポット41A内の低温領域41D,中温領域41
E,高温領域41Fごとに、温度に応じた異なる状態と
なっている。このうち低温領域41Dでは、その温度が
再生中間膜12の所定温度Tx(110℃)よりも低い
ため、再生中間膜12の磁化は、面内磁化状態(図7
中、横方向)のまま保持されている(図7)。中温領域
41Eでは、その温度が再生中間膜12のキュリー温度
Tc12(220℃)よりも低く、再生中間膜12の所定
温度Tx(110℃)よりも高いため、再生中間膜12
の磁化は、面内磁化状態から変化して垂直磁化状態(図
7中、縦方向)となっている。高温領域41Fでは、そ
の温度が再生中間膜12のキュリー温度Tc12(220
℃)よりも高いため、再生中間膜12の磁化は消失して
いる(図7)。
On the other hand, the magnetization of the reproducing film 11 related to the operation of reproducing the information held in the memory film 13 is maintained in the perpendicular magnetization state in any of the regions 41D to 41F in the beam spot 41A. This is beam spot 4
This is because the highest temperature in 1A (the temperature of the high-temperature region 41F) is lower than the Curie temperature Tc11 of the reproduction film 11.
Similarly to the reproduction film 11, the magnetization of the reproduction intermediate film 12 related to the operation of reproducing the information held in the memory film 13 is controlled by the low-temperature region 41D and the medium-temperature region 41 in the beam spot 41A.
E, each of the high temperature regions 41F is in a different state according to the temperature. In the low-temperature region 41D, the temperature is lower than the predetermined temperature Tx (110 ° C.) of the reproduction intermediate film 12, so that the magnetization of the reproduction intermediate film 12 has an in-plane magnetization state (FIG. 7).
(Middle, horizontal direction) (FIG. 7). In the middle temperature region 41E, the temperature is lower than the Curie temperature Tc12 (220 ° C.) of the reproduction intermediate film 12 and higher than the predetermined temperature Tx (110 ° C.) of the reproduction intermediate film 12;
Has changed from the in-plane magnetization state to a perpendicular magnetization state (vertical direction in FIG. 7). In the high temperature region 41F, the temperature is the Curie temperature Tc12 (220
° C), the magnetization of the reproducing intermediate film 12 has disappeared (Fig. 7).

【0069】このように、光磁気ディスク10では、ビ
ームスポット41A内の3つの領域41D〜41Fのう
ち、中温領域41Eでのみ、再生膜11,再生中間膜1
2の磁化が共に垂直磁化状態となっている。したがっ
て、層構造のメモリー膜13に記録された通りの状態の
まま安定して保持されている磁化は、ビームスポット4
1A内の中温領域41Eでのみ、再生中間膜12→再生
膜11と順に転写される。すなわち、中温領域41Eに
おける再生中間膜12の磁化,再生膜11の磁化は、メ
モリー膜13からの交換結合力によって、メモリー膜1
3の磁化と同じ向きとなる。その結果、再生膜11の中
温領域41Eに、メモリー膜13の磁化方向に応じた垂
直磁化領域が形成される。
As described above, in the magneto-optical disk 10, only the medium temperature region 41E of the three regions 41D to 41F in the beam spot 41A has the reproducing film 11 and the reproducing intermediate film 1.
Both magnetizations are in a perpendicular magnetization state. Therefore, the magnetization that is stably held in the state as recorded in the memory film 13 having the layered structure is the beam spot 4
Only in the middle temperature region 41E in 1A, the transfer is performed in the order of the reproduction intermediate film 12 → the reproduction film 11. That is, the magnetization of the reproducing intermediate film 12 and the magnetization of the reproducing film 11 in the medium temperature region 41E are changed by the exchange coupling force from the memory film 13 to the memory film 1.
3 has the same direction as the magnetization. As a result, a perpendicular magnetization region corresponding to the magnetization direction of the memory film 13 is formed in the medium temperature region 41E of the reproduction film 11.

【0070】ここで、このような中温領域41Eの大き
さは、再生中間膜12の組成(Gd30Fe70),再生パ
ワー(3.5mW),ディスクの回転速度(9m/se
c)の関係によって定められ、メモリー膜13に0.3
μm間隔で形成された複数の小さい記録マーク13A,
13A,…(各マーク長さ0.3μm)のうち、1つだ
けが入る程度とされている。
Here, the size of the intermediate temperature region 41E depends on the composition (Gd30Fe70) of the reproducing intermediate film 12, the reproducing power (3.5 mW), and the rotational speed of the disk (9 m / sec).
c) is determined by the relationship in FIG.
A plurality of small recording marks 13A formed at μm intervals,
13A,... (Each mark length is 0.3 μm).

【0071】このため、メモリー膜13に形成された1
つの記録マーク13Aのみが、中温領域41Eにおい
て、再生中間膜12(転写マーク12A)→再生膜11
(転写マーク11A)と順に転写されることになる。
For this reason, the 1
Only one recording mark 13A is in the intermediate temperature region 41E, and the reproduction intermediate film 12 (transfer mark 12A) → the reproduction film 11
(Transfer mark 11A).

【0072】なお、低温領域41Dでは、上記した再生
中間膜12の面内磁化状態によって、メモリー膜13か
らの交換結合力が再生膜11に直接作用しないため、メ
モリー膜13の磁化は再生膜11に転写されない(低温
マスク)。このとき、低温領域41Dの再生膜11は、
印加されている再生磁界Hrの影響を受けて、その磁化
が一様に消去方向(図7中、下向き)に揃えられた状態
となる。
In the low temperature region 41D, the exchange coupling force from the memory film 13 does not directly act on the reproduction film 11 due to the in-plane magnetization state of the reproduction intermediate film 12, and the magnetization of the memory film 13 is Not transferred to (low temperature mask). At this time, the reproduction film 11 in the low temperature region 41D is
Under the influence of the applied reproducing magnetic field Hr, the magnetization is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 7).

【0073】また、高温領域41Fでは、上記した再生
中間膜12の磁化消失状態によって、メモリー膜13と
再生膜11との間の磁気的結合が遮断されているため、
メモリー膜13の磁化は再生膜11に転写されない(高
温マスク)。このとき、高温領域41Fの再生膜11
は、上記の低温領域41Dと同様、印加されている再生
磁界Hrの影響を受けて、その磁化が一様に消去方向
(図7中、下向き)に揃えられた状態となる。
In the high temperature region 41F, the magnetic coupling between the memory film 13 and the reproducing film 11 is interrupted by the above-mentioned demagnetized state of the reproducing intermediate film 12.
The magnetization of the memory film 13 is not transferred to the reproduction film 11 (high-temperature mask). At this time, the regenerated film 11 in the high temperature region 41F
As in the case of the low-temperature region 41D, the magnetization is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 7) under the influence of the applied reproducing magnetic field Hr.

【0074】なお、このとき印加されている再生磁界H
rは、上記した中温領域41Eにおけるマークの転写に
影響を与えないような比較的弱い磁界である(100
(Oe))。上記のように、光磁気ディスク10では、ビ
ームスポット41A内の中温領域41Eにのみ1つの転
写マーク11A(磁化が記録方向)が形成され、低温領
域41Dおよび高温領域41Fにダブルマスク(磁化が
一様に消去方向)が形成される。したがって、ビームス
ポット41Aで反射した再生ビーム41成分(反射ビー
ム)を検出することによって、層構造のメモリー膜13
に保持された複数の小さい記録マーク13A,13A,
…のうちの1つのみを、符号間干渉が生じないようにD
−RAD方式によって再生することができる。
The reproducing magnetic field H applied at this time is
r is a relatively weak magnetic field that does not affect the transfer of the mark in the medium temperature region 41E (100
(Oe)). As described above, in the magneto-optical disk 10, one transfer mark 11A (magnetization is in the recording direction) is formed only in the middle temperature region 41E in the beam spot 41A, and a double mask (magnetization is one) is formed in the low temperature region 41D and the high temperature region 41F. The erase direction is formed in the same manner. Therefore, by detecting the component (reflected beam) of the reproduction beam 41 reflected by the beam spot 41A, the memory film 13 having a layered structure is detected.
, A plurality of small recording marks 13A, 13A,
, And only one of them is D
-Can be reproduced by the RAD method.

【0075】そして、上記した再生動作を、光磁気ディ
スク10の回転に伴いディスク移動方向10Aに順に行
うことによって、光磁気ディスク10の層構造のメモリ
ー膜13に保持された複数の小さい記録マーク13A,
13A,…を1つずつ順に再生することができる。
The above-described reproducing operation is sequentially performed in the disk moving direction 10A with the rotation of the magneto-optical disk 10, whereby a plurality of small recording marks 13A held in the memory film 13 having a layer structure of the magneto-optical disk 10 are obtained. ,
13A,... Can be sequentially reproduced one by one.

【0076】この書き換え型光磁気ディスク10におい
て実際に、マーク長さ0.3μmの記録マークをマーク
間距離0.3μmで記録し、搬送波対雑音強度比(CN
比)を測定してみたところ、47.5dB以上という実
用レベル(45dB)以上の良好なCN比が得られるこ
とがわかった。以上説明したように、第1実施形態の書
き換え型光磁気ディスク10では、メモリー膜13の構
造を、組成の異なる2つの合金層13-1,13-2を積層
した層構造としたので、記録ビーム31のパワーを極め
て厳密に制御することなく、ビームスポット31Aより
も十分小さい記録マーク13Aを安定して確実に書き込
むことができると共に、このように小さい記録マーク1
3Aを安定して保持しつつD−RAD方式により正確に
再生することができる。
In this rewritable magneto-optical disk 10, a recording mark having a mark length of 0.3 μm was actually recorded at a distance between marks of 0.3 μm, and a carrier-to-noise intensity ratio (CN
As a result, it was found that a good CN ratio of 47.5 dB or more, which is a practical level (45 dB) or more, was obtained. As described above, in the rewritable magneto-optical disk 10 according to the first embodiment, the structure of the memory film 13 is a layered structure in which two alloy layers 13-1 and 13-2 having different compositions are stacked. Without extremely strictly controlling the power of the beam 31, the recording mark 13A sufficiently smaller than the beam spot 31A can be stably and surely written.
3A can be accurately reproduced by the D-RAD method while being stably held.

