JPH11176034A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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Publication number
JPH11176034A
JPH11176034A JP9335747A JP33574797A JPH11176034A JP H11176034 A JPH11176034 A JP H11176034A JP 9335747 A JP9335747 A JP 9335747A JP 33574797 A JP33574797 A JP 33574797A JP H11176034 A JPH11176034 A JP H11176034A
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JP
Japan
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film
reproduction
temperature
magnetization
reproducing
Prior art date
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Application number
JP9335747A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Furuta
正寛 古田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Publication of JPH11176034A publication Critical patent/JPH11176034A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magneto-optical recording medium in which the information in a memory film is surely masked by both high and low temperature regions in a beam spot even though the external magnetic field applied during a reproducing is small and a high density information in the memory film only can be accurately reproduced by a small medium temperature region. SOLUTION: On the substrate 21 of the magneto-optical recording medium 10, a reproducing film 11, which is made of a vertically magnetized film, a reproducing intermediate film 12, which is made of an intrasurface magnetized film, a reproducing auxiliary film 13, which is made of an intrasurface magnetized film, and a memory film 14, which is made of a vertically magnetized film, are successively formed. Note that the Curie temperature of the film 12 is lower than the Curie temperatures of both the films 11 and 14. The Curie temperature of the film 13 is lower than either one of the Curie temperatures of the films 11 or 14 and the temperature, in which the intrasurface magnetization state is changed to the vertically magnetization state, is high than the temperature, in which the intrasurface magnetization state of the film 12 is changed to a vertically magnetized state.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報の磁気超解像
再生が可能な光磁気記録媒体に関する。
The present invention relates to a magneto-optical recording medium capable of reproducing information by magnetic super-resolution.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、光磁気ディスク(光磁気記録
媒体)では、大容量化の要求に応えるために、情報を高
密度に記録する技術と、高密度に記録された情報を正確
に再生する技術との双方が必要とされている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a magneto-optical disk (magneto-optical recording medium), a technology for recording information at a high density and a technique for accurately reproducing the information recorded at a high density have been proposed in order to meet a demand for a large capacity. Both techniques are needed.

【0003】このうち、情報を高密度に記録する技術に
は、筆先記録法がある。この筆先記録法は、記録光の照
射によって光磁気ディスクに生じる温度分布を利用し、
光磁気ディスクの温度が所定温度よりも高くなった領域
に、記録光のビームスポットよりも小さい記録マークを
形成するものである。また、高密度な情報を正確に再生
する技術には、磁気超解像技術(Magnetical-ly induced
Super Resolution)がある。この磁気超解像技術は、
再生光の照射によって光磁気ディスクに生じる温度分布
を利用し、再生光のビームスポットよりも小さい領域
で、記録マークを再生するものである。
[0003] Among them, a technique for recording information at high density includes a pen tip recording method. This pen tip recording method utilizes a temperature distribution generated in a magneto-optical disk by irradiation of recording light,
A recording mark smaller than a beam spot of recording light is formed in a region where the temperature of the magneto-optical disk is higher than a predetermined temperature. In addition, technologies for accurately reproducing high-density information include magnetic super-resolution technology (Magnetic-ly induced
Super Resolution). This magnetic super-resolution technology,
The recording mark is reproduced in an area smaller than the beam spot of the reproducing light by utilizing the temperature distribution generated in the magneto-optical disk by the irradiation of the reproducing light.

【0004】この磁気超解像技術には、近年、様々な方
式のものが提案されており、そのうちの1つに、ダブル
マスク方式(以下「D−RAD」という)がある。この
D−RADは、再生光の照射によって光磁気ディスクの
温度が所定の範囲内となった小さい領域で再生を行うも
のである。このような2つの技術(筆先記録法,D−R
AD)を取り入れた光磁気ディスク100は、図10に
示される構造となっている。すなわち、この光磁気ディ
スク100は、図10の上方から下方に向かって、基板
121に、保護膜122、再生膜111、再生中間膜1
12、メモリー膜113および保護膜123が順次形成
されたものである。
In recent years, various types of magnetic super-resolution techniques have been proposed, one of which is a double mask method (hereinafter referred to as "D-RAD"). The D-RAD performs reproduction in a small area where the temperature of the magneto-optical disk falls within a predetermined range by irradiation of the reproduction light. These two technologies (brush writing method, DR
The magneto-optical disk 100 incorporating AD) has a structure shown in FIG. That is, the magneto-optical disk 100 includes a protective film 122, a reproducing film 111, and a reproducing intermediate film 1 on a substrate 121 from above to below in FIG.
12, a memory film 113 and a protective film 123 are sequentially formed.

【0005】このうちメモリー膜113は、筆先記録法
を用いて情報が記録される垂直磁化膜である。情報の記
録に当たって記録光が照射されると、光磁気ディスク1
00には温度分布が生じ、記録光のビームスポット内の
小さい領域で、その温度が所定温度Tkよりも高くな
る。
[0005] Among them, the memory film 113 is a perpendicular magnetization film on which information is recorded by using the pen tip recording method. When recording light is applied to record information, the magneto-optical disk 1
00 has a temperature distribution, and its temperature becomes higher than a predetermined temperature Tk in a small area within the beam spot of the recording light.

【0006】このとき小さい領域内のメモリー膜113
は保磁力が低下しているため、外部磁界の影響でその磁
化の向きを反転させることができる。その結果、メモリ
ー膜113に、記録光のビームスポットよりも小さい記
録マーク113Aが1つ形成される。さらに、このよう
な小さい記録マーク113Aは、記録光を情報に応じて
断続させながら照射することによって、次々にメモリー
膜113に形成することができる。
At this time, the memory film 113 in a small area
Since the coercive force is reduced, the magnetization direction can be reversed under the influence of an external magnetic field. As a result, one recording mark 113A smaller than the beam spot of the recording light is formed on the memory film 113. Further, such small recording marks 113A can be successively formed on the memory film 113 by irradiating recording light intermittently according to information.

【0007】また、このようにしてメモリー膜113に
高密度に記録された情報(複数の記録マーク113A,
113A,…)は、再生膜111と再生中間膜112と
によるD−RADを用い、1つずつ再生することができ
る。ここで、再生膜111は垂直磁化膜、再生中間膜1
12は面内磁化膜で構成される。情報の再生に当たって
再生光141が照射されると、光磁気ディスク100に
は温度分布が生じ、再生光141のビームスポット14
1A内は、ある温度を境に、3つの領域に分けて考える
ことができる(図10,図11)。
In addition, information (a plurality of recording marks 113A,
113A,...) Can be reproduced one by one using D-RAD by the reproduction film 111 and the reproduction intermediate film 112. Here, the reproducing film 111 is a perpendicular magnetization film, and the reproducing intermediate film 1
Reference numeral 12 denotes an in-plane magnetization film. When the reproduction light 141 is irradiated in reproducing the information, a temperature distribution is generated in the magneto-optical disk 100, and the beam spot 14 of the reproduction light 141 is generated.
The inside of 1A can be considered by dividing into three regions at a certain temperature (FIGS. 10 and 11).

【0008】その3つの領域は、ディスク移動方向10
0Aの前方(図10中、左方)から順に、その温度が所
定温度Ts1よりも高い半円状の高温領域141Fと、
所定温度Ts1よりも低く所定温度Ts2よりも高い中
温領域141Eと、所定温度Ts2よりも低い低温領域
141Dとである。このように、ディスク移動方向10
0Aの前方に位置する領域ほど温度が高くなるのは、光
磁気ディスク100がディスク移動方向100Aに移動
したときに、後方(図10中、右方)に位置する領域よ
りも前方(図10中、左方)の領域の方に長時間、再生
光141が照射されるからである。
[0008] The three areas are in the disk moving direction 10
0A, in order from the front (left side in FIG. 10), a semicircular high-temperature region 141F whose temperature is higher than a predetermined temperature Ts1,
An intermediate temperature region 141E lower than the predetermined temperature Ts1 and higher than the predetermined temperature Ts2, and a low temperature region 141D lower than the predetermined temperature Ts2. Thus, the disk moving direction 10
The higher the temperature is in the region located in front of 0A, the more the temperature is higher than the region located in the rear (to the right in FIG. 10) when the magneto-optical disk 100 moves in the disk moving direction 100A (in FIG. 10). , Left) is irradiated with the reproduction light 141 for a long time.

【0009】そして、温度が異なる3つの領域が生じた
ビームスポット141Aのうち、高温領域141Fと低
温領域141Dとで、メモリー膜113の記録マーク1
13A,113A,…が再生膜111に転写されること
なくマスクされる。ここで、従来のD−RADでは、ビ
ームスポット141Aに継続的に一定の大きさの再生磁
界Hrを印加し、高温領域141Fおよび低温領域14
1Dの再生膜111の磁化を一定の垂直磁化状態に保つ
ことにより、高温領域141Fおよび低温領域141D
で確実にメモリー膜113の記録マーク113A,11
3A,…をマスクするようにしていた。
[0009] Of the beam spot 141A in which three regions having different temperatures are generated, the recording mark 1 of the memory film 113 is formed between the high temperature region 141F and the low temperature region 141D.
Are masked without being transferred to the reproduction film 111. Here, in the conventional D-RAD, a reproducing magnetic field Hr of a constant magnitude is continuously applied to the beam spot 141A, and the high-temperature area 141F and the low-temperature area 14F are applied.
By maintaining the magnetization of the 1D reproducing film 111 in a constant perpendicular magnetization state, the high-temperature region 141F and the low-temperature region 141D
To ensure that the recording marks 113A, 11
3A,... Were masked.

【0010】なお、これら2つのマスクできる領域のう
ち、高温領域141Fでは、再生中間膜112の磁化が
消失しているため、小さな再生磁界Hrでも十分に、再
生膜111の磁化を一定の垂直磁化状態に保つことがで
きる。しかし、低温領域141Dでは、再生中間膜11
2の磁化は、隣接した磁性体がなければ面内磁化状態に
保たれるものの、隣接して磁性膜が形成されている場合
には、その磁性膜からの交換結合力の影響を受けて、そ
の面内磁化状態が不安定となる。
In the high-temperature region 141F of these two maskable regions, the magnetization of the reproducing intermediate film 112 has disappeared. Can be kept in condition. However, in the low temperature region 141D, the reproduced intermediate film 11
The magnetization of No. 2 is maintained in an in-plane magnetization state if there is no adjacent magnetic body, but when a magnetic film is formed adjacently, it is affected by the exchange coupling force from the magnetic film, The in-plane magnetization state becomes unstable.

【0011】したがって、この低温領域141Dでは、
再生中間膜112の磁化は、隣接するメモリー膜114
(磁化が垂直磁化状態)からの交換結合力の影響を受け
て、メモリー膜14の磁化に倣って同じ向きになりやす
くなっている。仮に、再生中間膜112の磁化が、メモ
リー膜114の磁化と同じ向きになってしまうと、それ
が再生膜111にそのまま交換結合力で転写されてしま
い、再生膜111の磁化が一定の垂直磁化状態に保たれ
ず、マスクが不十分となる。
Therefore, in the low temperature region 141D,
The magnetization of the reproducing intermediate film 112 is
Under the influence of the exchange coupling force from (the magnetization is in a perpendicular magnetization state), the orientation tends to be the same in accordance with the magnetization of the memory film 14. If the magnetization of the reproducing intermediate film 112 is oriented in the same direction as the magnetization of the memory film 114, it is directly transferred to the reproducing film 111 by the exchange coupling force, and the magnetization of the reproducing film 111 has a constant perpendicular magnetization. The state is not maintained and the mask becomes insufficient.

【0012】このため、従来のD−RADでは、低温領
域141Dにおいて、再生膜111の磁化を一定の垂直
磁化状態とするため、再生磁界Hrの大きさを、500
(Oe)〜600(Oe)程度に大きくしていた。一方、中
温領域141Eでは、再生中間膜112の磁化が、面内
磁化状態から変化して垂直磁化状態となる。このため、
中温領域141Eでは、メモリー膜113に形成された
記録マーク113A,113A,…のうちの1つが、再
生中間膜112(転写マーク112A)→再生膜111
(転写マーク111A)と順に転写される。
For this reason, in the conventional D-RAD, the magnitude of the reproducing magnetic field Hr is set to 500 to keep the magnetization of the reproducing film 111 in a constant perpendicular magnetization state in the low temperature region 141D.
(Oe) to about 600 (Oe). On the other hand, in the middle temperature region 141E, the magnetization of the reproducing intermediate film 112 changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state. For this reason,
In the medium temperature region 141E, one of the recording marks 113A, 113A,... Formed on the memory film 113 is changed from the reproducing intermediate film 112 (transfer mark 112A) to the reproducing film 111.
(Transfer mark 111A).

【0013】したがって、ビームスポット141Aで反
射した再生光141の成分を検出することによって、小
さい中温領域141Eの再生膜111に形成された1つ
の転写マーク111Aのみを正確に(例えば、クロスト
ークが生じないように)再生することができる。このよ
うに、従来のD−RADによれば、大きい再生磁界Hr
を印加することで、高温領域141Fのみならず低温領
域141Dでも確実にマスクを形成し、小さな中温領域
141Eのみで、メモリー膜113に形成された記録マ
ーク113A,113A,…を1つずつ正確に再生する
ことができる。
Therefore, by detecting the component of the reproduction light 141 reflected by the beam spot 141A, only one transfer mark 111A formed on the reproduction film 111 in the small middle temperature region 141E can be accurately detected (for example, crosstalk occurs). Can be played). Thus, according to the conventional D-RAD, a large reproducing magnetic field Hr
Is applied, the mask is surely formed not only in the high-temperature region 141F but also in the low-temperature region 141D, and the recording marks 113A, 113A,. Can be played.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】ここで、従来のD−R
ADにおいて、大きい再生磁界Hr(500(Oe)〜6
00(Oe))を光磁気ディスク100に印加するために
は、記録再生装置側に、外形の大きな磁石を内蔵する
か、巻数を多くした磁気コイルと大きな電源とを内蔵す
ることが必要となる。
Here, the conventional D-R
In AD, a large reproducing magnetic field Hr (500 (Oe) to 6
In order to apply (00 (Oe)) to the magneto-optical disk 100, it is necessary to incorporate a magnet having a large outer shape or a magnetic coil having a large number of turns and a large power supply in the recording / reproducing apparatus. .

【0015】しかし、最近の記録再生装置は小型化が必
須であり、このような大きな磁界発生源を内蔵すること
は小型化の妨げになる。また、大きな磁界発生源を内蔵
した記録再生装置は、大型化した分、高価なものとなっ
てしまう。本発明の目的は、再生光のビームスポット内
の低温領域と高温領域との双方でメモリー膜に記録され
た情報をマスクするに当たり、このとき印加される外部
磁界が小さくても、小さい中温領域のみでメモリー膜に
記録された情報の正確な再生を行うことができる光磁気
記録媒体を提供することにある。
However, the recent recording / reproducing apparatus must be miniaturized, and the incorporation of such a large magnetic field source hinders miniaturization. Further, a recording / reproducing apparatus having a built-in large magnetic field generating source is expensive because of its large size. An object of the present invention is to mask information recorded on a memory film in both a low-temperature region and a high-temperature region within a beam spot of a reproduction light. It is another object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium capable of accurately reproducing information recorded on a memory film.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、光磁気記録媒体の基板上に少なくとも、垂直磁化膜
からなる再生膜と、面内磁化膜からなる再生中間膜と、
面内磁化膜からなる再生補助膜と、垂直磁化膜からなる
メモリー膜とを順次形成したものである。このうち再生
中間膜は、そのキュリー温度が、再生膜のキュリー温度
とメモリー膜のキュリー温度の何れよりも低い膜であ
る。また、再生補助膜は、そのキュリー温度が、再生膜
のキュリー温度とメモリー膜のキュリー温度の何れより
も低く、また、その面内磁化状態が垂直磁化状態に変化
する温度が、再生中間膜の面内磁化状態が垂直磁化状態
に変化する温度よりも高い膜である。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium comprising a substrate having at least a reproducing film made of a perpendicular magnetic film and a reproducing intermediate film made of an in-plane magnetic film.
In this embodiment, a reproduction auxiliary film made of an in-plane magnetic film and a memory film made of a perpendicular magnetic film are sequentially formed. Among them, the reproduction intermediate film is a film whose Curie temperature is lower than both the Curie temperature of the reproduction film and the Curie temperature of the memory film. Further, the Curie temperature of the reproduction auxiliary film is lower than the Curie temperature of the reproduction film or the Curie temperature of the memory film, and the temperature at which the in-plane magnetization state changes to the perpendicular magnetization state is the temperature of the reproduction intermediate film. The film is higher than the temperature at which the in-plane magnetization state changes to the perpendicular magnetization state.

【0017】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の光磁気記録媒体において、再生中間膜および再生補助
膜を、希土類金属と遷移金属とで構成し、かつ希土類金
属の副格子磁化が優勢な膜とし、再生補助膜における希
土類金属の比率を、再生中間膜における希土類金属の比
率よりも高くしたものである。請求項3に記載の発明
は、請求項1または請求項2に記載の光磁気記録媒体に
おいて、再生補助膜の膜厚を、0.2nmよりも厚く3
0nmよりも薄くしたものである。
According to a second aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the first aspect, the intermediate reproduction film and the auxiliary reproduction film are made of a rare earth metal and a transition metal, and the sublattice magnetization of the rare earth metal is changed. Are predominant, and the ratio of the rare earth metal in the reproduction assisting film is higher than the ratio of the rare earth metal in the reproduction intermediate film. According to a third aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the first or second aspect, the thickness of the reproduction auxiliary film is set to be larger than 0.2 nm.
It is thinner than 0 nm.

【0018】請求項4に記載の発明は、請求項1から請
求項3の何れか1項に記載の光磁気記録媒体において、
再生中間膜の膜厚と再生補助膜の膜厚との和を、40n
mよりも厚くしたものである。請求項5に記載の発明
は、請求項1から請求項4の何れか1項に記載の光磁気
記録媒体において、再生補助膜のキュリー温度を、再生
中間膜のキュリー温度と同じ値にしたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to any one of the first to third aspects,
The sum of the thickness of the reproduction intermediate film and the thickness of the reproduction auxiliary film is 40 n
It is thicker than m. According to a fifth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to any one of the first to fourth aspects, the Curie temperature of the reproduction auxiliary film is set to the same value as the Curie temperature of the reproduction intermediate film. It is.

【0019】請求項6に記載の発明は、請求項1から請
求項5の何れか1項に記載の光磁気記録媒体において、
メモリー膜と再生補助膜との間に、垂直磁化膜からなる
切断膜を形成したものである。この切断膜は、そのキュ
リー温度が、再生補助膜のキュリー温度と再生中間膜の
キュリー温度との何れよりも低く、かつ、再生中間膜の
面内磁化状態が垂直磁化状態に変化する温度よりも高い
膜である。
According to a sixth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to any one of the first to fifth aspects,
A cut film made of a perpendicular magnetization film is formed between the memory film and the auxiliary reproduction film. This cut film has a Curie temperature lower than either the Curie temperature of the reproduction auxiliary film or the Curie temperature of the reproduction intermediate film, and is lower than the temperature at which the in-plane magnetization state of the reproduction intermediate film changes to the perpendicular magnetization state. High film.

【0020】請求項7に記載の発明は、請求項1から請
求項6の何れか1項に記載の光磁気記録媒体において、
メモリー膜の反基板側に、垂直磁化膜からなる記録膜
と、垂直磁化膜からなるスイッチング膜と、垂直磁化膜
からなる初期化膜とを順次形成したものである。このう
ち記録膜のキュリー温度は、メモリー膜のキュリー温度
よりも高く、スイッチング膜のキュリー温度は、少なく
ともメモリー膜のキュリー温度よりも低く、初期化膜の
キュリー温度は、記録膜のキュリー温度よりも高い。
According to a seventh aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to any one of the first to sixth aspects,
A recording film made of a perpendicular magnetization film, a switching film made of a perpendicular magnetization film, and an initialization film made of a perpendicular magnetization film are sequentially formed on the opposite side of the memory film from the substrate. The Curie temperature of the recording film is higher than the Curie temperature of the memory film, the Curie temperature of the switching film is at least lower than the Curie temperature of the memory film, and the Curie temperature of the initialization film is higher than the Curie temperature of the recording film. high.

【0021】請求項8に記載の発明は、請求項7に記載
の光磁気記録媒体において、メモリー膜と記録膜との間
に、面内磁化膜からなる中間膜を形成したものである。
According to an eighth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the seventh aspect, an intermediate film made of an in-plane magnetized film is formed between the memory film and the recording film.

【0022】(作用)請求項1に記載の光磁気記録媒体
によれば、情報の記録時にメモリー膜をそのキュリー温
度よりも高い温度にすることで、このメモリー膜に情報
を記録することができる。また、情報の再生時に再生光
を照射することで、そのビームスポット内に、その温度
が、再生膜のキュリー温度とメモリー膜のキュリー温度
の何れよりも低くかつ再生中間膜のキュリー温度と再生
補助膜のキュリー温度の何れよりも高い高温領域と、再
生中間膜のキュリー温度と再生補助膜のキュリー温度の
何れよりも低くかつ再生中間膜の面内磁化状態が垂直磁
化状態に変化する温度よりも高い中温領域と、再生中間
膜の面内磁化状態が垂直磁化状態に変化する温度よりも
低い低温領域と、の3つの領域に分けられる温度分布を
生じさせることができる。このとき、上記の高温領域で
は、メモリー膜に情報が記録されたままの状態で、再生
中間膜および再生補助膜が磁化消失状態となる。また、
上記の中温領域では、再生中間膜が垂直磁化状態とな
り、再生補助膜は隣接するメモリー膜の影響を受けて垂
直磁化状態となる。さらに、上記の低温領域では、再生
補助膜が安定して面内磁化状態に保たれ、再生中間膜は
隣接する再生補助膜の影響を受けて安定して面内磁化状
態に保たれる。したがって、上記の高温領域と低温領域
とにおいて、メモリー膜に記録された情報をマスクする
ことができる。また、上記の中温領域において、メモリ
ー膜に記録された情報を、再生膜に転写させて再生する
ことができる。
(Function) According to the magneto-optical recording medium of the first aspect, information can be recorded on the memory film by setting the memory film at a temperature higher than its Curie temperature at the time of recording information. . Further, by irradiating the reproducing light at the time of reproducing the information, the temperature in the beam spot is lower than the Curie temperature of the reproducing film or the Curie temperature of the memory film, and the Curie temperature of the reproducing intermediate film and the reproducing assisting temperature. A high temperature region higher than any of the Curie temperatures of the film, and a temperature lower than any of the Curie temperature of the reproducing intermediate film and the Curie temperature of the auxiliary reproducing film and a temperature at which the in-plane magnetization state of the reproducing intermediate film changes to the perpendicular magnetization state. It is possible to generate a temperature distribution that can be divided into three regions: a high medium temperature region and a low temperature region lower than the temperature at which the in-plane magnetization state of the reproducing intermediate film changes to the perpendicular magnetization state. At this time, in the high temperature region, the reproduction intermediate film and the reproduction auxiliary film are in a state of demagnetization while information is still recorded in the memory film. Also,
In the above-mentioned medium temperature region, the intermediate reproduction film is in a perpendicular magnetization state, and the auxiliary reproduction film is in a perpendicular magnetization state under the influence of the adjacent memory film. Further, in the low temperature region, the auxiliary reproduction film is stably maintained in the in-plane magnetization state, and the intermediate reproduction film is stably maintained in the in-plane magnetization state under the influence of the adjacent auxiliary reproduction film. Therefore, information recorded on the memory film can be masked in the high-temperature region and the low-temperature region. Further, in the medium temperature region, information recorded on the memory film can be transferred to a reproducing film and reproduced.

【0023】請求項2に記載の光磁気記録媒体によれ
ば、再生補助膜の面内磁化状態が垂直磁化状態に変化す
る温度の方を、再生中間膜の面内磁化状態が垂直磁化状
態に変化する温度よりも高くすることができる。このた
め、情報の再生時、上記の低温領域において、再生補助
膜は安定して面内磁化状態に保たれる。その結果、低温
領域で面内磁化状態が不安定と成りがちな再生中間膜
も、隣接するこの再生補助膜の影響を受けて安定して面
内磁化状態に保たれる。したがって、上記の高温領域だ
けでなく低温領域においても、メモリー膜に記録された
情報をマスクすることができ、上記の中温領域におい
て、メモリー膜に記録された情報を、再生膜に転写させ
て再生することができる。
According to the magneto-optical recording medium of the present invention, the temperature at which the in-plane magnetization state of the auxiliary reproduction film changes to the perpendicular magnetization state is determined by changing the in-plane magnetization state of the reproduction intermediate film to the perpendicular magnetization state. It can be higher than the changing temperature. Therefore, at the time of reproducing information, in the low temperature region, the reproduction auxiliary film is stably maintained in the in-plane magnetization state. As a result, the reproduction intermediate film, whose in-plane magnetization state tends to be unstable in the low temperature region, is also stably maintained in the in-plane magnetization state under the influence of the adjacent auxiliary reproduction film. Therefore, the information recorded in the memory film can be masked not only in the high-temperature region but also in the low-temperature region. In the medium-temperature region, the information recorded in the memory film is transferred to the reproducing film and reproduced. can do.

【0024】請求項3に記載の光磁気記録媒体によれ
ば、情報の再生時、上記の中温領域において、メモリー
膜の磁化の再生補助膜への交換結合力による転写が十分
に行われる。したがって、メモリー膜に記録された情報
を、再生膜に転写させて確実に再生することができる。
請求項4に記載の光磁気記録媒体によれば、情報の再生
時、上記の高温領域において、再生膜とメモリー膜との
間の静磁結合力の伝達を確実に切断することができる。
このため、上記の高温領域における再生膜の磁化を、メ
モリー膜に記録された情報に拘わらず確実に一定の垂直
磁化状態に揃えることができる。したがって、メモリー
膜に記録された情報を、上記の中温領域でのみ再生膜に
転写させ、確実に再生することができる。
According to the magneto-optical recording medium of the third aspect, at the time of reproducing information, the magnetization of the memory film is sufficiently transferred to the auxiliary reproduction film by the exchange coupling force in the medium temperature region. Therefore, the information recorded on the memory film can be transferred to the reproducing film and reproduced reliably.
According to the magneto-optical recording medium of the fourth aspect, at the time of reproducing information, the transmission of the magnetostatic coupling force between the reproducing film and the memory film can be reliably cut off in the high temperature region.
For this reason, the magnetization of the reproducing film in the high temperature region can be surely set to a constant perpendicular magnetization state regardless of the information recorded in the memory film. Therefore, the information recorded on the memory film can be transferred to the reproducing film only in the above-mentioned medium temperature region, and can be reproduced reliably.

