JPH10134428A - Magneto-optical recording medium, its reproducing method and its production - Google Patents

Magneto-optical recording medium, its reproducing method and its production

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Publication number
JPH10134428A
JPH10134428A JP8240719A JP24071996A JPH10134428A JP H10134428 A JPH10134428 A JP H10134428A JP 8240719 A JP8240719 A JP 8240719A JP 24071996 A JP24071996 A JP 24071996A JP H10134428 A JPH10134428 A JP H10134428A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magneto
reproducing
recording medium
optical recording
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8240719A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masatoshi Hashimoto
昌俊 橋本
Tetsuo Hosokawa
哲夫 細川
Akio Okamuro
昭男 岡室
Masahiro Furuta
正寛 古田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Holdings Ltd
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
Application filed by Nikon Corp, Hitachi Maxell Ltd filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPH10134428A publication Critical patent/JPH10134428A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magneto-optical recording medium with which reproducing beam intensity may be suppressed to a lower level, a C/N value is high, a recording speed is high and the sure reproduction of high-density recorded information is possible at the time of magnetic ultra-high resolution reproducing, its reproduction method as well as a process for producing the magnetooptical recording medium having sufficient recording durability. SOLUTION: This magneto-optical recording medium has the constitution that the recording medium has four layers of magnetic layers in order of at least a reproducing layer, reproducing intermediate layer, reproduction switching layer and memory layer and that the respective layers consist of magnetic materials mainly composed of rare earth metals and transition metals. The magneto-optical recording medium otherwise has the constitution that the recording medium has eight layers of the magnetic layers: a reproducing layer, reproducing intermediate layer, reproduction switching layer, memory layer, intermediate layer, recording layer, switching layer and initialization layer and that the respective layers consist of the magnetic materials mainly composed of the rare earth metals and transition metals.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録媒体、
その再生方法、及びその製造方法に関する。
The present invention relates to a magneto-optical recording medium,
The present invention relates to a recycling method and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】高密度に情報を記録することが可能で、
かつ、高速に再生することが可能な光記録媒体は、オー
ディオや画像の用途、更にコンピュータ用の記録媒体と
して注目されている。再生専用のCDはオーディオ用と
して広く普及し、また、近年になってコンピュータ用と
しても急速に普及が広がっている。また、1回のみ情報
の記録が可能なライトワンスタイプや、一旦記録した情
報を何度も書換えることが可能な書き換え可能タイプ
(re-writableタイプ)も普及してきている。特に、書
き換え可能タイプの1種である光磁気記録媒体は、100
万回以上の情報の書き換えが可能であり、主としてコン
ピュータ用の記録媒体として普及が進んでいる。そし
て、最近では、画像情報のような多くの情報量を記録あ
るいは再生する機会が増加している。このような状況に
おいて、光記録媒体に、より多くの情報を記録し、ある
いは、その情報を正確に再生したいという要求が高まっ
ている。そして、その要求を満たすための様々なアプロ
ーチがなされている。
2. Description of the Related Art Information can be recorded at high density.
An optical recording medium capable of high-speed reproduction has attracted attention as a recording medium for audio and images, and further for a computer. Read-only CDs have become widespread for audio use, and in recent years have also rapidly spread for computer use. Also, a write-once type in which information can be recorded only once and a rewritable type (re-writable type) in which information once recorded can be rewritten many times have become widespread. In particular, one type of rewritable type magneto-optical recording medium is 100
It is possible to rewrite information more than ten thousand times, and it is widely used mainly as a computer recording medium. Recently, opportunities for recording or reproducing a large amount of information such as image information have been increasing. Under such circumstances, there is an increasing demand for recording more information on an optical recording medium or reproducing the information accurately. Various approaches have been taken to meet that demand.

【0003】まず、ディスクにおいては径方向の記録密
度を上げるにはトラックピッチを詰めるという方法があ
る。このためには、記録マーク幅を小さくする必要があ
る。これまでトラックピッチは1.6μmが標準であった
が、最近ではトラックピッチを狭くする試みがなされて
おり、1.4μmや1.2μm、更に1.0μmが報告されてい
る。次に、周方向の記録密度を上げるには、記録マーク
長さを小さくする必要がある。記録マークの幅や長さを
小さくするには、記録ビームの中心付近のエネルギーの
高い領域でのみ記録マークが形成されるように記録媒体
の感度設定を行うことで、原理的には相当小さなマーク
が形成できる。即ち、記録する際、記録ビーム中心付近
の高温部分でのみ記録マークが形成されるように磁性層
の組成設計を行えば、高密度記録はできるのである。
First, in a disk, there is a method of reducing the track pitch in order to increase the recording density in the radial direction. For this purpose, it is necessary to reduce the recording mark width. Until now, the standard track pitch was 1.6 μm, but recently attempts have been made to reduce the track pitch, and 1.4 μm, 1.2 μm, and even 1.0 μm have been reported. Next, in order to increase the recording density in the circumferential direction, it is necessary to reduce the recording mark length. In order to reduce the width and length of the recording mark, the sensitivity of the recording medium is set so that the recording mark is formed only in the high energy area near the center of the recording beam. Can be formed. That is, when recording, if the composition of the magnetic layer is designed so that a recording mark is formed only in a high-temperature portion near the center of the recording beam, high-density recording can be performed.

【0004】しかし、問題は再生にある。再生は、ビー
ムスポット内のマークを光学的に検出することにより行
われる。従って、常にビーム内には基本的に一個のマー
クしかないようにする必要がある。もし、ビーム内に複
数個のマークが存在すると、情報が混ざり合ってしまっ
て、必要な情報を正しく再生することができないからで
ある。このようにビームスポット内の情報が混ざり合う
ことを光クロストークという。即ち、光クロストークの
ために、ビームスポットの一部分にあるマークが表わす
情報のみを取り出して再生することはできないのであ
る。
However, the problem lies in reproduction. Reproduction is performed by optically detecting a mark in the beam spot. It is therefore necessary to always have basically only one mark in the beam. If a plurality of marks exist in the beam, the information will be mixed and the necessary information cannot be reproduced correctly. Such mixing of information in the beam spot is called optical crosstalk. That is, due to optical crosstalk, it is not possible to retrieve and reproduce only the information represented by the mark in a part of the beam spot.

【0005】ビームスポット径は、例えば赤外レーザの
場合、理想的な光学系によっても1.0μm程度にしか絞
れない。このため、径方向では、トラックピッチを1.4
μm程度より狭くすると、隣接するトラックに記録され
ているマークを同時に再生してしまうし、また、マーク
長さやマーク間隔が1.0μm を相当下回るようにする
と、前後のマークを同時に再生してしまう。
[0005] For example, in the case of an infrared laser, the beam spot diameter can be narrowed to only about 1.0 µm by an ideal optical system. Therefore, in the radial direction, the track pitch is 1.4
If it is smaller than about μm, marks recorded on adjacent tracks will be reproduced simultaneously, and if the mark length or mark interval is considerably less than 1.0 μm, the preceding and succeeding marks will be reproduced simultaneously.

【0006】そこで、再生ビームの波長を短くすること
が考えられる。ビームをどこまで小さく絞れるかは、ビ
ームの波長に比例することが知られている。この手段に
より再生ビームスポットサイズをより小さくし、それに
よって、高密度に記録した情報の再生を可能にするとい
うものである。これが実現すれば、光クロストークの問
題は避けられるのである。しかし、光ピックアップの光
源に使用可能な半導体レーザーの波長は、その出力や安
定性の面から限界がある。例えば、従来は波長830nmの
半導体レーザが一般的であったが、かなりの期間を要し
て短波長化が図られたにもかかわらず、最近になってや
っと波長680nmが主流になった程度である。つまり、こ
の短波長化によるビームサイズの減少率はわずか18%で
ある。従って、この手段により、ビームスポットサイズ
を現状の1/2や1/3まで飛躍的に減少させることは
困難である。
Therefore, it is conceivable to shorten the wavelength of the reproduction beam. It is known that how small a beam can be narrowed is proportional to the wavelength of the beam. By this means, the reproduction beam spot size is made smaller, thereby enabling the reproduction of information recorded at high density. If this is realized, the problem of optical crosstalk can be avoided. However, the wavelength of a semiconductor laser that can be used as a light source of an optical pickup has a limit in terms of its output and stability. For example, semiconductor lasers with a wavelength of 830 nm have been generally used in the past, but despite the fact that the wavelength was shortened by taking a considerable period of time, the wavelength of 680 nm only became mainstream recently. is there. That is, the reduction rate of the beam size due to the shortening of the wavelength is only 18%. Therefore, it is difficult to drastically reduce the beam spot size to 1/2 or 1/3 of the current size by this means.

【0007】しかし、再生ビームスポットのサイズは従
来通りでも、相当な高密度に記録された情報を正確に再
生することが可能な記録再生方法及び媒体が発明され
た。これは超解像再生及び媒体と呼ばれる。この方法の
基本的な考え方は、およそ次の通りである。再生ビーム
の照射により記録媒体の温度は上昇するが、媒体は移動
しているので、再生ビームスポット内の後ろ側の温度が
畜熱作用により相対的に高温になる。この温度分布の特
性を利用してビームスポット内の一部をマスクし、マス
クされない部分のみ再生すれば、スポット内の小さな部
分の情報のみ再生することができる。つまり、実質的に
再生ビームスポットサイズを小さくしたことになる。即
ち、相当に高密度記録された情報を正確に再生できるの
である。マスク生成の原理は、磁気的結合力の変化によ
る磁化方向変化を利用した磁気超解像再生によるものが
提案されており、この他に、相変化による透過率の変化
によるものについても発表されている。
However, there has been invented a recording / reproducing method and a medium capable of accurately reproducing information recorded at a considerably high density even if the size of the reproducing beam spot is the same as before. This is called super-resolution reproduction and medium. The basic idea of this method is as follows. Although the temperature of the recording medium rises due to the irradiation of the reproduction beam, since the medium is moving, the temperature on the rear side in the reproduction beam spot becomes relatively high due to the heat storage effect. If a part of the beam spot is masked using this characteristic of the temperature distribution and only the unmasked part is reproduced, only the information of a small part in the spot can be reproduced. That is, the reproducing beam spot size is substantially reduced. That is, information recorded at a considerably high density can be accurately reproduced. The principle of mask generation has been proposed based on magnetic super-resolution reproduction using a change in the magnetization direction due to a change in magnetic coupling force.In addition to this, a method based on a change in transmittance due to a phase change has also been announced. I have.

【0008】具体的には、(1)再生ビームスポット内の
低温部分、即ち、ビームスポット内の進行方向に対して
前方が開口となる(高温部分がマスクになる)FADタ
イプ(特開平3-93056)と、(2)高温部分、即ち、ビーム
スポット内の後方が開口となる(低温部分がマスクにな
る)RADタイプやCADタイプがあり、更に、(3)低
温部分と高温部分の両方がマスクになり、一層小さな開
口を実現するダブルマスクタイプが提案されている。
More specifically, (1) a FAD type in which a low-temperature portion in a reproduction beam spot, that is, an opening is provided in front of a traveling direction in a beam spot (a high-temperature portion becomes a mask) (Japanese Unexamined Patent Publication No. 93056) and (2) RAD type or CAD type in which the high temperature part, that is, the rear side in the beam spot becomes an opening (the low temperature part becomes a mask), and (3) Both the low temperature part and the high temperature part A double mask type, which becomes a mask and realizes a smaller opening, has been proposed.