【0077】したがって、第1実施形態の書き換え型光
磁気ディスク10によれば、複数の小さい記録マーク1
3A,13A…からなる情報の記録再生に好適な高密度
化が図られた光磁気ディスクを得ることができる。な
お、第1実施形態では、書き換え型光磁気ディスク10
のメモリー膜13を、REリッチ合金層13-1とTMリ
ッチ合金層13-2とからなる基本層13aが、繰り返し
て積層された層構造にする例(図2)を説明したが、こ
のメモリー膜13は、図9に示されるように、REリッ
チ合金層13-1とTMリッチ合金層13-2とによる2層
化の層構造にすることもできる。
Therefore, according to the rewritable magneto-optical disk 10 of the first embodiment, a plurality of small recording marks 1
It is possible to obtain a high-density magneto-optical disk suitable for recording and reproducing information composed of 3A, 13A,. In the first embodiment, the rewritable magneto-optical disk 10
The memory film 13 of FIG. 2 has a layer structure in which a basic layer 13a composed of an RE-rich alloy layer 13-1 and a TM-rich alloy layer 13-2 is repeatedly laminated (FIG. 2). As shown in FIG. 9, the film 13 may have a two-layer structure including an RE-rich alloy layer 13-1 and a TM-rich alloy layer 13-2.

【0078】また、第1実施形態では、光磁気ディスク
10のメモリー膜13において、REリッチ合金層13
-1の厚さD1,TMリッチ合金層13-2の厚さD2が共
に2nmである例を説明したが、これらの厚さD1,D
2は、0.5nmよりも厚く50nmよりも薄い範囲内
の任意の値に設定することができる。この場合、各合金
層13-1,13-2の厚さD1,D2が異なっていてもよ
い。因みに、上記の各合金層13-1,13-2の厚さD
1,D2の最小値(0.5nm)は、各合金層13-1,
13-2を構成する原子1つ分の厚さに相当する。
In the first embodiment, in the memory film 13 of the magneto-optical disk 10, the RE-rich alloy layer 13
-1 and the thickness D2 of the TM-rich alloy layer 13-2 are both 2 nm.
2 can be set to any value within a range greater than 0.5 nm and less than 50 nm. In this case, the thicknesses D1 and D2 of the alloy layers 13-1 and 13-2 may be different. Incidentally, the thickness D of each of the alloy layers 13-1 and 13-2 described above.
1, the minimum value of D2 (0.5 nm) is determined for each alloy layer 13-1,
This corresponds to the thickness of one atom constituting 13-2.

【0079】さらに、第1実施形態では、光磁気ディス
ク10のメモリー膜13において、REリッチ合金層1
3-1を構成するTbの比率が21原子%である例を説明
したが、REリッチ合金層13-1のTbの比率は、20
原子%よりも大きく25原子%よりも小さい範囲内の任
意の値に設定することができる。また、第1実施形態で
は、光磁気ディスク10のメモリー膜13において、T
Mリッチ合金層13-2を構成するTbの比率が19原子
%である例を説明したが、TMリッチ合金層13-2のT
bの比率は、15原子%よりも大きく20原子%よりも
小さい範囲内の任意の値に設定することができる。
Further, in the first embodiment, in the memory film 13 of the magneto-optical disk 10, the RE-rich alloy layer 1
Although the example in which the ratio of Tb constituting 3-1 is 21 atomic% has been described, the ratio of Tb in the RE-rich alloy layer 13-1 is 20 atomic%.
It can be set to any value within the range greater than atomic% and less than 25 atomic%. In the first embodiment, the memory film 13 of the magneto-optical disk 10
The example in which the ratio of Tb constituting the M-rich alloy layer 13-2 is 19 atomic% has been described.
The ratio of b can be set to any value within the range of more than 15 atomic% and less than 20 atomic%.

【0080】さらに、第1実施形態では、層構造のメモ
リー膜13をREリッチ合金層13-1とTMリッチ合金
層13-2とで構成した例を説明したが、この層構造のメ
モリー膜は、構成元素の比率は異なるが共に希土類金属
の副格子磁化が優勢である2つの合金層、または構成元
素の比率は異なるが共に遷移金属の副格子磁化が優勢で
ある2つの合金層で構成することもできる。
Further, in the first embodiment, the example in which the memory film 13 having the layer structure is constituted by the RE-rich alloy layer 13-1 and the TM-rich alloy layer 13-2 has been described. And two alloy layers in which the ratio of constituent elements is different but the sub-lattice magnetization of the rare earth metal is dominant, or two alloy layers in which the ratios of the constituent elements are different but the sub-lattice magnetization of the transition metal are both dominant. You can also.

【0081】また、第1実施形態では、再生膜11とメ
モリー膜13との間に面内磁化膜(再生中間膜12)を
形成したD−RAD方式の光磁気ディスク10を例に説
明したが、再生膜11とメモリー膜13との間に垂直磁
化膜を形成したFAD方式の光磁気ディスク(請求項
9)や、再生膜11とメモリー膜13との間に非磁性膜
または常磁性膜を形成した静磁結合型の光磁気ディスク
(請求項10)において、メモリー膜を層構造にするこ
ともできる。
In the first embodiment, the D-RAD type magneto-optical disk 10 in which an in-plane magnetization film (reproduction intermediate film 12) is formed between the reproduction film 11 and the memory film 13 has been described as an example. A FAD type magneto-optical disk in which a perpendicular magnetization film is formed between the reproduction film 11 and the memory film 13 or a non-magnetic film or paramagnetic film between the reproduction film 11 and the memory film 13; In the formed magnetostatic coupling type magneto-optical disk (Claim 10), the memory film may have a layered structure.

【0082】さらに、第1実施形態では、複数の機能膜
(再生膜11,再生中間膜12,メモリー膜13)が基
板21上に形成された光磁気ディスク10の例を説明し
たが、1つの機能膜(メモリー膜)が基板上に形成され
た光磁気ディスク(請求項6)において、メモリー膜を
層構造にすることもできる。また、第1実施形態では、
書き換え型光磁気ディスク10のメモリー膜13のみを
層構造にする例を説明したが、メモリー膜13に記録さ
れた情報の再生動作に関わる再生中間膜12や再生膜1
1を層構造にすることもできる。
Further, in the first embodiment, the example of the magneto-optical disk 10 in which a plurality of functional films (reproducing film 11, reproducing intermediate film 12, and memory film 13) are formed on the substrate 21 has been described. In a magneto-optical disk having a functional film (memory film) formed on a substrate (claim 6), the memory film may have a layered structure. In the first embodiment,
Although the example has been described in which only the memory film 13 of the rewritable magneto-optical disk 10 has a layered structure, the reproduction intermediate film 12 and the reproduction film 1 related to the operation of reproducing the information recorded in the memory film 13 are described.
1 may have a layered structure.

【0083】さらに、第1実施形態では、光磁気ディス
ク10のメモリー膜13に情報を高密度に記録するに当
たって、筆先記録法を用いる例をあげて説明したが、磁
界変調記録方式を用いることもできる。けだし、このよ
うに磁界変調記録方式を用いても、同様に、メモリー膜
13に情報を高密度に記録することができるからであ
る。
Further, in the first embodiment, an example of using the pen tip recording method to record information at a high density on the memory film 13 of the magneto-optical disk 10 has been described, but the magnetic field modulation recording method may be used. it can. However, even when the magnetic field modulation recording method is used, information can be recorded on the memory film 13 at a high density.

【0084】(第2実施形態)次に、本発明の第2実施
形態について、図10〜図12を用いて説明する。な
お、この第2実施形態は、請求項1〜請求項8,請求項
11〜請求項14に対応する。第2実施形態の光磁気デ
ィスク60は、光変調ダイレクトオーバーライト記録方
式(以下「LIMDOW記録方式」という)の光磁気デ
ィスクであり、図10の上方から下方に向かって、基板
71に、保護膜72、再生膜61、再生中間膜62、切
断膜63、メモリー膜64、中間膜65、記録膜66、
スイッチング膜67、初期化膜68、保護膜73、金属
膜74および樹脂保護膜75が順次形成された構造とな
っている。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This second embodiment corresponds to claims 1 to 8, and claims 11 to 14. The magneto-optical disk 60 according to the second embodiment is a magneto-optical disk of a light modulation direct overwrite recording method (hereinafter, referred to as a “LIMDOW recording method”), and a protective film is formed on a substrate 71 from the upper side to the lower side in FIG. 72, a reproducing film 61, a reproducing intermediate film 62, a cutting film 63, a memory film 64, an intermediate film 65, a recording film 66,
The switching film 67, the initialization film 68, the protection film 73, the metal film 74, and the resin protection film 75 are sequentially formed.

【0085】このうち、メモリー膜64(請求項6〜8
の第1の機能膜に対応する)は、第1実施形態の書き換
え可能な光磁気ディスク10におけるメモリー膜13と
同様、記録された情報を保持する膜である。また、再生
膜61(請求項7,8の第2の機能膜に対応する),再
生中間膜62(請求項8の第3の機能膜に対応する),
切断膜63(請求項14の第8の機能膜に対応する)
は、第1実施形態の書き換え可能な光磁気ディスク10
と同様、メモリー膜64に記録された情報のD−RAD
方式による再生動作を行う膜である。
The memory film 64 (claims 6 to 8)
Is a film for retaining recorded information, similarly to the memory film 13 of the rewritable magneto-optical disk 10 of the first embodiment. Also, a reproducing film 61 (corresponding to the second functional film of claims 7 and 8), a reproducing intermediate film 62 (corresponding to the third functional film of claim 8),
Cutting film 63 (corresponding to the eighth functional film of claim 14)
Is a rewritable magneto-optical disk 10 according to the first embodiment.
D-RAD of information recorded on the memory film 64
This is a film that performs a reproducing operation by the method.

【0086】また、中間膜65(請求項12の第6の機
能膜に対応する)、記録膜66(請求項11の第4の機
能膜に対応する)、スイッチング膜67(請求項13の
第7の機能膜に対応する)、初期化膜68(請求項11
の第5の機能膜に対応する)は、メモリー膜64への情
報のオーバーライト記録動作を行う膜である。
Further, the intermediate film 65 (corresponding to the sixth functional film of claim 12), the recording film 66 (corresponding to the fourth functional film of claim 11), the switching film 67 (corresponding to the 13th functional film of claim 13). 7), an initialization film 68 (claim 11).
Is a film for performing an overwrite recording operation of information on the memory film 64.

【0087】ここで、第2実施形態のLIMDOW記録
方式の光磁気ディスク60を構成する各膜61〜68,
72〜75の組成、膜厚および機能について個別に説明
する。再生膜61は、希土類金属であるGdと遷移金属
であるFe,Coとの均一な合金にて構成された1つの
組成の磁性膜である。この再生膜61の具体的な組成
は、Gd25Fe60Co15であり、膜厚D61は30nmで
ある。
Here, each of the films 61 to 68, constituting the magneto-optical disk 60 of the LIMDOW recording system of the second embodiment,
The composition, film thickness and function of 72 to 75 will be described individually. The reproducing film 61 is a magnetic film of one composition composed of a uniform alloy of Gd as a rare earth metal and Fe and Co as transition metals. The specific composition of the reproducing film 61 is Gd25Fe60Co15, and the film thickness D61 is 30 nm.