【0025】請求項5に記載の光磁気記録媒体によれ
ば、情報の再生時、再生中間膜と再生補助膜とが同じ温
度で磁化消失状態となるので、上記の高温領域と中温領
域との境界を明確にすることができる。したがって、メ
モリー膜に記録された情報を、上記の中温領域でのみ再
生膜に転写させ、確実に再生することができる。請求項
6に記載の光磁気記録媒体によれば、情報の再生時に照
射される再生光のパワーを小さくすることで、上記の高
温領域内に、再生中間膜および再生補助膜の磁化が共に
消失している部分と、再生中間膜および再生補助膜の磁
化が共に垂直磁化状態となっている部分とが混在した場
合でも、この高温領域の何れの部分でも磁化が消失する
切断膜によって、メモリー膜に記録された情報をマスク
し、上記の中温領域でのみメモリー膜の情報を確実に再
生することができる。
According to the magneto-optical recording medium of the fifth aspect, when reproducing information, the reproduction intermediate film and the reproduction auxiliary film are in the magnetization disappearing state at the same temperature, so that the above-mentioned high temperature region and medium temperature region are not separated. The boundaries can be defined. Therefore, the information recorded on the memory film can be transferred to the reproducing film only in the above-mentioned medium temperature region, and can be reproduced reliably. According to the magneto-optical recording medium of the sixth aspect, by reducing the power of the reproducing light irradiated at the time of reproducing the information, both the magnetization of the reproducing intermediate film and the magnetization of the reproducing auxiliary film disappear in the high temperature region. Even if there is a mixed portion and a portion where the magnetizations of the reproducing intermediate film and the auxiliary reproducing film are both in the perpendicular magnetization state, the memory film is formed by the cut film in which the magnetization disappears in any part of the high-temperature region. The information recorded in the memory film can be masked, and the information in the memory film can be reliably reproduced only in the medium temperature region.

【0026】請求項7に記載の光磁気記録媒体によれ
ば、情報の記録時、記録膜、スイッチング膜および初期
化膜の働きによって、メモリー膜に情報をオーバーライ
ト記録することができる。また、情報の再生時、メモリ
ー膜にオーバーライト記録された情報を、再生膜、再生
中間膜、再生補助膜(さらには切断膜)の働きによっ
て、上記の高温領域と低温領域とにおいてマスクするこ
とができる。また、同様にメモリー膜にオーバーライト
記録された情報を、上記の中温領域において、再生膜に
転写させて再生することができる。
According to the magneto-optical recording medium of the present invention, at the time of recording information, the information can be overwritten on the memory film by the actions of the recording film, the switching film and the initialization film. Also, when reproducing information, the information overwritten on the memory film is masked in the high-temperature region and the low-temperature region by the function of the reproduction film, the reproduction intermediate film, and the reproduction auxiliary film (and the cutting film). Can be. Similarly, the information overwritten on the memory film can be transferred to the reproducing film and reproduced in the medium temperature region.

【0027】請求項8に記載の光磁気記録媒体によれ
ば、情報の記録時、中間膜、記録膜、スイッチング膜お
よび初期化膜の働きによって、メモリー膜に情報をオー
バーライト記録することができる。また、情報の再生
時、メモリー膜にオーバーライト記録された情報を、再
生膜、再生中間膜、再生補助膜(さらには切断膜)の働
きによって、上記の高温領域と低温領域とにおいてマス
クすることができる。また、同様にメモリー膜にオーバ
ーライト記録された情報を、上記の中温領域において、
再生膜に転写させて再生することができる。
According to the magneto-optical recording medium of the present invention, at the time of recording information, the information can be overwritten on the memory film by the operation of the intermediate film, the recording film, the switching film and the initialization film. . Also, when reproducing information, the information overwritten on the memory film is masked in the high-temperature region and the low-temperature region by the function of the reproduction film, the reproduction intermediate film, and the reproduction auxiliary film (and the cutting film). Can be. Similarly, the information overwritten on the memory film is stored in the above-mentioned medium temperature region.
It can be reproduced by transferring it to a reproduction film.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。 (第1実施形態)図1は、第1実施形態の光磁気ディス
ク10の構成を示す断面図である。第1実施形態は、請
求項1〜請求項5に対応する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a magneto-optical disk 10 according to a first embodiment. The first embodiment corresponds to claims 1 to 5.

【0029】この光磁気ディスク10は、書き換え型デ
ィスクであり、図1の上方から下方に向かって、基板2
1に、保護膜22、再生膜11、再生中間膜12、再生
補助膜13、メモリー膜14および保護膜23が順次形
成された構造となっている。このうちメモリー膜14
は、情報が記録される膜である。また、再生膜11、再
生中間膜12および再生補助膜13は、メモリー膜14
に記録された情報の再生動作を行う膜である。なお、保
護膜22,23は、各磁性膜11〜14を保護する膜で
ある。
The magneto-optical disk 10 is a rewritable disk, and the substrate 2 is moved downward from above in FIG.
1, a protective film 22, a reproducing film 11, a reproducing intermediate film 12, a reproducing auxiliary film 13, a memory film 14, and a protective film 23 are sequentially formed. Of these, the memory film 14
Is a film on which information is recorded. The reproduction film 11, the reproduction intermediate film 12, and the reproduction auxiliary film 13 are formed by a memory film 14
This is a film that performs an operation of reproducing information recorded in the. The protection films 22 and 23 are films that protect the magnetic films 11 to 14.

【0030】ここで、光磁気ディスク10を構成する各
磁性膜11〜14,保護膜22,23の組成、膜厚およ
び機能について説明する。なお、これら各磁性膜11〜
14,保護膜22,23は、周知のスパッタリング法に
よって成膜される。メモリー膜14は、希土類金属であ
るテルビウム(Tb)と、遷移金属である鉄(Fe),
コバルト(Co)で構成される。このメモリー膜14の
組成は、原子百分率で表すと、Tbが20原子%、Fe
が64原子%、Coが16原子%である(以下、組成の
原子百分率を、Tb20Fe64Co16のように表す)。ま
た、メモリー膜14の膜厚D14は、50nmである。
Here, the composition, film thickness and function of each of the magnetic films 11 to 14 and the protective films 22 and 23 constituting the magneto-optical disk 10 will be described. In addition, each of these magnetic films 11 to
14, the protective films 22 and 23 are formed by a well-known sputtering method. The memory film 14 is made of terbium (Tb) which is a rare earth metal, iron (Fe) which is a transition metal,
It is composed of cobalt (Co). The composition of the memory film 14 is represented by atomic percentage, Tb is 20 atomic%, Fe is
Is 64 atomic% and Co is 16 atomic% (hereinafter, the atomic percentage of the composition is represented as Tb20Fe64Co16). The thickness D14 of the memory film 14 is 50 nm.

【0031】このような組成および膜厚のメモリー膜1
4は、磁化が膜面に対して垂直(図1中、縦方向)に配
向する垂直磁化膜である。なお、メモリー膜14には、
希土類金属(RE)副格子磁化が下向きで遷移金属(T
M)副格子磁化が上向きの状態と、RE副格子磁化が上
向きでTM副格子磁化が下向きの状態とがあり、これら
2つの状態によって情報が記録される。
The memory film 1 having such composition and film thickness
Reference numeral 4 denotes a perpendicular magnetization film in which the magnetization is oriented perpendicular to the film surface (vertical direction in FIG. 1). The memory film 14 has
Rare earth metal (RE) sublattice magnetization is downward and transition metal (T
M) There are a state where the sublattice magnetization is upward and a state where the RE sublattice magnetization is upward and the TM sublattice magnetization is downward. Information is recorded by these two states.

【0032】また、メモリー膜14は、その補償温度T
h14が、室温Tr(記録光や再生光が照射されないとき
の光磁気ディスク10の温度に相当する。例えば、20
℃〜30℃)近傍にある。このため、メモリー膜14
は、室温Trでは、RE副格子磁化とTM副格子磁化と
が拮抗し、記録された情報に拘わらず全体の磁化がほぼ
零となっている。
The memory film 14 has a compensation temperature T
h14 is the room temperature Tr (corresponding to the temperature of the magneto-optical disk 10 when no recording light or reproduction light is irradiated. For example, 20
C. to 30 C.). Therefore, the memory film 14
At room temperature Tr, the RE sub-lattice magnetization and the TM sub-lattice magnetization oppose each other, and the entire magnetization is almost zero irrespective of the recorded information.

【0033】そして情報の再生時、このようなメモリー
膜14は、再生光の照射によってその温度が上昇するに
伴い、RE副格子磁化とTM副格子磁化とのバランスが
崩れ(例えば、TM副格子磁化がRE副格子磁化に比べ
て大きくなる)、垂直磁化の状態を維持しつつ全体の磁
化が増大するようになっている。また、このメモリー膜
14は、上記の組成により、そのキュリー温度Tc14が
260℃程度となる。このキュリー温度Tc14(260
℃)は、少なくとも後述する再生中間膜12のキュリー
温度Tc12,再生補助膜13のキュリー温度Tc13の何
れよりも高い。また、このキュリー温度Tc14は、情報
の再生時、再生光の照射によって上昇される最も高い温
度(後述する温度T2に相当する)よりもさらに高い。
When information is reproduced, the memory film 14 loses its balance between the RE sub-lattice magnetization and the TM sub-lattice magnetization as its temperature rises due to the irradiation of the reproducing light (for example, the TM sub-lattice magnetization). The magnetization is larger than the RE sublattice magnetization), and the overall magnetization increases while maintaining the state of perpendicular magnetization. The Curie temperature Tc14 of the memory film 14 is about 260 ° C. due to the above composition. This Curie temperature Tc14 (260
° C) is higher than at least the Curie temperature Tc12 of the reproduction intermediate film 12 and the Curie temperature Tc13 of the reproduction auxiliary film 13, which will be described later. The Curie temperature Tc14 is higher than the highest temperature (corresponding to a temperature T2 to be described later) that is raised by the irradiation of the reproduction light when reproducing information.

【0034】さらに、このメモリー膜14は、上記の組
成としたので、他の磁性膜11〜13の何れよりも保磁
力が高い。また、再生膜11は、希土類金属であるガド
リニウム(Gd)と、遷移金属であるFe,Coとで構
成される。この再生膜11の組成は、Gd25Fe60Co
15である。また、再生膜11の膜厚D11は、30nmで
ある。
Further, since the memory film 14 has the above composition, it has a higher coercive force than any of the other magnetic films 11 to 13. The reproduction film 11 is composed of gadolinium (Gd), which is a rare earth metal, and Fe, Co, which are transition metals. The composition of the reproducing film 11 is Gd25Fe60Co
It is 15. The thickness D11 of the reproducing film 11 is 30 nm.

【0035】このような組成および膜厚の再生膜11
は、上記のメモリー膜14と同様、磁化が垂直に配向す
る垂直磁化膜である。なお、再生膜11の磁化は、再生
光の照射によってその温度が上昇されても垂直磁化状態
のまま保持されるようになっている。また、この再生膜
11は、上記の組成なので、そのキュリー温度Tc11
が、少なくとも後述する再生中間膜12のキュリー温度
Tc12(230℃),再生補助膜13のキュリー温度T
c13(130℃)の何れよりも高い。また、このキュリ
ー温度Tc11も、上記したメモリー膜14のキュリー温
度Tc14と同様、再生光の照射によって上昇される最も
高い温度(後述する温度T2に相当する)よりもさらに
高い。
The regenerated film 11 having such a composition and thickness is as follows.
Is a perpendicular magnetization film in which the magnetization is vertically oriented, like the memory film 14 described above. Note that the magnetization of the reproduction film 11 is maintained in a perpendicular magnetization state even when the temperature is increased by irradiation of the reproduction light. Further, since the reproducing film 11 has the above composition, its Curie temperature Tc11
Are at least the Curie temperature Tc12 (230 ° C.) of the reproduction intermediate film 12 and the Curie temperature T
It is higher than any of c13 (130 ° C). Also, the Curie temperature Tc11 is higher than the highest temperature (corresponding to a temperature T2 to be described later) raised by the irradiation of the reproduction light, similarly to the Curie temperature Tc14 of the memory film 14 described above.

【0036】また、再生中間膜12は、希土類金属であ
るGdと、遷移金属であるFeとで構成される。この再
生中間膜12の組成は、Gd30Fe70であり、RE副格
子磁化が優勢である。また、再生中間膜12の膜厚D12
は、40nmである。このような組成および膜厚の再生
中間膜12は、室温Trで、磁化が面内(図1中、横方
向)に配向する面内磁化膜である。
The reproducing intermediate film 12 is composed of Gd which is a rare earth metal and Fe which is a transition metal. The composition of the reproducing intermediate film 12 is Gd30Fe70, and the RE sublattice magnetization is dominant. The thickness D12 of the reproducing intermediate film 12
Is 40 nm. The reproducing intermediate film 12 having such a composition and film thickness is an in-plane magnetization film in which the magnetization is oriented in-plane (in the horizontal direction in FIG. 1) at room temperature Tr.

【0037】また、この再生中間膜12は、上記の組成
としたので、室温Trよりも高い所定温度Tx12で、そ
の磁化が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する。な
お、この所定温度Tx12は、130℃近傍にある(例え
ば、 ℃〜 ℃の間)。
Since the reproducing intermediate film 12 has the above composition, its magnetization changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state at the predetermined temperature Tx12 higher than the room temperature Tr. The predetermined temperature Tx12 is around 130 ° C. (for example, ° C ~ C).

【0038】さらに、この再生中間膜12は、上記の組
成により、そのキュリー温度Tc12が230℃程度とな
る。このキュリー温度Tc12(230℃)は、上記した
再生膜11のキュリー温度Tc11と、メモリー膜14の
キュリー温度Tc14の何れよりも低い。また、再生補助
膜13は、希土類金属であるGdと、遷移金属であるF
e,Coとで構成される。この再生補助膜13の組成
は、Gd35Fe62Co3であり、上記した再生中間膜1
2と同様、RE副格子磁化が優勢である。また、再生補
助膜13の膜厚D13は、10nmである。
Further, the Curie temperature Tc12 of the reproduced intermediate film 12 becomes about 230 ° C. due to the above composition. This Curie temperature Tc12 (230 ° C.) is lower than both the Curie temperature Tc11 of the reproduction film 11 and the Curie temperature Tc14 of the memory film 14 described above. The reproduction auxiliary film 13 is composed of Gd, which is a rare earth metal, and F, which is a transition metal.
e, Co. The composition of the reproduction auxiliary film 13 is Gd35Fe62Co3, and
Similar to 2, the RE sublattice magnetization is dominant. The thickness D13 of the reproduction assisting film 13 is 10 nm.

【0039】このような組成および膜厚の再生補助膜1
3は、室温Trで、上記の再生中間膜12と同様、磁化
が面内に配向する面内磁化膜である。また、この再生補
助膜13は、上記の組成としたので、室温Trよりも高
い所定温度Tx13で、その磁化が面内磁化状態から垂直
磁化状態に変化する。ここで、この再生補助膜13は、
希土類金属(Gd)の比率(35原子%)が、上記再生中
間膜12の希土類金属(Gd)の比率(30原子%)より
も高い組成となっている。一般に、RE副格子磁化が優
勢な膜では、希土類金属の比率が高いほど、その磁化が
面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する温度(所定温
度Tx)が高くなる。このため、再生補助膜13の所定
温度Tx13の方が、上記再生中間膜12の所定温度Tx
12(130℃)よりも高い。したがって、再生補助膜1
3の方が、再生中間膜12よりも高い温度まで磁化を面
内磁化状態に保つことができる。
The reproduction assisting film 1 having such composition and film thickness
Reference numeral 3 denotes an in-plane magnetized film in which the magnetization is oriented in-plane, similarly to the above-mentioned reproduction intermediate film 12, which is a room temperature Tr. Since the auxiliary reproduction film 13 has the above composition, its magnetization changes from an in-plane magnetization state to a perpendicular magnetization state at a predetermined temperature Tx13 higher than the room temperature Tr. Here, the regeneration assisting film 13
The composition of the rare earth metal (Gd) (35 at%) is higher than the rare earth metal (Gd) ratio (30 at%) of the reproduction intermediate film 12. In general, in a film in which the RE sublattice magnetization is dominant, the temperature (predetermined temperature Tx) at which the magnetization changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state increases as the ratio of the rare earth metal increases. For this reason, the predetermined temperature Tx13 of the auxiliary reproduction film 13 is higher than the predetermined temperature Tx13 of the intermediate reproduction film 12.
12 (130 ° C). Therefore, the regeneration assisting film 1
No. 3 can maintain the magnetization in an in-plane magnetization state up to a temperature higher than that of the reproduction intermediate film 12.

【0040】また、この再生補助膜13は、上記の組成
により、そのキュリー温度Tc13が230℃程度とな
る。このキュリー温度Tc13(230℃)は、上記した
再生中間膜12のキュリー温度Tc12とほぼ同じ値とな
っている。また、このキュリー温度Tc13は、上記した
再生中間膜12と同様、上記した再生膜11のキュリー
温度Tc11と、メモリー膜14のキュリー温度Tc14の
何れよりも低い。
The Curie temperature Tc13 of the auxiliary regeneration film 13 is about 230 ° C. due to the above composition. This Curie temperature Tc13 (230 ° C.) is substantially the same as the Curie temperature Tc12 of the reproduced intermediate film 12 described above. The Curie temperature Tc13 is lower than either the Curie temperature Tc11 of the reproduced film 11 or the Curie temperature Tc14 of the memory film 14, similarly to the reproduced intermediate film 12.

【0041】保護膜22,23は、窒化シリコンからな
り、その膜厚D22,D23は共に70nmである。基板2
1は、2P(photo-polymerization)法により形成された
ガラス基板(直径86mm)であり、その片面には、ガ
イド溝がスパイラル状に形成されている。次に、上記の
ように構成された書き換え型光磁気ディスク10のメモ
リー膜14に、情報を記録する動作について、図2,図
3を用いて説明する。なお、図2では、各磁性膜11〜
14の磁化の状態を表すために、TM副格子磁化の向き
が矢印で示されている。
The protective films 22 and 23 are made of silicon nitride, and each of the film thicknesses D22 and D23 is 70 nm. Substrate 2
Reference numeral 1 denotes a glass substrate (86 mm in diameter) formed by a 2P (photo-polymerization) method, and a guide groove is spirally formed on one surface thereof. Next, an operation of recording information on the memory film 14 of the rewritable magneto-optical disk 10 configured as described above will be described with reference to FIGS. In FIG. 2, each of the magnetic films 11 to
The arrows indicate the direction of the TM sublattice magnetization to indicate the state of magnetization of No. 14.

【0042】この書き換え型光磁気ディスク10では、
情報の記録動作は、そのメモリー膜14に既に書き込ま
れている情報を一旦消去(光磁気ディスク10の初期
化)した後に行われる。ここでは、光磁気ディスク10
の初期化動作についての説明を省略する。なお、光磁気
ディスク10の初期化が終了すると、メモリー膜14
は、そのTM副格子磁化が一様に消去方向(図2中、下
向き)に揃えられた状態(以下「初期状態」という)と
なる。
In this rewritable magneto-optical disk 10,
The information recording operation is performed after the information already written in the memory film 14 is temporarily erased (initialization of the magneto-optical disk 10). Here, the magneto-optical disk 10
The description of the initialization operation is omitted. When the initialization of the magneto-optical disk 10 is completed, the memory film 14
Is a state in which the TM sublattice magnetization is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 2) (hereinafter, referred to as an “initial state”).

【0043】情報の記録に当たって、この初期化された
光磁気ディスク10には、図示されない記録再生装置の
半導体レーザ(波長680nm)から記録光31が照射
される(図2)。このとき、記録光31のパワー(例え
ば、10mW)は、記録される情報に応じて断続される
(デューティー比30%)。また、記録光31は、図示
されない記録再生装置の対物レンズ(開口数0.55)
によって回折限界まで集光されている。この場合、光磁
気ディスク10上での記録光31のビームスポット31
Aの径は、およそ1.1μmである。
In recording information, the initialized magneto-optical disk 10 is irradiated with recording light 31 from a semiconductor laser (wavelength: 680 nm) of a recording / reproducing device (not shown) (FIG. 2). At this time, the power (for example, 10 mW) of the recording light 31 is intermittent (duty ratio 30%) according to the information to be recorded. The recording light 31 is an objective lens (numerical aperture 0.55) of a recording / reproducing device (not shown).
Is focused to the diffraction limit. In this case, the beam spot 31 of the recording light 31 on the magneto-optical disk 10
The diameter of A is about 1.1 μm.

【0044】また、情報の記録に当たって、ビームスポ
ット31Aには、図示されない記録再生装置の磁気コイ
ルから発生される一定の大きさの記録磁界Hw(例え
ば、300(Oe))が継続的に印加される(図2)。こ
の記録磁界Hwの向きは、上記の初期状態にあるメモリ
ー膜14のTM副格子磁化の向き(消去方向)とは逆で
ある(記録方向、図2中の上向き)。
In recording information, a recording magnetic field Hw (for example, 300 (Oe)) of a constant magnitude generated from a magnetic coil of a recording / reproducing apparatus (not shown) is continuously applied to the beam spot 31A. (FIG. 2). The direction of the recording magnetic field Hw is opposite to the direction (erasing direction) of the TM sublattice magnetization of the memory film 14 in the initial state (recording direction, upward in FIG. 2).

【0045】さらに、情報の記録に当たって、この光磁
気ディスク10は、図示されない記録再生装置のモータ
によって一定の線速度(例えば、9m/sec)で回転
され、ディスク移動方向10A(図2,図3に矢印で示
される左方)にビームスポット31Aを横切りながら移
動することになる。実際に、記録光31(10mW)が
照射されると、光磁気ディスク10には温度分布が生じ
る。このとき、光磁気ディスク10は、ビームスポット
31Aの中心付近に位置する小さい領域31B内での
み、メモリー膜14のキュリー温度Tc14(260℃)
よりも高い温度T1(以下「記録温度」という)まで加
熱される。
Further, when recording information, the magneto-optical disk 10 is rotated at a constant linear velocity (for example, 9 m / sec) by a motor of a recording / reproducing device (not shown), and the disk moving direction 10A (FIGS. 2 and 3). (To the left as indicated by the arrow in FIG. 3) while traversing the beam spot 31A. When the recording light 31 (10 mW) is actually irradiated, a temperature distribution occurs on the magneto-optical disk 10. At this time, the magneto-optical disk 10 has a Curie temperature Tc14 (260 ° C.) of the memory film 14 only in a small area 31B located near the center of the beam spot 31A.
Is heated to a higher temperature T1 (hereinafter referred to as “recording temperature”).

【0046】そして、記録温度T1まで加熱されたメモ
リー膜14の領域(以下「加熱領域」という)14Bで
は、その温度がキュリー温度Tc14に達しているため、
一旦磁化が消失する。光磁気ディスク10が回転する
と、これまで上記の小さい領域31B内にあった加熱領
域14Bは、ディスク移動方向10Aに移動してビーム
スポット31Aから外れる。そして、加熱領域14Bの
温度は、記録温度T1から室温Trに向かって徐々に低
下していく。
In the area 14B of the memory film 14 heated to the recording temperature T1 (hereinafter referred to as "heating area"), the temperature has reached the Curie temperature Tc14.
Once the magnetization disappears. When the magneto-optical disk 10 rotates, the heating area 14B, which has been in the small area 31B, moves in the disk moving direction 10A and deviates from the beam spot 31A. Then, the temperature of the heating area 14B gradually decreases from the recording temperature T1 toward the room temperature Tr.

【0047】加熱領域14Bでは、その温度が記録温度
T1から低下し始めると、その磁化が回復し始める。こ
のとき、加熱領域14Bの磁化は、継続的に印加されて
いる記録磁界Hwの影響を受けて、上記の初期状態から
反転した記録状態(TM副格子磁化が記録方向(図2
中、上向き)の状態)となる。加熱領域14Bの温度が
さらに低下し、室温Tr近傍に達すると、加熱領域14
Bの保磁力が高くなる。
In the heating area 14B, when the temperature starts to decrease from the recording temperature T1, the magnetization starts to recover. At this time, the magnetization of the heating region 14B is affected by the continuously applied recording magnetic field Hw, and the magnetization is reversed from the above initial state (the TM sublattice magnetization changes in the recording direction (FIG. 2).
(Medium, upward)). When the temperature of the heating region 14B further decreases and reaches near the room temperature Tr, the heating region 14B
The coercive force of B increases.

【0048】したがって、記録磁界Hwの影響で記録状
態となっていた加熱領域14Bの磁化は、自身の保磁力
によって記録状態(TM副格子磁化が記録方向)に保持
される。このようにして、ビームスポット31Aよりも
小さい1つの記録マーク14Aが形成される(マーク長
さ0.3μm)。
Therefore, the magnetization of the heating region 14B which has been in the recording state due to the effect of the recording magnetic field Hw is maintained in the recording state (the TM sublattice magnetization is in the recording direction) by its own coercive force. Thus, one recording mark 14A smaller than the beam spot 31A is formed (the mark length is 0.3 μm).

【0049】なお、記録光31は断続的に照射され、記
録光31が照射されなかった箇所では、メモリー膜14
の磁化が上記の初期状態のまま保持される(TM副格子
磁化が消去方向)。したがって、光磁気ディスク10に
対し、記録される情報に応じてパワーを断続させながら
記録光31を照射することによって、ビームスポット3
1Aよりも小さい記録マーク14A,14A,…を、次
々にメモリー膜14に形成することができる。
Note that the recording light 31 is intermittently irradiated, and the memory film 14
Is maintained in the above initial state (the TM sublattice magnetization is in the erasing direction). Therefore, by irradiating the magneto-optical disk 10 with the recording light 31 while interrupting the power in accordance with the information to be recorded, the beam spot 3
The recording marks 14A, 14A,... Smaller than 1A can be sequentially formed on the memory film 14.