【0009】ここで、磁気的結合力の変化による磁化方
向変化を利用した磁気超解像再生の原理を簡単に説明す
る。まず、CADタイプについて図8を用いて説明す
る。図8(b)は、このタイプの光磁気記録媒体の主要部
分の断面と再生ビームが照射された部分の温度分布を示
している。光磁気記録媒体は2層の磁性層を有してお
り、情報はメモリー層の垂直磁化方向の形で記録され
る。メモリー層の上には再生層が設けられている。再生
層の磁化は所定の温度以下の領域(低温領域)では面内
磁化であるが、所定の温度以上の領域(高温領域)では
メモリー層の磁化との交換結合力によりメモリー層の磁
化と同じ向きの垂直磁化となる。前記の所定の温度は、
再生ビームの照射により垂直磁化する領域が、温度分布
の中心付近の小さな領域になるように設定される。その
結果、図8(a)に示すように、再生ビームスポットの一
部分の高温領域のみ再生層にマークが形成され、その情
報のみ読み出される。そして、再生ビームスポット内の
マークであっても、高温領域から外れたマークは読み出
されない。
Here, the principle of magnetic super-resolution reproduction utilizing a change in the magnetization direction due to a change in magnetic coupling force will be briefly described. First, the CAD type will be described with reference to FIG. FIG. 8B shows a cross section of a main portion of this type of magneto-optical recording medium and a temperature distribution of a portion irradiated with a reproducing beam. The magneto-optical recording medium has two magnetic layers, and information is recorded in the form of the perpendicular magnetization direction of the memory layer. A reproduction layer is provided on the memory layer. The magnetization of the reproducing layer is in-plane magnetization in a region below a predetermined temperature (low temperature region), but is the same as that of the memory layer in a region above the predetermined temperature (high temperature region) due to exchange coupling force with the magnetization of the memory layer. The direction becomes perpendicular magnetization. The predetermined temperature is:
The region which is perpendicularly magnetized by the reproduction beam irradiation is set to be a small region near the center of the temperature distribution. As a result, as shown in FIG. 8A, a mark is formed on the reproducing layer only in a high-temperature region of a part of the reproducing beam spot, and only that information is read. Then, even if the mark is within the reproduction beam spot, the mark that is out of the high temperature region is not read.

【0010】次に、FADタイプについて図9を用いて
説明する。図9(b)は、このタイプの光磁気記録媒体の
主要部分の断面と再生ビームが照射された部分の温度分
布を示している。光磁気記録媒体は3層の磁性層を有し
ており、情報はメモリー層の垂直磁化方向の形で記録さ
れる。メモリー層の上には再生スイッチング層(RS
層:オーバーライトのスイッチング層と区別するために
このように呼ぶ)、及び再生層を有している。メモリー
層の磁化は、所定の温度以下では再生スイッチング層を
通して再生層に転写される。しかし、再生スイッチング
層のキュリー温度以上では、その磁化が消失するために
メモリー層の磁化の影響は再生層に及ばず、この温度領
域では再生層の磁化は再生磁界の影響で再生磁界に倣
う。即ち、高温領域では再生層の磁化が再生磁界の向き
に揃ってしまうので、この領域ではメモリー層のマーク
は再生されず、低温領域では再生層にメモリー層の磁化
が現れるので、この領域に入るマークのみが再生される
ことになる。
Next, the FAD type will be described with reference to FIG. FIG. 9B shows a cross section of a main portion of this type of magneto-optical recording medium and a temperature distribution of a portion irradiated with a reproducing beam. The magneto-optical recording medium has three magnetic layers, and information is recorded in the form of the perpendicular magnetization direction of the memory layer. On top of the memory layer is a playback switching layer (RS
Layer: so called to distinguish it from the overwriting switching layer), and a reproducing layer. The magnetization of the memory layer is transferred to the reproducing layer through the reproducing switching layer at a predetermined temperature or lower. However, above the Curie temperature of the reproducing switching layer, its magnetization disappears, so that the influence of the magnetization of the memory layer does not reach the reproducing layer. In this temperature region, the magnetization of the reproducing layer follows the reproducing magnetic field under the influence of the reproducing magnetic field. That is, since the magnetization of the reproducing layer is aligned with the direction of the reproducing magnetic field in the high-temperature region, the mark of the memory layer is not reproduced in this region, and the magnetization of the memory layer appears in the reproducing layer in the low-temperature region. Only the mark will be reproduced.

【0011】次に、ダブルマスクタイプについて図10
を用いて説明する。図10(b)は、このタイプの光磁気
記録媒体の主要部分の断面と再生ビームが照射された部
分の温度分布を示している。光磁気記録媒体は3層の磁
性層を有しており、情報はメモリー層の垂直磁化方向の
形で記録される。メモリー層の上には再生中間層(RI
層:オーバーライトのスイッチング層と区別するために
このように呼ぶ)、及び再生層を有している。再生スイ
ッチング層の磁化は、所定の温度以下の領域(低温領
域)では面内磁化であるが、所定の温度以上の領域(高
温領域)では垂直磁化を示し、再生スイッチング層のキ
ュリー温度以上ではその磁化は消失する。従って、所定
の温度以下では、メモリー層の磁化は、再生スイッチン
グ層の磁化が面内方向なので、再生層には及ばず、この
温度領域では再生層の磁化は再生磁界の影響で再生磁界
に倣う。所定の温度以上から再生スイッチング層のキュ
リー温度までの温度範囲では、メモリー層の磁化は交換
結合力によって再生スイッチング層を通して再生層に転
写される。そして、再生スイッチング層のキュリー温度
以上では、再生スイッチング層の磁化が消失するために
メモリー層の磁化は再生層に及ばず、この温度領域では
再生層の磁化は再生磁界の影響で再生磁界に倣う。即
ち、低温領域と高温領域では再生層の磁化が再生磁界の
向きに揃ってしまうので、これらの領域ではメモリー層
のマークは再生されず、その中間の領域では再生層にメ
モリー層の磁化が転写されるので、この領域に入るマー
クのみが再生されることになる。
FIG. 10 shows a double mask type.
This will be described with reference to FIG. FIG. 10B shows a cross section of a main portion of this type of magneto-optical recording medium and a temperature distribution of a portion irradiated with the reproducing beam. The magneto-optical recording medium has three magnetic layers, and information is recorded in the form of the perpendicular magnetization direction of the memory layer. On top of the memory layer is a playback intermediate layer (RI
Layer: so called to distinguish it from the overwriting switching layer), and a reproducing layer. The magnetization of the reproduction switching layer is in-plane magnetization in a region below a predetermined temperature (low temperature region), but shows perpendicular magnetization in a region above a predetermined temperature (high temperature region). The magnetization disappears. Therefore, below the predetermined temperature, the magnetization of the memory layer does not reach the reproducing layer because the magnetization of the reproducing switching layer is in the in-plane direction. In this temperature range, the magnetization of the reproducing layer follows the reproducing magnetic field under the influence of the reproducing magnetic field. . In a temperature range from a predetermined temperature or higher to the Curie temperature of the reproducing switching layer, the magnetization of the memory layer is transferred to the reproducing layer through the reproducing switching layer by the exchange coupling force. When the temperature is higher than the Curie temperature of the reproducing switching layer, the magnetization of the memory layer does not reach the reproducing layer because the magnetization of the reproducing switching layer disappears. In this temperature region, the magnetization of the reproducing layer follows the reproducing magnetic field under the influence of the reproducing magnetic field. . That is, since the magnetization of the reproducing layer is aligned with the direction of the reproducing magnetic field in the low-temperature region and the high-temperature region, the mark of the memory layer is not reproduced in these regions, and the magnetization of the memory layer is transferred to the reproducing layer in the intermediate region. Therefore, only the marks that fall into this area are reproduced.

【0012】このタイプでは、他のタイプに比べて開口
領域をより小さくできるので、より高密度に記録した情
報の再生にも対応できる利点がある。しかも、再生ビー
ム強度の変動に伴って、高温領域が増大する時は低温領
域は減少し、逆に、高温領域が減少する時は低温領域は
増大するので、開口領域は変化しない。再生信号特性の
再生ビーム強度変動による影響は受けにくいという利点
も併せ持つ。
This type has an advantage that it can cope with the reproduction of information recorded at a higher density because the opening area can be made smaller than other types. In addition, with the fluctuation of the reproducing beam intensity, when the high temperature region increases, the low temperature region decreases, and when the high temperature region decreases, the low temperature region increases, so that the opening region does not change. Another advantage is that the reproduction signal characteristics are not easily affected by fluctuations in the reproduction beam intensity.

【0013】ところで、従来、光磁気記録媒体に一旦記
録した情報を新たな情報に書き換えるには、まず、記録
してあった情報を消去した後に、新たな情報を記録する
ことが原理的に必要であった。即ち、磁気記録媒体の情
報書き換えのように、一旦記録した情報を消去すること
なしに、直接新たな情報に書き換える重ね書き(オーバ
ーライト)は不可能であった。
Conventionally, in order to rewrite information once recorded on a magneto-optical recording medium with new information, it is necessary in principle to erase the recorded information and then record the new information. Met. That is, it has not been possible to overwrite by directly rewriting to new information without erasing the information once recorded as in the case of rewriting information on a magnetic recording medium.

【0014】従って、情報を消去するのに要する分だ
け、情報の書き換えに要する時間が長くなること、即
ち、情報の書き換え速度が遅いことが短所とされてい
た。この短所を克服するために、記録ビーム強度を変調
するだけでオーバーライトが可能な、光変調オーバーラ
イト記録方法、並びに、それに使用される装置及び媒体
が発明された。この発明は複数国に特許出願され、この
うち米国では既に特許登録されている(特開昭62-17594
8=DE3,619,618A1 =USP 5,239,524 )。以下、この発
明を「基本発明」と引用する。以下にこの発明について
簡単に説明する。
Therefore, the disadvantage is that the time required for rewriting information is lengthened by the amount required for erasing information, that is, the rewriting speed of information is slow. In order to overcome this disadvantage, a light modulation overwrite recording method capable of overwriting only by modulating the recording beam intensity, and an apparatus and a medium used therein have been invented. This invention has been filed for a patent in a number of countries, of which a patent has already been registered in the United States (JP-A-62-17594).
8 = DE3,619,618A1 = USP 5,239,524). Hereinafter, this invention will be referred to as "basic invention". Hereinafter, the present invention will be briefly described.

【0015】この光磁気記録再生方法で使用されるオー
バーライト可能な光磁気記録媒体は情報を記録する層と
して、垂直磁気異方性(perpendicular magnetic layer
orlayers) を有する多層の磁性層からなる。この磁性層
は、例えば非晶質のTbFe、TbFeCo、GdFe、GdFeCo、DyF
e、DyFeCo等のように、重希土類金属−遷移金属非晶質
合金からなり、磁性層内部においては、重希土類金属の
磁化(RE副格子磁化)と遷移金属の磁化(TM副格子
磁化)が互いに反対向きとなっている。これら2つの副
格子磁化の差が、磁性層としての磁化の大きさと方向を
表わす。
The overwritable magneto-optical recording medium used in this magneto-optical recording / reproducing method has a perpendicular magnetic anisotropy (perpendicular magnetic layer) as a layer for recording information.
orlayers). This magnetic layer is made of, for example, amorphous TbFe, TbFeCo, GdFe, GdFeCo, DyF
e, a heavy rare earth metal-transition metal amorphous alloy such as DyFeCo, etc., in which the magnetization of the heavy rare earth metal (RE sublattice magnetization) and the magnetization of the transition metal (TM sublattice magnetization) They are facing each other. The difference between these two sublattice magnetizations indicates the magnitude and direction of the magnetization as the magnetic layer.

【0016】磁性層としては、基本的に垂直磁化可能な
磁性薄膜からなる記録及び再生層として機能する層(以
下、メモリー層またはM層という)と、同じく垂直磁化
可能な磁性薄膜からなる記録補助層(以下、記録層また
はW層という)とを含み、両層は交換結合しており(exc
hange-coupled) 、かつ、室温でM層の磁化の向きは変
えないでW層の磁化のみを所定の向きに向けておくこと
ができるオーバーライト可能な多層光磁気記録媒体であ
る。
As the magnetic layer, a layer (hereinafter, referred to as a memory layer or an M layer) basically serving as a recording and reproducing layer composed of a perpendicularly magnetizable magnetic thin film, and a recording auxiliary composed of a perpendicularly magnetizable magnetic thin film (Hereinafter referred to as a recording layer or a W layer), and both layers are exchange-coupled (exc
This is an overwritable multilayer magneto-optical recording medium capable of keeping only the magnetization of the W layer in a predetermined direction without changing the magnetization direction of the M layer at room temperature.