【0088】このような組成および膜厚の再生膜61
は、磁化が膜面に対して垂直(図10中、縦方向)に配
向する垂直磁化膜である。また、この再生膜61のキュ
リー温度Tc61は、少なくとも後述する再生中間膜62
のキュリー温度Tc62(220℃)よりも高い。また、
再生中間膜62は、希土類金属であるGdと遷移金属で
あるFeとの均一な合金にて構成された1つの組成の磁
性膜である。この再生中間膜62の具体的な組成は、G
d29Fe71であり、膜厚D62は50nmである。
The reproduction film 61 having such a composition and thickness is as follows.
Is a perpendicular magnetization film in which the magnetization is oriented perpendicular to the film surface (vertical direction in FIG. 10). In addition, the Curie temperature Tc61 of the reproducing film 61 is set to at least a reproducing intermediate film 62 described later.
Curie temperature Tc62 (220 ° C.). Also,
The reproduction intermediate film 62 is a magnetic film of one composition composed of a uniform alloy of Gd which is a rare earth metal and Fe which is a transition metal. The specific composition of the reproduction intermediate film 62 is G
d29Fe71, and the film thickness D62 is 50 nm.

【0089】このような組成および膜厚の再生中間膜6
2は、室温Trで磁化が面内(図10中、横方向)に配
向する面内磁化膜である。また、この再生中間膜62
は、室温Trよりも高い所定温度Tx(110℃近傍)
で、その磁化が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化す
る。さらに、この再生中間膜62のキュリー温度Tc62
は、上記した所定温度Tx(110℃)よりも高く、2
20℃程度である。
The reproduced intermediate film 6 having such composition and film thickness
Reference numeral 2 denotes an in-plane magnetized film whose magnetization is oriented in-plane (horizontally in FIG. 10) at room temperature Tr. Further, the reproduced intermediate film 62
Is a predetermined temperature Tx higher than the room temperature Tr (around 110 ° C.)
The magnetization changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state. Further, the Curie temperature Tc62 of the reproduced intermediate film 62
Is higher than the predetermined temperature Tx (110 ° C.)
It is about 20 ° C.

【0090】また、切断膜63は、希土類金属であるT
bと遷移金属であるFeとの均一な合金にて構成された
1つの組成の磁性膜である。この切断膜63の具体的な
組成は、Tb20Fe80であり、膜厚D63は20nmであ
る。このような組成および膜厚の切断膜63は、上記の
再生膜61と同様、垂直磁化膜であり、そのキュリー温
度Tc63が140℃程度である。このキュリー温度Tc
63(140℃)は、上記した再生中間膜62のキュリー
温度Tc62(220℃),後述するメモリー膜64のキ
ュリー温度Tc64(180℃)の何れよりも低い。ま
た、このキュリー温度Tc63(140℃)は、上記した
再生中間膜62の所定温度Tx(110℃)よりも高
い。
The cutting film 63 is made of T which is a rare earth metal.
This is a magnetic film of one composition composed of a uniform alloy of b and a transition metal, Fe. The specific composition of the cut film 63 is Tb20Fe80, and the film thickness D63 is 20 nm. The cut film 63 having such a composition and thickness is a perpendicular magnetization film similarly to the reproduction film 61, and has a Curie temperature Tc63 of about 140 ° C. This Curie temperature Tc
63 (140 ° C.) is lower than the Curie temperature Tc 62 (220 ° C.) of the reproduction intermediate film 62 and the Curie temperature Tc 64 (180 ° C.) of the memory film 64 described later. Further, the Curie temperature Tc63 (140 ° C.) is higher than the predetermined temperature Tx (110 ° C.) of the reproduced intermediate film 62 described above.

【0091】また、メモリー膜64は、希土類金属であ
るTbと遷移金属であるFe,Coとで構成された磁性
膜であり、第1実施形態のメモリー膜13と同様、組成
の異なる2つの合金層が繰り返し積層された層構造(マ
ルチレイヤー)となっている(図2)。このような層構
造のメモリー膜64を構成する一方の合金層は、第1実
施形態のメモリー膜13を構成するREリッチ合金層1
3-1と同様、希土類金属の副格子磁化が優勢の層(請求
項1〜7の第1層に対応する)であり、その具体的な組
成はTb21Fe71.1Co7.9である(厚さは2nm)。
The memory film 64 is a magnetic film composed of Tb, which is a rare earth metal, and Fe, Co, which are transition metals. Like the memory film 13 of the first embodiment, the memory film 64 is composed of two alloys having different compositions. It has a layer structure (multilayer) in which layers are repeatedly laminated (FIG. 2). One alloy layer forming the memory film 64 having such a layer structure is the RE-rich alloy layer 1 forming the memory film 13 of the first embodiment.
Like 3-1, the layer is a layer in which the sublattice magnetization of the rare earth metal is dominant (corresponding to the first layer in claims 1 to 7), and its specific composition is Tb21Fe71.1Co7.9 (the thickness is 2 nm).

【0092】また、層構造のメモリー膜64を構成する
他方の合金層は、第1実施形態のメモリー膜13を構成
するTMリッチ合金層13-2と同様、遷移金属の副格子
磁化が優勢の層(請求項1〜7の第1層に対応する)で
あり、その具体的な組成はTb19Fe72.9Co8.1であ
る(厚さは2nm)。なお、このような組成および膜厚
のREリッチ合金層とTMリッチ合金層とが積層された
層構造のメモリー膜64は、磁化が膜面に対して垂直に
配向する垂直磁化膜である。また、このメモリー膜64
の膜厚D64は、35nmであり、そのキュリー温度Tc
64は180℃程度である。
The other alloy layer forming the memory film 64 having the layer structure has the same transition metal sublattice magnetization as the TM rich alloy layer 13-2 forming the memory film 13 of the first embodiment. (Corresponding to the first layer of claims 1 to 7), and its specific composition is Tb19Fe72.9Co8.1 (the thickness is 2 nm). Note that the memory film 64 having a layered structure in which the RE-rich alloy layer and the TM-rich alloy layer having such compositions and thicknesses are stacked is a perpendicular magnetization film in which the magnetization is oriented perpendicular to the film surface. Also, the memory film 64
Has a Curie temperature Tc of 35 nm.
64 is about 180 ° C.

【0093】また、中間膜65は、希土類金属であるG
dと遷移金属であるFe,Coとの均一な合金にて構成
された1つの組成の磁性膜(単体では室温Trで面内磁
化膜)である。この中間膜65の具体的な組成は、Gd
32Fe64Co4であり、膜厚D65は10nmである。ま
た、この中間膜65は、上記の組成なので、ほとんど保
磁力を持たない。
The intermediate film 65 is made of G which is a rare earth metal.
It is a magnetic film of one composition (in-plane magnetized film at room temperature Tr by itself) composed of a uniform alloy of d and transition metals Fe and Co. The specific composition of the intermediate film 65 is Gd
32Fe64Co4, and the film thickness D65 is 10 nm. Since the intermediate film 65 has the above composition, it has almost no coercive force.

【0094】また、記録膜66は、希土類金属であるジ
スプロシウム(Dy)と遷移金属であるFe,Coとの均
一な合金にて構成された1つの組成の磁性膜(垂直磁化
膜)である。この記録膜66の具体的な組成は、Dy26
Fe44Co30であり、膜厚D66は20nmである。ま
た、この記録膜66は、その補償温度Th66が、室温T
rとキュリー温度Tc66との間にある膜である。なお、
記録膜66のキュリー温度Tc66は、少なくとも上記し
たメモリー膜64のキュリー温度Tc64(180℃),
後述するスイッチング膜67のキュリー温度Tc67の何
れよりも高い。
The recording film 66 is a magnetic film of one composition (perpendicular magnetization film) composed of a uniform alloy of dysprosium (Dy) as a rare earth metal and Fe and Co as transition metals. The specific composition of the recording film 66 is Dy26
Fe44Co30, and the film thickness D66 is 20 nm. The recording film 66 has a compensation temperature Th66 at room temperature T.
This is a film between r and the Curie temperature Tc66. In addition,
The Curie temperature Tc66 of the recording film 66 is at least the Curie temperature Tc64 (180 ° C.) of the memory film 64,
It is higher than the Curie temperature Tc67 of the switching film 67 described later.

【0095】また、スイッチング膜67は、希土類金属
であるTbと遷移金属であるFe,Coとの均一な合金
にて構成された1つの組成の磁性膜(垂直磁化膜)であ
る。このスイッチング膜67の具体的な組成は、Tb17
Fe77Co6であり、膜厚D67は12nmである。ま
た、このスイッチング膜67は、そのキュリー温度Tc
67が、上記した記録膜66のキュリー温度Tc66,後述
する初期化膜68のキュリー温度Tc68の何れよりも低
い。
The switching film 67 is a magnetic film (perpendicular magnetization film) of one composition made of a uniform alloy of Tb as a rare earth metal and Fe and Co as transition metals. The specific composition of the switching film 67 is Tb17
Fe77Co6, and the film thickness D67 is 12 nm. The switching film 67 has a Curie temperature Tc.
67 is lower than the Curie temperature Tc66 of the recording film 66 and the Curie temperature Tc68 of the initialization film 68 described later.

【0096】また、初期化膜68は、希土類金属である
Tbと遷移金属であるFe,Coとの均一な合金にて構
成された1つの組成の磁性膜(垂直磁化膜)である。こ
の初期化膜68の具体的な組成は、Tb20Fe16Co64
であり、その膜厚D68は20nmである。また、この初
期化膜68は、そのキュリー温度Tc68が上記した記録
膜66のキュリー温度Tc66よりも高く、かつ保磁力が
高い。
The initialization film 68 is a magnetic film (perpendicular magnetization film) of one composition made of a uniform alloy of Tb which is a rare earth metal and Fe and Co which are transition metals. The specific composition of the initialization film 68 is Tb20Fe16Co64.
And the film thickness D68 is 20 nm. The initialization film 68 has a Curie temperature Tc68 higher than the above-described Curie temperature Tc66 of the recording film 66, and has a high coercive force.

【0097】なお、上記した各膜61〜68を保護する
ための保護膜72,73は、窒化シリコンからなり、そ
の膜厚D72は70nm、膜厚D73は30nmである。ま
た、金属膜74は記録感度を調整する膜であり、膜厚D
74が30nmのアルミニウム薄膜からなる。また、樹脂
保護膜75は、基板71上に積膜された上記の各膜61
〜68,72〜74を全体的に保護する膜である。な
お、基板71は、ガイド溝がスパイラル状に形成された
ポリカーボネート基板(直径90mm)である。
The protective films 72 and 73 for protecting the above-described films 61 to 68 are made of silicon nitride, and have a thickness D72 of 70 nm and a thickness D73 of 30 nm. The metal film 74 is a film for adjusting the recording sensitivity, and has a film thickness D
74 is a 30 nm aluminum thin film. In addition, the resin protective film 75 is formed of each of the above films 61 deposited on the substrate 71.
To 68, 72 to 74. The substrate 71 is a polycarbonate substrate (90 mm in diameter) in which guide grooves are formed in a spiral shape.

