JPH11201990A - Probe unit - Google Patents

Probe unit

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JPH11201990A
JPH11201990A JP1645598A JP1645598A JPH11201990A JP H11201990 A JPH11201990 A JP H11201990A JP 1645598 A JP1645598 A JP 1645598A JP 1645598 A JP1645598 A JP 1645598A JP H11201990 A JPH11201990 A JP H11201990A
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probe
bumps
bump
integrated circuit
probe unit
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Isao Tanabe
功 田辺
Hidehiro Kiyofuji
英博 清藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a probe unit, which prevents an object to be inspected from being damaged in an inspection, and which prevents adjacent probe elements from being damaged in the manufacture of the probe unit, by a method wherein bumps (protrusions) are installed at respective tip parts of a plurality of probe elements having the same length and the same size, and a bump (a protrusion) is installed at a specific probe element also at their inner side. SOLUTION: Bumps 30 which are used as contact makers used to press a terminal part of an integrated circuit in an electrification test are installed at tip parts of probe elements 26. On the other hand, bumps 30 of the same kind are installed at probe elements 28 in positions nearly identical to those of the bumps 30, and bumps 34 are installed in positions at their inner side. When a probe unit 10 is pressed to the integrated circuit, the bumps 30 are first brought into contact with corresponding pads at the integrated circuit, bumps 32 are brought into contact with the surface of the integrated circuit, and the bumps 34 are brought into contact with other pads sequentially. In this manner, the tip parts of the probe element 26, 28, especially their edge parts, are not brought directly into contact with the surface of the integrated circuit, and there is no fear that the integrated circuit is damaged. In addition, since the length and the size of the probe elements 26, 28 are set to be identical, there is no fear that their adjacent probe elements are damaged in the manufacture of the probe unit 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路、液晶表
示パネル等の平板状被検査体の通電試験のためのプロー
ブカードに用いられるフィルム状プローブユニットに関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film probe unit used for a probe card for conducting a current test on a flat test object such as an integrated circuit or a liquid crystal display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路は、一般に、被検査体が
仕様書通りに動作するか否かの通電試験をされる。この
種の通電試験は、プローブカードを用いて電気的特性を
測定することにより行われる。そのようなプローブカー
ドの1つとして、板状部からフィンガー状に伸びる複数
のプローブ要素を有する弾性変形可能の複数のフィルム
状プローブユニットがある。(たとえば、特開平4−3
63671号公報)。
2. Description of the Related Art In general, a semiconductor integrated circuit is subjected to a conduction test to determine whether or not a device under test operates according to specifications. This type of energization test is performed by measuring electrical characteristics using a probe card. As one of such probe cards, there are a plurality of elastically deformable film-like probe units having a plurality of probe elements extending in a finger shape from a plate-like portion. (See, for example,
No. 63671).

【0003】このフィルム状プローブユニット100
は、図9に示すように、ばね性を有する金属層102と
電気絶縁性を有する樹脂層104とを積層した弾性変形
可能のフィルム状基板に配線パターンを集積回路の製作
に用いられているいわゆる印刷配線技術により形成し、
配線パターンの1以上の配線部106を含む領域をフィ
ンガー状に分離する複数のスリット108をフィルム状
基板の一端部に形成して各配線部106の一部を板状部
110からフィンガー状に伸びるプローブ要素112と
している。
[0003] This film probe unit 100
As shown in FIG. 9, a so-called wiring pattern is used for manufacturing an integrated circuit on an elastically deformable film-like substrate in which a metal layer 102 having a spring property and a resin layer 104 having an electrical insulation property are laminated. Formed by printed wiring technology,
A plurality of slits 108 are formed at one end of the film-shaped substrate to separate a region including one or more wiring portions 106 of the wiring pattern into a finger shape, and a part of each wiring portion 106 extends in a finger shape from the plate-like portion 110. The probe element 112 is used.

【0004】各プローブ要素112の先端部(板状部1
10と反対の側)には、一般に、突起すなわちバンプ1
14が適宜な時期にメッキ、接着等により形成される。
バンプ114は、それらが同一直線上に位置するよう
に、一列にプローブ要素112の先端部に形成される。
The tip of each probe element 112 (plate-like portion 1)
On the side opposite to 10) there is generally a projection or bump 1
14 is formed at an appropriate time by plating, bonding, or the like.
The bumps 114 are formed at the tip of the probe element 112 in a row so that they are located on the same straight line.