【0017】W層は、M層に比べて室温において低い保
磁力Hc と高いキュリー点Tc を持つ。そして、情報を
M層(場合によりW層にも)における基板に垂直な方向
(「A向き」とする)の磁化を有するマークとその反対
方向(「逆A向き」とする)の磁化を有するマークによ
り記録する。この媒体は、W層が磁界手段(例えば初期
化磁界Hini. )によって、その磁化の向きを一方向に揃
えることができる。しかも、そのとき、M層の磁化の向
きは反転せず、更に、一旦一方向に揃えられたW層の磁
化の向きは、M層からの交換結合力を受けても反転せ
ず、逆にM層の磁化の向きは、一方向に揃えられたW層
からの交換結合力を受けても反転しない。
The W layer has a lower coercive force Hc and a higher Curie point Tc at room temperature than the M layer. Then, the information has a mark having a magnetization in the direction perpendicular to the substrate (referred to as “A direction”) in the M layer (and possibly also the W layer) and a magnetization in the opposite direction (referred to as “reverse A direction”). Record by mark. In this medium, the direction of magnetization of the W layer can be aligned in one direction by magnetic field means (for example, initialization magnetic field Hini.). In addition, at that time, the magnetization direction of the M layer does not reverse, and the magnetization direction of the W layer once aligned does not reverse even when subjected to the exchange coupling force from the M layer. The direction of magnetization of the M layer does not reverse even when subjected to exchange coupling force from the W layer aligned in one direction.

【0018】基本発明の記録方法では、記録媒体は記録
前までに磁界手段によりW層の磁化の向きだけが一方向
に揃えられるようにする。その上で、2値化情報に従い
パルス変調されたビームを媒体に照射する。ビームの強
度は、高レベルPH と低レベルPL の2値に制御され、
これはパルスの高レベルと低レベルに相当する。この低
レベルは、再生時に媒体を照射する再生レベルPR より
も高い。既に知られているように、記録をしない時に
も、例えば媒体における所定の記録場所をアクセスする
ためにレーザーを「非常な低レベル」で点灯することが
一般的である。この非常な低レベルも、再生レベルPR
と同一又は近似のレベルである。
In the recording method according to the basic invention, the recording medium is arranged such that only the direction of magnetization of the W layer is aligned in one direction by a magnetic field means before recording. Then, the medium is irradiated with a beam pulse-modulated according to the binarized information. The beam intensity is controlled to two values, high level PH and low level PL,
This corresponds to the high and low levels of the pulse. This low level is higher than the reproduction level PR for irradiating the medium during reproduction. As is already known, it is common to turn on the laser at a "very low level" even when not recording, for example to access a predetermined recording location on the medium. This very low level also has a playback level PR
Is the same or similar level as.

【0019】低レベルのビームを媒体に照射した場合に
媒体が達する温度においては、W層の磁化の向きは変わ
らず、M層の磁化の向きは、M層とW層との間に磁壁が
存在しない状態の向きになる。これを低温プロセス(L
プロセス)といい、このプロセスが起こる温度領域を低
温プロセス温度(Lプロセス温度)TL という。一方、
高レベルのビームを媒体に照射した場合に媒体が達する
更に高い温度においては、W層の磁化の向きは記録磁界
の方向に倣い、M層の磁化の向きは、M層とW層との間
に磁壁が存在しない状態の向きになる。これを高温プロ
セス(Hプロセス)といい、このプロセスが起こる温度
領域を高温プロセス温度(Hプロセス温度)TH とい
う。
At the temperature reached by the medium when the medium is irradiated with a low-level beam, the direction of magnetization of the W layer does not change, and the direction of magnetization of the M layer has a domain wall between the M layer and the W layer. Orientation of non-existent state. This is called a low-temperature process (L
The temperature range in which this process occurs is called a low-temperature process temperature (L process temperature) TL. on the other hand,
At a higher temperature reached by the medium when the medium is irradiated with a high-level beam, the direction of magnetization of the W layer follows the direction of the recording magnetic field, and the direction of magnetization of the M layer is between the M layer and the W layer. In which no domain wall exists. This is called a high temperature process (H process), and a temperature region in which this process occurs is called a high temperature process temperature (H process temperature) TH.

【0020】ビームの照射後は、磁界手段により、高レ
ベルのビーム照射によって記録磁界の方向に倣ったW層
の磁化は、再び磁界手段の向きに倣う。従って、磁界手
段の磁化の向きと記録磁界の向きを逆にしておけば、既
に記録されているM層に、新たな記録が繰り返し記録
(即ち、オーバーライト)できるのである。これが光変
調オーバーライト光磁気記録の原理である。
After the beam irradiation, the magnetization of the W layer imitated by the magnetic field means in the direction of the recording magnetic field by the high-level beam irradiation again imitates the direction of the magnetic field means. Therefore, if the direction of the magnetization of the magnetic field means and the direction of the recording magnetic field are reversed, new recording can be repeatedly recorded (that is, overwritten) on the already recorded M layer. This is the principle of light modulation overwrite magneto-optical recording.

【0021】以上説明した内容を、若干表現を換えれ
ば、高レベルのビーム照射によって記録マークを形成
し、低レベルのビーム照射によって記録マークを消去す
ることで、新しい情報を古い情報の上にオーバーライト
(重ね書き)するとも言える。その後、M層とW層の間
に、両者の間に働く交換結合力を調整するための中間層
(I層)を設けることが提案された。これにより、より
安定にオーバーライト動作を実現できるようになった。
また、M層に接してビーム照射側に、より光磁気効果の
大きな磁性層である再生層(R層)を設け、M層の情報
をこの層に磁気転写して再生することも提案された。こ
れにより、より良好な再生信号が得られるようになっ
た。
In a slightly different expression, the contents described above form recording marks by high-level beam irradiation and erase recording marks by low-level beam irradiation, so that new information is overlaid on old information. It can also be said to write (overwrite). Thereafter, it has been proposed to provide an intermediate layer (I layer) between the M layer and the W layer for adjusting the exchange coupling force acting between them. Thereby, the overwrite operation can be realized more stably.
It has also been proposed to provide a reproducing layer (R layer) which is a magnetic layer having a larger magneto-optical effect on the beam irradiation side in contact with the M layer, and magnetically transfer information of the M layer to this layer for reproduction. . As a result, a better reproduction signal can be obtained.

【0022】更に、初期化磁界の代わりに初期化層(In
i.層)と呼ぶ磁性層と、 Ini.層とW層の間の交換結合
力をコントロールするスイッチング層(S層)と呼ぶ磁
性層を設けることにより、W層の初期化を行うことを実
現したタイプのもの(特開昭63-268103=USP4,878,13
2)が発明され、既に実用化が始まっている。ところ
で、オーバーライト可能であって、かつ、磁気超解像再
生可能な光磁気記録媒体も提案されている(特開平6-13
9639)。これは、既に記載した最近商品化されたオーバ
ーライト可能な光磁気記録媒体の6層の磁性層構成(R
層/M層/I層/W層/S層/ Ini.層)に加えて、R
層とM層の間に、両者の交換結合をコントロールするた
めの磁性層である再生スイッチング層(RS層)を設
け、7層の磁性層構成としている。
Further, instead of the initialization magnetic field, an initialization layer (In
By providing a magnetic layer called an i.layer) and a magnetic layer called a switching layer (S layer) that controls the exchange coupling force between the Ini. layer and the W layer, the W layer can be initialized. Type (JP-A-63-268103 = USP 4,878,13
2) was invented and has already been put into practical use. By the way, a magneto-optical recording medium that can be overwritten and that can be reproduced with magnetic super-resolution has also been proposed (JP-A-6-13).
9639). This is because of the six magnetic layer configurations (R) of the recently commercialized overwritable magneto-optical recording medium described above.
Layer / M layer / I layer / W layer / S layer / Ini. Layer)
A reproduction switching layer (RS layer), which is a magnetic layer for controlling exchange coupling between the two layers, is provided between the layer and the M layer, and has a seven-layer magnetic layer configuration.

【0023】この媒体のオーバーライト記録動作につい
ては、既に記載した最近商品化された6層の磁性層によ
るオーバーライト可能な光磁気記録媒体と全く同じであ
る。即ち、高レベルのビームを照射した際(即ち、Hプ
ロセス時)には、ビームの照射時間に対応した長さのマ
ークが記録層(W層)に形成される。記録層に形成され
たマークは、ビーム照射終了後、媒体の温度がLプロセ
ス温度まで低下した時点で、メモリー層(M層)、再生
スイッチング層(RS層)、再生層(R層)に磁気転写
される。そして、更に媒体の温度が低下すると、予め所
定の方向に揃えてある初期化層の磁化の作用により、記
録層の磁化も所定の方向に揃う。即ち、初期化される。
また、低レベルのビームを照射した場合(即ち、Lプロ
セス時)、所定の方向に揃った記録層の磁化の作用によ
り、磁化がメモリー層、再生スイッチング層、再生層に
転写される。
The overwrite recording operation of this medium is exactly the same as that of the previously commercialized overwritable magneto-optical recording medium having six magnetic layers which has been commercialized recently. That is, when a high-level beam is irradiated (ie, during the H process), a mark having a length corresponding to the irradiation time of the beam is formed on the recording layer (W layer). The marks formed on the recording layer are magnetically recorded on the memory layer (M layer), the reproduction switching layer (RS layer), and the reproduction layer (R layer) when the temperature of the medium decreases to the L process temperature after the beam irradiation. Transcribed. When the temperature of the medium further decreases, the magnetization of the recording layer also aligns in a predetermined direction by the action of the magnetization of the initialization layer which has been aligned in a predetermined direction in advance. That is, it is initialized.
When a low-level beam is irradiated (ie, during the L process), the magnetization is transferred to the memory layer, the reproduction switching layer, and the reproduction layer by the action of the magnetization of the recording layer aligned in a predetermined direction.

【0024】一方、再生時には、再生層、再生スイッチ
ング層、メモリー層の3層は、既に図9を用いて説明し
たFADタイプの磁気超解像再生と同じ働きをする。即
ち、6層のオーバーライト光磁気記録媒体に、メモリー
層に比べてそのキュリー温度が低い磁性層である再生ス
イッチング層を付加することにより、磁気超解像再生可
能なオーバーライト光磁気記録媒体となる。
On the other hand, at the time of reproduction, the three layers of the reproduction layer, the reproduction switching layer, and the memory layer have the same function as that of the FAD type magnetic super-resolution reproduction described with reference to FIG. That is, by adding a reproduction switching layer which is a magnetic layer whose Curie temperature is lower than that of the memory layer to the six-layer overwrite magneto-optical recording medium, an overwrite magneto-optical recording medium capable of magnetic super-resolution reproduction can be obtained. Become.

【0025】[0025]

【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気超解像
再生においては、RAD、CAD及びFADの各タイプ
では、再生時の照射ビーム強度の変動により開口領域
(あるいはマスク領域)が変化するため、再生ビーム強
度の変動により再生信号特性が変動するという問題があ
る。
By the way, in magnetic super-resolution reproduction, in each of the RAD, CAD and FAD types, the aperture area (or mask area) changes due to the fluctuation of the irradiation beam intensity during reproduction. There is a problem that the reproduction signal characteristics fluctuate due to the fluctuation of the reproduction beam intensity.

【0026】ダブルマスクタイプでは、既に説明したよ
うに、再生信号特性の再生ビーム強度変動による影響は
受けにくい。しかし、このタイプは、再生スイッチング
層としてGdFe等のキュリー温度の高い材料を用いる必要
がある。再生を行うには、既に説明したように、再生ス
イッチング層のキュリー温度以上に温度を上げる必要が
あるので、再生ビーム強度を高く設定する必要がある。
再生ビーム強度が高いと、それに伴って記録ビーム強度
を高くする必要が生じ、光源として一般的な半導体レー
ザの変調に無理が生じたり、また、記録再生装置の消費
電力が大きくなる等の問題がある。
In the double mask type, as described above, the reproduction signal characteristics are hardly affected by the fluctuation of the reproduction beam intensity. However, in this type, it is necessary to use a material having a high Curie temperature such as GdFe as the reproduction switching layer. In order to perform reproduction, it is necessary to raise the temperature above the Curie temperature of the reproduction switching layer, as described above, so that the reproduction beam intensity needs to be set high.
When the reproducing beam intensity is high, it is necessary to increase the recording beam intensity, which causes problems such as excessive modulation of a general semiconductor laser as a light source and an increase in power consumption of the recording / reproducing apparatus. is there.