【0098】因みに、上記の各膜61〜68のうち、層
構造のメモリー膜64の成膜については、上述した第1
実施形態のメモリー膜13の成膜と同様、REリッチ合
金層用の合金ターゲットとTMリッチ合金層用の合金タ
ーゲットとが別々に配置された同期スパッタリング装置
内で行われる。また、他の膜61〜63,65〜68の
成膜については、上述した第1実施形態の再生膜11,
再生中間膜12と同様、枚葉式スパッタリング装置内で
行われる。
Incidentally, among the films 61 to 68 described above, the formation of the memory film 64 having a layered structure is described in the first embodiment.
Similar to the formation of the memory film 13 of the embodiment, the formation is performed in a synchronous sputtering apparatus in which an alloy target for the RE-rich alloy layer and an alloy target for the TM-rich alloy layer are separately arranged. Further, the film formation of the other films 61 to 63 and 65 to 68 is the same as the reproduction film 11 of the first embodiment described above.
As in the case of the regeneration intermediate film 12, the film formation is performed in a single-wafer sputtering apparatus.

【0099】上記のように構成されたLIMDOW記録
方式の光磁気ディスク60において、層構造のメモリー
膜64への情報のオーバーライト記録は、以下のように
行われる。まず、情報のオーバーライト記録に当たり、
この光磁気ディスク60には、図示されない記録再生装
置から記録ビーム(波長680nm)が継続的に照射さ
れる。このときの記録パワーを変調(高レベル/低レベ
ル)することで、情報が書き込まれる。また、オーバー
ライト記録に当たっては、記録ビームのビームスポット
(1.1μm)に、一定の大きさの記録磁界(記録方
向)が印加される。この記録磁界の向きは、初期化膜6
8の磁化方向(消去方向)とは逆である。なお、オーバ
ーライト記録時、光磁気ディスク60は、モータによっ
て一定の線速度(例えば、9m/sec)で回転され
る。
In the magneto-optical disk 60 of the LIMDOW recording system configured as described above, overwriting of information on the memory film 64 having a layer structure is performed as follows. First, in overwriting information,
The magneto-optical disk 60 is continuously irradiated with a recording beam (having a wavelength of 680 nm) from a recording / reproducing device (not shown). Information is written by modulating the recording power at this time (high level / low level). In the overwrite recording, a recording magnetic field (recording direction) of a certain magnitude is applied to the beam spot (1.1 μm) of the recording beam. The direction of the recording magnetic field is determined by the initialization film 6.
8 is opposite to the magnetization direction (erase direction). At the time of overwrite recording, the magneto-optical disk 60 is rotated at a constant linear velocity (for example, 9 m / sec) by a motor.

【0100】記録パワーが高レベルの場合、ビームスポ
ット(1.1μm)内の一部(加熱領域)のみが、少な
くとも記録膜66のキュリー温度Tc66よりも高く加熱
されて、記録膜66,メモリー膜64,スイッチング膜
67の磁化が一旦消失する。その後、上記の加熱領域が
ビームスポットから外れ、その温度が室温Trに向かっ
て徐々に低下していくと、記録膜66の磁化は回復し、
その磁化方向が記録磁界(記録方向)に倣う。
When the recording power is at a high level, only a part (heating area) within the beam spot (1.1 μm) is heated at least higher than the Curie temperature Tc 66 of the recording film 66, and the recording film 66 and the memory film are heated. 64, the magnetization of the switching film 67 temporarily disappears. Thereafter, when the above-mentioned heating region deviates from the beam spot and its temperature gradually decreases toward room temperature Tr, the magnetization of the recording film 66 recovers,
The magnetization direction follows the recording magnetic field (recording direction).

【0101】さらに温度が低下すると、この記録膜66
の磁化は、次いでその磁化が回復するメモリー膜64に
転写され、そこで保持される(磁化が記録方向)。この
ようにして、記録磁界によって記録膜66に一時的に書
き込まれたビームスポット(1.1μm)よりも小さい
記録マーク(磁化が記録方向の磁区、マーク長さ0.3
μm)は、メモリー膜64に転写・保持されることにな
る。
When the temperature further decreases, the recording film 66
Is then transferred to the memory film 64 where the magnetization is recovered, where it is retained (the magnetization is in the recording direction). In this way, the recording mark (the magnetic domain in the recording direction, the mark length of 0.3) is smaller than the beam spot (1.1 μm) temporarily written on the recording film 66 by the recording magnetic field.
μm) is transferred and held on the memory film 64.

【0102】記録膜66からメモリー膜64に磁化が転
写されたのち、さらに温度が低下すると、初期化膜68
の働きによってこの記録膜66の磁化方向が強制的に一
方向に揃えられ、記録膜66が初期化される(磁化が消
去方向)。なお、記録膜66の初期化時、メモリー膜6
4の磁化は、記録膜66と一体となって初期化されてし
まうことなく、記録方向に保持される。これは、記録膜
66とメモリー膜64との間に設けられた中間膜65の
働きによって、記録膜66の初期化時には、記録膜66
とメモリー膜64との間の磁気的結合力が弱められるか
らである。
After the magnetization is transferred from the recording film 66 to the memory film 64, if the temperature further decreases, the initialization film 68
By this operation, the magnetization direction of the recording film 66 is forcibly aligned in one direction, and the recording film 66 is initialized (the magnetization is in the erasing direction). When the recording film 66 is initialized, the memory film 6
The magnetization of No. 4 is maintained in the recording direction without being initialized integrally with the recording film 66. This is because the function of the intermediate film 65 provided between the recording film 66 and the memory film 64 causes the recording film 66 to be initialized when the recording film 66 is initialized.
This is because the magnetic coupling force between the semiconductor device and the memory film 64 is weakened.

【0103】また、初期化膜68から記録膜66への磁
気的結合力は、初期化膜68と記録膜66との間に設け
られたスイッチング膜67の働きによって、記録磁界に
よって記録膜66に一時的に情報が書き込まれるときに
は弱められ、上記した記録膜66の初期化時のみ伝達さ
れるようになっている。このように、高レベルの記録ビ
ームを照射することによって、ビームスポット(1.1
μm)よりも小さい領域(加熱領域)に、1つの記録マ
ーク(磁化が記録方向の磁区、マーク長さ0.3μm)
をオーバーライト記録することができる。
The magnetic coupling force from the initialization film 68 to the recording film 66 is applied to the recording film 66 by the recording magnetic field by the action of the switching film 67 provided between the initialization film 68 and the recording film 66. The information is temporarily weakened when information is written, and is transmitted only when the recording film 66 is initialized. By irradiating a high-level recording beam in this manner, a beam spot (1.1
μm), one recording mark (magnetic domain whose magnetization is in the recording direction, mark length 0.3 μm)
Can be overwritten.

【0104】ここで、上記のようなビームスポットより
も小さい記録マークのオーバーライト記録に当たって
は、第1実施形態と同様、高レベルの記録ビームの照射
時間を短くし、加熱領域を小さくするようにしている
(筆先記録法)。このため、高レベルの記録パワーの時
間変動(雑音)によって、加熱領域の大きさにばらつき
が生じやすくなっている。
Here, in the overwrite recording of the recording mark smaller than the beam spot as described above, similarly to the first embodiment, the irradiation time of the high-level recording beam is shortened and the heating area is reduced. (Writing method). For this reason, the size of the heating region tends to vary due to the temporal fluctuation (noise) of the high-level recording power.

【0105】しかし、この第2実施形態の光磁気ディス
ク60でも、第1実施形態と同様、メモリー膜64が、
1つの組成の合金膜ではなく、組成の異なるREリッチ
合金層とTMリッチ合金層とが積層された層構造の膜と
なっている。したがって、メモリー膜64の記録パワー
マージンは、1つの組成の合金膜にて構成されたメモリ
ー膜よりも拡大されている。
However, in the magneto-optical disk 60 of the second embodiment, as in the first embodiment, the memory film 64
Instead of an alloy film having one composition, the film has a layered structure in which RE-rich alloy layers and TM-rich alloy layers having different compositions are stacked. Therefore, the recording power margin of the memory film 64 is larger than that of the memory film composed of an alloy film having one composition.

【0106】このように、記録パワーマージンが拡大さ
れた層構造のメモリー膜64では、高レベルの記録パワ
ーの時間変動(雑音)によって、ビームスポット(1.
1μm)よりも小さい加熱領域の大きさにばらつきが生
じても、一定の大きさ(0.3μm)の記録マーク(磁
化が記録方向)を、安定してオーバーライト記録するこ
とができる。
As described above, in the memory film 64 having a layer structure in which the recording power margin is enlarged, the beam spot (1.
Even if the size of the heating region smaller than 1 μm) varies, it is possible to stably overwrite the recording mark (magnetization direction) of a fixed size (0.3 μm).

【0107】一方、記録パワーが低レベルの場合、ビー
ムスポット内の一部の領域の温度は、メモリー膜64の
キュリー温度Tc64(180℃)よりも高くなるが、記
録膜66のキュリー温度Tc66には至らない。したがっ
て、メモリー膜64の磁化は一旦消失するが、記録膜6
6は初期化された状態(磁化が消去方向)のままであ
る。その後、温度が室温Trに向かって徐々に低下して
いくと、メモリー膜64の磁化は回復し、その磁化方向
が記録膜66の磁化(消去方向)に倣う。そして、室温
Trに至ると、このメモリー膜64の磁化は、初期化さ
れた記録膜66に倣ったまま保持されることになる。
On the other hand, when the recording power is low, the temperature of a part of the area within the beam spot becomes higher than the Curie temperature Tc 64 (180 ° C.) of the memory film 64, but becomes lower than the Curie temperature Tc 66 of the recording film 66. Does not reach. Therefore, although the magnetization of the memory film 64 temporarily disappears, the recording film 6
6 remains in the initialized state (the magnetization is in the erasing direction). Thereafter, when the temperature gradually decreases toward the room temperature Tr, the magnetization of the memory film 64 recovers, and the magnetization direction follows the magnetization (erasing direction) of the recording film 66. When the temperature reaches the room temperature Tr, the magnetization of the memory film 64 is maintained while following the initialized recording film 66.