【0050】ここで、記録マーク14A,14A,…の
間隔は、記録光31の断続間隔と、光磁気ディスク10
の回転速度とで決まるもので、その間隔は、0.3μm
程度となる。このようにして、書き換え型の光磁気ディ
スク10では、情報(複数の記録マーク14A,14
A,…)を高密度に記録することができる(筆先記録
法)。
Here, the interval between the recording marks 14A, 14A,...
Is determined by the rotation speed of the
About. Thus, in the rewritable magneto-optical disk 10, the information (the plurality of recording marks 14A, 14A) can be read.
A,...) Can be recorded at a high density (brush tip recording method).

【0051】なお、上記した情報の記録時に、他の磁性
膜11〜13も、上記のメモリー膜14と同様、ビーム
スポット31A内の小さい領域31Bで一旦磁化が消失
する。しかし、その後温度が低下して室温Tr近傍に達
すると、室温Trで面内磁化膜の再生中間膜12,再生
補助膜13の磁化は、面内磁化状態に戻って安定する
(図2)。また、室温Trで垂直磁化膜の再生膜11の
磁化は、再生中間膜12,再生補助膜13の磁化が面内
磁化状態に戻るのに伴って一定の垂直磁化状態に揃えら
れ、温度が室温Tr近傍に達すると、その状態で安定す
る(図2)。
At the time of recording the above information, the magnetization of the other magnetic films 11 to 13 disappears once in the small area 31B in the beam spot 31A, similarly to the memory film 14 described above. However, when the temperature subsequently decreases and reaches near the room temperature Tr, the magnetizations of the reproduction intermediate film 12 and the reproduction auxiliary film 13 of the in-plane magnetization film return to the in-plane magnetization state and become stable at the room temperature Tr (FIG. 2). At room temperature Tr, the magnetization of the reproducing film 11 of the perpendicular magnetization film is adjusted to a constant perpendicular magnetization state as the magnetizations of the reproduction intermediate film 12 and the auxiliary reproduction film 13 return to the in-plane magnetization state. When it reaches the vicinity of Tr, it is stabilized in that state (FIG. 2).

【0052】次に、上記のように高密度な情報が記録さ
れた書き換え型光磁気ディスク10において、その情報
を再生する動作について、図4,図5を用いて説明す
る。なお、図4でも、各磁性膜11〜14の磁化の状態
を表すために、TM副格子磁化の向きが矢印で示されて
いる。
Next, the operation of reproducing the information on the rewritable magneto-optical disk 10 on which high-density information is recorded as described above will be described with reference to FIGS. In FIG. 4, the direction of the TM sublattice magnetization is indicated by an arrow in order to represent the state of magnetization of each of the magnetic films 11 to 14.

【0053】情報の再生に当たって、光磁気ディスク1
0には、記録再生装置(図示省略)の半導体レーザから
一定パワー(例えば、3.5mW)の再生光41が継続
的に照射される(図4)。なお、この再生光41は、直
線偏光の状態で光磁気ディスク10に照射される。ま
た、情報の再生に当たって、再生光41のビームスポッ
ト41Aには、記録再生装置(図示省略)の磁気コイル
から発生される一定の大きさの再生磁界Hrが継続的に
印加される(図4)。この再生磁界Hrの向きは、上記
の記録磁界Hwの向き(記録方向)と逆である(消去方
向)。なお、この再生磁界Hrの大きさは、理由は後述
するように、従来のダブルマスク再生に必要であった再
生磁界の値よりも小さいものである(例えば、100
(Oe))。したがって、記録再生装置の磁気コイルを巻
数が少ないもので構成でき、また電源も小さくできる。
When reproducing information, the magneto-optical disk 1
0 is continuously irradiated with a reproduction light 41 of a constant power (for example, 3.5 mW) from a semiconductor laser of a recording / reproducing apparatus (not shown) (FIG. 4). The reproduction light 41 is applied to the magneto-optical disk 10 in a state of linearly polarized light. In reproducing information, a reproducing magnetic field Hr of a constant magnitude generated from a magnetic coil of a recording / reproducing device (not shown) is continuously applied to the beam spot 41A of the reproducing light 41 (FIG. 4). . The direction of the reproducing magnetic field Hr is opposite to the direction of the recording magnetic field Hw (recording direction) (erasing direction). The magnitude of the reproducing magnetic field Hr is smaller than the value of the reproducing magnetic field required for the conventional double mask reproduction (for example, 100), as described later.
(Oe)). Therefore, the magnetic coil of the recording / reproducing apparatus can be configured with a small number of turns, and the power source can be reduced.

【0054】さらに、情報の再生に当たって、この光磁
気ディスク10は、上記の記録時と同一の線速度(例え
ば、9m/sec)で回転され、ディスク移動方向10
A(図4,図5に矢印で示される左方)に、ビームスポ
ット41Aを横切りながら移動することになる。実際に
再生光41が照射されると、光磁気ディスク10には温
度分布が生じる。このとき、光磁気ディスク10は、再
生光41の継続的な照射によって受けた熱が蓄積し、デ
ィスク移動方向10Aに沿った細長い領域41Bで、そ
の温度が高くなる。
Further, in reproducing the information, the magneto-optical disk 10 is rotated at the same linear velocity (for example, 9 m / sec) as the above-mentioned recording, and the disk moving direction 10
A (left side indicated by an arrow in FIGS. 4 and 5) moves while traversing the beam spot 41A. When the reproduction light 41 is actually irradiated, a temperature distribution occurs in the magneto-optical disk 10. At this time, the heat received by the continuous irradiation of the reproducing light 41 accumulates on the magneto-optical disk 10, and the temperature thereof becomes high in the elongated region 41B along the disk moving direction 10A.

【0055】このような細長い領域41Bのうち、ディ
スク移動方向10Aの後方(図4,5中の右方)に位置
する領域41C(細長い領域41Bとビームスポット4
1Aとの重複部分)では、未だ再生光41が照射されて
いる。ここで、情報の再生は、ビームスポット41Aで
反射した再生光41の成分を検出することによって行わ
れるため、上記の細長い領域41Bのうち、領域41C
のみが再生動作に関わることになる。したがって、以
下、領域41Cに着目して、その動作説明を行う。
Of such an elongated area 41B, an area 41C (the elongated area 41B and the beam spot 4B) located behind (to the right in FIGS. 4 and 5) in the disk moving direction 10A.
1A, the reproduction light 41 is still irradiated. Here, since the reproduction of information is performed by detecting the component of the reproduction light 41 reflected by the beam spot 41A, the area 41C of the above-described elongated area 41B is used.
Only the reproduction operation is involved. Therefore, the operation will be described below focusing on the area 41C.

【0056】この領域41Cは、ビームスポット41A
のうち、ディスク移動方向10Aの前方(図4,5中の
左方)に位置する領域であるから、前方に位置する分だ
け、後方に位置する領域41Dよりも既に長時間、再生
光41が照射されていることになる。したがって、ビー
ムスポット41Aのうち、ディスク移動方向10Aの前
方に位置する領域41Cの方が、後方に位置する領域4
1Dよりも多くの熱が蓄積し、温度が高くなっている。
This area 41C has a beam spot 41A.
Of the disk moving direction 10A (left side in FIGS. 4 and 5), the reproduced light 41 is longer than the area 41D located behind by the amount of the front. It has been irradiated. Therefore, of the beam spot 41A, the area 41C located in the front in the disk moving direction 10A is the area 4C located in the rear.
More heat than 1D has accumulated and the temperature is higher.

【0057】さらに、上記の領域41C内にも温度分布
があり、ディスク移動方向10Aの前方(小さな半円状
の領域41F)の方が、後方(領域41E)よりも温度
が高くなっている。これは、前方(領域41F)に再生
光41が長時間照射され、既に多くの熱が蓄積している
からである。このように、ビームスポット41A内で
は、ディスク移動方向10Aの前方から後方に向かって
その温度が徐々に低くなる温度分布が生じており、ある
温度を境に、小さな半円状の領域41F(以下「高温領
域」という)、領域41E(以下「中温領域」とい
う)、領域41D(以下「低温領域」という)と云う3
つの領域に分けて考えることができる。
Further, there is also a temperature distribution in the area 41C, and the temperature is higher in the front (small semicircular area 41F) in the disk moving direction 10A than in the rear (area 41E). This is because the reproduction light 41 is irradiated to the front (region 41F) for a long time, and a large amount of heat has already been accumulated. As described above, in the beam spot 41A, there is a temperature distribution in which the temperature gradually decreases from the front to the rear in the disk moving direction 10A, and at a certain temperature, a small semicircular region 41F (hereinafter, referred to as a small semicircular region 41F). 3 referred to as a “high temperature region”, a region 41E (hereinafter referred to as a “medium temperature region”), and a region 41D (hereinafter referred to as a “low temperature region”).
Can be divided into two areas.

【0058】なお、この第1実施形態では、再生光41
(3.5mW)の照射によって、高温領域41Fでは、
230℃(再生中間膜12のキュリー温度Tc12,再生
補助膜13のキュリー温度Tc13)よりも高い温度T2
となる。また、中温領域41Eでは、230℃よりも低
く、130℃(再生中間膜12の所定温度Tx12)より
も高い温度T3となる。さらに、低温領域41Dでは、
130℃よりも低い温度T4となる。
In the first embodiment, the reproduction light 41
By the irradiation of (3.5 mW), in the high temperature region 41F,
A temperature T2 higher than 230 ° C. (the Curie temperature Tc12 of the reproduction intermediate film 12 and the Curie temperature Tc13 of the reproduction auxiliary film 13)
Becomes In the middle temperature region 41E, the temperature T3 is lower than 230 ° C. and higher than 130 ° C. (the predetermined temperature Tx12 of the reproducing intermediate film 12). Further, in the low temperature region 41D,
The temperature T4 is lower than 130 ° C.

【0059】このように、温度が異なる3つの領域41
D,41E,41Fに分けられたビームスポット41A
内において、各磁性膜11〜14の磁化は、図4に示さ
れるように、各々、以下に説明する状態となる。
As described above, three regions 41 having different temperatures are used.
Beam spot 41A divided into D, 41E and 41F
4, the magnetization of each of the magnetic films 11 to 14 is in the state described below, as shown in FIG.

【0060】まず、メモリー膜14の磁化は、ビームス
ポット41A内の何れの領域41D,41E,41Fに
おいても、記録された通りの状態のまま安定して保持さ
れている。これは、ビームスポット41A内の温度(最
も高い温度は高温領域41Fの温度T2、最も低い温度
は低温領域41Dの温度T4)が、メモリー膜14のキ
ュリー温度Tc14(260℃)よりも低いため、その磁
化が消失せず、かつ、その保磁力が情報を保持するに充
分に高いからである。
First, the magnetization of the memory film 14 is stably held in any of the regions 41D, 41E, and 41F in the beam spot 41A as it is recorded. This is because the temperature in the beam spot 41A (the highest temperature is the temperature T2 in the high temperature region 41F, and the lowest temperature is the temperature T4 in the low temperature region 41D) is lower than the Curie temperature Tc14 (260 ° C.) of the memory film 14. This is because the magnetization does not disappear and the coercive force is sufficiently high to retain information.

【0061】また、再生膜11の磁化は、ビームスポッ
ト41A内の何れの領域41D,41E,41Fにおい
ても、垂直磁化状態のまま保持されている。これは、ビ
ームスポット41A内の温度(温度T2よりも低く温度
T4よりも高い)が、再生膜11のキュリー温度Tc11
よりも低いからである。一方、再生中間膜12の磁化、
および再生補助膜13の磁化は、ビームスポット41A
内の低温領域41D(温度T4),中温領域41E(温
度T3),低温領域41F(温度T2)ごとに、その温
度に応じた異なる状態となっている。
The magnetization of the reproducing film 11 is maintained in the perpendicular magnetization state in any of the regions 41D, 41E and 41F in the beam spot 41A. This is because the temperature in the beam spot 41A (lower than the temperature T2 and higher than the temperature T4) is higher than the Curie temperature Tc11 of the reproducing film 11.
Because it is lower. On the other hand, the magnetization of the reproducing intermediate film 12
The magnetization of the reproduction auxiliary film 13 is controlled by the beam spot 41A.
The low-temperature area 41D (temperature T4), the medium-temperature area 41E (temperature T3), and the low-temperature area 41F (temperature T2) are in different states according to the temperatures.

【0062】ここで、ビームスポット41A内の各領域
41D,41E,41Fごとに、再生中間膜12の磁化
の状態、再生補助膜13の磁化の状態、および、情報の
再生動作について説明する。低温領域41Dでは、その
温度T4が、再生中間膜12が面内磁化状態から垂直磁
化状態に変化する所定温度Tx12(130℃)、更に
は、再生補助膜13が面内磁化状態から垂直磁化状態に
変化する所定温度Tx13(Tx13>Tx12)よりも低
い。
Here, the state of magnetization of the reproduction intermediate film 12, the state of magnetization of the reproduction auxiliary film 13, and the operation of reproducing information will be described for each of the regions 41D, 41E and 41F in the beam spot 41A. In the low temperature region 41D, the temperature T4 is a predetermined temperature Tx12 (130 ° C.) at which the reproduction intermediate film 12 changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state, and further, the reproduction auxiliary film 13 is changed from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state. Is lower than the predetermined temperature Tx13 (Tx13> Tx12).

【0063】したがって、再生補助膜13は、その磁化
が面内磁化状態となる傾向が強い。このとき再生補助膜
13の磁化は、隣接するメモリー膜14からの交換結合
力を受けるが、面内磁化状態となる傾向が十分に強いた
め垂直磁化状態に変化することなく、安定した面内磁化
状態が保たれている。一方、再生中間膜12は、上記し
たように面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する所定
温度Tx12が再生補助膜13の所定温度Tx13より低い
分、その磁化も面内磁化状態になる傾向が比較的弱い。
Therefore, the reproduction auxiliary film 13 has a strong tendency that its magnetization is in an in-plane magnetization state. At this time, the magnetization of the reproduction auxiliary film 13 receives an exchange coupling force from the adjacent memory film 14, but has a sufficiently strong tendency to be in the in-plane magnetization state, and does not change to the perpendicular magnetization state. The state is maintained. On the other hand, as described above, the predetermined temperature Tx12 at which the in-plane magnetization state changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state is lower than the predetermined temperature Tx13 of the auxiliary reproduction film 13, so that the magnetization of the reproduction intermediate film 12 also tends to be in the in-plane magnetization state. Relatively weak.

【0064】このように面内磁化状態が比較的弱い場
合、再生中間膜12は、隣接した磁性膜がなければ磁化
が安定して面内磁化状態に保たれるものの、隣接して磁
性膜が形成されている場合には、その磁性膜からの交換
結合力の影響によって、その磁化の面内磁化状態が不安
定となる傾向にある。このとき、再生中間膜52は、隣
接する磁性膜が面内磁化膜の場合には磁化が面内磁化状
態に保たれるが、垂直磁化膜が隣接している場合には磁
化が垂直磁化状態と成りやすい。
When the in-plane magnetization state is relatively weak as described above, the reproduction intermediate film 12 maintains the in-plane magnetization state stably without the adjacent magnetic film, but has the adjacent magnetic film. When formed, the in-plane magnetization state of the magnetization tends to be unstable due to the exchange coupling force from the magnetic film. At this time, when the adjacent magnetic film is the in-plane magnetic film, the magnetization of the reproducing intermediate film 52 is maintained in the in-plane magnetization state, but when the perpendicular magnetic film is adjacent, the magnetization is in the perpendicular magnetization state. And easily.

【0065】しかし、この第1実施形態の光磁気ディス
ク10では、再生中間膜12に隣接して再生補助膜13
(磁化が面内磁化状態になる傾向が強い)が形成されて
いるため、再生中間膜12の磁化は、再生補助膜13か
らの交換結合力の影響を受けて、面内磁化状態が安定し
て保たれる(図4)。このように、再生中間膜12,再
生補助膜13は、共に安定した面内磁化状態となるの
で、メモリー膜14からの交換結合力は、再生膜11に
作用することがなくなり、この結果、低温領域41Dで
は、確実にマスクが形成され、メモリー膜14の磁化は
再生膜11には転写されない。
However, in the magneto-optical disk 10 of the first embodiment, the auxiliary reproduction film 13 is
(The magnetization tends to be in the in-plane magnetization state), the magnetization of the reproduction intermediate film 12 is affected by the exchange coupling force from the auxiliary reproduction film 13, and the in-plane magnetization state is stabilized. (Fig. 4). As described above, the reproduction intermediate film 12 and the reproduction auxiliary film 13 both have a stable in-plane magnetization state, so that the exchange coupling force from the memory film 14 does not act on the reproduction film 11, and as a result, the low temperature In the region 41D, a mask is reliably formed, and the magnetization of the memory film 14 is not transferred to the reproduction film 11.

【0066】また、再生中間膜12の面内磁化状態が比
較的弱い場合には、再生膜11の垂直磁化状態も不安定
になる傾向にあるため、従来はこの低温領域(低温マス
ク)41Dで再生膜11の垂直磁化状態を消去方向に揃
えるための大きな再生磁界(500(Oe))をかけなけ
ればならなかったが、上記のように再生中間膜12,再
生補助膜13とが共に安定した面内磁化状態となってい
るのであれば、低温領域41Dの再生膜11に印加する
再生磁界Hrが小さく(100(Oe))ても、この再生
膜11のTM副格子磁化を容易に消去方向(図4中、下
向き)に揃えることができる。
When the in-plane magnetization state of the reproduction intermediate film 12 is relatively weak, the perpendicular magnetization state of the reproduction film 11 also tends to be unstable. Although a large reproducing magnetic field (500 (Oe)) had to be applied to align the perpendicular magnetization state of the reproducing film 11 in the erasing direction, both the reproducing intermediate film 12 and the reproducing auxiliary film 13 were stable as described above. In the case of the in-plane magnetization state, even if the reproducing magnetic field Hr applied to the reproducing film 11 in the low temperature region 41D is small (100 (Oe)), the TM sublattice magnetization of the reproducing film 11 can be easily changed in the erasing direction. (Downward in FIG. 4).

【0067】また、高温領域41Fでは、その温度T2
が230℃(再生中間膜12のキュリー温度Tc12,再
生補助膜13のキュリー温度Tc13)よりも高いため、
再生中間膜12,再生補助膜13の磁化は共に、消失し
ている(図4)。このため、高温領域41Fでは、メモ
リー膜14と再生膜11との間の交換結合力は切断され
ている。
In the high temperature region 41F, the temperature T2
Is higher than 230 ° C. (Curie temperature Tc12 of the regeneration intermediate film 12 and Curie temperature Tc13 of the regeneration auxiliary film 13).
The magnetizations of the reproduction intermediate film 12 and the reproduction auxiliary film 13 have both disappeared (FIG. 4). Therefore, in the high temperature region 41F, the exchange coupling force between the memory film 14 and the reproduction film 11 is disconnected.

【0068】さらに、高温領域41Fでは、メモリー膜
14と再生膜11との間の静磁結合力も切断されてい
る。これは、メモリー膜14と再生膜11との間の距離
d1が、静磁結合力が作用しないような値(50nm)
に保たれているからである。因みに、距離d1は、再生
補助膜13の膜厚D13(10nm)と再生中間膜12の
膜厚D12(40nm)との和によって決まる。
Further, in the high temperature region 41F, the magnetostatic coupling force between the memory film 14 and the reproducing film 11 is also cut. This is because the distance d1 between the memory film 14 and the reproducing film 11 is a value (50 nm) at which the magnetostatic coupling force does not act.
Because it is kept in. Incidentally, the distance d1 is determined by the sum of the film thickness D13 (10 nm) of the reproduction auxiliary film 13 and the film thickness D12 (40 nm) of the reproduction intermediate film 12.

【0069】このように、高温領域41Fでは、メモリ
ー膜14と再生膜11との間に、交換結合力も静磁結合
力も作用しないため、メモリー膜14の磁化は、再生膜
11には転写されない。このとき、高温領域41Fの再
生膜11は、磁化が垂直磁化状態となっているが、継続
的に印加されている再生磁界Hrの影響を受けて、その
TM副格子磁化が一様に消去方向(図4中、下向き)に
揃えられた状態となる。
As described above, in the high temperature region 41F, since neither exchange coupling force nor magnetostatic coupling force acts between the memory film 14 and the reproduction film 11, the magnetization of the memory film 14 is not transferred to the reproduction film 11. At this time, the reproducing film 11 in the high temperature region 41F has a perpendicular magnetization state, but its TM sublattice magnetization is uniformly changed in the erasing direction under the influence of the continuously applied reproducing magnetic field Hr. (Downward in FIG. 4).

【0070】また、中温領域41Eでは、その温度T3
が、130℃(再生中間膜12の所定温度Tx12)より
も高いため、再生中間膜12の磁化は、面内磁化状態
(図4中、横方向)から変化して垂直磁化状態(図4
中、縦方向)となっている。また、中温領域41Eの温
度T3は、再生補助膜13のキュリー温度Tc13(23
0℃)よりも低いため、この中温領域41Eの再生補助
膜13は、上記した低温領域41Dと同様に、磁化が面
内磁化状態となっている。
In the middle temperature region 41E, the temperature T3
However, since the temperature is higher than 130 ° C. (the predetermined temperature Tx12 of the reproducing intermediate film 12), the magnetization of the reproducing intermediate film 12 changes from the in-plane magnetization state (horizontal direction in FIG. 4) and the perpendicular magnetization state (FIG. 4).
Middle, vertical). The temperature T3 of the middle temperature region 41E is equal to the Curie temperature Tc13 (23
0 ° C.), the magnetization of the auxiliary reproduction film 13 in the medium temperature region 41E is in an in-plane magnetization state, similarly to the low temperature region 41D.

【0071】しかし、中温領域41E(温度T3)の方
が、低温領域41D(温度T4)よりも温度が高いた
め、この中温領域41Eでの再生補助膜13は、上記し
た低温領域41Dの状態に比べて、その磁化が面内磁化
状態になる傾向が弱まっている。ここで、この中温領域
41Eでの再生補助膜13は、隣接した磁性体がなけれ
ば面内磁化状態に保たれるものの、隣接して磁性膜が形
成されている場合には、その磁性膜からの交換結合力の
影響を受けて、その磁化の面内磁化状態が不安定とな
る。
However, since the temperature of the medium temperature region 41E (temperature T3) is higher than that of the low temperature region 41D (temperature T4), the auxiliary reproduction film 13 in the medium temperature region 41E is in the state of the low temperature region 41D. In comparison, the tendency of the magnetization to become an in-plane magnetization state is weakened. Here, the auxiliary reproduction film 13 in the intermediate temperature region 41E is maintained in the in-plane magnetization state if there is no adjacent magnetic material, but if the adjacent magnetic film is formed, the reproduction auxiliary film 13 is removed from the magnetic film. , The in-plane magnetization state of the magnetization becomes unstable.

【0072】したがって、この中温領域41Eでは、再
生補助膜13の磁化は、隣接するメモリー膜14,再生
中間膜12(共に磁化が垂直磁化状態)からの交換結合
力の影響を受けて垂直磁化状態となる。このとき、再生
補助膜13の磁化は、メモリー膜14の磁化に倣って同
じ向きになる。なお、この中温領域41Eにおけるメモ
リー膜14の磁化の転写は、再生補助膜13の膜厚D13
(10nm)が、再生中間膜12の膜厚D12(40n
m)よりも薄いため、十分に行われる。
Therefore, in the medium temperature region 41E, the magnetization of the auxiliary reproduction film 13 is affected by the exchange coupling force from the adjacent memory film 14 and the intermediate reproduction film 12 (both of which are perpendicularly magnetized). Becomes At this time, the magnetization of the reproduction assisting film 13 has the same direction following the magnetization of the memory film 14. The transfer of the magnetization of the memory film 14 in the middle temperature region 41E is performed by the thickness D13 of the auxiliary reproduction film 13.
(10 nm) corresponds to the film thickness D12 (40 n
m), which is sufficient.

【0073】そして、この再生補助膜13に隣接する再
生中間膜12の磁化も、再生補助膜13からの交換結合
力によってメモリー膜14の磁化と同じ向きとなる。さ
らに、この再生中間膜12に隣接する再生膜11の磁化
も、再生中間膜12からの交換結合力によって、メモリ
ー膜14の磁化と同じ向きとなる。このとき、中温領域
41Eにも再生磁界Hrが印加されているが、中温領域
41Eの再生膜11の磁化の向きを決定する上では、再
生磁界Hrの静磁結合力よりも再生中間膜12からの交
換結合力の方が大きく寄与する。
The magnetization of the reproduction intermediate film 12 adjacent to the auxiliary reproduction film 13 has the same direction as the magnetization of the memory film 14 due to the exchange coupling force from the auxiliary reproduction film 13. Further, the magnetization of the reproducing film 11 adjacent to the reproducing intermediate film 12 has the same direction as the magnetization of the memory film 14 due to the exchange coupling force from the reproducing intermediate film 12. At this time, the reproducing magnetic field Hr is also applied to the intermediate temperature region 41E. However, in determining the direction of magnetization of the reproducing film 11 in the intermediate temperature region 41E, the reproducing magnetic field Hr is more strongly applied to the reproducing intermediate film 12 than the magnetostatic coupling force of the reproducing magnetic field Hr. Exchange coupling force greatly contributes.

【0074】上記のように、ビームスポット41A内の
3つの領域41D,41E,41Fでは、再生中間膜1
2,再生補助膜13が、その温度に応じて異なる状態と
なっており、中温領域41Eでのみ、メモリー膜14の
磁化が、再生補助膜13→再生中間膜12→再生膜11
と順に転写される。なお、低温領域41Dでは、上記し
た再生中間膜12,再生補助膜13の安定した面内磁化
状態によってマスク(低温マスク)が形成されている。
また、高温領域41Fでは、上記した再生中間膜12,
再生補助膜13の磁化消失状態によってマスク(高温マ
スク)が形成されている。そして、これら低温領域41
D,高温領域41Fでは、上記したように、再生膜11
のTM副格子磁化が一様に消去方向に揃えられている。
As described above, in the three regions 41D, 41E and 41F in the beam spot 41A, the reproduction intermediate film 1
2. The auxiliary reproduction film 13 is in a different state depending on the temperature, and only in the middle temperature region 41E, the magnetization of the memory film 14 is changed from the auxiliary reproduction film 13 → the intermediate reproduction film 12 → the reproduction film 11
Are transferred in order. In the low temperature region 41D, a mask (low temperature mask) is formed by the stable in-plane magnetization state of the reproduction intermediate film 12 and the reproduction auxiliary film 13 described above.
Further, in the high temperature region 41F, the above-mentioned reproduced intermediate film 12,
A mask (high-temperature mask) is formed according to the magnetization disappearance state of the reproduction auxiliary film 13. And these low temperature regions 41
D, in the high temperature region 41F, as described above, the reproduction film 11
Are uniformly aligned in the erasing direction.