【0027】また、磁気超解像再生に光変調オーバーラ
イト光磁気記録を組み合わせる場合には、次のような問
題がある。即ち、光変調オーバーライトを行うには、記
録時の2値の記録ビーム強度である高レベルPH及び低
レベルPLと再生時の再生ビーム強度Prの3つのレベ
ルにビーム強度を変調する必要がある。これは、光変調
オーバーライト光磁気記録再生におけるビーム強度の変
調レベル数は、従来の非オーバーライト光磁気記録再生
におけるビーム強度の変調レベル数より1つ多いことを
意味する。一方、光源として一般的な半導体レーザーか
ら出射できるビーム強度には当然のことながら上限があ
る。このため、それぞれの変調レベルとして設定できる
強度範囲(パワーマージン)は、光変調オーバーライト
光磁気記録再生の方が、従来の非オーバーライト光磁気
記録再生に比べて狭い。言い換えると、光変調オーバー
ライト光磁気記録再生の場合には、再生レベルとして設
定できる強度範囲は、低レベルが高レベルと再生レベル
の中間に存在する分だけ低い側に狭い。しかるに、再生
信号のC/Nを高くするには、再生ビーム強度が高いほ
ど有利なので、この点で光変調オーバーライト光磁気再
生はこの点で不利である。
Further, in the case of combining the optical super-resolution reproduction with the light modulation overwrite magneto-optical recording, there is the following problem. That is, in order to perform the light modulation overwriting, it is necessary to modulate the beam intensity into three levels of a high level PH and a low level PL, which are binary recording beam intensities at the time of recording, and a reproduction beam intensity Pr at the time of reproduction. . This means that the number of modulation levels of the beam intensity in the light modulation overwrite magneto-optical recording / reproduction is one more than the number of modulation levels of the beam intensity in the conventional non-overwrite magneto-optical recording / reproduction. On the other hand, the beam intensity that can be emitted from a general semiconductor laser as a light source naturally has an upper limit. For this reason, the intensity range (power margin) that can be set as each modulation level is narrower in the optical modulation overwrite magneto-optical recording / reproduction than in the conventional non-overwrite magneto-optical recording / reproduction. In other words, in the case of light modulation overwrite magneto-optical recording / reproducing, the intensity range that can be set as the reproducing level is narrower to the lower side as the low level exists between the high level and the reproducing level. However, in order to increase the C / N of the reproduction signal, the higher the reproduction beam intensity, the more advantageous. Therefore, the optical modulation overwrite magneto-optical reproduction is disadvantageous in this respect.

【0028】また、磁気超解像再生においては、既に説
明したように再生ビームスポット内の温度分布を利用す
るため、原理的にこの温度分布を所定の大きさより大き
くする必要がある。しかし、光変調オーバーライト光磁
気記録再生は、低レベルの存在により原理的に再生ビー
ム強度の上限が低く抑える必要があるので、光変調オー
バーライト光磁気記録再生と磁気超解像再生を組み合わ
せることは難しいという問題がある。
In magnetic super-resolution reproduction, as described above, the temperature distribution in the reproduction beam spot is used. Therefore, in principle, it is necessary to make the temperature distribution larger than a predetermined value. However, in light modulation overwrite magneto-optical recording / reproduction, the upper limit of the reproduction beam intensity must be kept low in principle due to the presence of a low level. Therefore, combining light modulation overwrite magneto-optical recording / reproduction with magnetic super-resolution reproduction Is difficult.

【0029】更に、磁気超解像再生を光変調オーバーラ
イトと組み合わせた光磁気記録媒体は、記録耐久性が十
分でないという問題もある。本発明は、上記問題点を解
決し、磁気超解像再生の際、再生ビーム強度を低く抑え
ることができ、また、C/N値が高く、記録速度が速
く、高密度記録した情報を確実に再生することが可能な
光磁気記録媒体及びその再生方法の提供を目的とする。
また、十分な記録耐久性を有する光磁気記録媒体の製造
方法の提供も併せて目的とする。
Further, a magneto-optical recording medium in which magnetic super-resolution reproduction is combined with light modulation overwriting has a problem that recording durability is not sufficient. The present invention solves the above-mentioned problems, and can reduce the intensity of the reproduction beam during magnetic super-resolution reproduction, and has a high C / N value, a high recording speed, and ensures the information recorded at high density. It is an object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium capable of reproducing information at a high speed and a reproducing method therefor.
Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magneto-optical recording medium having sufficient recording durability.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】上記問題点の解決のた
め、本発明では、少なくとも再生層、再生中間層、再生
スイッチング層、及びメモリー層の順に4層の磁性層を
有し、これら各層は希土類金属及び遷移金属を主体とす
る磁性体からなる構成の光磁気記録媒体とする(図
1)。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has at least four magnetic layers in the order of a reproduction layer, a reproduction intermediate layer, a reproduction switching layer, and a memory layer. A magneto-optical recording medium composed of a magnetic material mainly composed of a rare earth metal and a transition metal (FIG. 1).

【0031】また、再生層、再生中間層、再生スイッチ
ング層、メモリー層、中間層、記録層、スイッチング
層、初期化層の8層の磁性層を有し、これら各層は希土
類金属及び遷移金属を主体とする磁性体からなる構成の
光磁気記録媒体とする(図2)。また、再生層、再生ス
イッチング層、メモリー層、中間層、記録層、スイッチ
ング層、初期化層の7層の磁性層を有し、これらの各層
は、希土類金属及び遷移金属を主体とする磁性体からな
り、互いに交換結合しているオーバーライト可能で、か
つ、磁気超解像再生可能な光磁気記録媒体において、メ
モリー層が、希土類金属主体の領域と遷移金属主体の領
域が交互に繰り返す積層構造を有し、また、再生層は、
希土類金属と遷移金属が偏りなく混在する合金構造を有
する構成の光磁気記録媒体とする。
Further, the magnetic recording medium has eight magnetic layers of a reproducing layer, a reproducing intermediate layer, a reproducing switching layer, a memory layer, an intermediate layer, a recording layer, a switching layer, and an initialization layer, each of which contains a rare earth metal and a transition metal. A magneto-optical recording medium composed of a main magnetic material (FIG. 2). It also has seven magnetic layers, a reproducing layer, a reproducing switching layer, a memory layer, an intermediate layer, a recording layer, a switching layer, and an initialization layer. Each of these layers is composed of a magnetic material mainly composed of a rare earth metal and a transition metal. In a magneto-optical recording medium capable of being overwritable and magnetically super-resolution capable of being exchange-coupled to each other, the memory layer has a laminated structure in which a region mainly composed of a rare earth metal and a region mainly composed of a transition metal are alternately repeated. And the reproducing layer has
A magneto-optical recording medium having an alloy structure in which a rare earth metal and a transition metal are mixed without bias is provided.

【0032】また、上記媒体を製造する際、希土類金属
主体のターゲット及び遷移金属主体のターゲットを同時
スパッタリングすることにより積層構造を形成し、ま
た、希土類金属と遷移金属の合金ターゲットによるスパ
ッタリングすることにより合金構造を形成する製造方法
とする。更に、上記媒体を再生する際、再生レベルのビ
ームを照射すると共に、500 Oe以下の強さの再生磁界を
印加しながら再生する再生方法とする。
In producing the medium, a laminated structure is formed by simultaneously sputtering a target mainly composed of a rare earth metal and a target mainly composed of a transition metal, and by sputtering using an alloy target of a rare earth metal and a transition metal. The manufacturing method is to form an alloy structure. Further, when reproducing the medium, a reproducing method is used in which a reproducing level beam is irradiated and a reproducing magnetic field having a strength of 500 Oe or less is applied.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】本発明の、再生層、再生中間層、
再生スイッチング層、及びメモリー層の順に4層の磁性
層を有する光磁気記録媒体における磁気超解像再生の原
理を図3及び図4を用いて説明する。まず、再生ビーム
照射中心位置よりやや後方に生じる高温領域で、再生ス
イッチング層のキュリー温度以上の温度となるために、
再生スイッチング層の磁化が消滅し、再生層とメモリー
層の間に働く交換結合力がゼロになるか小さくなる。い
ずれにしても、再生層とメモリー層の間に働く交換結合
力が極めて小さくなることで、再生層の磁化を反転させ
るための反転磁界を小さくすることができ、反転磁界よ
り大きな再生磁界の働きにより再生層の磁化が所定の方
向に揃う。即ち、高温領域にマスクが形成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The reproducing layer, the reproducing intermediate layer,
The principle of magnetic super-resolution reproduction in a magneto-optical recording medium having four magnetic layers in the order of a reproduction switching layer and a memory layer will be described with reference to FIGS. First, in a high-temperature region that occurs slightly behind the reproduction beam irradiation center position, the temperature becomes equal to or higher than the Curie temperature of the reproduction switching layer.
The magnetization of the reproduction switching layer disappears, and the exchange coupling force acting between the reproduction layer and the memory layer becomes zero or small. In any case, since the exchange coupling force acting between the reproducing layer and the memory layer is extremely small, the reversing magnetic field for reversing the magnetization of the reproducing layer can be reduced, and the function of the reproducing magnetic field larger than the reversing magnetic field can be reduced. Thereby, the magnetization of the reproducing layer is aligned in a predetermined direction. That is, a mask is formed in the high temperature region.

【0034】また、再生ビーム照射中心位置前方やビー
ム周辺の低温領域では、再生中間層の磁化が面内方向で
あるため、再生層とメモリー層の間に働く交換結合力が
ゼロになるか小さくなる。その結果、これらの低温領域
では、再生磁界の印加により再生層の磁化を所定の方向
に揃えることができる。この時、再生中間層の磁化は面
内磁化となるか(図3)、または、メモリー層の磁化が
再生磁界と逆向きの領域では面内磁化となり、メモリー
層の磁化が再生磁界と同じ向きの領域では垂直磁化(再
生磁界と同じ向き)となる(図4)。即ち、どちらにし
ても低温領域にマスクが形成される。
Further, in the low-temperature region in front of the reproduction beam irradiation center position and around the beam, since the magnetization of the reproduction intermediate layer is in the in-plane direction, the exchange coupling force acting between the reproduction layer and the memory layer becomes zero or small. Become. As a result, in these low temperature regions, the magnetization of the reproducing layer can be aligned in a predetermined direction by applying the reproducing magnetic field. At this time, the magnetization of the reproducing intermediate layer becomes in-plane magnetization (FIG. 3), or in a region where the magnetization of the memory layer is opposite to the reproducing magnetic field, the magnetization of the memory layer becomes the same direction as the reproducing magnetic field. In the region (2), the magnetization becomes perpendicular (the same direction as the reproducing magnetic field) (FIG. 4). That is, in any case, the mask is formed in the low temperature region.

【0035】従って、この構成の媒体では、高温領域に
マスクが生成すると同時にビームの周辺にもマスクが生
成する。このビーム周辺のマスクにより、隣接したトラ
ックに記録された情報を同時に再生することがなくな
る。つまり、これら2つのマスクに挟まれた狭い領域に
存在するマークのみ再生するので、トラック方向のみな
らず隣接トラックからのクロストークを大幅に低減で
き、狭トラックピッチ化に対してより有利となる。ま
た、マーク間距離も更に短くすることができ、記録再生
の高密度化に対してより有利である。
Therefore, in the medium having this configuration, a mask is generated in a high-temperature region and at the same time a mask is generated around the beam. Due to the mask around the beam, information recorded on adjacent tracks is not reproduced at the same time. That is, since only the mark existing in the narrow area sandwiched between these two masks is reproduced, the crosstalk not only from the track direction but also from the adjacent track can be greatly reduced, which is more advantageous for narrowing the track pitch. In addition, the distance between marks can be further reduced, which is more advantageous for increasing the recording / reproducing density.