【0108】このように、低レベルの記録ビームを照射
することによって、ビームスポットよりも小さい一部の
領域で、記録マークを消去することができる。したがっ
て、光磁気ディスク60に対し、記録される情報に応じ
てパワーを変調(高レベル/低レベル)させながら記録
ビームを照射することで、既に記録されていた記録マー
クに拘わらず、ビームスポット(1.1μm)よりも小
さい記録マーク(0.3μm)次々、層構造のメモリー
膜64に安定してオーバーライト記録することができ
(マーク間距離0.3μm)、高密度な情報を確実に記
録できる。
By irradiating a low-level recording beam in this way, a recording mark can be erased in a part of the area smaller than the beam spot. Accordingly, by irradiating the magneto-optical disk 60 with a recording beam while modulating the power (high level / low level) in accordance with the information to be recorded, the beam spot (regardless of the recorded marks already recorded) is obtained. Recording marks (0.3 μm) smaller than 1.1 μm) can successively be overwritten on the memory film 64 having a layered structure (distance between marks 0.3 μm), and reliably record high-density information. it can.

【0109】次に、上記のように高密度な情報が層構造
のメモリー膜64に記録されたLIMDOW記録方式の
光磁気ディスク60において、D−RAD方式を用いて
その情報を再生する動作について説明する。なお、再生
動作を説明する図11では、各膜61〜64の磁化の向
きが矢印で示されている。
Next, the operation of reproducing information using the D-RAD method on the magneto-optical disk 60 of the LIMDOW recording method in which high-density information is recorded on the memory film 64 having a layer structure as described above will be described. I do. In FIG. 11 for explaining the reproducing operation, the directions of the magnetizations of the films 61 to 64 are indicated by arrows.

【0110】情報の再生に当たって、光磁気ディスク6
0には、記録再生装置(図示省略)の半導体レーザから
一定パワーの再生ビーム81が照射される(図11)。
この場合、再生ビーム81のパワーは、上記した第1実
施形態の光磁気ディスク10における再生ビーム41の
パワー(3.5mW)よりも小さい値に設定されている
(例えば、2mW)。なお、この再生ビーム81も、直
線偏光の状態で光磁気ディスク60に照射される。
When reproducing information, the magneto-optical disk 6
0 is irradiated with a reproducing beam 81 of constant power from a semiconductor laser of a recording / reproducing apparatus (not shown) (FIG. 11).
In this case, the power of the reproducing beam 81 is set to a value (for example, 2 mW) smaller than the power (3.5 mW) of the reproducing beam 41 in the magneto-optical disk 10 of the first embodiment. The reproducing beam 81 is also applied to the magneto-optical disk 60 in a state of linearly polarized light.

【0111】また、情報の再生に当たって、再生ビーム
81のビームスポット81Aには、記録再生装置(図示
省略)の磁気コイルから発生される一定の大きさの再生
磁界Hr(例えば、100(Oe))が印加される(図1
1)。この再生磁界Hrの向きは、上記の記録磁界の向
き(記録方向)と逆である(消去方向)。さらに、情報
の再生に当たって、この光磁気ディスク60は、上記の
記録時と同一の線速度(例えば、9m/sec)で回転
され、ディスク移動方向60A(図11,図12に矢印
で示される左方)に、ビームスポット81Aを横切りな
がら移動することになる。
In reproducing information, the beam spot 81A of the reproduction beam 81 has a reproduction magnetic field Hr (for example, 100 (Oe)) of a constant magnitude generated from a magnetic coil of a recording / reproducing apparatus (not shown). Is applied (FIG. 1
1). The direction of the reproducing magnetic field Hr is opposite to the direction of the recording magnetic field (recording direction) (erasing direction). Further, in reproducing the information, the magneto-optical disk 60 is rotated at the same linear velocity (for example, 9 m / sec) as the above-described recording, and the disk moving direction 60A (the left direction indicated by an arrow in FIGS. 11 and 12). On the other hand, it moves while crossing the beam spot 81A.

【0112】実際に再生ビーム81が照射されると、光
磁気ディスク60のビームスポット81A内には、第1
実施形態の光磁気ディスク10の場合と同様、その移動
方向60Aの前方から後方(図11,図12の左方から
右方)に向かって、その温度が徐々に低くなる温度分布
が生じる。ここで、ビームスポット71A内を、温度の
異なる3つの領域(高温領域81F,中温領域81E,
低温領域81D)に分けて考えることにする。
When the reproduction beam 81 is actually irradiated, the first beam spot 81A on the magneto-optical disk 60
As in the case of the magneto-optical disk 10 of the embodiment, a temperature distribution is generated in which the temperature gradually decreases from the front to the rear in the moving direction 60A (from left to right in FIGS. 11 and 12). Here, the inside of the beam spot 71A is divided into three regions having different temperatures (a high temperature region 81F, a medium temperature region 81E,
The low-temperature region 81D) will be considered separately.

【0113】なお、この第2実施形態では、低パワー
(2mW)の再生ビーム81の照射によって、高温領域
81Fでは、メモリー膜64のキュリー温度Tc64(1
80℃)よりも低く、切断膜63のキュリー温度Tc63
(140℃)よりも高い温度となる。また、中温領域8
1Eでは、切断膜63のキュリー温度Tc63(140
℃)よりも低く、再生中間膜62の所定温度Tx(11
0℃)よりも高い温度となる。さらに、低温領域81D
では、再生中間膜62の所定温度Tx(110℃)より
も低く、室温Trよりも高い温度となる。
In the second embodiment, the Curie temperature Tc64 (1) of the memory film 64 in the high-temperature region 81F is irradiated by the irradiation of the reproduction beam 81 of low power (2 mW).
80 ° C.) and the Curie temperature Tc 63 of the cut film 63
(140 ° C.). In addition, medium temperature area 8
In 1E, the Curie temperature Tc63 of the cut film 63 (140
° C) and a predetermined temperature Tx (11
0 ° C.). Further, the low-temperature region 81D
In this case, the temperature is lower than the predetermined temperature Tx (110 ° C.) of the reproducing intermediate film 62 and higher than the room temperature Tr.

【0114】このように、温度が異なる3つの領域81
D,81E,81Fに分けられたビームスポット81A
内において、光磁気ディスク60を構成する各膜61〜
64の磁化は各々、以下に説明する状態となる。まず、
メモリー膜64の磁化について説明する。ビームスポッ
ト81A内の温度は、何れの領域81D〜81Fにおい
てもメモリー膜64のキュリー温度Tc64(180℃)
よりも低く、メモリー膜64の磁化が垂直磁化状態のま
ま保たれる温度となっている。
As described above, three regions 81 having different temperatures are used.
Beam spot 81A divided into D, 81E and 81F
Within each of the films 61 to 61 constituting the magneto-optical disk 60,
Each of the 64 magnetizations is in the state described below. First,
The magnetization of the memory film 64 will be described. The temperature in the beam spot 81A is the Curie temperature Tc64 (180 ° C.) of the memory film 64 in any of the regions 81D to 81F.
Lower than the temperature at which the magnetization of the memory film 64 is maintained in the perpendicular magnetization state.

【0115】さらに、第2実施形態のメモリー膜64
は、上述したように、1つの組成の合金膜ではなく、組
成の異なる2つの合金層を積層した層構造となっている
ため、第1実施形態のメモリー膜13と同様、広い温度
範囲(ビームスポット81A内の全温度範囲)にわたっ
て、その保磁力が情報を保持するに十分に高められたも
のとなっている。
Further, the memory film 64 of the second embodiment
Has a layered structure in which two alloy layers having different compositions are stacked instead of an alloy film having a single composition as described above, and thus has a wide temperature range (beam) as in the memory film 13 of the first embodiment. Over the entire temperature range within the spot 81A), the coercive force is sufficiently increased to hold information.

【0116】したがって、層構造のメモリー膜64に書
き込まれた記録マーク64A(磁化が記録方向の磁区)
は、その大きさ(0.3μm)が、ビームスポット81
A(1.1μm)よりも十分小さく、面積が非常に小さ
いものであっても、その小さな記録マーク64Aは、逆
の磁化方向(消去方向)である周囲の影響を受けること
なく、ビームスポット81A内の全ての領域81D〜8
1Fで記録された通りの状態のまま安定して保持され
る。
Therefore, the recording mark 64A (magnetic domain whose magnetization is in the recording direction) written in the memory film 64 having a layer structure.
Indicates that the size (0.3 μm) of the beam spot 81
A (1.1 μm), even if the area is very small, the small recording mark 64A is not affected by the surroundings in the opposite magnetization direction (erasing direction), and the beam spot 81A is not affected. All areas 81D to 8 in
The state as recorded in 1F is stably maintained.

【0117】一方、メモリー膜64に保持された情報の
再生動作に関わる再生膜61の磁化は、ビームスポット
81A内の何れの領域81D〜81Fにおいても、垂直
磁化状態のまま保持される。これは、ビームスポット8
1A内の最も高い温度(高温領域81Fの温度)が、再
生膜61のキュリー温度Tc61よりも低いからである。
On the other hand, the magnetization of the reproducing film 61 related to the operation of reproducing the information held in the memory film 64 is maintained in the perpendicular magnetization state in any of the regions 81D to 81F in the beam spot 81A. This is beam spot 8
This is because the highest temperature in 1A (the temperature of the high-temperature region 81F) is lower than the Curie temperature Tc61 of the reproduction film 61.

【0118】また、再生膜61と同様、メモリー膜64
の情報の再生動作に関わる再生中間膜62の磁化は、低
温領域81D(温度が再生中間膜62の所定温度Tx
(110℃)よりも低い)では、面内磁化状態(図11
中、横方向)のまま保持される(図11)。また、中温
領域81Eおよび高温領域81Fでは、その温度が再生
中間膜62のキュリー温度Tc62(220℃)よりも低
く、再生中間膜62の所定温度Tx(110℃)よりも
高いため、再生中間膜62の磁化は、面内磁化状態から
変化して垂直磁化状態(図11中、縦方向)となってい
る。
Further, like the reproduction film 61, the memory film 64
The magnetization of the reproduction intermediate film 62 involved in the operation of reproducing the information in the low temperature region 81D (when the temperature is the predetermined temperature Tx of the reproduction intermediate film 62)
(Lower than 110 ° C.), the in-plane magnetization state (FIG. 11)
(Medium, horizontal direction) (FIG. 11). Further, in the middle temperature region 81E and the high temperature region 81F, the temperatures are lower than the Curie temperature Tc62 (220 ° C.) of the reproduction intermediate film 62 and higher than the predetermined temperature Tx (110 ° C.) of the reproduction intermediate film 62. The magnetization of 62 changes from the in-plane magnetization state to a perpendicular magnetization state (vertical direction in FIG. 11).