【0075】ところで、メモリー膜14の磁化の再生膜
11への転写が行われる中温領域41Eの大きさは、メ
モリー膜14に一定間隔(0.3μm)で形成された小
さい記録マーク14Aが1つだけ入る程度とすることが
できる。具体的には、この中温領域41Eの大きさは、
再生中間膜12の組成(Gd30Fe70)、再生補助膜1
3の組成(Gd35Fe62Co3)、再生パワー(3.5
mW)、およびディスクの回転速度(9m/sec)の
関係によって定められる。
By the way, the size of the medium temperature region 41E where the transfer of the magnetization of the memory film 14 to the reproducing film 11 is performed is such that one small recording mark 14A formed on the memory film 14 at a constant interval (0.3 μm). Just enough to fit. Specifically, the size of the intermediate temperature region 41E is
Composition of playback intermediate film 12 (Gd30Fe70), playback assisting film 1
3, the composition (Gd35Fe62Co3) and the reproduction power (3.5
mW) and the rotational speed of the disk (9 m / sec).

【0076】このため、メモリー膜14に一定の狭い間
隔で形成された複数の記録マーク14A,14A,…の
うち、1つの記録マーク14Aのみが、中温領域41E
において、再生補助膜13(転写マーク13A)→再生
中間膜12(転写マーク12A)→再生膜11(転写マ
ーク11A)と順に転写されることになる。上記のよう
に、ビームスポット41Aにおいて、中温領域41Eに
のみ1つの転写マーク11A(TM副格子磁化が記録方
向)が形成され、低温領域41Dおよび高温領域41F
ではTM副格子磁化が一様に消去方向に揃えられている
ので、ビームスポット41Aで反射した再生光41の成
分(反射光)を検出することによって、メモリー膜14
に形成された複数の記録マーク14A,14A,…のう
ちの1つのみを正確に(例えば、クロストークが生じな
いように)再生することができる。
Therefore, of the plurality of recording marks 14A, 14A,... Formed at a fixed narrow interval on the memory film 14, only one of the recording marks 14A is the medium temperature area 41E.
In this case, the reproduction auxiliary film 13 (transfer mark 13A), the reproduction intermediate film 12 (transfer mark 12A), and the reproduction film 11 (transfer mark 11A) are sequentially transferred. As described above, in the beam spot 41A, one transfer mark 11A (the TM sublattice magnetization is in the recording direction) is formed only in the medium temperature region 41E, and the low temperature region 41D and the high temperature region 41F are formed.
Since the TM sublattice magnetization is uniformly aligned in the erasing direction, the component (reflected light) of the reproduction light 41 reflected by the beam spot 41A is detected, and thus the memory film 14 is detected.
Can be accurately reproduced (for example, so as not to cause crosstalk) from among the plurality of recording marks 14A, 14A,.

【0077】そして、上記した再生動作を、光磁気ディ
スク10の回転に伴いディスク移動方向10Aに順に行
うことによって、光磁気ディスク10のメモリー膜14
に形成された複数の記録マーク14A,14A,…を順
に1つずつ再生することができる。以上説明したよう
に、第1実施形態の書き換え型光磁気ディスク10によ
れば、メモリー膜14と再生膜11との間に、再生中間
膜12(面内磁化膜、所定温度Tx12)と、再生補助膜
13(面内磁化膜、所定温度Tx13>所定温度Tx12)
とを形成したので、低温領域41Dにおける低温マスク
を、現行の記録再生装置で発生できる程度に小さい再生
磁界Hrで確実に形成することができる。その結果、低
温領域41Dのみならず高温領域41Fにおいてもメモ
リー膜14の情報をマスクでき、中温領域41Eのみで
メモリー膜14の情報を転写させ、もってダブルマスク
再生がより実用的なものとなる。
The above-described reproducing operation is sequentially performed in the disk moving direction 10A with the rotation of the magneto-optical disk 10, whereby the memory film 14 of the magneto-optical disk 10 is rotated.
Can be reproduced one by one in order. As described above, according to the rewritable magneto-optical disk 10 of the first embodiment, between the memory film 14 and the reproducing film 11, the reproducing intermediate film 12 (in-plane magnetized film, the predetermined temperature Tx12), Auxiliary film 13 (in-plane magnetized film, predetermined temperature Tx13> predetermined temperature Tx12)
Thus, the low-temperature mask in the low-temperature region 41D can be surely formed with the reproducing magnetic field Hr as small as can be generated by the current recording / reproducing apparatus. As a result, the information of the memory film 14 can be masked not only in the low temperature region 41D but also in the high temperature region 41F, and the information of the memory film 14 is transferred only in the middle temperature region 41E, so that the double mask reproduction becomes more practical.

【0078】したがって、第1実施形態の書き換え型光
磁気ディスク10によれば、メモリー膜14に高密度に
記録された情報(複数の記録マーク14A,14A,
…)を1つずつ正確に再生することができる。この書き
換え型光磁気ディスク10について、実際に搬送波対雑
音強度比(CN比)を測定してみたところ、45dB以
上という良好なCN比が得られることがわかった。
Therefore, according to the rewritable magneto-optical disk 10 of the first embodiment, information (a plurality of recording marks 14A, 14A,
..) Can be accurately reproduced one by one. When the carrier-to-noise intensity ratio (CN ratio) of this rewritable magneto-optical disk 10 was actually measured, it was found that a good CN ratio of 45 dB or more was obtained.

【0079】なお、第1実施形態の光磁気ディスク10
では、再生補助膜13の膜厚D13を10nmとした例を
あげて説明したが、この再生補助膜13の膜厚D13は、
0.2nmよりも厚く30nmよりも薄い範囲内の任意
の値に設定することができる。この再生補助膜13の膜
厚D13が上記の範囲内の値であれば、中温領域41Eに
おいて、メモリー膜14の磁化の再生補助膜13への転
写が、十分に行われる。因みに、再生補助膜13の膜厚
D13の最小の値0.2nmは、再生補助膜13を構成す
る原子1つ分の厚さに相当する。
The magneto-optical disk 10 of the first embodiment
In the above description, an example in which the thickness D13 of the reproduction auxiliary film 13 is set to 10 nm has been described.
It can be set to any value within a range greater than 0.2 nm and less than 30 nm. When the thickness D13 of the auxiliary reproduction film 13 is within the above range, the transfer of the magnetization of the memory film 14 to the auxiliary reproduction film 13 is sufficiently performed in the medium temperature region 41E. Incidentally, the minimum value 0.2 nm of the thickness D13 of the auxiliary reproduction film 13 corresponds to the thickness of one atom constituting the auxiliary reproduction film 13.

【0080】また、第1実施形態の光磁気ディスク10
では、再生中間膜12の膜厚D12と再生補助膜13の膜
厚D13との和を50nmとした例をあげて説明したが、
この和は、40nmよりも厚ければ任意の値に設定する
ことができる。けだし、和を40nmよりも厚くすれ
ば、メモリー膜14と再生膜11との間に静磁結合力が
作用しないようにできるからである。この場合にも、再
生補助膜13の膜厚D13を、上記した0.2nmよりも
厚く30nmよりも薄い範囲内の任意の値に設定するこ
とが必要である。
The magneto-optical disk 10 of the first embodiment
In the above, the example in which the sum of the thickness D12 of the reproduction intermediate film 12 and the thickness D13 of the reproduction auxiliary film 13 is set to 50 nm has been described.
This sum can be set to any value as long as it is thicker than 40 nm. If the sum is greater than 40 nm, no magnetostatic coupling force acts between the memory film 14 and the reproduction film 11. Also in this case, it is necessary to set the thickness D13 of the reproduction assisting film 13 to an arbitrary value within the range of greater than 0.2 nm and smaller than 30 nm.

【0081】さらに、第1実施形態の光磁気ディスク1
0では、光磁気ディスク10のメモリー膜14に情報を
高密度に記録するに当たって、筆先記録法を用いる例を
あげて説明したが、磁界変調記録方式を用いることもで
きる。けだし、このように磁界変調記録方式を用いて
も、同様に、メモリー膜14に情報を高密度に記録する
ことができるからである。
Further, the magneto-optical disk 1 of the first embodiment
In the case of 0, an example of using a pen tip recording method to record information at a high density on the memory film 14 of the magneto-optical disk 10 has been described, but a magnetic field modulation recording method can also be used. However, even when the magnetic field modulation recording method is used, information can be recorded on the memory film 14 at high density.

【0082】また、第1実施形態の光磁気ディスク10
では、小さい再生磁界Hrを印加する例をあげて説明し
たが、低温領域41Dにおいて、共に安定した面内磁化
状態となっている再生中間膜12,再生補助膜13から
の交換結合力の影響を受けることで、再生膜11の磁化
が安定した面内磁化状態となるのであれば、再生磁界H
rを印加しなくてもよい。
The magneto-optical disk 10 of the first embodiment
In the above, an example in which a small reproducing magnetic field Hr is applied has been described. However, in the low-temperature region 41D, the influence of the exchange coupling force from the reproducing intermediate film 12 and the reproducing auxiliary film 13 both in a stable in-plane magnetization state is considered. As a result, if the magnetization of the reproducing film 11 becomes a stable in-plane magnetization state, the reproducing magnetic field H
It is not necessary to apply r.

【0083】(第2実施形態)次に、本発明の第2実施
形態について、図6〜図8を用いて説明する。なお、こ
の第2実施形態は、請求項1〜請求項6に対応する。第
2実施形態の光磁気ディスク50も、書き換え型ディス
クであり、第1実施形態の書き換え型光磁気ディスク1
0と同様の小さい再生磁界Hrによるダブルマスク再生
が可能である。また、第2実施形態の光磁気ディスク5
0は、再生パワーを小さくすることも可能である。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This second embodiment corresponds to claims 1 to 6. The magneto-optical disk 50 of the second embodiment is also a rewritable disk, and the rewritable magneto-optical disk 1 of the first embodiment is
Double mask reproduction with a small reproduction magnetic field Hr similar to 0 is possible. Also, the magneto-optical disk 5 of the second embodiment
0 means that the reproducing power can be reduced.

【0084】まず、第2実施形態の光磁気ディスク50
の構造について説明する。第2実施形態の光磁気ディス
ク50は、図6の上方から下方に向かって、基板61
に、保護膜62、再生膜51、再生中間膜52、再生補
助膜53、切断膜54、メモリー膜55および保護膜6
3が順次形成された構造となっている。この第2実施形
態の光磁気ディスク50では、上記した各磁性膜51〜
55のうち、再生膜51,再生中間膜52,再生補助膜
53が、情報の再生時に、第1実施形態の光磁気ディス
ク10の再生膜11,再生中間膜12,再生補助膜13
と同一の動作を行う。
First, the magneto-optical disk 50 of the second embodiment
Will be described. The magneto-optical disk 50 according to the second embodiment includes a substrate 61 from the top in FIG.
The protective film 62, the reproducing film 51, the reproducing intermediate film 52, the reproducing auxiliary film 53, the cutting film 54, the memory film 55, and the protective film 6
3 are sequentially formed. In the magneto-optical disk 50 of the second embodiment, each of the magnetic films 51 to 51 described above is used.
Of the 55, the reproduction film 51, the reproduction intermediate film 52, and the reproduction auxiliary film 53 are used for reproducing the information, the reproduction film 11, the reproduction intermediate film 12, and the reproduction auxiliary film 13 of the magneto-optical disk 10 of the first embodiment.
Performs the same operation as.

【0085】ここで、第2実施形態の光磁気ディスク5
0を構成する各膜51〜55,62,63の組成、膜厚
および機能について説明する。なお、これら各膜51〜
55,62,63も、周知のスパッタリング法によって
成膜される。メモリー膜55は、希土類金属であるTb
と、遷移金属であるFe,Coで構成される。このメモ
リー膜55の組成は、Tb20Fe64Co16であり、その
膜厚D55は、50nmである。
Here, the magneto-optical disk 5 of the second embodiment
The composition, thickness, and function of each of the films 51 to 55, 62, and 63 constituting 0 will be described. In addition, each of these films 51-
55, 62 and 63 are also formed by a well-known sputtering method. The memory film 55 is made of Tb, which is a rare earth metal.
And transition metals Fe and Co. The composition of the memory film 55 is Tb20Fe64Co16, and the film thickness D55 is 50 nm.

【0086】このような組成および膜厚のメモリー膜5
5は、磁化が膜面に対して垂直(図6中、縦方向)に配
向する垂直磁化膜である。なお、メモリー膜55には、
希土類金属(RE)副格子磁化が下向きで遷移金属(T
M)副格子磁化が上向きの状態と、RE副格子磁化が上
向きでTM副格子磁化が下向きの状態とで情報が記録さ
れる。
The memory film 5 having such composition and film thickness
Reference numeral 5 denotes a perpendicular magnetization film whose magnetization is oriented perpendicularly to the film surface (vertical direction in FIG. 6). Note that the memory film 55 includes
Rare earth metal (RE) sublattice magnetization is downward and transition metal (T
M) Information is recorded in a state where the sub-lattice magnetization is upward and a state where the RE sub-lattice magnetization is upward and the TM sub-lattice magnetization is downward.

【0087】また、メモリー膜55は、その補償温度T
h55が、室温Tr近傍にある。このため、メモリー膜5
5は、室温Trでは、RE副格子磁化とTM副格子磁化
とが拮抗し、記録された情報に拘わらず全体の磁化がほ
ぼ零となっている。そして情報の再生時、このようなメ
モリー膜55は、再生光の照射によってその温度が上昇
するに伴い、RE副格子磁化とTM副格子磁化とのバラ
ンスが崩れ(例えば、TM副格子磁化がRE副格子磁化
に比べて大きくなる)、垂直磁化の状態を維持しつつ全
体の磁化が増大するようになっている。
The memory film 55 has its compensation temperature T
h55 is near the room temperature Tr. Therefore, the memory film 5
5 shows that at room temperature Tr, the RE sublattice magnetization and the TM sublattice magnetization antagonize, and the entire magnetization is almost zero irrespective of the recorded information. When information is reproduced, such a memory film 55 loses the balance between the RE sublattice magnetization and the TM sublattice magnetization as the temperature rises due to the irradiation of the reproduction light (for example, when the TM sublattice magnetization becomes RE The magnetization is larger than the sub-lattice magnetization), and the overall magnetization increases while maintaining the state of perpendicular magnetization.

【0088】また、このメモリー膜55は、上記の組成
により、そのキュリー温度Tc55が260℃程度とな
る。このキュリー温度Tc55(260℃)は、少なくと
も後述する再生中間膜52のキュリー温度Tc52,再生
補助膜53のキュリー温度Tc53の何れよりも高い。ま
た、このキュリー温度Tc55は、情報の再生時、再生光
の照射によって上昇される最も高い温度(後述する温度
T2に相当する)よりもさらに高い。
The Curie temperature Tc55 of the memory film 55 is about 260 ° C. due to the above composition. The Curie temperature Tc55 (260 ° C.) is higher than at least the Curie temperature Tc52 of the reproduction intermediate film 52 and the Curie temperature Tc53 of the reproduction auxiliary film 53, which will be described later. The Curie temperature Tc55 is even higher than the highest temperature (corresponding to a temperature T2 to be described later) that is increased by the irradiation of the reproduction light when reproducing information.

【0089】さらに、このメモリー膜55は、上記の組
成としたので、他の磁性膜51〜54の何れよりも保磁
力が高い。また、再生膜51は、希土類金属であるGd
と、遷移金属であるFe,Coとで構成される。この再
生膜51の組成は、Gd25Fe60Co15であり、その膜
厚D51は、30nmである。
Further, since the memory film 55 has the above composition, it has a higher coercive force than any of the other magnetic films 51 to 54. The reproducing film 51 is made of Gd, which is a rare earth metal.
And Fe and Co as transition metals. The composition of the reproducing film 51 is Gd25Fe60Co15, and its thickness D51 is 30 nm.

【0090】このような組成および膜厚の再生膜51
は、上記のメモリー膜55と同様、磁化が垂直に配向す
る垂直磁化膜である。なお、再生膜51の磁化は、再生
光の照射によってその温度が上昇されても垂直磁化状態
のまま保持されるようになっている。また、この再生膜
51は、上記の組成なので、そのキュリー温度Tc51
が、少なくとも後述する再生中間膜52のキュリー温度
Tc52(230℃),再生補助膜53のキュリー温度T
c53(230℃)の何れよりも高い。また、このキュリ
ー温度Tc51も、上記したメモリー膜55のキュリー温
度Tc55と同様、再生光の照射によって上昇される最も
高い温度(後述する温度T2に相当する)よりもさらに
高い。
The reproduction film 51 having such a composition and thickness is as follows.
Is a perpendicular magnetization film in which the magnetization is vertically oriented, like the memory film 55 described above. Note that the magnetization of the reproduction film 51 is maintained in a perpendicular magnetization state even when the temperature is increased by irradiation of the reproduction light. Further, since the reproducing film 51 has the above composition, its Curie temperature Tc51
Are at least the Curie temperature Tc52 (230 ° C.) of the reproduction intermediate film 52 and the Curie temperature Tc of the reproduction auxiliary film 53 described later.
c53 (230 ° C). Also, the Curie temperature Tc51 is higher than the highest temperature (corresponding to a temperature T2 to be described later) raised by the irradiation of the reproduction light, similarly to the Curie temperature Tc55 of the memory film 55 described above.

【0091】また、再生中間膜52は、希土類金属であ
るGdと、遷移金属であるFeとで構成される。この再
生中間膜52の組成は、Gd30Fe70であり、RE副格
子磁化が優勢である。また、再生中間膜52の膜厚D52
は、40nmである。このような組成および膜厚の再生
中間膜52は、室温Trで、磁化が面内(図6中、横方
向)に配向する面内磁化膜である。
The reproduction intermediate film 52 is composed of Gd which is a rare earth metal and Fe which is a transition metal. The composition of the reproducing intermediate film 52 is Gd30Fe70, and the RE sublattice magnetization is dominant. Further, the thickness D52 of the reproduction intermediate film 52
Is 40 nm. The reproducing intermediate film 52 having such a composition and thickness is an in-plane magnetization film in which the magnetization is oriented in-plane (in the horizontal direction in FIG. 6) at room temperature Tr.

【0092】また、この再生中間膜52は、上記の組成
としたので、室温Trよりも高い所定温度Tx52で、そ
の磁化が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する。な
お、この所定温度Tx52は、130℃近傍にある(例え
ば、 ℃〜 ℃の間)。さらに、この再生中間膜5
2は、上記の組成により、そのキュリー温度Tc52が2
30℃程度となる。このキュリー温度Tc52(230
℃)は、上記した再生膜51のキュリー温度Tc51と、
メモリー膜55のキュリー温度Tc55の何れよりも低
い。
Since the reproducing intermediate film 52 has the above composition, its magnetization changes from an in-plane magnetization state to a perpendicular magnetization state at a predetermined temperature Tx52 higher than the room temperature Tr. The predetermined temperature Tx52 is around 130 ° C. (for example, ° C ~ C). Further, the reproduced intermediate film 5
2 has a Curie temperature Tc52 of 2 due to the above composition.
It will be about 30 ° C. This Curie temperature Tc52 (230
° C) is the Curie temperature Tc51 of the reproduction film 51 described above,
It is lower than any of the Curie temperatures Tc55 of the memory film 55.

【0093】また、再生補助膜53は、希土類金属であ
るGdと、遷移金属であるFe,Coとで構成される。
この再生補助膜53の組成は、Gd35Fe62Co3であ
り、上記した再生中間膜52と同様、RE副格子磁化が
優勢である。また、再生補助膜53の膜厚D53は、10
nmである。このような組成および膜厚の再生補助膜5
3は、室温Trで、上記の再生中間膜52と同様、磁化
が面内に配向する面内磁化膜である。
The auxiliary reproduction film 53 is composed of Gd which is a rare earth metal and Fe and Co which are transition metals.
The composition of the reproduction auxiliary film 53 is Gd35Fe62Co3, and the RE sublattice magnetization is dominant similarly to the reproduction intermediate film 52 described above. The thickness D53 of the reproduction assisting film 53 is 10
nm. The regeneration assisting film 5 having such a composition and thickness.
Reference numeral 3 denotes a room temperature Tr, an in-plane magnetization film in which the magnetization is oriented in-plane similarly to the reproduction intermediate film 52 described above.

【0094】また、この再生補助膜53は、上記の組成
としたので、室温Trよりも高い所定温度Tx53で、そ
の磁化が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する。こ
こで、この再生補助膜53は、希土類金属(Gd)の比率
(35原子%)が、上記再生中間膜52の希土類金属
(Gd)の比率(30原子%)よりも高い組成となってい
る。一般に、RE副格子磁化が優勢な膜では、希土類金
属の比率が高いほど、その磁化が面内磁化状態から垂直
磁化状態に変化する温度(所定温度Tx)が高くなる。
このため、再生補助膜53の所定温度Tx53の方が、上
記再生中間膜52の所定温度Tx52(130℃)よりも
高い。したがって、再生補助膜53の方が、再生中間膜
52よりも高い温度まで磁化を面内磁化状態に保つこと
ができる。
Since the auxiliary reproduction film 53 has the above composition, its magnetization changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state at the predetermined temperature Tx53 higher than the room temperature Tr. Here, the ratio of the rare earth metal (Gd) (35 atomic%) in the auxiliary reproduction film 53 is such that the rare earth metal
The composition is higher than the (Gd) ratio (30 atomic%). In general, in a film in which the RE sublattice magnetization is dominant, the temperature (predetermined temperature Tx) at which the magnetization changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state increases as the ratio of the rare earth metal increases.
Therefore, the predetermined temperature Tx53 of the auxiliary reproduction film 53 is higher than the predetermined temperature Tx52 (130 ° C.) of the intermediate reproduction film 52. Therefore, the auxiliary reproduction film 53 can maintain the magnetization in an in-plane magnetization state up to a higher temperature than the intermediate reproduction film 52.

【0095】また、この再生補助膜53は、上記の組成
により、そのキュリー温度Tc53が230℃程度とな
る。このキュリー温度Tc53(230℃)は、上記した
再生中間膜52のキュリー温度Tc52とほぼ同じ値とな
っている。また、このキュリー温度Tc53は、上記した
再生中間膜52と同様、上記した再生膜51のキュリー
温度Tc51と、メモリー膜55のキュリー温度Tc55の
何れよりも低い。
The Curie temperature Tc53 of the auxiliary regeneration film 53 is about 230 ° C. due to the above composition. The Curie temperature Tc53 (230 ° C.) is substantially the same as the Curie temperature Tc52 of the reproduced intermediate film 52 described above. The Curie temperature Tc53 is lower than the Curie temperature Tc51 of the reproduced film 51 and the Curie temperature Tc55 of the memory film 55, similarly to the reproduced intermediate film 52.

【0096】また、切断膜54は、希土類金属であるT
bと、遷移金属であるFeとで構成される。この切断膜
54の組成は、Tb20Fe80であり、その膜厚D54は、
20nmである。このような組成および膜厚の切断膜5
4は、上記のメモリー膜55,再生膜51と同様、磁化
が膜面に対して垂直(図6中、縦方向)に配向する垂直
磁化膜である。
The cutting film 54 is made of T which is a rare earth metal.
b and Fe which is a transition metal. The composition of the cut film 54 is Tb20Fe80, and its thickness D54 is
20 nm. Cutting film 5 having such composition and thickness
Reference numeral 4 denotes a perpendicular magnetization film whose magnetization is oriented perpendicularly to the film surface (vertical direction in FIG. 6), like the memory film 55 and the reproduction film 51 described above.

【0097】また、この切断膜54は、上記の組成によ
り、そのキュリー温度Tc54が140℃程度となる。こ
のキュリー温度Tc54(140℃)は、上記した再生補
助膜53のキュリー温度Tc53(230℃),再生中間
膜52のキュリー温度Tc52(230℃)よりも低い。
また、このキュリー温度Tc54(140℃)は、上記し
た再生中間膜52の所定温度Tx52(130℃)よりも
高い。
The cut film 54 has a Curie temperature Tc 54 of about 140 ° C. due to the above composition. The Curie temperature Tc54 (140 ° C.) is lower than the Curie temperature Tc53 (230 ° C.) of the reproduction assisting film 53 and the Curie temperature Tc52 (230 ° C.) of the reproducing intermediate film 52.
Further, the Curie temperature Tc54 (140 ° C.) is higher than the predetermined temperature Tx52 (130 ° C.) of the reproduced intermediate film 52 described above.

【0098】保護膜62,63は、窒化シリコンからな
り、その膜厚D22,D23は共に70nmである。基板6
1は、2P(photo-polymerization)法により形成された
ガラス基板(直径86mm)であり、その片面には、ガ
イド溝がスパイラル状に形成されている。上記のように
構成された書き換え型光磁気ディスク50のメモリー膜
55への情報の記録動作は、第1実施形態の書き換え型
光磁気ディスク10のメモリー膜14への情報の記録動
作と同じである。
The protective films 62 and 63 are made of silicon nitride, and each of the film thicknesses D22 and D23 is 70 nm. Substrate 6
Reference numeral 1 denotes a glass substrate (86 mm in diameter) formed by a 2P (photo-polymerization) method, and a guide groove is spirally formed on one surface thereof. The operation of recording information on the memory film 55 of the rewritable magneto-optical disk 50 configured as described above is the same as the operation of recording information on the memory film 14 of the rewritable magneto-optical disk 10 of the first embodiment. .

【0099】すなわち、この書き換え型光磁気ディスク
50では、初期化動作により、メモリー膜55は、その
TM副格子磁化が一様に消去方向(図6中、下向き)に
揃えられた状態(以下「初期状態」という)となる。そ
して、この初期化された光磁気ディスク50には、一定
パワー(例えば、10mW)の記録光(波長680n
m)が、情報に応じて断続的に照射される(デューティ
ー比30%)。このときの記録光は、回折限界まで集光
され、ビームスポットの径はおよそ1.1μmとなって
いる。
That is, in the rewritable magneto-optical disk 50, the TM sublattice magnetization of the memory film 55 is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 6) by the initialization operation (hereinafter referred to as "the memory film 55"). Initial state "). The initialized magneto-optical disk 50 has a recording light (wavelength 680 n) of constant power (for example, 10 mW).
m) is radiated intermittently according to the information (duty ratio 30%). The recording light at this time is converged to the diffraction limit, and the diameter of the beam spot is about 1.1 μm.