【0036】再生中間層の厚さは2〜60nmが好ましく、5
〜20nmがより好ましい。再生スイッチング層の厚さは5
〜50nmが好ましい。再生スイッチング層の材料は、Coを
原子%で20%以下含有するTbFeCo またはTbFeが好まし
い。再生中間層の材料は、Gdを原子%で20〜40%含有す
る、GdFeまたはGd FeCoが好ましい。再生中間層の磁化
は、所定の温度以下では面内磁気異方性を示し、それ以
上では垂直磁気異方性を示すことが望ましい。再生中間
層の磁化は、所定の温度Triより低い領域では面内磁化
となり、前記Triより高い領域では垂直磁化となり、か
つ、前記Triは再生スイッチング層のキュリー温度Tcr
sより低いことが望ましい。 40<Tcrs−Tri <250と
なれば更に好ましい。
The thickness of the reproducing intermediate layer is preferably 2 to 60 nm,
~ 20 nm is more preferred. The thickness of the regeneration switching layer is 5
~ 50 nm is preferred. The material of the reproduction switching layer is preferably TbFeCo or TbFe containing 20% or less of Co in atomic%. The material of the reproducing intermediate layer is preferably GdFe or GdFeCo containing 20 to 40% of Gd by atomic%. The magnetization of the reproducing intermediate layer desirably exhibits in-plane magnetic anisotropy at a temperature lower than a predetermined temperature, and exhibits perpendicular magnetic anisotropy at a temperature higher than the predetermined temperature. The magnetization of the reproducing intermediate layer becomes an in-plane magnetization in a region lower than a predetermined temperature Tri, becomes a perpendicular magnetization in a region higher than the above Tri, and the Tri is a Curie temperature Tcr of the reproducing switching layer.
Desirably lower than s. More preferably, 40 <Tcrs-Tri <250.

【0037】また、少なくとも再生層、再生スイッチン
グ層、メモリー層、中間層、記録層、スイッチング層及
び初期化層の7層の磁性層を有する光磁気記録媒体にお
いて、再生層は希土類金属と遷移金属を主体とした合金
構造であって、メモリー層は希土類金属主体の領域と遷
移金属主体の領域が交互に積層した積層構造を有するこ
とが好ましい。メモリー層に加えて記録層も積層構造と
するとなお効果的である。メモリー層や記録層の積層周
期は、希土類金属主体の領域の厚さが2Å〜10Åとなる
周期であることは更に望ましい。
In a magneto-optical recording medium having at least seven magnetic layers of a reproducing layer, a reproducing switching layer, a memory layer, an intermediate layer, a recording layer, a switching layer, and an initialization layer, the reproducing layer is composed of a rare earth metal and a transition metal. Preferably, the memory layer has a laminated structure in which regions mainly composed of rare earth metals and regions mainly composed of transition metals are alternately laminated. It is more effective if the recording layer has a laminated structure in addition to the memory layer. It is further desirable that the lamination cycle of the memory layer and the recording layer is a cycle in which the thickness of the region mainly composed of the rare earth metal is 2 to 10 degrees.

【0038】また、メモリー層のキュリー温度とスイッ
チング層のキュリー温度の関係は、両者をそれぞれTc
m、Tcsとしたとき、Tcm−30< Tcs< Tcm+30(単
位℃)を満たすことが望ましい。Tcm−20<Tcs<Tcm
+20であれば更に効果的であり、また、Tcm−10<Tcs
< Tcm+10であればなお一層効果的である。初期化層
の上に誘電体層を形成し、更にその上に金属層を形成す
ることは更に好ましい。金属層の厚さは10nm以上が望ま
しい。金属はAlであることが望ましく、3%程度のTiを
加えると更に好ましい。
The relationship between the Curie temperature of the memory layer and the Curie temperature of the switching layer is as follows.
When m and Tcs are satisfied, it is desirable that Tcm−30 <Tcs <Tcm + 30 (unit: ° C.). Tcm-20 <Tcs <Tcm
+20 is more effective, and Tcm−10 <Tcs
<Tcm + 10 is even more effective. More preferably, a dielectric layer is formed on the initialization layer, and a metal layer is further formed thereon. The thickness of the metal layer is desirably 10 nm or more. The metal is preferably Al, and more preferably about 3% Ti is added.

【0039】また、上記媒体を再生する際、再生レベル
のビームを照射すると共に、絶対値で600 Oe以下の強さ
の再生磁界を印加しながら再生するが、再生位置におけ
る前記媒体の線速度が一定となるようにするのもよい。
また、上記媒体を製造するには、積層構造は2元同時ス
パッタリングにより成膜することが望ましい。
When reproducing the medium, the medium is irradiated with a beam at the reproducing level and reproduced while applying a reproducing magnetic field having an absolute value of not more than 600 Oe. It may be constant.
In order to manufacture the above medium, it is desirable that the laminated structure is formed by binary simultaneous sputtering.

【0040】なお、M層とW層の間にI層を設けない構
成も本発明に含まれる。以下、実施例により詳細に説明
するが、本発明はこれに限られるものではない。
The present invention also includes a configuration in which no I layer is provided between the M layer and the W layer. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0041】[0041]

【実施例1】スパッタリング装置を用意する。直径90mm
のポリカーボネート基板を、スパッタリング装置の基板
キャリアにセットする。この上記基板の表面には、ピッ
チ1.1μmのガイド溝がスパイラル状に形成されてい
る。次に、基板がセットされている基板キャリアをスパ
ッタリング装置のスパッタリングチャンバー内に搬送す
る。
Embodiment 1 A sputtering apparatus is prepared. 90mm in diameter
Is set on a substrate carrier of a sputtering apparatus. Guide grooves having a pitch of 1.1 μm are formed in a spiral shape on the surface of the substrate. Next, the substrate carrier on which the substrate is set is transported into the sputtering chamber of the sputtering device.

【0042】次に、チャンバー内を5×exp(−5)Pa
以下の真空度まで排気した後、アルゴンガスと窒素ガス
をチャンバー内に導入し、シリコンターゲットにより反
応性スパッタリングを行い、窒化シリコン層を厚さ70nm
成膜する。次に、基板キャリアを別のスパッタリングチ
ャンバーに移動し、再びアルゴンガスを導入しながら、
GdFeCoの合金ターゲットによりスパッタリングを行い、
Gd25Fe60Co15(原子%で、Gd25%、Fe60%、Co15%、以
下同じ)による再生層を窒化シリコン層の上に厚さ30nm
成膜する。
Next, the inside of the chamber is set to 5 × exp (−5) Pa
After evacuation to the following degree of vacuum, argon gas and nitrogen gas are introduced into the chamber, reactive sputtering is performed with a silicon target, and the silicon nitride layer is 70 nm thick.
Form a film. Next, while moving the substrate carrier to another sputtering chamber and introducing argon gas again,
Sputtering with GdFeCo alloy target,
A reproducing layer made of Gd25Fe60Co15 (atomic%, Gd25%, Fe60%, Co15%, the same applies hereinafter) has a thickness of 30 nm on the silicon nitride layer.
Form a film.

【0043】次に、GdFeCo合金ターゲットによりスパッ
タリングを行い、Gd29Fe67Co4による再生中間層を再生
層の上に厚さ30nm成膜する。この再生中間層は約90℃を
堺に、それ以下では面内磁化、それ以上では垂直磁化す
る。なお、上記の組成の他にGdの比率を15〜45%の範囲
で変化させたもの、及び厚さを0〜100nmの範囲で変化さ
せたものを多数作成する。組成の変動に伴ってキュリー
温度は変化する。
Next, sputtering is performed using a GdFeCo alloy target to form a 30-nm-thick reproducing intermediate layer of Gd29Fe67Co4 on the reproducing layer. The reproducing intermediate layer has a temperature of about 90 ° C. in the sacrificial temperature, an in-plane magnetization below it, and a perpendicular magnetization above it. In addition, in addition to the above-mentioned composition, a large number of samples in which the ratio of Gd is changed in the range of 15 to 45% and those in which the thickness is changed in the range of 0 to 100 nm are prepared. The Curie temperature changes as the composition fluctuates.

【0044】次に、TbFeCo合金ターゲットによりスパッ
タリングを行い、Tb20Fe76Co4による再生スイッチング
層を再生中間層の上に厚さ20nm成膜する。この再生スイ
ッチング層のキュリー温度は約170℃である。なお、上
記の組成の他にCoの比率を0〜30%の範囲で変化させた
もの、及び厚さを0〜80nmの範囲で変化させたものを多
数作成する。組成の変動に伴ってキュリー温度は変化す
る。
Next, sputtering is performed with a TbFeCo alloy target to form a reproduction switching layer of Tb20Fe76Co4 with a thickness of 20 nm on the reproduction intermediate layer. The Curie temperature of the regeneration switching layer is about 170 ° C. In addition, in addition to the above-mentioned composition, a large number of samples in which the ratio of Co is changed in the range of 0 to 30% and those in which the thickness is changed in the range of 0 to 80 nm are prepared. The Curie temperature changes as the composition fluctuates.

【0045】次に、希土類金属であるTbのターゲットと
遷移金属であるFe及びCoによる合金ターゲットにより同
時にスパッタリング(2元同時スパッタリングという:
図7参照)を行いながら、基板及び基板キャリアを同時
に回転させ、Tb主体の領域とFeCo主体の領域が交互に積
層する構造を有するTb21Fe63Co16によるメモリー層を再
生スイッチング層の上に厚さ50nm成膜する。
Next, sputtering is performed simultaneously with a target of Tb as a rare earth metal and an alloy target with Fe and Co as transition metals (referred to as binary simultaneous sputtering:
The substrate and the substrate carrier are simultaneously rotated while performing (FIG. 7), and a memory layer of Tb21Fe63Co16 having a structure in which a region mainly composed of Tb and a region mainly composed of FeCo are alternately laminated is formed to a thickness of 50 nm on the reproduction switching layer. I do.

【0046】次に、最初の窒化シリコン層の成膜と同様
の手順により、窒化シリコン層を初期化層の上に厚さ70
nm成膜する。以上の手順でスパッタリングによる成膜を
行った後、更に樹脂保護膜を塗布し、図1に示す磁性層
の構成の光磁気ディスクを作成する。この光磁気ディス
クを外部磁場により磁化方向を所定の方向に揃えて初期
化を行う。
Next, a silicon nitride layer having a thickness of 70 nm is formed on the initialization layer by the same procedure as that for forming the first silicon nitride layer.
Deposit a nm film. After forming a film by sputtering according to the above procedure, a resin protective film is further applied, and a magneto-optical disk having a magnetic layer configuration shown in FIG. 1 is prepared. The magneto-optical disk is initialized by adjusting the magnetization direction to a predetermined direction by an external magnetic field.

【0047】次に、光磁気記録再生装置を用意する。こ
の装置は、300 Oeの記録磁界と、波長680nmの半導体レ
ーザを光源に持つ光ピックアップを有する。上記の光磁
気ディスクを光磁気記録再生装置にセットして、9.0m/s
の線速度で回転させる。光ピックアップの対物レンズに
より集光されたレーザービームを、9.0mWと1.0mWの間で
デューティー比50%に変調しながらディスク面に照射
し、マーク長さ0.35μm、マーク間距離0.35μmとなる
ように記録を行う。その後、300(Oe)の磁場を印加した
状態で3.0mWのビーム強度で再生し、C/N値を測定す
る。充分高いC/N値が得られ磁気超解像再生が良好に
行われていることが確認される。
Next, a magneto-optical recording / reproducing apparatus is prepared. This device has an optical pickup having a recording magnetic field of 300 Oe and a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm as a light source. Set the above magneto-optical disk in the magneto-optical recording / reproducing device,
Rotate at a linear speed of. The laser beam focused by the objective lens of the optical pickup is irradiated onto the disc surface while modulating the duty ratio to 50% between 9.0mW and 1.0mW, so that the mark length is 0.35μm and the distance between marks is 0.35μm. To record. Thereafter, reproduction is performed with a beam intensity of 3.0 mW while a magnetic field of 300 (Oe) is applied, and the C / N value is measured. It is confirmed that a sufficiently high C / N value is obtained and that magnetic super-resolution reproduction is performed favorably.

【0048】C/Nは、再生中間層の厚さが2〜60nmの
場合に高く、特に5〜20nmの場合ではより高い。また、
再生スイッチング層の厚さが5〜50nmの場合、再生中間
層がGdを原子%で20〜40%含有したGdFeまたはGdFeCoの
場合、及び再生スイッチング層がCoを原子%で20%以下
含有したまたはTbFeCoまたはTbFeの場合にもC/Nが高
い。
C / N is high when the thickness of the reproducing intermediate layer is 2 to 60 nm, and particularly higher when the thickness is 5 to 20 nm. Also,
When the thickness of the reproducing switching layer is 5 to 50 nm, the reproducing intermediate layer is GdFe or GdFeCo containing 20 to 40% of Gd by atomic%, and the reproducing switching layer contains 20% or less of Co by atomic% or C / N is also high in the case of TbFeCo or TbFe.