【0119】また、再生膜61,再生中間膜62と同
様、メモリー膜64の情報の再生動作に関わる切断膜6
3の磁化は、低温領域81Dおよび中温領域81E(温
度が切断膜63のキュリー温度Tc63(140℃)より
も低い)では、消失することなく垂直磁化状態のまま保
持されている(図11)。また、高温領域81Fでは、
その温度が切断膜63のキュリー温度Tc63(140
℃)よりも高いため、切断膜63の磁化は消失している
(図11)。
Similarly to the reproducing film 61 and the reproducing intermediate film 62, the cutting film 6 relating to the information reproducing operation of the memory film 64 is used.
In the low temperature region 81D and the medium temperature region 81E (the temperature is lower than the Curie temperature Tc63 (140 ° C.) of the cut film 63), the magnetization of No. 3 is maintained in the perpendicular magnetization state without disappearing (FIG. 11). In the high temperature region 81F,
That temperature is the Curie temperature Tc63 (140
° C), the magnetization of the cut film 63 has disappeared (Fig. 11).

【0120】このように、光磁気ディスク60では、ビ
ームスポット81A内の3つの領域81D〜81Fのう
ち、中温領域81Eでのみ、再生膜61,再生中間膜6
2,切断膜63の磁化が全て垂直磁化状態となってい
る。したがって、層構造のメモリー膜64に安定して保
持されている磁化は、ビームスポット81A内の中温領
域81Eでのみ、切断膜63→再生中間膜62→再生膜
61と順に転写される。すなわち、中温領域81Eにお
ける切断膜63,再生中間膜62,再生膜61の磁化
は、メモリー膜64からの交換結合力によって、メモリ
ー膜64の磁化と同じ向きとなる。その結果、再生膜6
1の中温領域81Eに、メモリー膜64の磁化方向に応
じた垂直磁化領域が形成される。
As described above, in the magneto-optical disk 60, of the three regions 81D to 81F in the beam spot 81A, the reproducing film 61 and the reproducing intermediate film 6 are formed only in the medium temperature region 81E.
2. The magnetization of the cutting film 63 is all in a perpendicular magnetization state. Therefore, the magnetization stably held in the memory film 64 having a layer structure is transferred in the order of the cutting film 63 → the reproducing intermediate film 62 → the reproducing film 61 only in the middle temperature region 81E in the beam spot 81A. That is, the magnetizations of the cut film 63, the intermediate reproduction film 62, and the reproduction film 61 in the middle temperature region 81E have the same direction as the magnetization of the memory film 64 due to the exchange coupling force from the memory film 64. As a result, the reproduction film 6
A perpendicular magnetization region corresponding to the magnetization direction of the memory film 64 is formed in one medium temperature region 81E.

【0121】ここで、このような中温領域81Eの大き
さは、再生中間膜62の組成(Gd30Fe70),切断膜
63の組成(Tb20Fe80),再生パワー(2mW),
ディスクの回転速度(9m/sec)の関係によって定
められ、メモリー膜64に0.3μm間隔で形成された
複数の小さい記録マーク64A,64A,…のうち、1
つだけが入る程度とされている。
Here, the size of the intermediate temperature region 81E depends on the composition of the reproducing intermediate film 62 (Gd30Fe70), the composition of the cut film 63 (Tb20Fe80), the reproducing power (2 mW),
One of a plurality of small recording marks 64A, 64A,... Formed on the memory film 64 at intervals of 0.3 μm is determined by the relationship of the rotation speed of the disk (9 m / sec).
It is said that only one can enter.

【0122】このため、メモリー膜64に形成された1
つの記録マーク64Aのみが、中温領域81Eにおい
て、切断膜63(転写マーク63A)→再生中間膜62
(転写マーク62A)→再生膜61(転写マーク61
A)と順に転写されることになる。なお、低温領域81
Dでは、上記した再生中間膜62の面内磁化状態によっ
て、メモリー膜64,切断膜63からの交換結合力が再
生膜61に直接作用しないため、メモリー膜64の磁化
は再生膜61には転写されない(低温マスク)。このと
き、低温領域81Dの再生膜61は、印加されている再
生磁界Hrの影響を受けて、その磁化が一様に消去方向
(図11中、下向き)に揃えられた状態となる。
For this reason, the 1
Only one recording mark 64A is in the middle temperature region 81E, and the cutting film 63 (transfer mark 63A) → the reproducing intermediate film 62.
(Transfer mark 62A) → reproduction film 61 (transfer mark 61)
A) is sequentially transferred. Note that the low temperature region 81
In D, the exchange coupling force from the memory film 64 and the cut film 63 does not directly act on the reproducing film 61 due to the above-mentioned in-plane magnetization state of the reproducing intermediate film 62, so that the magnetization of the memory film 64 is transferred to the reproducing film 61. Not performed (low temperature mask). At this time, the reproduction film 61 in the low temperature region 81D is in a state where its magnetization is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 11) under the influence of the applied reproduction magnetic field Hr.

【0123】また、高温領域81Fでは、上記した切断
膜63の磁化消失状態によって、メモリー膜64と再生
中間膜62との間の磁気的結合が遮断されているため、
メモリー膜64の磁化は再生膜61に転写されない(高
温マスク)。このとき、高温領域81Fの再生膜61
は、上記の低温領域81Dと同様、印加されている再生
磁界Hrの影響を受けて、その磁化が一様に消去方向
(図11中、下向き)に揃えられた状態となる。
In the high-temperature region 81F, the magnetic coupling between the memory film 64 and the reproducing intermediate film 62 is interrupted by the magnetization disappearing state of the cutting film 63.
The magnetization of the memory film 64 is not transferred to the reproduction film 61 (high-temperature mask). At this time, the reproduction film 61 in the high temperature region 81F
As in the case of the low-temperature region 81D described above, the magnetization is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 11) under the influence of the applied reproducing magnetic field Hr.

【0124】なお、このとき印加されている再生磁界H
rは、上記した中温領域81Eにおけるマークの転写に
影響を与えないような比較的弱い磁界である(100
(Oe))。上記のように、光磁気ディスク60では、ビ
ームスポット81A内の中温領域81Eにのみ1つの転
写マーク61A(磁化が記録方向)が形成され、低温領
域81Dおよび高温領域81Fにダブルマスク(磁化が
一様に消去方向)が形成される。したがって、ビームス
ポット81Aで反射した再生ビーム81成分(反射ビー
ム)を検出することによって、層構造のメモリー膜64
に保持された複数の小さい記録マーク64A,64A,
…のうちの1つのみを、符号間干渉が生じないようにD
−RAD方式によって再生することができる。
The reproducing magnetic field H applied at this time is
r is a relatively weak magnetic field that does not affect the transfer of the mark in the medium temperature region 81E (100
(Oe)). As described above, in the magneto-optical disk 60, one transfer mark 61A (the magnetization direction is the recording direction) is formed only in the middle temperature region 81E in the beam spot 81A, and the double mask (the magnetization is one) in the low temperature region 81D and the high temperature region 81F. The erase direction is formed in the same manner. Therefore, by detecting the reproduction beam 81 component (reflected beam) reflected by the beam spot 81A, the memory film 64 having a layered structure is detected.
, A plurality of small recording marks 64A, 64A,
, And only one of them is D
-Can be reproduced by the RAD method.

【0125】そして、上記した再生動作を、光磁気ディ
スク60の回転に伴いディスク移動方向60Aに順に行
うことによって、光磁気ディスク60の層構造のメモリ
ー膜64に保持された複数の小さい記録マーク64A,
64A,…を1つずつ順に再生することができる。この
LIMDOW記録方式の光磁気ディスク60において実
際に、マーク長さ0.3μmの記録マークをマーク間距
離0.3μmで記録し、搬送波対雑音強度比(CN比)
を測定したところ、47.5dB以上という実用レベル
(45dB)以上の良好なCN比が得られることがわか
った。
The above-described reproducing operation is sequentially performed in the disk moving direction 60A with the rotation of the magneto-optical disk 60, whereby a plurality of small recording marks 64A held in the memory film 64 having a layer structure of the magneto-optical disk 60 are obtained. ,
64A,... Can be sequentially reproduced one by one. Actually, a recording mark having a mark length of 0.3 μm is recorded at a distance between marks of 0.3 μm on the magneto-optical disk 60 of the LIMDOW recording method, and a carrier to noise intensity ratio (CN ratio) is recorded.
It was found that a good CN ratio of 47.5 dB or more, which is a practical level (45 dB) or more, was obtained.

【0126】以上説明したように、第2実施形態のLI
MDOW記録方式の光磁気ディスク60では、メモリー
膜64の構造を、組成の異なる2つの合金層を積層した
層構造としたので、記録ビームのパワーを極めて厳密に
制御することなく、ビームスポットよりも十分小さい記
録マーク64Aを安定して確実に書き込むことができる
と共に、このように小さい記録マーク64Aを安定して
保持しつつD−RAD方式により正確に再生することが
できる。
As described above, the LI of the second embodiment
In the magneto-optical disk 60 of the MDOW recording method, the structure of the memory film 64 is a layered structure in which two alloy layers having different compositions are stacked. A sufficiently small recording mark 64A can be stably and reliably written, and accurate reproduction can be performed by the D-RAD method while maintaining such a small recording mark 64A stably.

【0127】したがって、第2実施形態のLIMDOW
記録方式の光磁気ディスク60によれば、複数の小さい
記録マーク64A,64A…からなる情報の記録再生に
好適な高密度化が図られた光磁気ディスクを得ることが
できる。さらに、第2実施形態のLIMDOW記録方式
の光磁気ディスク60によれば、メモリー膜64と再生
中間膜62との間に切断膜63(垂直磁化膜。但し、T
c62,Tc64>Tc63>Tx)を形成したので、再生ビ
ーム81のパワーが小さくても、メモリー膜64の高密
度な情報をマスクする高温領域81Fを広く確保するこ
とができ、D−RAD方式による正確な再生を確実に行
うことができる。
Therefore, the LIMDOW of the second embodiment
According to the magneto-optical disk 60 of the recording system, it is possible to obtain a high-density magneto-optical disk suitable for recording and reproducing information including a plurality of small recording marks 64A. Furthermore, according to the magneto-optical disk 60 of the LIMDOW recording system of the second embodiment, the cutting film 63 (perpendicular magnetization film; T) between the memory film 64 and the reproducing intermediate film 62.
c62, Tc64>Tc63> Tx), it is possible to secure a wide high-temperature region 81F for masking high-density information of the memory film 64 even if the power of the reproduction beam 81 is small, and the D-RAD method Accurate reproduction can be reliably performed.

【0128】また、第2実施形態のLIMDOW記録方
式の光磁気ディスク60によれば、記録ビームのパワー
を記録される情報に応じて変調(高レベル/低レベル)
させるだけで、既に記録されていた記録マークの消去ま
たは新たな記録マークの書き込みを行うことができるの
で、情報の記録動作における高速化を図ることができ
る。
According to the magneto-optical disk 60 of the LIMDOW recording system of the second embodiment, the power of the recording beam is modulated (high level / low level) according to the information to be recorded.
By simply doing so, it is possible to erase the already recorded recording mark or write a new recording mark, so that the speed of the information recording operation can be increased.