【0100】実際に、この記録光(10mW)が照射さ
れると、ビームスポットの中心付近に位置する小さい領
域(加熱領域)内でのみ、メモリー膜55のキュリー温
度Tc55(260℃)よりも高い温度T1(記録温度)
まで加熱され、一旦磁化が消失する。そして、光磁気デ
ィスク50の回転(例えば、9m/sec)に伴い、加
熱領域は、ビームスポットから外れる。そして、加熱領
域の温度は、記録温度T1から室温Trに向かって徐々
に低下していく。
When the recording light (10 mW) is actually irradiated, the temperature is higher than the Curie temperature Tc55 (260 ° C.) of the memory film 55 only in a small area (heating area) located near the center of the beam spot. Temperature T1 (recording temperature)
Until magnetization disappears. Then, with the rotation of the magneto-optical disk 50 (for example, 9 m / sec), the heating area deviates from the beam spot. Then, the temperature of the heating area gradually decreases from the recording temperature T1 toward the room temperature Tr.

【0101】加熱領域の温度が記録温度T1から低下し
始めると、その磁化が回復し始める。このとき、加熱領
域の磁化は、継続的に印加されている記録磁界(図6中
の上向きで、大きさは、例えば300(Oe))の影響を
受けて、上記の初期状態から反転した記録状態(TM副
格子磁化が記録方向(図6中、上向き)の状態)とな
る。その後、加熱領域の温度が室温Tr近傍に達する
と、加熱領域の保磁力が高くなり、記録磁界の影響で記
録状態となっている加熱領域の磁化は、自身の保磁力に
よって記録状態(TM副格子磁化が記録方向)に保持さ
れる。このようにして、ビームスポットよりも小さい1
つの記録マークが形成される(マーク長さ0.3μ
m)。
When the temperature of the heating area starts to decrease from the recording temperature T1, the magnetization starts to recover. At this time, the magnetization of the heated region is affected by the continuously applied recording magnetic field (upward in FIG. 6, the magnitude is, for example, 300 (Oe)), and the recording is inverted from the above initial state. A state (a state in which the TM sublattice magnetization is in the recording direction (upward in FIG. 6)). Thereafter, when the temperature of the heating area reaches the vicinity of the room temperature Tr, the coercive force of the heating area increases, and the magnetization of the heating area which is in the recording state due to the influence of the recording magnetic field changes its recording state (TM side The lattice magnetization is maintained in the recording direction. In this way, one smaller than the beam spot
One recording mark is formed (mark length 0.3μ)
m).

【0102】このようにして、第2実施形態の光磁気デ
ィスク50でも、筆先記録法により、情報を高密度に記
録することができる。ここで、記録マークの間隔は、記
録光の断続間隔と、光磁気ディスク50の回転速度とで
決まるもので、その間隔は、0.3μm程度となる。な
お、上記した情報の記録時、他の磁性膜51〜55も、
上記のメモリー膜55と同様、ビームスポット内の小さ
い領域で一旦磁化が消失するが、その後温度が低下して
室温Tr近傍に達すると、再生中間膜52,再生補助膜
53の磁化は面内磁化状態に戻って安定し、再生膜5
1,切断膜54の磁化は垂直磁化状態に戻って安定す
る。
In this way, the magneto-optical disk 50 of the second embodiment can also record information at a high density by the pen tip recording method. Here, the interval between the recording marks is determined by the intermittent interval of the recording light and the rotation speed of the magneto-optical disk 50, and the interval is about 0.3 μm. When recording the above information, the other magnetic films 51 to 55 also
As in the case of the memory film 55, the magnetization once disappears in a small area in the beam spot. However, when the temperature decreases and reaches near the room temperature Tr, the magnetizations of the reproduction intermediate film 52 and the reproduction auxiliary film 53 become in-plane magnetization. The state returns to the stable state, and the regenerated film 5
1. The magnetization of the cutting film 54 returns to the perpendicular magnetization state and stabilizes.

【0103】次に、上記のように高密度な情報が記録さ
れた書き換え型光磁気ディスク50において、その情報
を再生する動作について、図7,図8を用いて説明す
る。なお、図7でも、各磁性膜51〜55の磁化の状態
を表すために、TM副格子磁化の向きが矢印で示されて
いる。情報の再生に当たって、光磁気ディスク50に
は、記録再生装置(図示省略)の半導体レーザから一定
パワーの再生光71が継続的に照射される(図7)。こ
の場合、再生光71のパワーは、上記した第1実施形態
の光磁気ディスク10における情報の再生時に照射され
る再生光41のパワーよりも小さい値に設定されている
(例えば、2mW)。なお、この再生光71は、直線偏
光の状態で光磁気ディスク50に照射される。
Next, the operation of reproducing information from the rewritable magneto-optical disk 50 on which high-density information is recorded as described above will be described with reference to FIGS. In FIG. 7, the direction of the TM sublattice magnetization is indicated by an arrow in order to represent the state of magnetization of each of the magnetic films 51 to 55. In reproducing the information, the magneto-optical disk 50 is continuously irradiated with a reproducing light 71 of a constant power from a semiconductor laser of a recording / reproducing apparatus (not shown) (FIG. 7). In this case, the power of the reproduction light 71 is set to a value (for example, 2 mW) smaller than the power of the reproduction light 41 emitted when reproducing information from the magneto-optical disk 10 of the first embodiment. The reproduction light 71 is applied to the magneto-optical disk 50 in a state of linearly polarized light.

【0104】また、情報の再生に当たって、再生光71
のビームスポット71Aには、記録再生装置(図示省
略)の磁気コイルから発生される一定の大きさの再生磁
界Hrが継続的に印加される(図7)。この再生磁界H
rの向きは、上記の記録磁界の向き(記録方向)と逆で
ある(消去方向)。なお、この再生磁界Hrの大きさ
は、理由は後述するように、従来のダブルマスク再生に
必要であった再生磁界の値よりも小さいものである(例
えば、100(Oe))。したがって、記録再生装置の磁
気コイルを巻数が少ないもので構成でき、また電源も小
さくできる。
In reproducing the information, the reproduction light 71
A constant reproducing magnetic field Hr generated from a magnetic coil of a recording / reproducing device (not shown) is continuously applied to the beam spot 71A (FIG. 7). This reproducing magnetic field H
The direction of r is opposite to the direction of the recording magnetic field (recording direction) (erasing direction). The magnitude of the reproducing magnetic field Hr is smaller than the value of the reproducing magnetic field required for the conventional double mask reproduction (for example, 100 (Oe)), as described later. Therefore, the magnetic coil of the recording / reproducing apparatus can be configured with a small number of turns, and the power source can be reduced.

【0105】さらに、情報の再生に当たって、この光磁
気ディスク50は、上記の記録時と同一の線速度(例え
ば、9m/sec)で回転され、ディスク移動方向50
A(図7,図8に矢印で示される左方)に、ビームスポ
ット71Aを横切りながら移動することになる。再生時
に、実際に再生光71が照射されると、光磁気ディスク
50上のビームスポット71A内には、第1実施形態の
光磁気ディスク50の場合と同様、その移動方向50A
の前方から後方に向かって、ある温度を境に、高温領域
71F(温度T2)、中温領域71E(温度T3)、低
温領域71D(温度T4)と云う3つの領域に分けるこ
とができる。
Further, in reproducing the information, the magneto-optical disk 50 is rotated at the same linear velocity (for example, 9 m / sec) as the above-described recording, and the disk moving direction 50 is set.
A (to the left as indicated by the arrows in FIGS. 7 and 8) moves across the beam spot 71A. At the time of reproduction, when the reproduction light 71 is actually irradiated, the movement direction 50A is set in the beam spot 71A on the magneto-optical disk 50 as in the case of the magneto-optical disk 50 of the first embodiment.
From the front to the rear, a certain temperature can be used as a boundary to divide the temperature into three regions: a high temperature region 71F (temperature T2), a medium temperature region 71E (temperature T3), and a low temperature region 71D (temperature T4).

【0106】なお、この第2実施形態では、再生光71
(2mW)の照射によって、高温領域71Fでは、切断
膜54のキュリー温度Tc54(140℃)よりも高い温
度T2となる。また、中温領域71Eでは、切断膜54
のキュリー温度Tc54(140℃)よりも低く、再生中
間膜52の所定温度Tx52(130℃)よりも高い温度
T3となる。さらに、低温領域71Dでは、再生中間膜
52の所定温度Tx52(130℃)よりも低い温度T4
となる。
In the second embodiment, the reproduction light 71
By the irradiation of (2 mW), the temperature T2 becomes higher than the Curie temperature Tc54 (140 ° C.) of the cut film 54 in the high temperature region 71F. In the middle temperature region 71E, the cut film 54
The temperature T3 is lower than the Curie temperature Tc54 (140 ° C.) and higher than the predetermined temperature Tx52 (130 ° C.) of the reproduced intermediate film 52. Further, in the low temperature region 71D, the temperature T4 lower than the predetermined temperature Tx52 (130 ° C.) of the reproduction intermediate film 52.
Becomes

【0107】このように、温度が異なる3つの領域71
D,71E,71Fに分けられたビームスポット71A
内において、各磁性膜51〜55の磁化は、図7に示さ
れるように、各々、以下に説明する状態となる。まず、
メモリー膜55の磁化は、ビームスポット71A内の何
れの領域71D,71E,71Fにおいても、記録され
た通りの状態のまま安定して保持されている。これは、
ビームスポット71A内の温度(最も高い温度は高温領
域71Fの温度T2、最も低い温度は低温領域71Dの
温度T4)が、メモリー膜55のキュリー温度Tc55
(260℃)よりも低いため、その磁化が消失せず、か
つ、その保磁力が情報を保持するに充分に高いからであ
る。
As described above, three regions 71 having different temperatures are used.
Beam spot 71A divided into D, 71E and 71F
7, the magnetization of each of the magnetic films 51 to 55 is in the state described below, as shown in FIG. First,
The magnetization of the memory film 55 is stably held in any of the regions 71D, 71E, and 71F in the beam spot 71A, as recorded. this is,
The temperature in the beam spot 71A (the highest temperature is the temperature T2 of the high temperature region 71F, and the lowest temperature is the temperature T4 of the low temperature region 71D) is the Curie temperature Tc55 of the memory film 55.
(260 ° C.), the magnetization does not disappear, and the coercive force is sufficiently high to retain information.

【0108】また、再生膜51の磁化は、ビームスポッ
ト71A内の何れの領域71D,71E,71Fにおい
ても、垂直磁化状態のまま保持されている。これは、ビ
ームスポット71A内の温度(温度T2よりも低く温度
T4よりも高い)が、再生膜51のキュリー温度Tc51
よりも低いからである。一方、再生中間膜52の磁化、
再生補助膜53の磁化、および、切断膜54の磁化は、
ビームスポット71A内の低温領域71D(温度T
4),中温領域71E(温度T3),低温領域71F
(温度T2)ごとに、その温度に応じた異なる状態とな
っている。
The magnetization of the reproducing film 51 is maintained in the perpendicular magnetization state in any of the regions 71D, 71E and 71F in the beam spot 71A. This is because the temperature in the beam spot 71A (lower than the temperature T2 and higher than the temperature T4) changes the Curie temperature Tc51 of the reproducing film 51.
Because it is lower. On the other hand, the magnetization of the reproducing intermediate film 52,
The magnetization of the reproduction auxiliary film 53 and the magnetization of the cutting film 54 are
The low-temperature area 71D in the beam spot 71A (the temperature T
4), medium temperature area 71E (temperature T3), low temperature area 71F
Each (temperature T2) is in a different state according to the temperature.

【0109】ここで、ビームスポット71A内の各領域
71D,71E,71Fごとに、再生中間膜52の磁化
の状態、再生補助膜53の磁化の状態、切断膜54の磁
化の状態、および情報の再生動作について説明する。低
温領域71Dでは、その温度T4が、切断膜54のキュ
リー温度Tc54(140℃)よりも低いため、切断膜5
4の磁化は、消失することなく垂直磁化状態のまま保持
されている。このとき、切断膜54の磁化は、隣接して
形成されたメモリー膜55からの交換結合力の影響によ
って、メモリー膜55の磁化に倣って同じ向きになる。
Here, for each of the regions 71D, 71E and 71F in the beam spot 71A, the state of magnetization of the reproduction intermediate film 52, the state of magnetization of the reproduction auxiliary film 53, the state of magnetization of the cutting film 54, and the state of information The reproduction operation will be described. In the low temperature region 71D, the temperature T4 is lower than the Curie temperature Tc54 (140 ° C.) of the cut film 54,
The magnetization of No. 4 is maintained in the perpendicular magnetization state without disappearing. At this time, the magnetization of the cut film 54 has the same direction following the magnetization of the memory film 55 due to the influence of the exchange coupling force from the memory film 55 formed adjacently.

【0110】また、低温領域71Dでは、その温度T4
が、再生中間膜52が面内磁化状態から垂直磁化状態に
変化する所定温度Tx52(130℃)、更には、再生補
助膜53が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する所
定温度Tx53(Tx53>Tx52)よりも低い。したがっ
て、再生補助膜53は、その磁化が面内磁化状態となる
傾向が強い。このとき再生補助膜53の磁化は、隣接す
る切断膜54からの交換結合力を受けるが、面内磁化状
態となる傾向が十分に強いため垂直磁化状態に変化する
ことなく、安定した面内磁化状態が保たれている。
In the low temperature region 71D, the temperature T4
However, a predetermined temperature Tx52 (130 ° C.) at which the reproduction intermediate film 52 changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state, and a predetermined temperature Tx53 (Tx53) at which the reproduction auxiliary film 53 changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state. > Tx52). Therefore, the reproduction auxiliary film 53 has a strong tendency that its magnetization becomes an in-plane magnetization state. At this time, the magnetization of the reproduction assisting film 53 receives exchange coupling force from the adjacent cut film 54, but has a sufficiently strong tendency to be in the in-plane magnetization state, so that it does not change to the perpendicular magnetization state, and thus has stable in-plane magnetization. The state is maintained.

【0111】一方、再生中間膜52は、上記したように
面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する所定温度Tx
52が再生補助膜53の所定温度Tx53より低い分、その
磁化も面内磁化状態になる傾向が比較的弱い。このよう
に面内磁化状態が比較的弱い場合、再生中間膜52は、
隣接した磁性膜がなければ磁化が安定して面内磁化状態
に保たれるものの、隣接して磁性膜が形成されている場
合には、その磁性膜からの交換結合力の影響によって、
その磁化の面内磁化状態が不安定となる傾向にある。こ
のとき、再生中間膜52は、隣接する磁性膜が面内磁化
膜の場合には磁化が面内磁化状態に保たれるが、垂直磁
化膜が隣接している場合には磁化が垂直磁化状態と成り
やすい。
On the other hand, the reproduction intermediate film 52 has a predetermined temperature Tx at which the in-plane magnetization state changes to the perpendicular magnetization state as described above.
Since 52 is lower than the predetermined temperature Tx53 of the auxiliary reproduction film 53, its magnetization is relatively weak in the in-plane magnetization state. When the in-plane magnetization state is relatively weak as described above, the reproducing intermediate film 52
If there is no adjacent magnetic film, the magnetization is stably maintained in the in-plane magnetization state, but if the adjacent magnetic film is formed, the influence of the exchange coupling force from the magnetic film causes
The in-plane magnetization state of the magnetization tends to be unstable. At this time, when the adjacent magnetic film is the in-plane magnetic film, the magnetization of the reproducing intermediate film 52 is maintained in the in-plane magnetization state, but when the perpendicular magnetic film is adjacent, the magnetization is in the perpendicular magnetization state. And easily.

【0112】しかし、この第2実施形態の光磁気ディス
ク50では、再生中間膜52に隣接して再生補助膜53
(磁化が面内磁化状態になる傾向が強い)が形成されて
いるため、再生中間膜52の磁化は、再生補助膜53か
らの交換結合力の影響を受けて、面内磁化状態が安定し
て保たれる(図7)。このように、再生中間膜52,再
生補助膜53は、低温領域71Dで、共に安定した面内
磁化状態となるので、メモリー膜55からの交換結合力
は、再生膜51に作用することがなくなり、この結果、
低温領域71Dでは、確実にマスクが形成され、メモリ
ー膜55の磁化は再生膜51には転写されない。
However, in the magneto-optical disk 50 of the second embodiment, the auxiliary reproduction film 53 is located adjacent to the intermediate reproduction film 52.
(The magnetization tends to be in the in-plane magnetization state), the magnetization of the reproduction intermediate film 52 is affected by the exchange coupling force from the reproduction auxiliary film 53, and the in-plane magnetization state is stabilized. (Fig. 7). As described above, since the reproduction intermediate film 52 and the reproduction auxiliary film 53 both have a stable in-plane magnetization state in the low temperature region 71D, the exchange coupling force from the memory film 55 does not act on the reproduction film 51. ,As a result,
In the low temperature region 71D, a mask is reliably formed, and the magnetization of the memory film 55 is not transferred to the reproduction film 51.

【0113】また、再生中間膜52の面内磁化状態が比
較的弱い場合には、再生膜51の垂直磁化状態も不安定
になる傾向にあるため、従来はこの低温領域(低温マス
ク)71Dで再生膜51の垂直磁化状態を消去方向に揃
えるための大きな再生磁界(500(Oe))をかけなけ
ればならなかったが、上記のように再生中間膜52,再
生補助膜53とが共に安定した面内磁化状態となってい
るのであれば、低温領域71Dの再生膜51に印加する
再生磁界Hrが小さく(100(Oe))ても、この再生
膜51のTM副格子磁化を容易に消去方向(図7中、下
向き)に揃えることができる。
When the in-plane magnetization state of the reproducing intermediate film 52 is relatively weak, the perpendicular magnetization state of the reproducing film 51 also tends to be unstable. Although a large reproducing magnetic field (500 (Oe)) had to be applied to align the perpendicular magnetization state of the reproducing film 51 in the erasing direction, both the reproducing intermediate film 52 and the reproducing auxiliary film 53 became stable as described above. If the in-plane magnetization state exists, even if the reproducing magnetic field Hr applied to the reproducing film 51 in the low temperature region 71D is small (100 (Oe)), the TM sublattice magnetization of the reproducing film 51 can be easily changed in the erasing direction. (Downward in FIG. 7).

【0114】また、高温領域71Fでは、その温度T2
が140℃(切断膜54のキュリー温度Tc54)よりも
高いよりも高いため、切断膜54の磁化は消失している
(図7)。このため、高温領域71Fでは、メモリー膜
55と再生膜51との間の交換結合力は切断されてい
る。さらに、この高温領域71Fは、再生光71のパワ
ーが小さいため、230℃(再生中間膜52のキュリー
温度Tc52,再生補助膜53のキュリー温度Tc53)よ
りも温度が高い一部F1と、一部以外F2とに分けて考
えられる。
In the high temperature region 71F, the temperature T2
Is higher than 140 ° C. (Curie temperature Tc54 of the cut film 54), the magnetization of the cut film 54 has disappeared (FIG. 7). Therefore, in the high temperature region 71F, the exchange coupling force between the memory film 55 and the reproduction film 51 is disconnected. Further, in the high-temperature region 71F, since the power of the reproduction light 71 is small, a part F1 whose temperature is higher than 230 ° C. (the Curie temperature Tc52 of the reproduction intermediate film 52 and the Curie temperature Tc53 of the reproduction auxiliary film 53), And F2.

【0115】そして、高温領域71Fの一部F1では、
その温度が230℃(再生中間膜52のキュリー温度T
c52,再生補助膜53のキュリー温度Tc53)よりも高
くなっており、ここでは再生中間膜52,再生補助膜5
3の磁化が共に、消失している(図7)。したがって、
この一部F1では、メモリー膜55と再生膜51との間
の静磁結合力も切断されている。なお、このときのメモ
リー膜55と再生膜51との間の距離dは、70nmで
あり、静磁結合力が作用しないような値となっている。
Then, in the part F1 of the high temperature region 71F,
The temperature is 230 ° C. (the Curie temperature T of the regenerated intermediate film 52)
c52 and the Curie temperature Tc53 of the auxiliary reproduction film 53).
No. 3 has disappeared (FIG. 7). Therefore,
In this part F1, the magnetostatic coupling force between the memory film 55 and the reproducing film 51 is also cut. At this time, the distance d between the memory film 55 and the reproducing film 51 is 70 nm, which is a value such that the magnetostatic coupling force does not act.

【0116】また、高温領域71Fの一部以外F2で
は、その温度が230℃(再生中間膜52のキュリー温
度Tc52,再生補助膜53のキュリー温度Tc53)より
も低く140℃よりも高いため、ここでは再生中間膜5
2,再生補助膜53の磁化が共に、面内磁化状態から変
化して垂直磁化状態となっている(図7)。しかし、こ
の一部以外F2では、メモリー膜55から再生補助膜5
3への静磁結合力の影響が作用しない。
In the area F2 other than a part of the high temperature area 71F, the temperature is lower than 230 ° C. (the Curie temperature Tc52 of the reproducing intermediate film 52 and the Curie temperature Tc53 of the reproducing auxiliary film 53) and higher than 140 ° C. Then, the reproduction interlayer 5
2. Both the magnetization of the auxiliary reproduction film 53 changes from the in-plane magnetization state to a perpendicular magnetization state (FIG. 7). However, in F2 other than this part, the memory assisting film 5
3 has no effect of the magnetostatic coupling force.

【0117】このように、第2実施形態では、再生光7
1のパワーが小さいため、高温領域71F内には、再生
中間膜52,再生補助膜53の磁化が共に消失している
一部F1と、再生中間膜52,再生補助膜53の磁化が
共に垂直磁化状態となっている一部以外F2とが混在す
る。しかし、メモリー膜55と再生補助膜53との間に
形成された切断膜54の磁化が消失しているため、メモ
リー膜55の磁化は、何れの場合であっても、再生膜5
1に転写されない。
As described above, in the second embodiment, the reproduction light 7
In the high temperature region 71F, the magnetization F1 of the reproduction intermediate film 52 and the auxiliary reproduction film 53 is perpendicular to the portion F1 in which both the magnetizations of the reproduction intermediate film 52 and the auxiliary reproduction film 53 have disappeared. Except for a part in a magnetized state, F2 is mixed. However, since the magnetization of the cutting film 54 formed between the memory film 55 and the auxiliary reproduction film 53 has disappeared, the magnetization of the memory film 55 may be in any case.
Not transferred to 1.

【0118】このとき、高温領域71Fの再生膜51
は、磁化が垂直磁化状態となっているが、継続的に印加
されている再生磁界Hrの影響を受けて、そのTM副格
子磁化が一様に消去方向(図7中、下向き)に揃えられ
た状態となる。中温領域71Eでは、その温度T3が、
切断膜54のキュリー温度Tc54(140℃)よりも低
いため、切断膜54の磁化は、消失することなく垂直磁
化状態のまま保持されている。このとき、切断膜54の
磁化は、隣接して形成されたメモリー膜55からの交換
結合力の影響によって、メモリー膜55の磁化に倣って
同じ向きになる。
At this time, the reproduction film 51 in the high temperature region 71F
Has a perpendicular magnetization state, but its TM sublattice magnetization is uniformly aligned in the erasing direction (downward in FIG. 7) under the influence of the continuously applied reproducing magnetic field Hr. State. In the middle temperature region 71E, the temperature T3 is
Since the temperature is lower than the Curie temperature Tc54 (140 ° C.) of the cut film 54, the magnetization of the cut film 54 is maintained in the perpendicular magnetization state without disappearing. At this time, the magnetization of the cut film 54 has the same direction following the magnetization of the memory film 55 due to the influence of the exchange coupling force from the memory film 55 formed adjacently.

【0119】また、中温領域71Eでは、その温度T3
が、130℃(再生中間膜52の所定温度Tx52)より
も高いため、再生中間膜52の磁化は、面内磁化状態
(図7中、横方向)から変化して垂直磁化状態(図7
中、縦方向)となっている。また、中温領域71Eの温
度T3は、再生補助膜53のキュリー温度Tc53(23
0℃)よりも低いため、この中温領域71Eの再生補助
膜53は、上記した低温領域71Dと同様に、磁化が面
内磁化状態となっている。
In the middle temperature region 71E, the temperature T3
However, since the temperature is higher than 130 ° C. (the predetermined temperature Tx52 of the reproducing intermediate film 52), the magnetization of the reproducing intermediate film 52 changes from the in-plane magnetization state (the horizontal direction in FIG. 7) to the perpendicular magnetization state (FIG. 7).
Middle, vertical). The temperature T3 of the middle temperature region 71E is equal to the Curie temperature Tc53 (23
0 ° C.), the magnetization of the auxiliary reproduction film 53 in the intermediate temperature region 71E is in the in-plane magnetization state, similarly to the low temperature region 71D.

【0120】しかし、中温領域71E(温度T3)の方
が、低温領域71D(温度T4)よりも温度が高いた
め、この中温領域71Eでの再生補助膜53は、上記し
た低温領域71Dの状態に比べて、その磁化が面内磁化
状態になる傾向が弱まっている。ここで、この中温領域
71Eでの再生補助膜53は、隣接した磁性体がなけれ
ば面内磁化状態に保たれるものの、隣接して磁性膜が形
成されている場合には、その磁性膜からの交換結合力の
影響を受けて、その磁化の面内磁化状態が不安定とな
る。
However, since the temperature of the middle temperature region 71E (temperature T3) is higher than that of the low temperature region 71D (temperature T4), the auxiliary reproduction film 53 in the middle temperature region 71E is in the state of the low temperature region 71D. In comparison, the tendency of the magnetization to become an in-plane magnetization state is weakened. Here, the auxiliary reproduction film 53 in the intermediate temperature region 71E is maintained in the in-plane magnetization state if there is no adjacent magnetic material, but if the adjacent magnetic film is formed, the auxiliary magnetic film 53 , The in-plane magnetization state of the magnetization becomes unstable.