【0005】この種のフィルム状プローブユニット10
0は、配線部106の他端部(板状部110の側の端
部)を配線基板の配線部に半田付けし、プローブ要素1
12の側の部位を配線基板に取り付けられたプローブ取
付板に組み付けることによりプローブカードに組み立て
られる。プローブユニット100は、各プローブ要素1
12が集積回路に対してある角度を有するように配線基
板に組み付けられる。
[0005] This type of film probe unit 10
Reference numeral 0 denotes the other end of the wiring section 106 (the end on the side of the plate-like section 110) soldered to the wiring section of the wiring board, and the probe element 1
The probe card is assembled by assembling the part on the side of 12 with the probe mounting plate mounted on the wiring board. The probe unit 100 includes each probe element 1
12 is mounted on the wiring board so as to have an angle with respect to the integrated circuit.

【0006】プローブカードは、1つのプローブユニッ
トが集積回路のパッド(電極部)を有する1つの辺部分
に対応するように、パッドを有する辺部分の数と同数の
プローブユニットを備える。各プローブユニットは、各
プローブ要素112が弧状に反るように、バンプ114
を対応するパッドに押圧される。パッドへのバンプの押
圧は、集積回路をプローブカードに対して移動させるこ
とにより行われる。
[0006] The probe card is provided with the same number of probe units as the number of side portions having pads so that one probe unit corresponds to one side portion having pads (electrode portions) of the integrated circuit. Each probe unit has a bump 114 so that each probe element 112 is curved in an arc.
Is pressed by the corresponding pad. The pressing of the bump on the pad is performed by moving the integrated circuit with respect to the probe card.

【0007】しかし、バンプ114を一列に配置したフ
ィルム状プローブユニット100では、図10に示すよ
うに、集積回路120がパッド122,124を辺部分
に複数列(図示の例では、2列)に配置したパッド配列
のチップであると、パッド122又は124に接触しな
いバンプが存在することになる。このため、従来のプロ
ーブユニット100は、複数列のパッド配列とした集積
回路120の通電試験用のプローブカードに用いること
ができない。
However, in the film-like probe unit 100 in which the bumps 114 are arranged in one row, as shown in FIG. 10, the integrated circuit 120 divides the pads 122 and 124 into a plurality of rows (two rows in the illustrated example) on the side portions. In the case of a chip having an arranged pad arrangement, there is a bump that does not contact the pad 122 or 124. For this reason, the conventional probe unit 100 cannot be used as a probe card for conducting a current test of the integrated circuit 120 having a plurality of rows of pad arrangements.

【0008】上記欠点を解決すべく、図11に示すプロ
ーブユニット130のように、検査すべき集積回路12
0のパッド配列に対応させてバンプ132,134を複
数列(図示の例では、2列)に配置にすることが考えら
れる。
In order to solve the above-mentioned drawbacks, an integrated circuit 12 to be inspected, such as a probe unit 130 shown in FIG.
It is conceivable to arrange the bumps 132 and 134 in a plurality of rows (two rows in the illustrated example) corresponding to the pad arrangement of 0.

【0009】プローブユニット130においては、図1
2に示すように各プローブ要素136,138が集積回
路120に対し角度θを有することから、プローブユニ
ット130が集積回路120に押圧されるとき、先ず図
12(A)に示すように先端側のバンプ132が対応す
るパッド122に接触し、次いで図12(B)に示すよ
うにプローブ要素136が反るとともに、内側(板状部
110の側)のバンプ134がパッド124に接触し、
次いでプローブ要素136がさらに反るとともに、プロ
ーブ要素138が反る。
In the probe unit 130, FIG.
Since each probe element 136 and 138 has an angle θ with respect to the integrated circuit 120 as shown in FIG. 2, when the probe unit 130 is pressed against the integrated circuit 120, first, as shown in FIG. The bump 132 makes contact with the corresponding pad 122, and then the probe element 136 warps as shown in FIG.
The probe element 136 then warps further and the probe element 138 warps.