【0049】[0049]

【実施例2】スパッタリング装置を用意する。直径90mm
のポリカーボネート基板を、スパッタリング装置の基板
キャリアにセットする。この上記基板の表面には、ピッ
チ1.1μmのガイド溝がスパイラル状に形成されてい
る。次に、基板がセットされている基板キャリアをスパ
ッタリング装置のスパッタリングチャンバー内に搬送す
る。
Embodiment 2 A sputtering apparatus is prepared. 90mm in diameter
Is set on a substrate carrier of a sputtering apparatus. Guide grooves having a pitch of 1.1 μm are formed in a spiral shape on the surface of the substrate. Next, the substrate carrier on which the substrate is set is transported into the sputtering chamber of the sputtering device.

【0050】次に、チャンバー内を5×exp(−5)Pa
以下の真空度まで排気した後、アルゴンガスと窒素ガス
をチャンバー内に導入し、シリコンターゲットにより反
応性スパッタリングを行い、窒化シリコン層を厚さ70nm
成膜する。次に、基板キャリアを別のスパッタリングチ
ャンバーに移動し、再びアルゴンガスを導入しながら、
GdFeCoの合金ターゲットによりスパッタリングを行い、
Gd22Fe52Co26(原子%で、Gd22%、Fe52%、Co26%、以
下同じ)による再生層を窒化シリコン層の上に厚さ25nm
成膜する。この再生層のキュリー温度は320℃である。
Next, the inside of the chamber is set to 5 × exp (−5) Pa
After evacuation to the following degree of vacuum, argon gas and nitrogen gas are introduced into the chamber, reactive sputtering is performed with a silicon target, and the silicon nitride layer is 70 nm thick.
Form a film. Next, while moving the substrate carrier to another sputtering chamber and introducing argon gas again,
Sputtering with GdFeCo alloy target,
A reproducing layer made of Gd22Fe52Co26 (atomic%, Gd22%, Fe52%, Co26%, the same applies hereinafter) has a thickness of 25 nm on the silicon nitride layer.
Form a film. The Curie temperature of this reproducing layer is 320 ° C.

【0051】次に、TbFeCo合金ターゲットによりスパッ
タリングを行い、 Tb22Fe74Co4による再生スイッチング
層を再生層の上に厚さ10nm成膜する。この再生スイッチ
ング層のキュリー温度は140℃である。次に、希土類金
属であるTbのターゲットと遷移金属であるFe及びCoによ
る合金ターゲットにより同時にスパッタリング(2元同
時スパッタリング:図7参照)を行いながら、基板及び
基板キャリアを同時に回転させ、Tb主体の領域とFeCo主
体の領域が交互に積層する構造を有するTb24Fe70Co6に
よるメモリー層を再生スイッチング層の上に厚さ25nm成
膜する。なお、この際、基板キャリアの回転数を変化さ
せ、数種類の異なる積層周期を有するサンプルを作成す
る。因みに、基板キャリアの回転数が50 rpmでは、Tb主
体の領域の厚さは4Åとなる。このメモリー層のキュリ
ー温度は220℃である。
Next, sputtering is performed using a TbFeCo alloy target, and a reproduction switching layer of Tb22Fe74Co4 is formed to a thickness of 10 nm on the reproduction layer. The Curie temperature of this regeneration switching layer is 140 ° C. Next, while simultaneously performing sputtering (binary simultaneous sputtering: see FIG. 7) with a target of Tb, which is a rare earth metal, and an alloy target of Fe and Co, which are transition metals, the substrate and the substrate carrier are rotated at the same time. A memory layer of Tb24Fe70Co6 having a structure in which regions and FeCo-based regions are alternately stacked is formed to a thickness of 25 nm on the reproduction switching layer. At this time, the number of rotations of the substrate carrier is changed, and samples having several kinds of different lamination periods are prepared. Incidentally, when the rotation speed of the substrate carrier is 50 rpm, the thickness of the region mainly composed of Tb is 4 °. The Curie temperature of this memory layer is 220 ° C.

【0052】次に、 GdFeCoの合金ターゲットによりス
パッタリングを行い、Gd32Fe65Co3による中間層をメモ
リー層の上に厚さ10nm成膜する。次に、希土類金属であ
るDyのターゲットと遷移金属であるFe及びCoによる合金
ターゲットにより、2元同時スパッタリングを行いなが
ら、基板及び基板キャリアを同時に回転させ、Dy主体の
領域とFeCo主体の領域が交互に積層する構造を有するDy
24Fe49Co27による記録層を中間層の上に厚さ20nm成膜す
る。なお、なお、この際、基板キャリアの回転数を変化
させ、数種類の異なる積層周期を有するサンプルを作成
する。この記録層のキュリー温度は300℃である。
Next, sputtering is performed with a GdFeCo alloy target to form an intermediate layer of Gd32Fe65Co3 on the memory layer to a thickness of 10 nm. Next, the substrate and the substrate carrier are simultaneously rotated while performing dual simultaneous sputtering with a target of Dy which is a rare earth metal and an alloy target of Fe and Co which are transition metals, so that a region mainly composed of Dy and a region mainly composed of FeCo are formed. Dy with a structure of alternately stacking
A recording layer of 24Fe49Co27 is formed on the intermediate layer to a thickness of 20 nm. Note that, at this time, the number of rotations of the substrate carrier is changed, and samples having several different lamination cycles are created. The Curie temperature of this recording layer is 300 ° C.

【0053】次に、TbFeCoの合金ターゲットによりスパ
ッタリングを行い、TbFeCoによるスイッチング層を記録
層の上に厚さ12nm成膜する。この際、異なる組成のTbFe
Co合金ターゲットを用いてスパッタリングを行い、表3
に示した組成のスイッチング層を有する複数のサンプル
を作成する。組成の違いによりこれらのスイッチング層
は異なるキュリー温度を有する。
Next, sputtering is performed using a TbFeCo alloy target, and a switching layer of TbFeCo is formed to a thickness of 12 nm on the recording layer. At this time, TbFe of different composition
Table 3 shows the results of sputtering using a Co alloy target.
A plurality of samples having a switching layer having the composition shown in FIG. Depending on the composition, these switching layers have different Curie temperatures.

【0054】次に、希土類金属であるTbのターゲットと
遷移金属であるFeCoのターゲットにより、2元同時スパ
ッタリングを行ながら、基板及び基板キャリアを同時に
回転させ、Tb主体の領域とFeCo主体の領域が交互に積層
する構造を有するTb22Fe16Co62による初期化層を厚さ20
nm成膜する。この記録層のキュリー温度は320℃であ
る。
Next, the substrate and the substrate carrier are simultaneously rotated while performing simultaneous binary sputtering with a target of Tb which is a rare earth metal and a target of FeCo which is a transition metal, so that a region mainly composed of Tb and a region mainly composed of FeCo are formed. Initialization layer of Tb22Fe16Co62 having alternately laminated structure with thickness of 20
Deposit a nm film. The Curie temperature of this recording layer is 320 ° C.

【0055】次に、最初の窒化シリコン層の成膜と同様
の手順により、窒化シリコン層を初期化層の上に厚さ30
nm成膜する。最後に、Alターゲットによりスパッタリン
グを行い、Alによる金属層を窒化シリコン層の上に成膜
する。この際、表4に示した厚さのAl層を有する複数の
サンプルを作成する。以上の手順でスパッタリングによ
る成膜を行った後、更に樹脂保護膜を塗布し、図6に示
す磁性層の構成を有する光磁気ディスクを作成する。
Next, a silicon nitride layer having a thickness of 30 nm is formed on the initialization layer by the same procedure as that for forming the first silicon nitride layer.
Deposit a nm film. Finally, sputtering is performed using an Al target, and a metal layer of Al is formed on the silicon nitride layer. At this time, a plurality of samples having an Al layer having a thickness shown in Table 4 are prepared. After a film is formed by sputtering according to the above procedure, a resin protective film is further applied to form a magneto-optical disk having the configuration of the magnetic layer shown in FIG.

【0056】次に、光磁気記録再生装置を用意する。こ
の装置は、250 Oeの記録磁界と、波長680nmの半導体レ
ーザを光源に持つ光ピックアップを有する。上記の光磁
気ディスクを光磁気記録再生装置にセットして、9.0m/s
の線速度で回転させる。光ピックアップの対物レンズに
より集光されたレーザービームを、PH=8.5mW、PL=
4.5mW、デューティー比50%の第1基準信号で変調しな
がらディスク面に照射し、マーク長さ5μm、マーク間
距離5μmとなるように記録を行う。
Next, a magneto-optical recording / reproducing apparatus is prepared. This device has an optical pickup having a recording magnetic field of 250 Oe and a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm as a light source. Set the above magneto-optical disk in the magneto-optical recording / reproducing device,
Rotate at a linear speed of. The laser beam condensed by the objective lens of the optical pickup is adjusted to PH = 8.5 mW, PL =
Irradiation is performed on the disk surface while modulating with a first reference signal of 4.5 mW and a duty ratio of 50%, and recording is performed so that the mark length is 5 μm and the distance between marks is 5 μm.

【0057】次に、周波数とデユーテイーを変更して第
2基準信号とし、この信号により、マーク長さ2μm、
マーク間距離5μmとなるようにオーバーライト記録を
行う。その後、1.5mWのビーム強度で再生し、C/N値
を測定する。 C/N値によりオーバーライト動作が良
好に行われたかどうかを判定できる。次に、再び周波数
とデユーテイーを変更して第3基準信号とし、この信号
により、マーク長さ0.35μm、マーク間距離0.35μmと
なるように再度オーバーライト記録を行う。その後、50
0(Oe)の磁場を印加した状態で2.5mWのビーム強度で再生
し、C/N値を測定する。 C/N値により超解像再生
が良好に行われたかどうかを判定できる。
Next, the frequency and the duty are changed to provide a second reference signal.
Overwrite recording is performed so that the distance between marks is 5 μm. Thereafter, reproduction is performed at a beam intensity of 1.5 mW, and the C / N value is measured. It can be determined from the C / N value whether or not the overwrite operation has been successfully performed. Next, the frequency and the duty are changed again to be the third reference signal, and the overwrite recording is performed again using this signal so that the mark length becomes 0.35 μm and the distance between marks becomes 0.35 μm. Then 50
Reproduction is performed with a beam intensity of 2.5 mW while a magnetic field of 0 (Oe) is applied, and the C / N value is measured. It can be determined from the C / N value whether super-resolution reproduction has been successfully performed.

【0058】更に、磁場の向きを逆方向(消去方向)に
してから、ビームを12.0 mWの一定強度で(変調せず
に)照射しながらディスクを50000回転させた後に、第
3基準信号によりマーク長さ0.35μm、マーク間距離0.
35μmとなるように再度オーバーライト記録を行う。そ
の後、500(Oe)の磁場を印加した状態で2.5mWのビーム強
度で再生し、C/N値を測定する。 C/N値により記
録耐久性が評価できる。なお、ここで消去方向に磁場を
印加するのは、初期化層の磁化反転を防ぐためである。
Further, after the direction of the magnetic field was reversed (erasing direction), the disk was rotated 50,000 while irradiating the beam with a constant intensity of 12.0 mW (without modulation), and then the mark was marked by the third reference signal. Length 0.35μm, distance between marks 0.
Overwrite recording is performed again so that the thickness becomes 35 μm. Thereafter, reproduction is performed with a beam intensity of 2.5 mW while a magnetic field of 500 (Oe) is applied, and the C / N value is measured. The recording durability can be evaluated by the C / N value. Here, the reason for applying the magnetic field in the erasing direction is to prevent the magnetization reversal of the initialization layer.