【0121】したがって、この中温領域71Eでは、再
生補助膜53の磁化は、隣接する切断膜54,再生中間
膜52(共に磁化が垂直磁化状態)からの交換結合力の
影響を受けて垂直磁化状態となる。このとき、再生補助
膜53の磁化は、切断膜54の磁化に倣って、メモリー
膜54の磁化と同じ向きになる。なお、この中温領域7
1Eにおけるメモリー膜55の磁化の転写は、再生補助
膜53の膜厚D53(10nm)が、再生中間膜52の膜
厚D52(40nm)よりも薄いため、十分に行われる。
Therefore, in the middle temperature region 71E, the magnetization of the auxiliary reproduction film 53 is affected by the exchange coupling force from the adjacent cutting film 54 and the intermediate reproduction film 52 (both having the perpendicular magnetization state). Becomes At this time, the magnetization of the reproduction auxiliary film 53 follows the magnetization of the cutting film 54 and has the same direction as the magnetization of the memory film 54. Note that this medium temperature region 7
The transfer of the magnetization of the memory film 55 in 1E is sufficiently performed because the thickness D53 (10 nm) of the auxiliary reproduction film 53 is smaller than the thickness D52 (40 nm) of the intermediate reproduction film 52.

【0122】そして、この再生補助膜53に隣接する再
生中間膜52の磁化も、再生補助膜53からの交換結合
力によってメモリー膜55の磁化と同じ向きとなる。さ
らに、この再生中間膜52に隣接する再生膜51の磁化
も、再生中間膜52からの交換結合力によって、メモリ
ー膜55の磁化と同じ向きとなる。このとき、中温領域
71Eにも再生磁界Hrが印加されているが、中温領域
71Eの再生膜51の磁化の向きを決定する上では、再
生磁界Hrの静磁結合力よりも再生中間膜52からの交
換結合力の方が大きく寄与する。
The magnetization of the reproduction intermediate film 52 adjacent to the auxiliary reproduction film 53 also has the same direction as the magnetization of the memory film 55 due to the exchange coupling force from the auxiliary reproduction film 53. Further, the magnetization of the reproducing film 51 adjacent to the reproducing intermediate film 52 has the same direction as the magnetization of the memory film 55 due to the exchange coupling force from the reproducing intermediate film 52. At this time, the reproducing magnetic field Hr is also applied to the intermediate temperature region 71E. However, in determining the direction of magnetization of the reproducing film 51 in the intermediate temperature region 71E, the reproducing magnetic field Hr is applied to the reproducing intermediate film 52 more than the magnetostatic coupling force of the reproducing magnetic field Hr. Exchange coupling force greatly contributes.

【0123】上記のように、ビームスポット71A内の
3つの領域71D,71E,71Fでは、再生中間膜5
2,再生補助膜53が、その温度に応じて異なる状態と
なっており、中温領域71Eでのみ、メモリー膜55の
磁化が、再生補助膜53→再生中間膜52→再生膜51
と順に転写される。なお、低温領域71Dでは、上記し
た再生中間膜52,再生補助膜53の安定した面内磁化
状態によってマスク(低温マスク)が形成されている。
また、高温領域71Fでは、上記した再生中間膜52,
再生補助膜53の磁化消失状態によってマスク(高温マ
スク)が形成されている。そして、これら低温領域71
D,高温領域71Fでは、上記したように、再生膜51
のTM副格子磁化が一様に消去方向に揃えられている。
As described above, in the three regions 71D, 71E and 71F in the beam spot 71A, the reproduction intermediate film 5
2. The auxiliary reproduction film 53 is in a different state depending on the temperature, and only in the middle temperature region 71E, the magnetization of the memory film 55 is changed to the auxiliary reproduction film 53 → the intermediate reproduction film 52 → the reproduction film 51.
Are transferred in order. In the low temperature region 71D, a mask (low temperature mask) is formed by the stable in-plane magnetization state of the reproduction intermediate film 52 and the reproduction auxiliary film 53 described above.
Further, in the high temperature region 71F, the above-mentioned reproduced intermediate film 52,
A mask (high-temperature mask) is formed according to the magnetization disappearance state of the reproduction auxiliary film 53. And these low temperature regions 71
D, in the high temperature region 71F, as described above,
Are uniformly aligned in the erasing direction.

【0124】ところで、メモリー膜55の磁化の再生膜
51への転写が行われる中温領域71Eの大きさは、メ
モリー膜55に一定間隔(0.3μm)で形成された小
さい記録マークが1つだけ入る程度とすることができ
る。具体的には、この中温領域71Eの大きさは、再生
中間膜52の組成(Gd30Fe70)、再生補助膜53の
組成(Gd35Fe62Co3)、切断膜54の組成(Tb2
0Fe80)、再生パワー(2mW)、およびディスクの
回転速度(9m/sec)の関係によって定められる。
The size of the medium temperature region 71E where the transfer of the magnetization of the memory film 55 to the reproducing film 51 is performed is such that only one small recording mark formed at a constant interval (0.3 μm) in the memory film 55 is formed. Can enter. Specifically, the size of the intermediate temperature region 71E is determined by the composition of the intermediate reproduction film 52 (Gd30Fe70), the composition of the auxiliary reproduction film 53 (Gd35Fe62Co3), and the composition of the cut film 54 (Tb2
0Fe80), the reproduction power (2 mW), and the rotational speed of the disc (9 m / sec).

【0125】このため、メモリー膜55に一定の狭い間
隔で形成された複数の記録マークのうち、1つの記録マ
ークのみが、中温領域71Eにおいて、再生補助膜53
(転写マーク53A)→再生中間膜52(転写マーク5
2A)→再生膜51(転写マーク51A)と順に転写さ
れることになる。上記のように、ビームスポット71A
において、中温領域71Eにのみ1つの転写マーク51
A(TM副格子磁化が記録方向)が形成され、低温領域
71Dおよび高温領域71FではTM副格子磁化が一様
に消去方向に揃えられているので、ビームスポット71
Aで反射した再生光71の成分(反射光)を検出するこ
とによって、メモリー膜55に形成された複数の記録マ
ークのうちの1つのみを正確に(例えば、クロストーク
が生じないように)再生することができる。
For this reason, of the plurality of recording marks formed on the memory film 55 at fixed narrow intervals, only one of the recording marks is used in the medium temperature region 71E in the reproduction auxiliary film 53.
(Transfer mark 53A) → reproduction intermediate film 52 (transfer mark 5
2A) → the reproduction film 51 (transfer mark 51A). As described above, beam spot 71A
, One transfer mark 51 is provided only in the medium temperature region 71E.
A (the TM sublattice magnetization is in the recording direction) is formed, and in the low temperature region 71D and the high temperature region 71F, the TM sublattice magnetization is uniformly aligned in the erasing direction.
By detecting the component (reflected light) of the reproduction light 71 reflected by A, only one of the plurality of recording marks formed on the memory film 55 can be accurately (for example, so as not to cause crosstalk). Can be played.

【0126】以上説明したように、第2実施形態の書き
換え型光磁気ディスク50によれば、メモリー膜55と
再生膜51との間に、再生中間膜52(面内磁化膜、所
定温度Tx52)と、再生補助膜53(面内磁化膜、所定
温度Tx53>所定温度Tx52)とを形成したので、低温
領域71Dにおける低温マスクを、小さい再生磁界Hr
で確実なマスクとすることができる。その結果、低温領
域71Dのみならず高温領域71Fにおいてもメモリー
膜55の情報をマスクでき、中温領域71Eのみでメモ
リー膜55の情報を転写させ、もってダブルマスク再生
がより実用的なものとなる。
As described above, according to the rewritable magneto-optical disk 50 of the second embodiment, between the memory film 55 and the reproducing film 51, the reproducing intermediate film 52 (in-plane magnetic film, predetermined temperature Tx52) And the auxiliary reproduction film 53 (in-plane magnetized film, predetermined temperature Tx53> predetermined temperature Tx52), the low-temperature mask in the low-temperature region 71D is reduced by a small reproduction magnetic field Hr.
Thus, a reliable mask can be obtained. As a result, the information of the memory film 55 can be masked not only in the low-temperature region 71D but also in the high-temperature region 71F, and the information of the memory film 55 is transferred only in the middle-temperature region 71E, so that the double mask reproduction becomes more practical.

【0127】さらに、第2実施形態の書き換え型光磁気
ディスク50によれば、メモリー膜55と再生補助膜5
3との間に、切断膜54(垂直磁化膜、キュリー温度T
c54、但しTc53,Tc52>Tc54>Tx52)を形成し
たので、再生光41のパワーが小さくても、メモリー膜
55の高密度な情報をマスクできる高温領域71Fを広
く確保することができる。
Further, according to the rewritable magneto-optical disk 50 of the second embodiment, the memory film 55 and the reproduction auxiliary film 5
3, the cutting film 54 (perpendicular magnetization film, Curie temperature T
Since c54 (Tc53, Tc52>Tc54> Tx52) is formed, it is possible to secure a wide high-temperature region 71F in which high-density information of the memory film 55 can be masked even if the power of the reproduction light 41 is small.

【0128】したがって、第2実施形態の書き換え型光
磁気ディスク50によれば、メモリー膜55に高密度に
記録された情報(複数の記録マーク)を1つずつ正確に
再生することができる。この書き換え型光磁気ディスク
50について、実際に搬送波対雑音強度比(CN比)を
測定してみたところ、45dB以上という良好なCN比
が得られることがわかった。
Therefore, according to the rewritable magneto-optical disk 50 of the second embodiment, information (a plurality of recording marks) recorded on the memory film 55 at high density can be accurately reproduced one by one. When the carrier-to-noise intensity ratio (CN ratio) of the rewritable magneto-optical disk 50 was actually measured, it was found that a good CN ratio of 45 dB or more was obtained.

【0129】なお、第2実施形態の光磁気ディスク50
では、再生補助膜53の膜厚D53を10nmとした例を
あげて説明したが、この再生補助膜53の膜厚D53は、
第1実施形態の再生補助膜13と同様、0.2nmより
も厚く30nmよりも薄い範囲内の任意の値に設定する
ことができる。また、第2実施形態の光磁気ディスク5
0では、再生中間膜52の膜厚D52と再生補助膜53の
膜厚D53との和を50nmとした例をあげて説明した
が、この和は、第1実施形態と同様、40nmよりも厚
ければ任意の値に設定することができる。
Incidentally, the magneto-optical disk 50 of the second embodiment
In the above, an example in which the thickness D53 of the reproduction auxiliary film 53 is set to 10 nm has been described.
As in the case of the auxiliary reproduction film 13 of the first embodiment, it can be set to an arbitrary value within a range thicker than 0.2 nm and thinner than 30 nm. Also, the magneto-optical disk 5 of the second embodiment
0, an example was described in which the sum of the film thickness D52 of the reproduction intermediate film 52 and the film thickness D53 of the reproduction auxiliary film 53 was 50 nm. However, this sum was larger than 40 nm as in the first embodiment. If desired, it can be set to any value.

【0130】また、第2実施形態の光磁気ディスク50
では、小さい再生磁界Hrを印加する例をあげて説明し
たが、低温領域71Dにおいて、共に安定した面内磁化
状態となっている再生中間膜52,再生補助膜53から
の交換結合力の影響を受けることで、再生膜51の磁化
が安定した面内磁化状態となるのであれば、再生磁界H
rを印加しなくてもよく、磁界発生源を内蔵しなくて済
む分、装置のさらなる小型化が図られる。
Further, the magneto-optical disk 50 of the second embodiment
In the above, an example in which a small reproduction magnetic field Hr is applied has been described. However, in the low temperature region 71D, the influence of the exchange coupling force from the reproduction intermediate film 52 and the reproduction auxiliary film 53 both in a stable in-plane magnetization state is considered. As a result, if the magnetization of the reproducing film 51 becomes a stable in-plane magnetization state, the reproducing magnetic field H
It is not necessary to apply r, and the size of the device can be further reduced because the magnetic field generation source does not need to be built in.

【0131】(第3実施形態)次に、本発明の第3実施
形態について、図9を用いて説明する。なお、この第3
実施形態は、請求項1〜請求項8に対応する。第3実施
形態の光磁気ディスク80は、本発明を光変調オーバー
ライト記録方式の光磁気ディスクに適用したものであ
る。すなわち、この光磁気ディスク80は、第2実施形
態の書き換え型光磁気ディスク50における再生膜5
1,再生中間膜52,再生補助膜53,切断膜54に対
応する再生膜81,再生中間膜82,再生補助膜83,
切断膜84を、光変調オーバーライト記録方式の光磁気
ディスクに形成して、高密度な情報の再生を可能にした
ものである。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that this third
The embodiment corresponds to claims 1 to 8. The magneto-optical disk 80 of the third embodiment is one in which the present invention is applied to a magneto-optical disk of a light modulation overwrite recording system. That is, the magneto-optical disk 80 is the same as the reproducing film 5 in the rewritable magneto-optical disk 50 of the second embodiment.
1, a reproduction film 81, a reproduction intermediate film 82, a reproduction auxiliary film 83 corresponding to the reproduction intermediate film 52, the reproduction auxiliary film 53, and the cut film 54;
The cutting film 84 is formed on a magneto-optical disk of a light modulation overwrite recording system to enable high-density information reproduction.

【0132】まず、第3実施形態の光磁気ディスク80
の構造について説明する。第3実施形態の光磁気ディス
ク80は、図9の上方から下方に向かって、基板91
に、保護膜92、再生膜81、再生中間膜82、再生補
助膜83、切断膜84、メモリー膜85、中間膜86、
記録膜87、スイッチング膜88、初期化膜89、保護
膜93、金属膜94および樹脂保護膜95が順次形成さ
れた構造となっている。
First, the magneto-optical disk 80 of the third embodiment
Will be described. The magneto-optical disk 80 according to the third embodiment includes a substrate 91 from above to below in FIG.
A protective film 92, a reproducing film 81, a reproducing intermediate film 82, a reproducing auxiliary film 83, a cutting film 84, a memory film 85, an intermediate film 86,
It has a structure in which a recording film 87, a switching film 88, an initialization film 89, a protection film 93, a metal film 94, and a resin protection film 95 are sequentially formed.

【0133】この第3実施形態の光磁気ディスク80で
は、上記した各膜81〜89,92〜95のうち、再生
膜81,再生中間膜82,再生補助膜83、切断膜84
が、情報の再生時に、第2実施形態の光磁気ディスク5
0の再生膜51,再生中間膜52,再生補助膜53、切
断膜54と同一の動作を行う。ここで、第3実施形態の
光磁気ディスク80を構成する各膜81〜89,92〜
95の組成、膜厚および機能について説明する。なお、
これら各膜81〜88,92〜95も、周知のスパッタ
リング法によって成膜される。
In the magneto-optical disk 80 of the third embodiment, of the films 81 to 89 and 92 to 95 described above, the reproduction film 81, the reproduction intermediate film 82, the reproduction auxiliary film 83, and the cutting film 84
When reproducing information, the magneto-optical disk 5 of the second embodiment
The same operations as those of the reproduction film 51, the reproduction intermediate film 52, the reproduction auxiliary film 53, and the cutting film 54 are performed. Here, each of the films 81 to 89, 92 to 92 to configure the magneto-optical disk 80 of the third embodiment.
The composition, film thickness, and function of 95 will be described. In addition,
These films 81 to 88 and 92 to 95 are also formed by a well-known sputtering method.

【0134】再生膜81は、希土類金属であるGdと、
遷移金属であるFe,Coとで構成された垂直磁化膜で
ある。この再生膜81の組成は、Gd25Fe60Co15で
あり、その膜厚D81は、30nmである。
The reproducing film 81 is composed of Gd which is a rare earth metal,
This is a perpendicular magnetization film composed of transition metals Fe and Co. The composition of the reproducing film 81 is Gd25Fe60Co15, and the thickness D81 thereof is 30 nm.

【0135】このような組成および膜厚の再生膜81
は、再生光の照射によってその温度が上昇されても、そ
の磁化が垂直磁化状態のまま保持されるようになってい
る。また、この再生膜81は、上記の組成なので、その
キュリー温度Tc81が、少なくとも後述する再生中間膜
82のキュリー温度Tc82(230℃),再生補助膜8
3のキュリー温度Tc83(230℃)の何れよりも高
い。また、このキュリー温度Tc81も、後述するメモリ
ー膜85のキュリー温度Tc85と同様、再生光の照射に
よって上昇される最も高い温度(後述する温度T2に相
当する)よりもさらに高い。
The reproduced film 81 having such a composition and thickness is as follows.
Is designed so that its magnetization is maintained in a perpendicular magnetization state even when its temperature is increased by irradiation of reproduction light. Further, since the reproducing film 81 has the above-described composition, its Curie temperature Tc81 is at least the Curie temperature Tc82 (230 ° C.) of the reproducing intermediate film 82 described later and the reproducing auxiliary film 8.
3, which is higher than the Curie temperature Tc83 (230 ° C.). Also, the Curie temperature Tc81 is higher than the highest temperature (corresponding to a temperature T2 described later) that is raised by the irradiation of the reproduction light, similarly to a Curie temperature Tc85 of the memory film 85 described later.

【0136】また、再生中間膜82は、希土類金属であ
るGdと、遷移金属であるFeとで構成される。この再
生中間膜82の組成は、Gd30Fe70であり、RE副格
子磁化が優勢である。また、再生中間膜82の膜厚D82
は、40nmである。このような組成および膜厚の再生
中間膜82は、室温Trで、磁化が面内(図9中、横方
向)に配向する面内磁化膜である。
The reproducing intermediate film 82 is composed of Gd which is a rare earth metal and Fe which is a transition metal. The composition of the reproducing intermediate film 82 is Gd30Fe70, and the RE sublattice magnetization is dominant. Further, the thickness D82 of the reproduction intermediate film 82
Is 40 nm. The reproducing intermediate film 82 having such a composition and film thickness is an in-plane magnetic film in which the magnetization is oriented in-plane (horizontal direction in FIG. 9) at room temperature Tr.

【0137】また、この再生中間膜82は、上記の組成
としたので、室温Trよりも高い所定温度Tx82で、そ
の磁化が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する。な
お、この所定温度Tx82は、130℃近傍にある(例え
ば、 ℃〜 ℃の間)。さらに、この再生中間膜8
2は、上記の組成により、そのキュリー温度Tc82が2
30℃程度となる。このキュリー温度Tc82(230
℃)は、上記した再生膜81のキュリー温度Tc81と、
メモリー膜85のキュリー温度Tc85の何れよりも低
い。
Since the reproducing intermediate film 82 has the above composition, its magnetization changes from an in-plane magnetization state to a perpendicular magnetization state at a predetermined temperature Tx82 higher than the room temperature Tr. The predetermined temperature Tx82 is around 130 ° C. (for example, ° C ~ C). Further, the reproduced intermediate film 8
2 has a Curie temperature Tc82 of 2 due to the above composition.
It will be about 30 ° C. This Curie temperature Tc82 (230
° C) is the Curie temperature Tc81 of the reproduction film 81 described above,
It is lower than any of the Curie temperatures Tc85 of the memory film 85.

【0138】また、再生補助膜83は、希土類金属であ
るGdと、遷移金属であるFe,Coとで構成される。
この再生補助膜83の組成は、Gd35Fe62Co3であ
り、上記した再生中間膜82と同様、RE副格子磁化が
優勢である。また、再生補助膜83の膜厚D83は、10
nmである。このような組成および膜厚の再生補助膜8
3は、室温Trで、上記の再生中間膜82と同様、磁化
が面内に配向する面内磁化膜である。
The auxiliary reproduction film 83 is composed of Gd which is a rare earth metal and Fe and Co which are transition metals.
The composition of the reproduction auxiliary film 83 is Gd35Fe62Co3, and the RE sublattice magnetization is dominant similarly to the reproduction intermediate film 82 described above. The thickness D83 of the reproduction assisting film 83 is 10
nm. The reproduction assisting film 8 having such composition and film thickness
Reference numeral 3 denotes an in-plane magnetized film in which the magnetization is oriented in-plane, similar to the reproducing intermediate film 82, at room temperature Tr.

【0139】また、この再生補助膜83は、上記の組成
としたので、室温Trよりも高い所定温度Tx83で、そ
の磁化が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する。こ
こで、この再生補助膜83は、希土類金属(Gd)の比率
(35原子%)が、上記再生中間膜82の希土類金属
(Gd)の比率(30原子%)よりも高い組成となってい
るので、再生補助膜83の所定温度Tx83の方が、上記
再生中間膜82の所定温度Tx82(130℃)よりも高
くなる。したがって、再生補助膜83の方が、再生中間
膜82よりも高い温度まで磁化を面内磁化状態に保つこ
とができる。
Since the auxiliary reproduction film 83 has the above-mentioned composition, its magnetization changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state at the predetermined temperature Tx83 higher than the room temperature Tr. Here, the ratio of the rare earth metal (Gd) (35 at%) in the reproduction auxiliary film 83 is such that the rare earth metal
Since the composition is higher than the ratio (Gd) (30 atomic%), the predetermined temperature Tx83 of the reproduction auxiliary film 83 is higher than the predetermined temperature Tx82 (130 ° C.) of the reproduction intermediate film 82. Therefore, the auxiliary reproduction film 83 can maintain the magnetization in the in-plane magnetization state up to a higher temperature than the intermediate reproduction film 82.

【0140】また、この再生補助膜83は、上記の組成
により、そのキュリー温度Tc83が230℃程度とな
る。このキュリー温度Tc83(230℃)は、上記した
再生中間膜82のキュリー温度Tc82とほぼ同じ値とな
っている。また、このキュリー温度Tc83は、上記した
再生中間膜82と同様、上記した再生膜81のキュリー
温度Tc81と、メモリー膜85のキュリー温度Tc85の
何れよりも低い。
The Curie temperature Tc83 of the auxiliary reproduction film 83 is about 230 ° C. due to the above composition. This Curie temperature Tc83 (230 ° C.) is substantially the same as the Curie temperature Tc82 of the reproduced intermediate film 82 described above. The Curie temperature Tc83 is lower than the Curie temperature Tc81 of the reproduced film 81 and the Curie temperature Tc85 of the memory film 85, similarly to the reproduced intermediate film 82.

【0141】また、切断膜84は、希土類金属であるT
bと、遷移金属であるFeとで構成された垂直磁化膜で
ある。この切断膜84の組成は、Tb20Fe80であり、
その膜厚D85は、20nmである。このような組成およ
び膜厚の切断膜84は、そのキュリー温度Tc84が14
0℃程度となる。このキュリー温度Tc84(140℃)
は、上記した再生補助膜83のキュリー温度Tc83(2
30℃),再生中間膜82のキュリー温度Tc82(23
0℃)よりも低い。また、このキュリー温度Tc84(1
40℃)は、上記した再生中間膜82の所定温度Tx82
(130℃)よりも高い。
The cutting film 84 is made of T which is a rare earth metal.
b and a perpendicular magnetic film composed of Fe as a transition metal. The composition of the cut film 84 is Tb20Fe80,
The thickness D85 is 20 nm. The cut film 84 having such a composition and thickness has a Curie temperature Tc84 of 14
It is about 0 ° C. Curie temperature Tc84 (140 ° C)
Is the Curie temperature Tc83 (2
30 ° C.), the Curie temperature Tc 82 (23
0 ° C). The Curie temperature Tc84 (1
40 ° C.) is the predetermined temperature Tx82 of the reproduction intermediate film 82 described above.
(130 ° C).

【0142】また、メモリー膜85は、希土類金属であ
るTbと、遷移金属であるFe,Coとで構成された垂
直磁化膜である。また、このメモリー膜85の組成は、
Tb18Fe74Co8であり、その膜厚D85は、35nm
である。
The memory film 85 is a perpendicular magnetization film composed of Tb, which is a rare earth metal, and Fe, Co, which are transition metals. The composition of the memory film 85 is as follows:
Tb18Fe74Co8, and its thickness D85 is 35 nm.
It is.

【0143】このメモリー膜85は、第1実施形態のメ
モリー膜14と同様に、RE副格子磁化が下向きでTM
副格子磁化が上向きの状態と、RE副格子磁化が上向き
でTM副格子磁化が下向きの状態とで情報が記録され
る。また、このメモリー膜85は、その補償温度Th85
が室温Trよりも低い。そして、メモリー膜85は、再
生光の照射によってその温度が上昇するに伴い、RE副
格子磁化とTM副格子磁化とのバランスが崩れ、垂直磁
化の状態を維持しつつ全体の磁化が増大するようになっ
ている。
As in the memory film 14 of the first embodiment, the memory film 85 has the RE sublattice magnetization downward and TM
Information is recorded in a state where the sub-lattice magnetization is upward and a state where the RE sub-lattice magnetization is upward and the TM sub-lattice magnetization is downward. The memory film 85 has a compensation temperature Th85.
Is lower than the room temperature Tr. Then, as the temperature of the memory film 85 rises due to the irradiation of the reproduction light, the balance between the RE sub-lattice magnetization and the TM sub-lattice magnetization is lost, and the entire magnetization increases while maintaining the perpendicular magnetization state. It has become.

【0144】また、このメモリー膜85は、上記の組成
なので、そのキュリー温度Tc84が後述する記録膜87
のキュリー温度Tc86よりも低く、少なくとも上記した
再生中間膜82のキュリー温度Tc82(230℃),再
生補助膜83のキュリー温度Tc83(230℃)よりも
高い。さらに、このメモリー膜85は、室温Trにおけ
る保磁力が後述する初期化膜89以外の他の磁性膜より
も高く、記録された情報が安定して保持されるようにな
っている。
Since the memory film 85 has the above composition, the Curie temperature Tc84 of the memory film 85 will be described later.
Is lower than the Curie temperature Tc86 (230 ° C.) of the reproduction intermediate film 82 and the Curie temperature Tc83 (230 ° C.) of the reproduction auxiliary film 83 described above. Further, the coercive force of the memory film 85 at room temperature Tr is higher than that of the other magnetic films other than the initialization film 89 described later, so that the recorded information is stably held.

【0145】また、中間膜86は、希土類金属であるG
dと、遷移金属であるFe,Coとで構成され、隣接し
て形成された磁性体(特に、垂直磁化膜)がない場合に
は、室温Trで面内磁化膜である。また、この中間膜8
6の組成は、Gd32Fe64Co4であり、その膜厚D86
は、10nmである。この中間膜95は、上記の組成な
ので、ほとんど保磁力を持たない。
The intermediate film 86 is made of G which is a rare earth metal.
In the case where there is no magnetic material (particularly, a perpendicular magnetization film) formed of d and transition metals Fe and Co, and is formed adjacently, it is an in-plane magnetization film at room temperature Tr. Also, this intermediate film 8
The composition of No. 6 is Gd32 Fe64 Co4, and its film thickness D86
Is 10 nm. Since the intermediate film 95 has the above composition, it has almost no coercive force.