【0129】なお、第2実施形態では、光磁気ディスク
60のメモリー膜64を、REリッチ合金層とTMリッ
チ合金層とが繰り返して積層された層構造(マルチレイ
ヤー)にする例を説明したが、このメモリー膜64も、
第1実施形態のメモリー膜13と同様、REリッチ合金
層とTMリッチ合金層とによる2層化の層構造にするこ
ともできる。
In the second embodiment, an example has been described in which the memory film 64 of the magneto-optical disk 60 has a layer structure (multilayer) in which an RE-rich alloy layer and a TM-rich alloy layer are repeatedly laminated. , This memory film 64 also
Similarly to the memory film 13 of the first embodiment, a two-layer structure including an RE-rich alloy layer and a TM-rich alloy layer may be employed.

【0130】また、第2実施形態では、光磁気ディスク
60のメモリー膜64において、REリッチ合金層,T
Mリッチ合金層の厚さが共に2nmである例を説明した
が、これらの厚さは、第1実施形態のメモリー膜13と
同様、0.5nmよりも厚く50nmよりも薄い範囲内
の任意の値に設定することができる。さらに、第2実施
形態では、光磁気ディスク60のメモリー膜64におい
て、REリッチ合金層を構成するTbの比率が21原子
%である例を説明したが、REリッチ合金層のTbの比
率は、20原子%よりも大きく25原子%よりも小さい
範囲内の任意の値に設定することができる。
In the second embodiment, in the memory film 64 of the magneto-optical disk 60, the RE-rich alloy layer, T
Although the example in which the thicknesses of the M-rich alloy layers are both 2 nm has been described, these thicknesses may be arbitrary within a range larger than 0.5 nm and smaller than 50 nm, as in the memory film 13 of the first embodiment. Can be set to a value. Further, in the second embodiment, the example in which the ratio of Tb constituting the RE-rich alloy layer is 21 atomic% in the memory film 64 of the magneto-optical disk 60, but the ratio of Tb in the RE-rich alloy layer is: It can be set to any value within the range of more than 20 at% and less than 25 at%.

【0131】また、第2実施形態では、光磁気ディスク
60のメモリー膜64において、TMリッチ合金層を構
成するTbの比率が19原子%である例を説明したが、
TMリッチ合金層のTbの比率は、15原子%よりも大
きく20原子%よりも小さい範囲内の任意の値に設定す
ることができる。さらに、第2実施形態では、層構造の
メモリー膜64をREリッチ合金層とTMリッチ合金層
とで構成した例を説明したが、この層構造のメモリー膜
は、構成元素の比率は異なるが共に希土類金属の副格子
磁化が優勢である2つの合金層、または構成元素の比率
は異なるが共に遷移金属の副格子磁化が優勢である2つ
の合金層で構成することもできる。
In the second embodiment, the example in which the ratio of Tb constituting the TM rich alloy layer is 19 atomic% in the memory film 64 of the magneto-optical disk 60 has been described.
The ratio of Tb in the TM-rich alloy layer can be set to any value within a range of more than 15 atomic% and less than 20 atomic%. Further, in the second embodiment, the example in which the memory film 64 having the layer structure is configured by the RE-rich alloy layer and the TM-rich alloy layer has been described. Two alloy layers in which the sub-lattice magnetization of the rare earth metal is dominant, or two alloy layers in which the sub-lattice magnetization of the transition metal is dominant but the ratios of the constituent elements are different from each other can be used.

【0132】また、第2実施形態では、再生膜61とメ
モリー膜64との間に面内磁化膜(再生中間膜62)を
形成したD−RAD方式の光磁気ディスク60を例に説
明したが、再生膜61とメモリー膜64との間に垂直磁
化膜を形成したFAD方式の光磁気ディスク(請求項
9)や、再生膜61とメモリー膜64との間に非磁性膜
または常磁性膜を形成した静磁結合型の光磁気ディスク
(請求項10)において、メモリー膜を層構造にするこ
ともできる。
In the second embodiment, the D-RAD type magneto-optical disk 60 in which an in-plane magnetization film (reproduction intermediate film 62) is formed between the reproduction film 61 and the memory film 64 has been described as an example. A magneto-optical disk of the FAD type in which a perpendicular magnetization film is formed between the reproducing film 61 and the memory film 64, or a non-magnetic film or a paramagnetic film between the reproducing film 61 and the memory film 64. In the formed magnetostatic coupling type magneto-optical disk (Claim 10), the memory film may have a layered structure.

【0133】さらに、第2実施形態では、LIMDOW
記録方式の光磁気ディスク60のメモリー膜64のみを
層構造にする例を説明したが、メモリー膜64に記録さ
れた情報の再生動作に関わる切断膜63,再生中間膜6
2,再生膜61や、メモリー膜64への情報のオーバー
ライト記録動作に関わる中間膜65,記録膜66,スイ
ッチング膜67,初期化膜68を層構造にすることもで
きる。
Further, in the second embodiment, LIMDOW
Although the example in which only the memory film 64 of the recording type magneto-optical disk 60 has a layer structure has been described, the cutting film 63 and the reproducing intermediate film 6 related to the operation of reproducing the information recorded in the memory film 64 are described.
2. The intermediate film 65, the recording film 66, the switching film 67, and the initialization film 68 related to the overwrite recording operation of information on the reproduction film 61 and the memory film 64 may have a layered structure.

【0134】また、第2実施形態では、光磁気ディスク
60の記録膜66をDyFeCoで構成した例を説明し
たが、この記録膜66はGdTbFeCoで構成するこ
ともできる。このように記録膜66をGdTbFeCo
で構成する場合には、記録膜66を層構造にするに当た
って、互いに構成元素が異なる2つの合金層(GdFe
Co合金層,TbFeCo合金層)を積層した層構造と
することができる。
In the second embodiment, the example in which the recording film 66 of the magneto-optical disk 60 is made of DyFeCo has been described. However, this recording film 66 can be made of GdTbFeCo. Thus, the recording film 66 is formed of GdTbFeCo.
When forming the recording film 66 into a layered structure, two alloy layers (GdFe
(Co alloy layer, TbFeCo alloy layer).

【0135】また、第2実施形態では、記録膜66とメ
モリー膜64との間に中間膜65を形成した例を説明し
たが、記録膜66やメモリー膜64自体の組成を調整す
ることによって、記録膜66の初期化時、メモリー膜6
4の磁化が記録膜66と一体となって初期化されてしま
うことがないようにできるのであれば、中間膜65は設
けられなくても良い。
In the second embodiment, the example in which the intermediate film 65 is formed between the recording film 66 and the memory film 64 has been described. However, by adjusting the compositions of the recording film 66 and the memory film 64 themselves, When the recording film 66 is initialized, the memory film 6
The intermediate film 65 may not be provided as long as the magnetization of No. 4 can be prevented from being initialized integrally with the recording film 66.

【0136】さらに、第2実施形態では、初期化膜68
と記録膜66との間にスイッチング膜67を形成した例
を説明したが、初期化膜68や記録膜66自体の組成を
調整することによって、記録膜66への情報の一時的な
記録が行われるときには、メ初期化膜68から記録膜6
6への磁気的結合力が弱められるようにできるのであれ
ば、スイッチング膜67は設けられなくても良い。
Further, in the second embodiment, the initialization film 68
Although the example in which the switching film 67 is formed between the recording film 66 and the recording film 66 has been described, information on the recording film 66 is temporarily recorded by adjusting the composition of the initialization film 68 and the recording film 66 itself. When the recording film 6
The switching film 67 may not be provided as long as the magnetic coupling force to the switching film 6 can be weakened.

【0137】また、第2実施形態では、光磁気ディスク
60のメモリー膜64に情報を高密度に記録するに当た
って、筆先記録法を用いる例をあげて説明したが、第1
実施形態と同様、磁界変調記録方式を用いることもでき
る。さらに、上述した実施形態では、光磁気ディスクを
例に説明したが、相変化ディスクを構成する各機能膜を
層構造にすることもできる。
In the second embodiment, an example in which the pen tip recording method is used to record information at a high density on the memory film 64 of the magneto-optical disk 60 has been described.
As in the embodiment, a magnetic field modulation recording method can be used. Furthermore, in the above-described embodiment, a magneto-optical disk has been described as an example, but each functional film constituting the phase change disk may have a layered structure.

【0138】[0138]

【発明の効果】上記したように、請求項1から請求項1
4に記載した光記録媒体によれば、情報の記録再生に寄
与する1つ以上の機能膜の少なくとも1つの構造を、組
成の異なる2つの合金層を積層した層構造としたので、
記録ビームのパワーを極めて厳密に制御することなく、
ビームスポットよりも十分小さい記録マークを安定して
確実に書き込むことができると共に、このように小さい
記録マークを安定して保持しつつ再生することができ
る。
As described above, claims 1 to 1 are provided.
According to the optical recording medium described in No. 4, at least one structure of one or more functional films that contribute to recording and reproduction of information has a layer structure in which two alloy layers having different compositions are stacked.
Without very tightly controlling the power of the recording beam,
A recording mark sufficiently smaller than the beam spot can be stably and reliably written, and reproduction can be performed while such a small recording mark is stably held.

【0139】したがって、ビームスポットよりも小さい
複数の記録マークからなる情報の高密度化が図られ、か
つ高密度な情報の記録再生における信頼性が高められた
光記録媒体を得ることができる。
Therefore, it is possible to obtain an optical recording medium in which information composed of a plurality of recording marks smaller than the beam spot has been increased in density and the reliability in recording and reproducing high-density information has been enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態の書き換え型光磁気ディスク10
の構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a rewritable magneto-optical disk 10 according to a first embodiment.
It is sectional drawing which shows a structure of.

【図2】層構造のメモリー膜13を説明する断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a memory film 13 having a layer structure.

【図3】層構造のメモリー膜13を成膜するための同時
スパッタリング装置50の構成を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a configuration of a simultaneous sputtering apparatus 50 for forming a memory film 13 having a layer structure.

【図4】メモリー膜13に情報を記録する動作を説明す
る断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an operation of recording information on a memory film 13.

【図5】メモリー膜13に情報を記録する動作を説明す
る上面図である。
FIG. 5 is a top view for explaining an operation of recording information on a memory film 13;

【図6】層構造のメモリー膜13における記録パワーマ
ージンの拡大を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining an enlargement of a recording power margin in the memory film 13 having a layer structure.

【図7】メモリー膜13に記録された情報の再生動作を
説明する断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating an operation of reproducing information recorded on a memory film 13;

【図8】メモリー膜13に記録された情報の再生動作を
説明する上面図である。
FIG. 8 is a top view for explaining an operation of reproducing information recorded on the memory film 13;

【図9】層構造のメモリー膜13の別の構成を説明する
断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating another configuration of the memory film 13 having a layer structure.