【0059】以上のC/N値について次に説明する。表
1はメモリー層の積層周期とC/N値の関係を示す。た
だし、スイッチング層の組成は(Tb18Fe82)Co6であり、
記録層の積層周期はDy主体の領域の厚さで3Åである。
また、Al層の厚さは30nmである。表1より、積層周期が
Tb主体の領域の厚さで4〜8Å程度では比較的高いC/N
値が得られる。しかし、積層周期がTb主体の領域の厚さ
で2Å以下となる程度まで細かくなるとC/N値が低下
し、この場合、特に磁気超解像再生におけるC/N値の
低下が著しい。一方、積層周期がTb主体の領域の厚さが
12Åを越える程度まで粗くなっても同様にC/N値は低
下する。そして、積層周期が更に粗くなると遂にはオー
バーライト不能となる。
Next, the above C / N value will be described. Table 1 shows the relationship between the lamination period of the memory layer and the C / N value. However, the composition of the switching layer is (Tb18Fe82) Co6,
The lamination cycle of the recording layer is 3 mm in the thickness of the region mainly composed of Dy.
The thickness of the Al layer is 30 nm. From Table 1, the lamination period is
Relatively high C / N when the thickness of the region mainly composed of Tb is about 4 to 8 mm
Value is obtained. However, when the lamination period is reduced to a thickness of 2 ° or less in the region mainly composed of Tb, the C / N value decreases. In this case, the C / N value in magnetic super-resolution reproduction in particular decreases remarkably. On the other hand, the thickness of the region mainly composed of Tb is
The C / N value similarly decreases even if the roughness is increased to a level exceeding 12 °. Then, when the lamination cycle becomes further coarse, overwriting is finally impossible.

【0060】表2は記録層の積層周期とC/N値の関係
を示す。ただし、スイッチング層の組成は(Tb18Fe82)Co
6であり、メモリー層の積層周期はTb主体の領域の厚さ
で4Åである。また、Al層の厚さは30nmである。表2よ
り、積層周期がDy主体の領域の厚さで4〜8Å程度では比
較的高いC/N値が得られる。しかし、積層周期がDy主
体の領域の厚さで2〜10Åの範囲以外ではC/N値は低
く、特に積層周期がDy主体の領域の厚さで14Å以上にな
るとオーバーライト不能となる。
Table 2 shows the relationship between the lamination period of the recording layer and the C / N value. However, the composition of the switching layer is (Tb18Fe82) Co
The stacking period of the memory layer is 4 ° in the thickness of the region mainly composed of Tb. The thickness of the Al layer is 30 nm. From Table 2, it can be seen that a relatively high C / N value can be obtained when the lamination period is about 4 to 8 ° in the thickness of the region mainly composed of Dy. However, the C / N value is low when the lamination period is out of the range of 2 to 10 ° in the thickness of the region mainly composed of Dy. In particular, when the lamination period is 14 ° or more in the thickness of the region mainly composed of Dy, overwriting becomes impossible.

【0061】表3はスイッチング層の組成とC/N値の
関係を示す。組成の変化によりキュリー温度が変化する
様子も表3に示している。ただし、メモリー層の積層周
期はTb主体の領域の厚さで4Åであり、記録層の積層周
期はDy主体の領域の厚さで3Åである。また、 Al層の厚
さは30nmである。表3より、スイッチング層のキュリー
温度Tcsがメモリー層のキュリー温度Tcmである220℃
に対して30℃を越えて低くなるとC/N値が低下し始
め、更にスイッチング層のキュリー温度Tcsがそれ以上
に低下するとオーバーライト不能となる。一方、スイッ
チング層のキュリー温度Tcsがメモリー層のキュリー温
度Tcmである220℃に対して30℃を越えて高くなっても
C/N値は低下し始め、更に更にスイッチング層のキュ
リー温度Tcsがそれ以上に高くなるとオーバーライト不
能となる。
Table 3 shows the relationship between the composition of the switching layer and the C / N value. Table 3 also shows how the Curie temperature changes with a change in the composition. However, the lamination period of the memory layer is 4 mm in the thickness of the region mainly composed of Tb, and the lamination period of the recording layer is 3 mm in the region mainly composed of Dy. The thickness of the Al layer is 30 nm. From Table 3, the Curie temperature Tcs of the switching layer is 220 ° C., which is the Curie temperature Tcm of the memory layer.
When the temperature falls below 30 ° C., the C / N value starts to decrease, and when the Curie temperature Tcs of the switching layer further decreases, overwriting becomes impossible. On the other hand, even when the Curie temperature Tcs of the switching layer is higher than 30 ° C. with respect to the Curie temperature Tcm of the memory layer of 220 ° C., the C / N value starts to decrease, and the Curie temperature Tcs of the switching layer further decreases. If it is higher than this, overwriting becomes impossible.

【0062】次に、表4にAl層の厚さとC/N値の関係
を示す。ただし、スイッチング層の組成は(Tb18Fe82)Co
6である。メモリー層の積層周期はTb主体の領域の厚さ
で4Åであり、また、記録層の積層周期はDy主体の領域
の厚さで3Åである。表4より、Al層の厚さが10nmを下
回るとC/N値が低下し、特に第3基準信号による長さ
が短い記録マークを再生する際のC/N値は著しく低下
する。厚さが20nm以上ではより高いC/N値が得られ
る。
Next, Table 4 shows the relationship between the thickness of the Al layer and the C / N value. However, the composition of the switching layer is (Tb18Fe82) Co
6 The lamination period of the memory layer is 4 mm in the thickness of the region mainly composed of Tb, and the lamination period of the recording layer is 3 mm in the region mainly composed of Dy. As can be seen from Table 4, when the thickness of the Al layer is less than 10 nm, the C / N value decreases, and particularly, the C / N value at the time of reproducing a short recording mark by the third reference signal decreases significantly. When the thickness is 20 nm or more, a higher C / N value can be obtained.

【0063】次に、再生層と再生スイッチング層の間に
Gd26Fe72Co2による再生中間層を厚さ6nm形成したサン
プル(図5参照)を作成する。ここで、スイッチング層
の組成は(Tb18Fe82)Co6である。メモリー層の積層周期
はTb主体の領域の厚さで4Åであり、また、記録層の積
層周期はDy主体の領域の厚さで4Åである。また、Al層
の厚さは30nmである。
Next, between the reproducing layer and the reproducing switching layer,
A sample (see FIG. 5) in which a reproduction intermediate layer of Gd26Fe72Co2 was formed to a thickness of 6 nm was prepared. Here, the composition of the switching layer is (Tb18Fe82) Co6. The lamination period of the memory layer is 4 ° in the thickness of the region mainly composed of Tb, and the lamination period of the recording layer is 4 ° in the thickness of the region mainly composed of Dy. The thickness of the Al layer is 30 nm.

【0064】C/N値の測定を再生中間層を設けていな
いサンプルに対して行うのと全く同様に行う。また、室
温における再生層の磁化を反転させるのに必要な磁界の
大きさ(反転磁界)を測定する。表5は、再生中間層を
設けないサンプルと設けたサンプルのC/N値及び反転
磁界の比較を示す。表5より、両者にC/N値の違いは
ないが,再生中間層を設けたサンプルでは反転磁界が小
さいことがわかる。
The measurement of the C / N value is performed in exactly the same way as for the sample having no reproducing intermediate layer. Further, the magnitude of a magnetic field (reversal magnetic field) required to reverse the magnetization of the reproducing layer at room temperature is measured. Table 5 shows a comparison of the C / N value and the reversal magnetic field between the sample without the reproducing intermediate layer and the sample with the reproducing intermediate layer. Table 5 shows that there is no difference in the C / N value between the two, but the sample provided with the reproducing intermediate layer has a small reversal magnetic field.

【0065】再生中間層を設けたサンプルにおける磁気
超解像再生の原理を、再生中間層のないサンプルにおけ
る磁気超解像再生と比較して説明する。図6は再生中間
層がない場合であり、図5は再生中間層を設けた場合の
磁気超解像再生の説明図である。まず、再生中間層が無
い場合は図6に示すように、再生ビーム照射中心位置よ
りやや後方に生じる高温領域で、再生スイッチング層の
キュリー温度以上の温度となるために、再生スイッチン
グ層の磁化が消滅し、再生層とメモリー層の間に働く交
換結合力がゼロになるか小さくなる。いずれにしても、
交換結合力が極めて小さくなることで、再生層の磁化を
反転させるための反転磁界を小さくすることができ、そ
の状態で再生磁界の働きにより再生層の磁化が所定の方
向に揃う。即ち、マスクが形成され、超解像再生が行わ
れる。
The principle of magnetic super-resolution reproduction in a sample provided with a reproduction intermediate layer will be described in comparison with magnetic super-resolution reproduction in a sample without a reproduction intermediate layer. FIG. 6 shows a case where there is no reproduction intermediate layer, and FIG. 5 is an explanatory diagram of magnetic super-resolution reproduction when a reproduction intermediate layer is provided. First, when there is no reproducing intermediate layer, as shown in FIG. 6, the temperature of the reproducing switching layer becomes equal to or higher than the Curie temperature of the reproducing switching layer in a high temperature region generated slightly behind the center position of the reproducing beam irradiation. It disappears, and the exchange coupling force acting between the reproducing layer and the memory layer becomes zero or small. In any case,
When the exchange coupling force is extremely small, the reversal magnetic field for reversing the magnetization of the reproducing layer can be reduced, and in this state, the magnetization of the reproducing layer is aligned in a predetermined direction by the action of the reproducing magnetic field. That is, a mask is formed, and super-resolution reproduction is performed.

【0066】ここで、図5に示すように再生中間層を再
生層と再生スイッチング層の間に設けたものでは、これ
により室温程度の低い温度における再生層と再生スイッ
チング層の間に働く交換結合力を小さくできる。その結
果、再生ビームの照射位置以外の場所でも、数百Oe程度
の再生磁界を印加するだけで再生層の磁化を所定の方向
に揃えることができる。即ち、この構成の媒体では、高
温領域にマスクが生成すると同時にビームの周辺にもマ
スクが生成する。このビーム周辺のマスクにより、隣接
したトラックに記録された情報を同時に再生することが
なくなり、クロストークを低減できる。即ち、狭トラッ
クピッチ化に対してより有利となる。また、同時に再生
ビーム前方の低温部でもマスクが形成されるため、マー
ク間距離を短くすることができ、記録再生の高密度化に
対してより有利である。
Here, when the reproducing intermediate layer is provided between the reproducing layer and the reproducing switching layer as shown in FIG. 5, the exchange coupling acting between the reproducing layer and the reproducing switching layer at a temperature as low as about room temperature can be achieved. Power can be reduced. As a result, even in a place other than the irradiation position of the reproduction beam, the magnetization of the reproduction layer can be aligned in a predetermined direction only by applying a reproduction magnetic field of about several hundred Oe. That is, in the medium having this configuration, a mask is generated in a high-temperature region and at the same time a mask is generated around the beam. By using the mask around the beam, information recorded on adjacent tracks is not reproduced at the same time, and crosstalk can be reduced. That is, it is more advantageous to narrow the track pitch. At the same time, since a mask is formed in the low-temperature portion in front of the reproduction beam, the distance between marks can be shortened, which is more advantageous for increasing the density of recording and reproduction.

【0067】再生層を合金ターゲットを用いたスパッタ
リングによらずに、2元同時スパッタリングにより、積
層周期がGd主体の領域の厚さで4Åとなるように成膜し
た以外は、同じ構成のサンプルを作成し、上記の手順で
測定しようとすると、メモリー層、記録層の積層周期に
関係なくオーバーライト不能である。オーバーライト記
録された記録層の磁化が、メモリー層、第1遮断層、再
生層へ良好に転写しないことによるものと考えられる。
A sample having the same structure as that of the sample except that the reproducing layer was formed by binary simultaneous sputtering without using an alloy target so that the lamination period was 4 ° in the thickness of the region mainly composed of Gd. When it is created and measured by the above procedure, overwriting is impossible regardless of the lamination cycle of the memory layer and the recording layer. It is considered that the magnetization of the overwritten recording layer is not transferred well to the memory layer, the first blocking layer, and the reproducing layer.

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明により、磁気超解像再生の際、再
生ビーム強度を低く抑えることができ、また、C/N値
が高く、記録速度が速く、高密度記録した情報を確実に
再生することが可能な光磁気記録媒体及びその再生方法
の提供が可能となる。また、十分な記録耐久性を有する
光変調オーバーライト可能な光磁気記録媒体の製造方法
の提供が可能となる。
According to the present invention, the reproducing beam intensity can be suppressed at the time of magnetic super-resolution reproduction, and the C / N value is high, the recording speed is high, and the information recorded at high density is reliably reproduced. It is possible to provide a magneto-optical recording medium and a reproducing method therefor. Further, it is possible to provide a method of manufacturing a magneto-optical recording medium capable of overwriting with light modulation having sufficient recording durability.