【0146】また、記録膜87は、希土類金属であるジ
スプロシウム(Dy)と、遷移金属であるFe,Coと
で構成された垂直磁化膜である。この記録膜87の組成
は、Dy26Fe48Co26であり、その膜厚D87は、20
nmである。この記録膜87は、その補償温度Th86
が、室温Trとキュリー温度Tc86との間にある膜であ
る。
The recording film 87 is a perpendicular magnetization film composed of dysprosium (Dy), which is a rare earth metal, and Fe, Co, which are transition metals. The composition of this recording film 87 is Dy26Fe48Co26, and its film thickness D87 is 20
nm. This recording film 87 has its compensation temperature Th86.
Is a film between the room temperature Tr and the Curie temperature Tc86.

【0147】また、スイッチング膜88は、希土類金属
であるTbと、遷移金属であるFe,Coとで構成され
た垂直磁化膜である。このスイッチング膜88の組成
は、Tb17Fe77Co6であり、その膜厚D88は、12
nmである。このスイッチング膜88は、そのキュリー
温度Tc87が、上記した記録膜87のキュリー温度Tc
86や後述する初期化膜89のキュリー温度Tc88よりも
低い。
The switching film 88 is a perpendicular magnetization film composed of Tb, which is a rare earth metal, and Fe, Co, which are transition metals. The composition of the switching film 88 is Tb17Fe77Co6, and its film thickness D88 is 12
nm. The Curie temperature Tc87 of the switching film 88 is the same as the Curie temperature Tc of the recording film 87 described above.
86 and a Curie temperature Tc88 of the initialization film 89 described later.

【0148】また、初期化膜89は、希土類金属である
Tbと、遷移金属であるFe,Coとで構成された垂直
磁化膜である。この初期化膜89の組成は、Tb18Fe
16Co66であり、その膜厚D89は、20nmである。こ
の初期化膜89は、そのキュリー温度Tc88が、上記し
た記録膜87のキュリー温度Tc86よりも高く、かつ保
磁力が高い。
The initialization film 89 is a perpendicular magnetization film composed of Tb, which is a rare earth metal, and Fe, Co, which are transition metals. The composition of the initialization film 89 is Tb18Fe
16Co66, and its film thickness D89 is 20 nm. The initialization film 89 has a Curie temperature Tc88 higher than the above-described Curie temperature Tc86 of the recording film 87, and has a high coercive force.

【0149】なお、上記の各磁性膜81〜89を保護す
るための保護膜92,93は、窒化シリコンからなり、
その膜厚D92は70nm、膜厚D93は30nmである。
また、金属膜94は記録感度を調整する膜であり、膜厚
D94が30nmのアルミニウム薄膜からなる。また、樹
脂保護膜95は、基板91上に積膜された上記の各膜8
1〜89,92〜94を全体的に保護する膜である。な
お、基板91は、ガイド溝がスパイラル状に形成された
ポリカーボネート基板(直径90mm)である。
The protective films 92 and 93 for protecting the magnetic films 81 to 89 are made of silicon nitride.
The thickness D92 is 70 nm, and the thickness D93 is 30 nm.
The metal film 94 is a film for adjusting the recording sensitivity, and is made of an aluminum thin film having a thickness D94 of 30 nm. Further, the resin protective film 95 is formed of the above-described respective films 8 deposited on the substrate 91.
It is a film that entirely protects 1 to 89 and 92 to 94. The substrate 91 is a polycarbonate substrate (90 mm in diameter) in which guide grooves are formed in a spiral shape.

【0150】上記のように構成された光変調オーバーラ
イト記録方式の光磁気ディスク80のメモリー膜85へ
の情報のオーバーライト記録は、以下のように行われ
る。まず、情報のオーバーライト記録に当たり、この光
磁気ディスク80には、図示されない記録再生装置から
記録光(波長680nm)が継続的に照射される。この
ときの記録パワーを変調(高レベル/低レベル)するこ
とで、情報が書き込まれる。また、オーバーライト記録
に当たっては、記録光のビームスポットに、一定の大き
さの記録磁界(記録方向)が継続的に印加される。この
記録磁界の向きは、初期化膜89の磁化の向き(消去方
向)とは逆である。なお、オーバーライト記録時、光磁
気ディスク80は、モータによって一定の線速度(例え
ば、9m/sec)で回転される。
The overwrite recording of information on the memory film 85 of the magneto-optical disk 80 of the optical modulation overwrite recording system configured as described above is performed as follows. First, in overwriting recording of information, the magneto-optical disk 80 is continuously irradiated with recording light (wavelength 680 nm) from a recording / reproducing device (not shown). Information is written by modulating the recording power at this time (high level / low level). In the overwrite recording, a recording magnetic field (recording direction) having a constant magnitude is continuously applied to the beam spot of the recording light. The direction of the recording magnetic field is opposite to the direction of magnetization (erasing direction) of the initialization film 89. During overwrite recording, the magneto-optical disk 80 is rotated at a constant linear speed (for example, 9 m / sec) by a motor.

【0151】記録パワーが高レベルの場合、ビームスポ
ット内の一部(加熱領域)のみが、少なくとも記録膜8
7のキュリー温度Tc87よりも高く加熱されて、記録膜
87,メモリー膜85,スイッチング膜88の磁化が一
旦消失する。その後、上記の加熱領域が、ビームスポッ
トから外れ、その温度が室温Trに向かって徐々に低下
していくと、記録膜87の磁化は回復して、その磁化の
向きが、記録磁界に倣う(記録方向)。この記録膜87
の磁化は、次いでその磁化が回復されるメモリー膜85
に、温度が低下する過程で転写される。このように、記
録磁界によって記録膜87に一旦記録された情報が、メ
モリー膜85に記録・保持されることになる。
When the recording power is at a high level, at least a part (heating area) in the beam spot has at least the recording film 8.
7, the magnetization of the recording film 87, the memory film 85, and the switching film 88 temporarily disappears. Thereafter, when the above-mentioned heated area deviates from the beam spot and its temperature gradually decreases toward room temperature Tr, the magnetization of the recording film 87 is recovered, and the direction of the magnetization follows the recording magnetic field ( Recording direction). This recording film 87
Of the memory film 85 whose magnetization is subsequently recovered
Is transferred in the process of lowering the temperature. Thus, the information once recorded on the recording film 87 by the recording magnetic field is recorded and held on the memory film 85.

【0152】記録膜87からメモリー膜85に情報が転
写されたのち、さらに温度が低下すると、初期化膜89
の働きによってこの記録膜87の磁化の方向が一方向に
揃えられ、記録膜87の初期化が行われる。なお、記録
膜87とメモリー膜85との間には中間膜86が設けら
れ、初期化膜89の働きによって記録膜87の初期化が
行われるときには、記録膜87とメモリー膜85との間
の交換結合力が弱められ、メモリー膜85が、記録膜8
7と一体となって初期化されてしまうことがないように
なっている。
After the information is transferred from the recording film 87 to the memory film 85, if the temperature further decreases, the initialization film 89
By this operation, the direction of magnetization of the recording film 87 is aligned in one direction, and the recording film 87 is initialized. Note that an intermediate film 86 is provided between the recording film 87 and the memory film 85, and when the initialization of the recording film 87 is performed by the function of the initialization film 89, the gap between the recording film 87 and the memory film 85 is formed. The exchange coupling force is weakened, and the memory film 85
7, so that it is not initialized.

【0153】また、初期化膜89と記録膜87との間に
はスイッチング膜88が設けられ、情報が記録磁界によ
って記録膜87に記録されるときに、上記の初期化膜8
9による記録膜87への交換結合力の伝達を阻止するよ
うになっている。このように、高レベルの記録光を照射
することによって、メモリー膜85のビームスポットよ
りも小さい領域(高温領域)に、1つの記録マーク(磁
化が記録方向)をオーバーライト記録することができ
る。
A switching film 88 is provided between the initialization film 89 and the recording film 87. When information is recorded on the recording film 87 by a recording magnetic field, the above-mentioned initialization film 8 is used.
9 prevents transmission of the exchange coupling force to the recording film 87. By irradiating high-level recording light in this manner, one recording mark (the magnetization direction is the recording direction) can be overwritten in a region (high-temperature region) smaller than the beam spot of the memory film 85.

【0154】一方、記録パワーが低レベルの場合、高レ
ベルの場合と同様にビームスポット内の一部(高温領
域)の温度が、メモリー膜85のキュリー温度Tc85よ
り高くなるが、記録膜87のキュリー温度Tc87には至
らない。したがって、メモリー膜85の磁化は一旦消失
するが、記録膜87の磁化は初期化された状態のままで
ある。
On the other hand, when the recording power is low, the temperature of a part (high temperature region) in the beam spot becomes higher than the Curie temperature Tc85 of the memory film 85, as in the case of the high level. It does not reach the Curie temperature Tc87. Therefore, the magnetization of the memory film 85 temporarily disappears, but the magnetization of the recording film 87 remains initialized.

【0155】その後、上記の高温領域の温度が室温Tr
に向かって徐々に低下していくと、メモリー膜85の磁
化は回復して、その磁化の方向が、一方向に揃えられて
記録膜87の磁化に倣う(消去方向)。そして、室温T
rに至ると、このメモリー膜85の磁化は、初期化され
た記録膜87に倣ったまま保持されることになる。この
ように、低レベルの記録光を照射することによって、メ
モリー膜85のビームスポットよりも小さい領域(高温
領域)で、記録マークを消去することができる。
Thereafter, the temperature of the high temperature region is set to the room temperature Tr.
As the temperature gradually decreases, the magnetization of the memory film 85 recovers, and the direction of the magnetization is aligned in one direction and follows the magnetization of the recording film 87 (erasing direction). And room temperature T
At r, the magnetization of the memory film 85 is maintained while following the initialized recording film 87. By irradiating low-level recording light in this manner, a recording mark can be erased in a region (high-temperature region) smaller than the beam spot of the memory film 85.

【0156】したがって、光磁気ディスク80に対し、
記録される情報に応じて記録パワーを変調(高レベル/
低レベル)させることで、ビームスポットよりも小さい
記録マークを、次々にメモリー膜85にオーバーライト
記録することができる。ここで、オーバーライト記録に
よって形成される記録マークの間隔は、記録光の変調間
隔と、光磁気ディスク10の回転速度とで決まるもの
で、その間隔は、0.3μm程度となる。
Therefore, for the magneto-optical disk 80,
The recording power is modulated according to the information to be recorded (high level /
(Low level), recording marks smaller than the beam spot can be overwritten on the memory film 85 one after another. Here, the interval between recording marks formed by overwrite recording is determined by the modulation interval of recording light and the rotation speed of the magneto-optical disk 10, and the interval is about 0.3 μm.

【0157】このようにして情報が記録・保持されたメ
モリー膜85に対しては、以下のように再生光が照射さ
れて、その高密度な情報の再生を行うことができる。情
報の再生に当たって、光磁気ディスク80には、一定パ
ワーの再生光が継続的に照射される(波長680nm。
直線偏光の状態)。この場合、再生光のパワーは、上記
の第2実施形態の場合と同様、上記した第1実施形態の
光磁気ディスク10における情報の再生時に照射される
再生光41のパワーよりも小さい値に設定されている
(例えば、2mW) また、情報の再生に当たって、再生光のビームスポット
には、一定の大きさの再生磁界が継続的に印加される
(記録磁界の向きとは逆の消去方向)。なお、この再生
磁界の大きさは、理由は後述するように、従来のダブル
マスク再生に必要であった再生磁界の値よりも小さいも
のである(例えば、100(Oe))。したがって、記録
再生装置の磁気コイルを巻数が少ないもので構成でき、
また電源も小さくできる。
The memory film 85 on which information is recorded and held in this way is irradiated with reproduction light as described below, so that high-density information can be reproduced. In reproducing information, the magneto-optical disk 80 is continuously irradiated with reproduction light having a constant power (having a wavelength of 680 nm).
State of linearly polarized light). In this case, the power of the reproduction light is set to a value smaller than the power of the reproduction light 41 irradiated at the time of reproducing the information on the magneto-optical disk 10 of the first embodiment, as in the case of the second embodiment. (For example, 2 mW) In reproducing information, a reproducing magnetic field of a constant magnitude is continuously applied to the beam spot of the reproducing light (an erasing direction opposite to the direction of the recording magnetic field). The magnitude of the reproducing magnetic field is smaller than the value of the reproducing magnetic field necessary for the conventional double mask reproduction (for example, 100 (Oe)), as described later. Therefore, the magnetic coil of the recording / reproducing apparatus can be configured with a small number of turns,
Also, the power supply can be reduced.

【0158】さらに、情報の再生に当たって、この光磁
気ディスク80は、上記のオーバーライト記録時と同一
の線速度で回転される(例えば、9m/sec)。再生
時に、実際に再生光が照射されると、光磁気ディスク8
0上のビームスポット内には、第1実施形態の光磁気デ
ィスク10の場合と同様、その移動方向の前方から後方
に向かって、ある温度を境に、高温領域(温度T2)、
中温領域(温度T3)、低温領域(温度T4)と云う3
つの領域に分けることができる。
Further, when reproducing information, the magneto-optical disk 80 is rotated at the same linear speed as that during the above-mentioned overwrite recording (for example, 9 m / sec). At the time of reproduction, when the reproduction light is actually irradiated, the magneto-optical disk 8
As in the case of the magneto-optical disk 10 according to the first embodiment, a high-temperature area (temperature T2) in the beam spot on the zero point from the front to the rear in the moving direction at a certain temperature.
Medium temperature region (temperature T3), low temperature region (temperature T4) 3
Can be divided into two areas.

【0159】なお、この第3実施形態では、再生光(2
mW)の照射によって、高温領域では、140℃(切断
膜84のキュリー温度Tc84)よりも高い温度T2とな
る。また、中温領域では、140℃よりも低く、130
℃(再生中間膜82の所定温度Tx82)よりも高い温度
T3となる。さらに、低温領域では、130℃よりも低
い温度T4となる。
In the third embodiment, the reproduction light (2
mW), the temperature T2 becomes higher than 140 ° C. (Curie temperature Tc84 of the cut film 84) in the high temperature region. In the middle temperature range, the temperature is lower than 140 ° C.
The temperature T3 is higher than the temperature C (the predetermined temperature Tx82 of the reproducing intermediate film 82). Further, in the low temperature region, the temperature T4 is lower than 130 ° C.

【0160】このように、温度が異なる3つの領域に分
けられたビームスポット内において、各磁性膜81〜8
5の磁化は、各々、以下に説明する状態となる。メモリ
ー膜85の磁化は、ビームスポット内の何れの領域にお
いても、記録された通りの状態のまま安定して保持され
ている。これは、ビームスポット内の温度(最も高い温
度は高温領域の温度T2、最も低い温度は低温領域の温
度T4)が、メモリー膜85のキュリー温度Tc85(2
60℃)よりも低いため、その磁化が消失せず、かつ、
その保磁力が情報を保持するに充分に高いからである。
As described above, in each of the beam spots divided into three regions having different temperatures, each of the magnetic films 81 to 8 is formed.
The magnetizations of Nos. 5 are in the states described below. The magnetization of the memory film 85 is stably maintained as recorded in any region in the beam spot. This is because the temperature in the beam spot (the highest temperature is the temperature T2 in the high-temperature region, and the lowest temperature is the temperature T4 in the low-temperature region) is the Curie temperature Tc85 (2
60 ° C.), the magnetization does not disappear, and
This is because the coercive force is sufficiently high to hold information.

【0161】また、再生膜81の磁化は、ビームスポッ
ト内の何れの領域においても、垂直磁化状態のまま保持
されている。これは、ビームスポット内の温度(温度T
2よりも低く温度T4よりも高い)が、再生膜81のキ
ュリー温度Tc81よりも低いからである。一方、再生中
間膜82の磁化、再生補助膜83の磁化、および、切断
膜84の磁化は、ビームスポット内の低温領域(温度T
4),中温領域(温度T3),低温領域(温度T2)ご
とに、その温度に応じた異なる状態となっている。
The magnetization of the reproducing film 81 is maintained in the perpendicular magnetization state in any region within the beam spot. This is because the temperature in the beam spot (temperature T
2 and higher than the temperature T4) but lower than the Curie temperature Tc81 of the reproducing film 81. On the other hand, the magnetization of the reproduction intermediate film 82, the magnetization of the reproduction auxiliary film 83, and the magnetization of the cutting film 84 are in a low temperature region (temperature T) in the beam spot.
4) Each of the middle temperature region (temperature T3) and the low temperature region (temperature T2) is in a different state according to the temperature.

【0162】ここで、ビームスポット内の各領域ごと
に、再生中間膜82の磁化の状態、再生補助膜83の磁
化の状態、切断膜84の磁化の状態、および情報の再生
動作について説明する。低温領域では、その温度T4
が、切断膜84のキュリー温度Tc84(140℃)より
も低いため、切断膜84の磁化は、消失することなく垂
直磁化状態のまま保持されている。このとき、切断膜8
4の磁化は、隣接して形成されたメモリー膜85からの
交換結合力の影響によって、メモリー膜85の磁化に倣
って同じ向きになる。
Here, the state of magnetization of the reproduction intermediate film 82, the state of magnetization of the reproduction auxiliary film 83, the state of magnetization of the cutting film 84, and the operation of reproducing information will be described for each region in the beam spot. In the low temperature region, the temperature T4
However, since it is lower than the Curie temperature Tc84 (140 ° C.) of the cut film 84, the magnetization of the cut film 84 is maintained in a perpendicular magnetization state without disappearing. At this time, the cutting film 8
The magnetization of No. 4 has the same direction following the magnetization of the memory film 85 due to the influence of the exchange coupling force from the memory film 85 formed adjacently.

【0163】また、低温領域では、その温度T4が、再
生中間膜82が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化す
る所定温度Tx82(130℃)、更には、再生補助膜8
3が面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する所定温度
Tx83(Tx83>Tx82)よりも低い。したがって、再
生補助膜83は、その磁化が面内磁化状態となる傾向が
強い。このとき再生補助膜83の磁化は、隣接する切断
膜84からの交換結合力を受けるが、面内磁化状態とな
る傾向が十分に強いため垂直磁化状態に変化することな
く、安定した面内磁化状態が保たれている。
In the low temperature region, the temperature T4 is set to a predetermined temperature Tx82 (130 ° C.) at which the reproducing intermediate film 82 changes from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state.
3 is lower than a predetermined temperature Tx83 (Tx83> Tx82) at which the in-plane magnetization state changes to the perpendicular magnetization state. Therefore, the reproduction auxiliary film 83 has a strong tendency that its magnetization becomes an in-plane magnetization state. At this time, the magnetization of the reproduction assisting film 83 receives exchange coupling force from the adjacent cut film 84, but has a sufficiently strong tendency to be in the in-plane magnetization state, and does not change to the perpendicular magnetization state. The state is maintained.

【0164】一方、再生中間膜82は、上記したように
面内磁化状態から垂直磁化状態に変化する所定温度Tx
82が再生補助膜83の所定温度Tx83より低い分、その
磁化も面内磁化状態になる傾向が比較的弱い。このよう
に面内磁化状態が比較的弱い場合、再生中間膜82は、
隣接した磁性膜がなければ磁化が安定して面内磁化状態
に保たれるものの、隣接して磁性膜が形成されている場
合には、その磁性膜からの交換結合力の影響によって、
その磁化の面内磁化状態が不安定となる傾向にある。こ
のとき、再生中間膜82は、隣接する磁性膜が面内磁化
膜の場合には磁化が面内磁化状態に保たれるが、垂直磁
化膜が隣接している場合には磁化が垂直磁化状態と成り
やすい。
On the other hand, the reproduction intermediate film 82 has a predetermined temperature Tx at which the in-plane magnetization state changes to the perpendicular magnetization state as described above.
Since the temperature 82 is lower than the predetermined temperature Tx83 of the auxiliary reproduction film 83, the magnetization thereof is also relatively weak in the in-plane magnetization state. When the in-plane magnetization state is relatively weak as described above, the reproducing intermediate film 82
If there is no adjacent magnetic film, the magnetization is stably maintained in the in-plane magnetization state, but if the adjacent magnetic film is formed, the influence of the exchange coupling force from the magnetic film causes
The in-plane magnetization state of the magnetization tends to be unstable. At this time, when the adjacent magnetic film is the in-plane magnetic film, the magnetization of the reproducing intermediate film 82 is maintained in the in-plane magnetization state, but when the perpendicular magnetic film is adjacent, the magnetization is in the perpendicular magnetization state. And easily.

【0165】しかし、この第3実施形態の光磁気ディス
ク80では、再生中間膜82に隣接して再生補助膜83
(磁化が面内磁化状態になる傾向が強い)が形成されて
いるため、再生中間膜82の磁化は、再生補助膜83か
らの交換結合力の影響を受けて、面内磁化状態が安定し
て保たれる(図7)。このように、再生中間膜82,再
生補助膜83は、低温領域で、共に安定した面内磁化状
態となるので、メモリー膜85からの交換結合力は、再
生膜81に作用することがなくなり、この結果、低温領
域では、確実にマスクが形成され、メモリー膜85の磁
化は再生膜81には転写されない。
However, in the magneto-optical disk 80 of the third embodiment, the auxiliary reproduction film 83 is adjacent to the intermediate reproduction film 82.
(The magnetization tends to be in the in-plane magnetization state), the magnetization of the reproduction intermediate film 82 is affected by the exchange coupling force from the auxiliary reproduction film 83, and the in-plane magnetization state becomes stable. (Fig. 7). As described above, since the reproduction intermediate film 82 and the reproduction auxiliary film 83 both have a stable in-plane magnetization state in the low temperature region, the exchange coupling force from the memory film 85 does not act on the reproduction film 81. As a result, in the low temperature region, a mask is reliably formed, and the magnetization of the memory film 85 is not transferred to the reproduction film 81.

【0166】また、再生中間膜82の面内磁化状態が比
較的弱い場合には、再生膜81の垂直磁化状態も不安定
になる傾向にあるため、従来はこの低温領域(低温マス
ク)で再生膜81の垂直磁化状態を消去方向に揃えるた
めの大きな再生磁界(500(Oe))をかけなければな
らなかったが、上記のように再生中間膜82,再生補助
膜83とが共に安定した面内磁化状態となっているので
あれば、低温領域の再生膜81に印加する再生磁界Hr
が小さく(100(Oe))ても、この再生膜81のTM
副格子磁化を容易に消去方向(図9中、下向き)に揃え
ることができる。
If the in-plane magnetization state of the reproducing intermediate film 82 is relatively weak, the perpendicular magnetization state of the reproducing film 81 tends to be unstable. A large reproducing magnetic field (500 (Oe)) had to be applied to align the perpendicular magnetization state of the film 81 in the erasing direction. However, as described above, both the reproducing intermediate film 82 and the reproducing auxiliary film 83 have stable surfaces. If it is in the internal magnetization state, the reproducing magnetic field Hr applied to the reproducing film 81 in the low temperature region
Is small (100 (Oe)), the TM
The sublattice magnetization can be easily aligned in the erasing direction (downward in FIG. 9).

【0167】また、高温領域では、その温度T2が14
0℃(切断膜84のキュリー温度Tc84)よりも高いた
め、切断膜84の磁化は消失している。このため、高温
領域では、メモリー膜85と再生膜81との間の交換結
合力は切断されている。さらに、この高温領域は、再生
光のパワーが小さいため、230℃(再生中間膜82の
キュリー温度Tc82,再生補助膜83のキュリー温度T
c83)よりも温度が高い一部と、一部以外とに分けて考
えられる。
In the high temperature region, the temperature T2 is 14
Since the temperature is higher than 0 ° C. (Curie temperature Tc84 of the cut film 84), the magnetization of the cut film 84 has disappeared. Therefore, in the high temperature region, the exchange coupling force between the memory film 85 and the reproduction film 81 is cut off. Further, in this high temperature region, since the power of the reproduction light is small, 230 ° C. (the Curie temperature Tc 82 of the reproduction intermediate film 82 and the Curie temperature T
It can be considered that the temperature is higher than c83), and that the temperature is higher than c83).

【0168】そして、高温領域の一部では、その温度が
230℃(再生中間膜82のキュリー温度Tc82,再生
補助膜83のキュリー温度Tc83)よりも高くなってお
り、ここでは再生中間膜82,再生補助膜83の磁化が
共に、消失している。したがって、この一部では、メモ
リー膜85と再生膜81との間の静磁結合力も切断され
ている。なお、このときのメモリー膜85と再生膜81
との間の距離dは、70nmであり、静磁結合力が作用
しないような値となっている。
In a part of the high temperature region, the temperature is higher than 230 ° C. (the Curie temperature Tc82 of the reproduction intermediate film 82 and the Curie temperature Tc83 of the reproduction auxiliary film 83). Both the magnetizations of the reproduction auxiliary film 83 have disappeared. Therefore, in this part, the magnetostatic coupling force between the memory film 85 and the reproducing film 81 is also cut. At this time, the memory film 85 and the reproducing film 81
Is 70 nm, which is a value such that the magnetostatic coupling force does not act.

【0169】また、高温領域の上記した一部以外では、
その温度が230℃よりも低く140℃よりも高いた
め、ここでは再生中間膜82,再生補助膜83の磁化が
共に、面内磁化状態から変化して垂直磁化状態となって
いる。しかし、この一部以外では、メモリー膜85から
再生補助膜83への静磁結合力の影響が作用しない。こ
のように、第3実施形態では、再生光のパワーが小さい
ため、高温領域内には、再生中間膜82,再生補助膜8
3の磁化が共に消失している部分と、再生中間膜82,
再生補助膜83の磁化が共に垂直磁化状態となっている
部分とが混在する。しかし、メモリー膜85と再生補助
膜83との間に形成された切断膜84の磁化が消失して
いるため、メモリー膜85の磁化は、何れも場合でも、
再生膜81に転写されない。
In addition, except for the above-mentioned part of the high-temperature region,
Since the temperature is lower than 230 ° C. and higher than 140 ° C., the magnetizations of the reproduction intermediate film 82 and the reproduction auxiliary film 83 are both changed from the in-plane magnetization state to the perpendicular magnetization state. However, other than this part, the influence of the magnetostatic coupling force from the memory film 85 to the reproduction assisting film 83 does not act. As described above, in the third embodiment, since the power of the reproduction light is small, the reproduction intermediate film 82 and the reproduction auxiliary film 8 are located in the high temperature region.
3 and the reproduction intermediate film 82,
A portion where the magnetization of the reproduction auxiliary film 83 is in the perpendicular magnetization state is mixed. However, since the magnetization of the cutting film 84 formed between the memory film 85 and the reproduction assisting film 83 has disappeared, the magnetization of the memory film 85 can be
It is not transferred to the reproduction film 81.