【図10】第2実施形態のLIMDOW記録方式の光磁
気ディスク60の構成を示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a configuration of a magneto-optical disk 60 of the second embodiment using the LIMDOW recording method.

【図11】メモリー膜64に記録された情報の再生動作
を説明する断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a reproducing operation of information recorded on a memory film 64.

【図12】メモリー膜64に記録された情報の再生動作
を説明する上面図である。
FIG. 12 is a top view for explaining an operation of reproducing information recorded in a memory film 64;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,60 光磁気ディスク 11,61 再生膜 11A,12A,61A,62A,63A 転写マーク 12,62 再生中間膜 13,64 メモリー膜 13A,64A 記録マーク 13B 加熱領域 21,71 基板 22,23,72,73 保護膜 31A,41A,81A ビームスポット 41F,81F 高温領域 41E,81E 中温領域 41D,81D 低温領域 63 切断膜 65 中間膜 66 記録膜 67 スイッチング膜 68 初期化膜 74 金属層 75 樹脂保護層 10, 60 Magneto-optical disk 11, 61 Reproduced film 11A, 12A, 61A, 62A, 63A Transfer mark 12, 62 Reproduced intermediate film 13, 64 Memory film 13A, 64A Record mark 13B Heated area 21, 71 Substrate 22, 23, 72 , 73 Protective film 31A, 41A, 81A Beam spot 41F, 81F High temperature region 41E, 81E Medium temperature region 41D, 81D Low temperature region 63 Cutting film 65 Intermediate film 66 Recording film 67 Switching film 68 Initialization film 74 Metal layer 75 Resin protection layer

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 情報の記録再生に寄与する1つ以上の機
能膜が基板上に形成された光記録媒体において、 前記1つ以上の機能膜の少なくとも1つは、 所定の組成の合金からなる第1層と、該第1層とは異な
る組成の合金からなる第2層とが隣接して積層された層
構造の機能膜であることを特徴とする光記録媒体。
1. An optical recording medium having at least one functional film contributing to recording and reproduction of information formed on a substrate, wherein at least one of the one or more functional films is made of an alloy having a predetermined composition. An optical recording medium comprising a functional film having a layered structure in which a first layer and a second layer made of an alloy having a composition different from that of the first layer are stacked adjacent to each other.
【請求項2】 請求項1に記載の光記録媒体において、 前記層構造の機能膜は、前記第1層と前記第2層とから
なる基本層が、繰り返し積層されたものであることを特
徴とする光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the functional film having the layer structure is formed by repeatedly laminating a basic layer including the first layer and the second layer. Optical recording medium.
【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の光記録
媒体において、 前記第1層および前記第2層は共に、希土類金属と遷移
金属とで構成された合金を含む磁性層であることを特徴
とする光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein each of the first layer and the second layer is a magnetic layer containing an alloy composed of a rare earth metal and a transition metal. An optical recording medium characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 請求項3に記載の光記録媒体において、 前記第1層を構成する希土類金属と前記第2層を構成す
る希土類金属とは、構成元素が同一であり、 前記第1層を構成する遷移金属と前記第2層を構成する
遷移金属とは、構成元素が同一であることを特徴とする
光記録媒体。
4. The optical recording medium according to claim 3, wherein the rare earth metal forming the first layer and the rare earth metal forming the second layer have the same constituent element. An optical recording medium, wherein the transition metal constituting the second layer and the transition metal constituting the second layer have the same constituent element.
【請求項5】 請求項4に記載の光記録媒体において、 前記第1層は、希土類金属の副格子磁化が優勢であり、 前記第2層は、遷移金属の副格子磁化が優勢であること
を特徴とする光記録媒体。
5. The optical recording medium according to claim 4, wherein the first layer has a predominant sub-lattice magnetization of a rare earth metal, and the second layer has a predominant sub-lattice magnetization of a transition metal. An optical recording medium characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 請求項1から請求項5の何れか1項に記
載の光記録媒体において、 前記基板上には少なくとも、 記録された情報を保持する第1の機能膜が形成され、 前記第1の機能膜は、前記第1層と前記第2層とが隣接
して積層された層構造の機能膜であることを特徴とする
光記録媒体。
6. The optical recording medium according to claim 1, wherein at least a first functional film for retaining recorded information is formed on the substrate, and The optical recording medium according to claim 1, wherein the first functional film is a functional film having a layer structure in which the first layer and the second layer are stacked adjacent to each other.
【請求項7】 請求項1から請求項5の何れか1項に記
載の光記録媒体において、 前記基板上には少なくとも、 記録された情報を保持する第1の機能膜と、 再生ビーム照射領域内の温度分布に応じた一部の領域
に、前記第1の機能膜の磁化方向に応じた垂直磁化領域
が形成される第2の機能膜とが形成され、 少なくとも前記第1の機能膜は、前記第1層と前記第2
層とが隣接して積層された層構造の機能膜であることを
特徴とする光記録媒体。
7. The optical recording medium according to claim 1, wherein at least a first functional film for holding recorded information and a reproduction beam irradiation area are provided on the substrate. A second functional film in which a perpendicular magnetization region corresponding to the magnetization direction of the first functional film is formed in a partial region corresponding to a temperature distribution in the first functional film; , The first layer and the second layer
An optical recording medium, characterized in that the layer is a functional film having a layer structure laminated adjacently.
【請求項8】 請求項7に記載の光記録媒体において、 前記第1の機能膜と前記第2の機能膜との間には、 前記第1の機能膜の磁化方向を、前記一部の領域におい
て前記第2の機能膜に転写させる第3の機能膜が形成さ
れ、 前記第3の機能膜は、面内磁化膜であって、その面内磁
化状態が垂直磁化状態に変化する温度よりもキュリー温
度の方が高く、 前記再生ビーム照射領域のうち、前記第3の機能膜の面
内磁化状態が垂直磁化状態に変化する温度よりも高温で
かつ、前記第3の機能膜のキュリー温度よりも低温の領
域が、前記一部の領域となることを特徴とする光記録媒
体。
8. The optical recording medium according to claim 7, wherein a magnetization direction of the first functional film is set between the first functional film and the second functional film. Forming a third functional film to be transferred to the second functional film in the region, wherein the third functional film is an in-plane magnetized film, and has a temperature higher than a temperature at which the in-plane magnetized state changes to a perpendicular magnetized state. Is higher than the temperature at which the in-plane magnetization state of the third functional film changes to the perpendicular magnetization state in the reproduction beam irradiation area, and the Curie temperature of the third functional film. An optical recording medium, wherein an area at a lower temperature is the partial area.
【請求項9】 請求項7に記載の光記録媒体において、 前記第1の機能膜と前記第2の機能膜との間には、 前記第1の機能膜の磁化方向を、前記一部の領域におい
て前記第2の機能膜に転写させる第3の機能膜が形成さ
れ、 前記第3の機能膜は、垂直磁化膜であり、 前記再生ビーム照射領域のうち、前記第3の機能膜のキ
ュリー温度よりも低温の領域が、前記一部の領域となる
ことを特徴とする光記録媒体。
9. The optical recording medium according to claim 7, wherein a magnetization direction of the first functional film is set between the first functional film and the second functional film. A third functional film to be transferred to the second functional film is formed in the region, the third functional film is a perpendicular magnetization film, and a Curie of the third functional film in the reproduction beam irradiation region. An optical recording medium, wherein an area lower than the temperature is the partial area.
【請求項10】 請求項7に記載の光記録媒体におい
て、 前記第1の機能膜と前記第2の機能膜との間には、 非磁性膜または常磁性膜が形成されていることを特徴と
する光記録媒体。
10. The optical recording medium according to claim 7, wherein a nonmagnetic film or a paramagnetic film is formed between the first functional film and the second functional film. Optical recording medium.
【請求項11】 請求項6から請求項10の何れか1項
に記載の光記録媒体において、 前記第1の機能膜の反基板側には、 垂直磁化膜であって、情報が一時的に記録され、該情報
を表す磁化方向を前記第1の機能膜に転写する第4の機
能膜と、 垂直磁化膜であって、前記第4の機能膜の磁化方向が前
記第1の機能膜に転写されたのちに、前記第4の機能膜
の磁化方向を強制的に一方向に揃える第5の機能膜とが
順次形成されていることを特徴とする光記録媒体。
11. The optical recording medium according to claim 6, wherein a perpendicular magnetization film is provided on a side of the first functional film opposite to the substrate, and the information is temporarily stored on the first functional film. A fourth functional film for recording and transferring the magnetization direction representing the information to the first functional film; and a perpendicular magnetic film, wherein the magnetization direction of the fourth functional film is applied to the first functional film. An optical recording medium, characterized in that, after the transfer, a fifth functional film for forcibly aligning the magnetization direction of the fourth functional film in one direction is sequentially formed.
【請求項12】 請求項11に記載の光記録媒体におい
て、 前記第1の機能膜と前記第4の機能膜との間には、 面内磁化膜であって、前記第4の機能膜の磁化方向が強
制的に一方向に揃えられるときに、前記第4磁性膜から
前記第1磁性膜への磁気的結合力を弱める第6の機能膜
が形成されていることを特徴とする光記録媒体。
12. The optical recording medium according to claim 11, wherein an in-plane magnetization film is provided between the first functional film and the fourth functional film, Optical recording, characterized in that a sixth functional film is formed, which weakens the magnetic coupling force from the fourth magnetic film to the first magnetic film when the magnetization direction is forcibly aligned in one direction. Medium.
【請求項13】 請求項11または請求項12に記載の
光記録媒体において、 前記第4の機能膜と前記第5の機能膜との間には、 垂直磁化膜であって、前記第4の機能膜に情報が一時的
に記録されるときに、前記第5の機能膜から前記第4の
機能膜への磁気的結合力を弱める第7の機能膜が形成さ
れていることを特徴とする光記録媒体。
13. The optical recording medium according to claim 11, wherein a perpendicular magnetization film is provided between the fourth functional film and the fifth functional film, and When information is temporarily recorded on the functional film, a seventh functional film for weakening a magnetic coupling force from the fifth functional film to the fourth functional film is formed. Optical recording medium.
【請求項14】 請求項11から請求項13の何れか1
項に記載の光記録媒体において、 前記第1の機能膜と前記第3の機能膜との間には、 垂直磁化膜であって、そのキュリー温度が前記第1の機
能膜のキュリー温度よりも低い第8の機能膜が形成され
ていることを特徴とする光記録媒体。
14. The method according to claim 11, wherein
The optical recording medium according to claim 1, wherein a perpendicular magnetization film is provided between the first functional film and the third functional film, the Curie temperature of which is higher than the Curie temperature of the first functional film. An optical recording medium, wherein a low eighth functional film is formed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6808823B2 (en) 2001-02-15 2004-10-26 Fujitsu Limited Magneto-optical recording medium and manufacturing method therefor

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