【0069】[0069]

【表1】 [Table 1]

【0070】[0070]

【表2】 [Table 2]

【0071】[0071]

【表3】 [Table 3]

【0072】[0072]

【表4】 [Table 4]

【0073】[0073]

【表5】 [Table 5]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る光磁気記録媒体の構成を説明す
る垂直断面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view illustrating a configuration of a magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図2】 本発明に係る光磁気記録媒体の構成を説明す
る垂直断面図である。
FIG. 2 is a vertical sectional view illustrating a configuration of a magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図3】 本発明に係る光磁気記録媒体の再生原理を説
明する垂直断面図である。
FIG. 3 is a vertical sectional view for explaining the principle of reproduction of the magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図4】 本発明に係る光磁気記録媒体の再生原理を説
明する垂直断面図である。
FIG. 4 is a vertical sectional view for explaining the principle of reproduction of the magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図5】 本発明に係る光磁気記録媒体の再生原理を説
明する垂直断面図である。
FIG. 5 is a vertical sectional view for explaining the principle of reproduction of the magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図6】 本発明に係る光磁気記録媒体の再生原理を説
明する垂直断面図である。
FIG. 6 is a vertical sectional view for explaining the principle of reproduction of the magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図7】 2元同時スパッタリング法を説明する概念図
である。
FIG. 7 is a conceptual diagram illustrating a binary simultaneous sputtering method.

【図8】 CADタイプの磁気超解像再生可能な光磁気
記録媒体の再生原理を説明する概念図である。
FIG. 8 is a conceptual diagram illustrating the principle of reproduction of a magneto-optical recording medium capable of reproducing magnetic super-resolution of a CAD type.

【図9】 FADタイプの磁気超解像再生可能な光磁気
記録媒体の再生原理を説明する概念図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram illustrating the principle of reproduction of a magneto-optical recording medium capable of reproducing magnetic super-resolution of the FAD type.

【図10】 ダブルマスクタイプの磁気超解像再生可能
な光磁気記録媒体の再生原理を説明する概念図である。
FIG. 10 is a conceptual diagram illustrating the principle of reproduction of a magneto-optical recording medium capable of reproducing magnetic super-resolution of a double mask type.

フロントページの続き (72)発明者 岡室 昭男 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 株 式会社ニコン内 (72)発明者 古田 正寛 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 株 式会社ニコン内Continued on the front page (72) Inventor Akio Omuro 3-2-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Nikon Corporation (72) Inventor Masahiro Furuta 3-2-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Nikon Corporation Inside

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも再生層、再生中間層、再生ス
イッチング層、及びメモリー層の順に4層の磁性層を有
し、前記各層は希土類金属及び遷移金属を主体とする磁
性体からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
1. At least four magnetic layers in the order of a reproducing layer, a reproducing intermediate layer, a reproducing switching layer, and a memory layer, wherein each of the layers is made of a magnetic material mainly composed of a rare earth metal and a transition metal. Magneto-optical recording medium.
【請求項2】 請求項1記載の光磁気記録媒体におい
て、 再生中間層の厚さは2〜60nmであることを特徴とする光
磁気記録媒体。
2. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the reproducing intermediate layer is 2 to 60 nm.
【請求項3】 請求項1記載の光磁気記録媒体におい
て、 再生スイッチング層の厚さは5〜50nmであることを特徴
とする光磁気記録媒体。
3. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the reproduction switching layer has a thickness of 5 to 50 nm.
【請求項4】 請求項1記載の光磁気記録媒体におい
て、 再生スイッチング層が、 Coを原子%で20%以下含有す
るTbFeCo またはTbFeからなることを特徴とする光磁気
記録媒体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the reproducing switching layer is made of TbFeCo or TbFe containing 20% or less of Co by atomic%.
【請求項5】 請求項1記載の光磁気記録媒体におい
て、 再生中間層が、Gdを原子%で20〜40%含有する、GdFeま
たはGdFeCoからなることを特徴とする光磁気記録媒体。
5. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the reproducing intermediate layer is made of GdFe or GdFeCo containing 20 to 40% of Gd by atomic%.
【請求項6】 請求項1記載の光磁気記録媒体におい
て、 再生中間層の磁化は、所定の温度以下では面内磁気異方
性を示し、それ以上では垂直磁気異方性を示すことを特
徴とする光磁気記録媒体。
6. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetization of the reproducing intermediate layer exhibits in-plane magnetic anisotropy at a temperature lower than a predetermined temperature, and exhibits perpendicular magnetic anisotropy at a temperature higher than the predetermined temperature. Magneto-optical recording medium.
【請求項7】 請求項1記載の光磁気記録媒体におい
て、 再生中間層の磁化は、所定の温度Triより低い領域では
面内磁化となり、前記Triより高い領域では垂直磁化と
なり、かつ、前記Triは再生スイッチング層のキュリー
温度Tcrsより低いことを特徴とする光磁気記録媒体。
7. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetization of the reproducing intermediate layer is in-plane magnetization in a region lower than a predetermined temperature Tri, is perpendicular magnetization in a region higher than the predetermined temperature Tri, and is equal to the tri-state magnetization. A magneto-optical recording medium characterized by having a temperature lower than the Curie temperature Tcrs of the reproducing switching layer.
【請求項8】 請求項7記載の光磁気記録媒体におい
て、 40<Tcrs −Tri <250 の関係が成り立つことを特徴とする光磁気記録媒体。
8. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein a relationship of 40 <Tcrs-Tri <250 is satisfied.
【請求項9】 少なくとも再生層、再生スイッチング
層、メモリー層、中間層、記録層、スイッチング層及び
初期化層の7層の磁性層を有する光磁気記録媒体におい
て、 前記各層は希土類金属及び遷移金属を主体とする磁性体
からなり、再生層は希土類金属と遷移金属を主体とした
合金構造であり、メモリー層は希土類金属主体の領域と
遷移金属主体の領域が交互に積層した積層構造を有する
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
9. A magneto-optical recording medium having at least seven magnetic layers of a reproducing layer, a reproducing switching layer, a memory layer, an intermediate layer, a recording layer, a switching layer, and an initialization layer, wherein each of the layers is a rare earth metal and a transition metal. The playback layer has an alloy structure mainly composed of a rare earth metal and a transition metal, and the memory layer has a laminated structure in which a region mainly composed of a rare earth metal and a region mainly composed of a transition metal are alternately laminated. A magneto-optical recording medium characterized by the following.
【請求項10】 少なくとも再生層、再生中間層、再生
スイッチング層、メモリー層、中間層、記録層、スイッ
チング層及び初期化層の8層の磁性層を有し、前記各層
は希土類金属及び遷移金属を主体とする磁性体からなる
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
10. At least eight magnetic layers of a reproducing layer, a reproducing intermediate layer, a reproducing switching layer, a memory layer, an intermediate layer, a recording layer, a switching layer, and an initialization layer, each of which is a rare earth metal and a transition metal A magneto-optical recording medium comprising a magnetic substance mainly composed of:
【請求項11】 請求項10記載の光磁気記録媒体にお
いて、 再生層は希土類金属と遷移金属を主体とした合金構造で
あり、 メモリー層は希土類金属主体の領域と遷移金属主体の領
域が交互に積層した積層構造を有することを特徴とする
光磁気記録媒体。
11. The magneto-optical recording medium according to claim 10, wherein the reproducing layer has an alloy structure mainly composed of a rare earth metal and a transition metal, and the memory layer has a region mainly composed of a rare earth metal and a region mainly composed of a transition metal. A magneto-optical recording medium having a laminated structure.
【請求項12】 請求項9及び11記載の光磁気記録媒
体において、 記録層は希土類金属主体の領域と遷移金属主体の領域が
交互に積層した積層構造を有することを特徴とする光磁
気記録媒体。
12. The magneto-optical recording medium according to claim 9, wherein the recording layer has a laminated structure in which a region mainly composed of a rare earth metal and a region mainly composed of a transition metal are alternately laminated. .
【請求項13】 請求項9及び11記載の光磁気記録媒
体において、 メモリー層の積層周期は、希土類金属主体の領域の厚さ
が2Å〜10Åとなる周期であることを特徴とする光磁気
記録媒体。
13. The magneto-optical recording medium according to claim 9, wherein the lamination period of the memory layer is a period in which the thickness of the region mainly composed of a rare earth metal is 2 to 10 degrees. Medium.
【請求項14】 請求項9及び11記載の光磁気記録媒
体において、 記録層の積層周期は、希土類金属主体の領域の厚さが共
に2Å〜10Åとなることを特徴とする光磁気記録媒体。
14. The magneto-optical recording medium according to claim 9, wherein the lamination cycle of the recording layer is such that the thickness of the region mainly composed of the rare earth metal is 2 to 10 degrees.
【請求項15】 請求項9及び11記載の光磁気記録媒
体において、 メモリー層のキュリー温度とスイッチング層のキュリー
温度をそれぞれTcm、Tcsとしたとき、Tcm−30< Tc
s< Tcm+30(単位℃)を満たすことを特徴とする光
磁気記録媒体。
15. The magneto-optical recording medium according to claim 9, wherein when the Curie temperature of the memory layer and the Curie temperature of the switching layer are Tcm and Tcs, respectively, Tcm−30 <Tc
A magneto-optical recording medium satisfying s <Tcm + 30 (unit: ° C.).
【請求項16】 請求項9及び11記載の光磁気記録媒
体において、 初期化層の上に誘電体層を形成し、更にその上に金属層
を形成することを特徴とする光磁気記録媒体。
16. The magneto-optical recording medium according to claim 9, wherein a dielectric layer is formed on the initialization layer, and a metal layer is further formed thereon.
【請求項17】 請求項16記載の光磁気記録媒体にお
いて、 金属層の厚さは10nm以上であることを特徴とする光磁気
記録媒体。
17. The magneto-optical recording medium according to claim 16, wherein the thickness of the metal layer is 10 nm or more.
【請求項18】 請求項16記載の光磁気記録媒体にお
いて、 金属層はAlからなることを特徴とする光磁気記録媒体。
18. The magneto-optical recording medium according to claim 16, wherein the metal layer is made of Al.
【請求項19】 請求項18記載の光磁気記録媒体にお
いて、 金属層はAlとTiからなることを特徴とする光磁気記録媒
体。
19. The magneto-optical recording medium according to claim 18, wherein the metal layer is made of Al and Ti.
【請求項20】 請求項1、9及び11記載の光磁気記
録媒体を再生する再生方法において、 前記媒体に再生レベルのビームを照射すると共に、絶対
値で600 Oe以下の強さの再生磁界を印加しながら再生す
ることを特徴とする光磁気記録媒体の再生方法。
20. The reproducing method for reproducing a magneto-optical recording medium according to claim 1, 9 or 11, wherein the medium is irradiated with a reproducing level beam and a reproducing magnetic field having an absolute value of 600 Oe or less is applied. A reproduction method for a magneto-optical recording medium, wherein reproduction is performed while applying a voltage.
【請求項21】 請求項20記載の光磁気記録媒体を再
生する再生方法において、 再生位置における前記媒体の線速度が一定であることを
特徴とする光磁気記録媒体の再生方法。
21. A reproducing method for reproducing a magneto-optical recording medium according to claim 20, wherein a linear velocity of the medium at a reproducing position is constant.
【請求項22】 請求項11記載の光磁気記録媒体の製
造方法において、 メモリー層の積層構造は2元同時スパッタリングにより
成膜することにより形成することを特徴とする光磁気記
録媒体の製造方法。
22. The method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 11, wherein the laminated structure of the memory layer is formed by forming a film by binary simultaneous sputtering.
【請求項23】 請求項12記載の光磁気記録媒体の製
造方法において、メモリー層及び記録層の積層構造は2
元同時スパッタリングにより成膜することにより形成す
ることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
23. The method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein the laminated structure of the memory layer and the recording layer is 2
A method for manufacturing a magneto-optical recording medium, comprising forming a film by original simultaneous sputtering.
JP8240719A 1996-09-03 1996-09-11 Magneto-optical recording medium, its reproducing method and its production Withdrawn JPH10134428A (en)

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