【0170】このとき、高温領域の再生膜81は、磁化
が垂直磁化状態となっているが、継続的に印加されてい
る再生磁界Hrの影響を受けて、そのTM副格子磁化が
一様に消去方向(図9中、下向き)に揃えられた状態と
なる。中温領域では、その温度T3が、切断膜84のキ
ュリー温度Tc84(140℃)よりも低いため、切断膜
84の磁化は、消失することなく垂直磁化状態のまま保
持されている。このとき、切断膜84の磁化は、隣接し
て形成されたメモリー膜85からの交換結合力の影響に
よって、メモリー膜85の磁化に倣って同じ向きにな
る。
At this time, the reproducing film 81 in the high-temperature region has a perpendicular magnetization state, but its TM sublattice magnetization becomes uniform under the influence of the continuously applied reproducing magnetic field Hr. The state is aligned in the erasing direction (downward in FIG. 9). In the middle temperature region, the temperature T3 is lower than the Curie temperature Tc84 (140 ° C.) of the cut film 84, so that the magnetization of the cut film 84 is maintained in the perpendicular magnetization state without disappearing. At this time, the magnetization of the cut film 84 has the same direction following the magnetization of the memory film 85 due to the influence of the exchange coupling force from the memory film 85 formed adjacently.

【0171】また、中温領域では、その温度T3が、1
30℃(再生中間膜82の所定温度Tx82)よりも高い
ため、再生中間膜82の磁化は、面内磁化状態(図9
中、横方向)から変化して垂直磁化状態(図9中、縦方
向)となっている。また、中温領域の温度T3は、再生
補助膜83のキュリー温度Tc83(230℃)よりも低
いため、この中温領域の再生補助膜83は、上記した低
温領域と同様に、磁化が面内磁化状態となっている。
In the medium temperature range, the temperature T3 is 1
Since the temperature is higher than 30 ° C. (the predetermined temperature Tx82 of the reproducing intermediate film 82), the magnetization of the reproducing intermediate film 82 is in an in-plane magnetization state (FIG. 9).
The state changes from the middle and the horizontal directions) to the perpendicular magnetization state (the vertical direction in FIG. 9). Further, since the temperature T3 in the medium temperature region is lower than the Curie temperature Tc83 (230 ° C.) of the auxiliary reproduction film 83, the magnetization of the auxiliary reproduction film 83 in the intermediate temperature region has an in-plane magnetization state as in the low temperature region. It has become.

【0172】しかし、中温領域(温度T3)の方が、低
温領域(温度T4)よりも温度が高いため、この中温領
域での再生補助膜83は、上記した低温領域の状態に比
べて、その磁化が面内磁化状態になる傾向が弱まってい
る。ここで、この中温領域での再生補助膜83は、隣接
した磁性体がなければ面内磁化状態に保たれるものの、
隣接して磁性膜が形成されている場合には、その磁性膜
からの交換結合力の影響を受けて、その磁化の面内磁化
状態が不安定となる。
However, since the temperature in the medium temperature region (temperature T3) is higher than that in the low temperature region (temperature T4), the auxiliary reproduction film 83 in the medium temperature region has a higher temperature than that in the low temperature region. The tendency of the magnetization to become an in-plane magnetization state is weakened. Here, the auxiliary reproduction film 83 in the intermediate temperature region is maintained in an in-plane magnetization state if there is no adjacent magnetic material.
When the magnetic films are formed adjacent to each other, the in-plane magnetization state of the magnetization becomes unstable under the influence of the exchange coupling force from the magnetic films.

【0173】したがって、この中温領域では、再生補助
膜83の磁化は、隣接する切断膜84,再生中間膜82
(共に磁化が垂直磁化状態)からの交換結合力の影響を
受けて垂直磁化状態となる。このとき、再生補助膜83
の磁化は、切断膜84の磁化に倣って、メモリー膜85
の磁化と同じ向きになる。なお、この中温領域における
メモリー膜85の磁化の転写は、再生補助膜83の膜厚
D83(10nm)が、再生中間膜82の膜厚D82(40
nm)よりも薄いため、十分に行われる。
Therefore, in this middle temperature region, the magnetization of the reproduction auxiliary film 83 is changed to the adjacent cut film 84 and reproduction intermediate film 82.
(Both magnetizations are in a perpendicular magnetization state) and are in a perpendicular magnetization state under the influence of the exchange coupling force. At this time, the reproduction assisting film 83
The magnetization of the memory film 85 follows the magnetization of the cutting film 84.
It has the same direction as the magnetization of. In the transfer of the magnetization of the memory film 85 in the middle temperature region, the thickness D83 (10 nm) of the auxiliary reproduction film 83 is changed to the thickness D82 (40 nm) of the intermediate reproduction film 82.
nm), which is sufficient.

【0174】そして、この再生補助膜83に隣接する再
生中間膜82の磁化も、再生補助膜83からの交換結合
力によってメモリー膜85の磁化と同じ向きとなる。さ
らに、この再生中間膜82に隣接する再生膜81の磁化
も、再生中間膜82からの交換結合力によって、メモリ
ー膜85の磁化と同じ向きとなる。このとき、中温領域
にも再生磁界Hrが印加されているが、中温領域の再生
膜81の磁化の向きを決定する上では、再生磁界Hrの
静磁結合力よりも再生中間膜82からの交換結合力の方
が大きく寄与する。
The magnetization of the intermediate reproduction film 82 adjacent to the auxiliary reproduction film 83 also has the same direction as the magnetization of the memory film 85 due to the exchange coupling force from the auxiliary reproduction film 83. Further, the magnetization of the reproducing film 81 adjacent to the reproducing intermediate film 82 has the same direction as the magnetization of the memory film 85 due to the exchange coupling force from the reproducing intermediate film 82. At this time, the reproducing magnetic field Hr is also applied to the intermediate temperature region. However, in determining the magnetization direction of the reproducing film 81 in the intermediate temperature region, the exchange of the reproducing magnetic field Hr from the reproducing intermediate film 82 is more difficult than the magnetostatic coupling force. The bonding force contributes more.

【0175】上記のように、ビームスポット内の3つの
領域では、再生中間膜82,再生補助膜83が、その温
度に応じて異なる状態となっており、中温領域でのみ、
メモリー膜85の磁化が、再生補助膜83→再生中間膜
82→再生膜81と順に転写される。なお、低温領域で
は、上記した再生中間膜82,再生補助膜83の安定し
た面内磁化状態によってマスク(低温マスク)が形成さ
れている。また、高温領域では、上記した再生中間膜8
2,再生補助膜83の磁化消失状態によってマスク(高
温マスク)が形成されている。そして、これら低温領
域,高温領域では、上記したように、再生膜81のTM
副格子磁化が一様に消去方向に揃えられている。
As described above, in the three regions within the beam spot, the reproducing intermediate film 82 and the reproducing auxiliary film 83 are in different states according to their temperatures.
The magnetization of the memory film 85 is transferred in the order of the auxiliary reproduction film 83 → the intermediate reproduction film 82 → the reproduction film 81. In the low temperature region, a mask (low temperature mask) is formed by the stable in-plane magnetization state of the reproduction intermediate film 82 and the reproduction auxiliary film 83 described above. In the high temperature region, the above-mentioned reproduced intermediate film 8 is formed.
2. A mask (high-temperature mask) is formed depending on the state of magnetization disappearance of the reproduction auxiliary film 83. In the low temperature region and the high temperature region, as described above, the TM
The sublattice magnetization is uniformly aligned in the erasing direction.

【0176】ところで、メモリー膜85の磁化の再生膜
81への転写が行われる中温領域の大きさは、メモリー
膜85に一定間隔(0.3μm)で形成された小さい記
録マークが1つだけ入る程度とすることができる。具体
的には、この中温領域の大きさは、再生中間膜82の組
成(Gd30Fe70)、再生補助膜83の組成(Gd35F
e62Co3)、切断膜84の組成(Tb20Fe80)、再
生パワー(2mW)、およびディスクの回転速度(9m
/sec)の関係によって定められる。
By the way, the size of the medium temperature region where the transfer of the magnetization of the memory film 85 to the reproducing film 81 is performed is such that only one small recording mark formed at a constant interval (0.3 μm) is formed in the memory film 85. Degree. More specifically, the size of the intermediate temperature region is determined by the composition of the intermediate reproduction film 82 (Gd30Fe70) and the composition of the auxiliary reproduction film 83 (Gd35F
e62Co3), the composition of the cut film 84 (Tb20Fe80), the reproducing power (2 mW), and the disk rotation speed (9 mW).
/ Sec).

【0177】このため、メモリー膜85に一定の狭い間
隔で形成された複数の記録マークのうち、1つの記録マ
ークのみが、中温領域において、再生補助膜83→再生
中間膜82→再生膜81と順に転写されることになる。
上記のように、ビームスポットにおいて、中温領域にの
み1つの転写マーク81A(TM副格子磁化が記録方
向)が形成され、低温領域および高温領域ではTM副格
子磁化が一様に消去方向に揃えられているので、ビーム
スポットで反射した再生光の成分(反射光)を検出する
ことによって、メモリー膜85に形成された複数の記録
マークのうちの1つのみを正確に(例えば、クロストー
クが生じないように)再生することができる。
For this reason, among a plurality of recording marks formed at a fixed narrow interval on the memory film 85, only one of the recording marks is formed in the middle temperature region in the order of the reproduction auxiliary film 83 → the reproduction intermediate film 82 → the reproduction film 81. It will be transferred in order.
As described above, in the beam spot, one transfer mark 81A (the TM sublattice magnetization is in the recording direction) is formed only in the medium temperature region, and the TM sublattice magnetization is uniformly aligned in the erasing direction in the low temperature region and the high temperature region. Therefore, by detecting the component (reflected light) of the reproduction light reflected by the beam spot, only one of the plurality of recording marks formed on the memory film 85 is accurately detected (for example, crosstalk occurs). Can be played).

【0178】以上説明したように、第3実施形態の光変
調オーバーライト記録方式の光磁気ディスク80によれ
ば、メモリー膜85と再生膜81との間に、再生中間膜
82(面内磁化膜、所定温度Tx82)と、再生補助膜8
3(面内磁化膜、所定温度Tx83>所定温度Tx82)と
を形成したので、低温領域における低温マスクを、小さ
い再生磁界Hrで確実なマスクとすることができる。そ
の結果、低温領域のみならず高温領域においてもメモリ
ー膜85の情報をマスクでき、中温領域のみでメモリー
膜85の情報を転写させ、もってダブルマスク再生がよ
り実用的なものとなる。
As described above, according to the magneto-optical disk 80 of the light modulation overwrite recording system of the third embodiment, the intermediate reproduction film 82 (the in-plane magnetization film) is provided between the memory film 85 and the reproduction film 81. , A predetermined temperature Tx82) and the reproduction assisting film 8
Since 3 (in-plane magnetized film, predetermined temperature Tx83> predetermined temperature Tx82) is formed, a low-temperature mask in a low-temperature region can be a reliable mask with a small reproducing magnetic field Hr. As a result, the information of the memory film 85 can be masked not only in the low-temperature region but also in the high-temperature region, and the information of the memory film 85 is transferred only in the medium-temperature region, so that the double mask reproduction becomes more practical.

【0179】さらに、第3実施形態の光変調オーバーラ
イト記録方式の光磁気ディスク80によれば、メモリー
膜85と再生補助膜83との間に、切断膜84(垂直磁
化膜、キュリー温度Tc84、但しTc83,Tc82>Tc
84>Tx82)を形成したので、再生光のパワーが小さく
ても、メモリー膜85の高密度な情報をマスクできる高
温領域を広く確保することができる。
Further, according to the magneto-optical disk 80 of the light modulation overwrite recording system of the third embodiment, the cutting film 84 (perpendicular magnetization film, Curie temperature Tc84, However, Tc83, Tc82> Tc
84> Tx82), it is possible to secure a wide high-temperature region where the high-density information of the memory film 85 can be masked even if the power of the reproduction light is small.

【0180】したがって、第3実施形態の光変調オーバ
ーライト記録方式の光磁気ディスク80によれば、メモ
リー膜85に高密度に記録された情報(複数の記録マー
ク)を1つずつ正確に再生することができる。また、第
3実施形態によれば、低パワーの再生光を用いて情報の
再生を行うので、上記した第1実施形態,第2実施形態
の書き換え型光磁気ディスク10,50に比べて、一般
にメモリー膜85のキュリー温度Tc85が低い光変調オ
ーバーライト記録方式の光磁気ディスク80でも、ダブ
ルマスク再生がより実用的なものとなる。
Therefore, according to the magneto-optical disk 80 of the optical modulation overwrite recording method of the third embodiment, information (a plurality of recording marks) recorded on the memory film 85 at high density is accurately reproduced one by one. be able to. Further, according to the third embodiment, since information is reproduced by using a low-power reproducing light, the information is generally reproduced as compared with the rewritable magneto-optical disks 10 and 50 of the first and second embodiments. Even with the magneto-optical disk 80 of the light modulation overwrite recording method in which the Curie temperature Tc85 of the memory film 85 is low, double mask reproduction becomes more practical.

【0181】この光変調オーバーライト記録方式の光磁
気ディスク80について、実際に搬送波対雑音強度比
(CN比)を測定してみたところ、45dB以上という
良好なCN比が得られることがわかった。なお、第3実
施形態の光磁気ディスク80では、再生補助膜83の膜
厚D83を10nmとした例をあげて説明したが、この再
生補助膜83の膜厚D83は、第2実施形態の再生補助膜
13と同様、0.2nmよりも厚く30nmよりも薄い
範囲内の任意の値に設定することができる。
The actual measurement of the carrier-to-noise ratio (CN ratio) of the magneto-optical disk 80 of the optical modulation overwrite recording method revealed that a good CN ratio of 45 dB or more was obtained. In the magneto-optical disk 80 of the third embodiment, the example in which the thickness D83 of the reproduction auxiliary film 83 is set to 10 nm has been described. However, the thickness D83 of the reproduction auxiliary film 83 is the same as that of the second embodiment. As with the auxiliary film 13, it can be set to any value within a range greater than 0.2 nm and less than 30 nm.

【0182】また、第3実施形態の光磁気ディスク80
では、再生中間膜82の膜厚D82と再生補助膜83の膜
厚D83との和を80nmとした例をあげて説明したが、
この和は、第2実施形態と同様、40nmよりも厚けれ
ば任意の値に設定することができる。
The magneto-optical disk 80 of the third embodiment
In the above, an example in which the sum of the thickness D82 of the reproduction intermediate film 82 and the thickness D83 of the reproduction auxiliary film 83 is set to 80 nm has been described.
This sum can be set to any value as long as it is thicker than 40 nm, as in the second embodiment.

【0183】また、第3実施形態の光磁気ディスク80
では、小さい再生磁界Hrを印加する例をあげて説明し
たが、低温領域において、共に安定した面内磁化状態と
なっている再生中間膜82,再生補助膜83からの交換
結合力の影響を受け、再生膜81の磁化も安定して面内
磁化状態に保たれるのであれば、再生磁界Hrを印加し
なくてもよく、磁界発生源を内蔵しなくて済む分、装置
の小型化が図られる。
The magneto-optical disk 80 of the third embodiment
In the above description, an example in which a small reproducing magnetic field Hr is applied has been described. However, in the low temperature region, the influence of the exchange coupling force from the reproducing intermediate film 82 and the reproducing auxiliary film 83 both of which are in a stable in-plane magnetization state. If the magnetization of the reproducing film 81 is also stably maintained in the in-plane magnetization state, the reproducing magnetic field Hr does not need to be applied, and the device can be downsized because the magnetic field generating source does not need to be built in. Can be

【0184】[0184]

【発明の効果】上記したように、請求項1から請求項8
に記載した光磁気記録媒体によれば、再生光のビームス
ポット内の低温領域において、面内磁化状態が不安定と
成りがちな再生中間膜も、これに隣接する安定な面内磁
化状態の再生補助膜の影響によって、安定して面内磁化
状態とすることができるため、再生時にビームスポット
に印加する外部磁界が小さくても、ビームスポット内の
高温領域だけでなく低温領域においてもメモリー膜に記
録された情報を確実にマスクすることができ、小さい中
温領域のみでメモリー膜に記録された情報を再生するこ
とができる。したがって、筆先記録法などを用いて微細
に情報を書き込むことで高密度化が図られた光磁気記録
媒体において、その情報を、正確に再生することができ
る。
As described above, claims 1 to 8 are described.
According to the magneto-optical recording medium described in (1), even in the low-temperature region in the beam spot of the reproduction light, the reproduction intermediate film, whose in-plane magnetization state tends to be unstable, also reproduces the stable in-plane magnetization state adjacent thereto. Because the in-plane magnetization state can be stabilized by the influence of the auxiliary film, even if the external magnetic field applied to the beam spot during reproduction is small, the memory film can be formed not only in the high-temperature region but also in the low-temperature region in the beam spot. The recorded information can be surely masked, and the information recorded on the memory film can be reproduced only in a small medium temperature area. Therefore, the information can be accurately reproduced on a magneto-optical recording medium of which the density has been increased by writing the information finely using a pen tip recording method or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態の書き換え型光磁気ディスク10
の構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a rewritable magneto-optical disk 10 according to a first embodiment.
It is sectional drawing which shows a structure of.

【図2】書き換え型光磁気ディスク10のメモリー膜1
4に情報を記録する動作を説明する断面図である。
FIG. 2 is a memory film 1 of a rewritable magneto-optical disk 10
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an operation of recording information on No. 4.

【図3】書き換え型光磁気ディスク10のメモリー膜1
4に情報を記録する動作を説明する図である。
FIG. 3 is a memory film 1 of a rewritable magneto-optical disk 10;
FIG. 4 is a diagram for explaining an operation of recording information in No. 4;

【図4】書き換え型光磁気ディスク10のメモリー膜1
4に記録された情報の再生動作を説明する断面図であ
る。
FIG. 4 is a memory film 1 of a rewritable magneto-optical disk 10
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a reproducing operation of information recorded in No. 4;

【図5】書き換え型光磁気ディスク10のメモリー膜1
4に記録された情報の再生動作を説明する図である。
FIG. 5 is a memory film 1 of a rewritable magneto-optical disk 10
FIG. 4 is a diagram for explaining a reproduction operation of information recorded in No. 4;

【図6】第2実施形態の書き換え型光磁気ディスク50
の構成を示す断面図である。
FIG. 6 shows a rewritable magneto-optical disk 50 according to a second embodiment.
It is sectional drawing which shows a structure of.

【図7】書き換え型光磁気ディスク50のメモリー膜5
5に記録された情報の再生動作を説明する断面図であ
る。
FIG. 7 shows a memory film 5 of a rewritable magneto-optical disk 50.
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a reproducing operation of information recorded in No. 5.

【図8】書き換え型光磁気ディスク50のメモリー膜5
5に記録された情報の再生動作を説明する図である。
FIG. 8 is a memory film 5 of a rewritable magneto-optical disk 50;
FIG. 9 is a diagram for explaining an operation of reproducing information recorded in No. 5;

【図9】第3実施形態の光磁気ディスク80の構成を示
す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a magneto-optical disk 80 according to a third embodiment.

【図10】従来の光磁気ディスク100のメモリー膜1
13に記録された情報の再生動作を説明する断面図であ
る。
FIG. 10 shows a memory film 1 of a conventional magneto-optical disk 100.
FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining a reproduction operation of information recorded in No. 13.

【図11】従来の光磁気ディスク100のメモリー膜1
13に記録された情報の再生動作を説明する図である。
FIG. 11 shows a memory film 1 of a conventional magneto-optical disk 100.
FIG. 14 is a diagram for explaining an operation of reproducing information recorded in the information recording device 13;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,50,80,100 光磁気ディスク 11,51,81,111 再生膜 12,52,82,112 再生中間膜 13,53,83 再生補助膜 14,55,85,113 メモリー膜 54,84 切断膜 21,61,91,121 基板 31A,41A,71A ビームスポット 11A,12A,13A,51A,52A,53A,5
4A 転写マーク 14A 記録マーク 14B 加熱領域 41F,71F 高温領域 41E,71E 中温領域 41D,71D 低温領域 86 中間膜 87 記録膜 88 スイッチング膜 89 初期化膜 94 金属層 95 樹脂保護層
10, 50, 80, 100 Magneto-optical disk 11, 51, 81, 111 Reproduction film 12, 52, 82, 112 Reproduction intermediate film 13, 53, 83 Reproduction auxiliary film 14, 55, 85, 113 Memory film 54, 84 Cutting Films 21, 61, 91, 121 Substrates 31A, 41A, 71A Beam spots 11A, 12A, 13A, 51A, 52A, 53A, 5
4A Transfer mark 14A Record mark 14B Heating area 41F, 71F High temperature area 41E, 71E Medium temperature area 41D, 71D Low temperature area 86 Intermediate film 87 Recording film 88 Switching film 89 Initialization film 94 Metal layer 95 Resin protective layer

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも、垂直磁化膜からな
る再生膜と、面内磁化膜からなる再生中間膜と、面内磁
化膜からなる再生補助膜と、垂直磁化膜からなるメモリ
ー膜とが順次形成され、 前記再生中間膜は、そのキュリー温度が、前記再生膜の
キュリー温度と前記メモリー膜のキュリー温度の何れよ
りも低い膜であり、 前記再生補助膜は、そのキュリー温度が、前記再生膜の
キュリー温度と前記メモリー膜のキュリー温度の何れよ
りも低く、また、その面内磁化状態が垂直磁化状態に変
化する温度が、前記再生中間膜の面内磁化状態が垂直磁
化状態に変化する温度よりも高い膜であることを特徴と
する光磁気記録媒体。
1. A reproducing film comprising a perpendicular magnetic film, a reproducing intermediate film comprising an in-plane magnetic film, a reproduction auxiliary film comprising an in-plane magnetic film, and a memory film comprising a perpendicular magnetic film are provided on a substrate. The reproduction intermediate film is a film whose Curie temperature is lower than any of the Curie temperature of the reproduction film and the Curie temperature of the memory film. The reproduction auxiliary film has a Curie temperature of the reproduction film. The temperature at which the Curie temperature of the film is lower than the Curie temperature of the memory film and the temperature at which the in-plane magnetization state changes to the perpendicular magnetization state changes the in-plane magnetization state of the reproducing intermediate film to the perpendicular magnetization state. A magneto-optical recording medium characterized by a film having a higher temperature.
【請求項2】 請求項1に記載の光磁気記録媒体におい
て、 前記再生中間膜および前記再生補助膜は、希土類金属と
遷移金属とで構成され、かつ希土類金属の副格子磁化が
優勢な膜であり、 前記再生補助膜における希土類金属の比率は、前記再生
中間膜における希土類金属の比率よりも高いことを特徴
とする光磁気記録媒体。
2. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the intermediate reproduction film and the auxiliary reproduction film are made of a rare earth metal and a transition metal, and the sub-lattice magnetization of the rare earth metal is dominant. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein a ratio of the rare earth metal in the auxiliary reproduction film is higher than a ratio of the rare earth metal in the intermediate reproduction film.
【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の光磁気
記録媒体において、 前記再生補助膜の膜厚は、0.2nmよりも厚く30n
mよりも薄いことを特徴とする光磁気記録媒体。
3. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the auxiliary reproduction film is greater than 0.2 nm and 30 n.
a magneto-optical recording medium characterized by being thinner than m.
【請求項4】 請求項1から請求項3の何れか1項に記
載の光磁気記録媒体において、 前記再生中間膜の膜厚と前記再生補助膜の膜厚との和
は、40nmよりも厚いことを特徴とする光磁気記録媒
体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the sum of the thickness of the reproduction intermediate film and the thickness of the reproduction auxiliary film is greater than 40 nm. A magneto-optical recording medium characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 請求項1から請求項4の何れか1項に記
載の光磁気記録媒体において、 前記再生補助膜のキュリー温度は、前記再生中間膜のキ
ュリー温度と同じ値であることを特徴とする光磁気記録
媒体。
5. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein a Curie temperature of the auxiliary reproduction film is equal to a Curie temperature of the intermediate reproduction film. Magneto-optical recording medium.
【請求項6】 請求項1から請求項5の何れか1項に記
載の光磁気記録媒体において、 前記メモリー膜と前記再生補助膜との間に、垂直磁化膜
からなる切断膜が形成され、 前記切断膜のキュリー温度は、前記再生補助膜のキュリ
ー温度と前記再生中間膜のキュリー温度との何れよりも
低く、かつ、前記再生中間膜の面内磁化状態が垂直磁化
状態に変化する温度よりも高いことを特徴とする光磁気
記録媒体。
6. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein a cutting film made of a perpendicular magnetization film is formed between the memory film and the reproduction auxiliary film. The Curie temperature of the cut film is lower than any of the Curie temperature of the auxiliary reproduction film and the Curie temperature of the intermediate reproduction film, and is higher than the temperature at which the in-plane magnetization state of the intermediate reproduction film changes to the perpendicular magnetization state. Magneto-optical recording medium characterized in that it also has a high magnetic recording medium.
【請求項7】 請求項1から請求項6の何れか1項に記
載の光磁気記録媒体において、 前記メモリー膜の反基板側に、垂直磁化膜からなる記録
膜と、垂直磁化膜からなるスイッチング膜と、垂直磁化
膜からなる初期化膜とが順次形成され、 前記記録膜のキュリー温度は、前記メモリー膜のキュリ
ー温度よりも高く、 前記スイッチング膜のキュリー温度は、少なくとも前記
メモリー膜のキュリー温度よりも低く、 前記初期化膜のキュリー温度は、前記記録膜のキュリー
温度よりも高いことを特徴とする光磁気記録媒体。
7. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein a recording film made of a perpendicular magnetic film and a switching film made of a perpendicular magnetic film are provided on the opposite side of the memory film from the substrate. A film and an initialization film made of a perpendicular magnetization film are sequentially formed, the Curie temperature of the recording film is higher than the Curie temperature of the memory film, and the Curie temperature of the switching film is at least the Curie temperature of the memory film. Wherein the Curie temperature of the initialization film is higher than the Curie temperature of the recording film.
【請求項8】 請求項7に記載の光磁気記録媒体におい
て、 前記メモリー膜と前記記録膜との間に、面内磁化膜から
なる中間膜が形成されていることを特徴とする光磁気記
録媒体。
8. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein an intermediate film made of an in-plane magnetized film is formed between the memory film and the recording film. Medium.
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