【0010】しかし、図11に示すようなバンプ配列の
プローブユニット130では、内側のバンプ134を有
するプローブ要素138がその先端を集積回路120に
接触させた図12(B)に示す状態からさらに反らされ
るから、そのときにプローブ要素138の先端と集積回
路120の表面との間に擦り作用が生じ、その結果プロ
ーブ要素136、特に配線部106の先端エッジ部で集
積回路120の表面が損傷することを避けることができ
ない。
However, in the probe unit 130 having a bump arrangement as shown in FIG. 11, the probe element 138 having the inner bumps 134 is further deflected from the state shown in FIG. At this time, a rubbing action occurs between the tip of the probe element 138 and the surface of the integrated circuit 120, and as a result, the surface of the integrated circuit 120 is damaged at the probe element 136, particularly at the tip edge of the wiring portion 106. I cannot avoid doing it.

【0011】また、図13に示すプローブユニット14
0のように、バンプ132,134を検査すべき集積回
路120のパッド配列に対応させて複数列(図示の例で
は、2列)に配置にするとともに、プローブ要素14
2,144の長さ寸法を検査すべき集積回路120のパ
ッド配列に対応させることが考えられる。しかし、その
ようなプローブユニット140では、フィンガー状のプ
ローブ要素134の長さ寸法を短くすべくプローブ要素
134の先端部をレーザのような切断手段で切断すると
き、隣の長いプローブ要素132の側面を破損すること
が多く、歩留りが悪い。
A probe unit 14 shown in FIG.
0, the bumps 132 and 134 are arranged in a plurality of rows (two rows in the illustrated example) corresponding to the pad arrangement of the integrated circuit 120 to be inspected, and the probe elements 14 are arranged.
It is conceivable that the length dimension of 2,144 corresponds to the pad arrangement of the integrated circuit 120 to be inspected. However, in such a probe unit 140, when the tip of the probe element 134 is cut by cutting means such as a laser in order to shorten the length dimension of the finger-shaped probe element 134, the side face of the adjacent long probe element 132 Is often damaged and the yield is poor.

【0012】[0012]

【解決しようとする課題】それゆえに、フィルム状プロ
ーブユニットにおいては、電極部を複数列に配置した平
板状被検査体の検査時にその被検査体を損傷しないにも
かかわらず、製作時に隣のプローブ要素を損傷しない形
状とすることが好ましい。
Therefore, in a film-shaped probe unit, an adjacent probe is not damaged during the manufacture of a flat-shaped test object having electrodes arranged in a plurality of rows. Preferably, the shape does not damage the element.

【0013】[0013]

【解決手段、作用及び効果】本発明のプローブユニット
は、フィルム状の板状部と、該板状部からフィンガー状
に伸びかつ同じ長さ寸法を有する複数の第1及び第2の
プローブ要素とを備える。第1及び第2のプローブ要素
のそれぞれは先端側の第1の箇所にバンプを有し、第2
のプローブ要素はさらに第1の箇所より板状部側の第2
の箇所にバンプを有する。
A probe unit according to the present invention comprises a film-like plate-like portion and a plurality of first and second probe elements extending in a finger-like shape from the plate-like portion and having the same length. Is provided. Each of the first and second probe elements has a bump at a first location on the distal end side,
The probe element further includes a second
Has a bump at the position.

【0014】プローブユニットが被検査体に押圧される
とき、先ず第1のプローブ要素の第1の箇所のバンプが
電極部に押圧されるとともに、第2のプローブ要素の第
1の部位のバンプが被検査体に押圧されることにより、
第1及び第2のプローブ要素が反り、次いで第2のプロ
ーブ要素の第2の箇所のバンプが電極部に押圧され、第
1及び第2のプローブ要素がさらに反る。
When the probe unit is pressed against the device under test, first, the bump at the first portion of the first probe element is pressed against the electrode portion, and the bump at the first portion of the second probe element is pressed. By being pressed by the test object,
The first and second probe elements are warped, and then the bump at the second location of the second probe element is pressed against the electrode portion, and the first and second probe elements are further warped.

【0015】このため、第1及び第2のプローブ要素の
長さ寸法が同じであっても、第1及び第2のプローブ要
素が被検査体の表面に直接接触することがなく、従って
プローブ要素が弧状に反っても、被検査体を損傷するお
それはない。また、プローブ要素の長さ寸法が同じであ
るから、プローブユニットの製作時に隣のプローブ要素
を損傷するおそれがない。
Therefore, even if the length dimensions of the first and second probe elements are the same, the first and second probe elements do not directly contact the surface of the object to be inspected. Even if is warped in an arc shape, there is no danger of damaging the test object. Further, since the length dimensions of the probe elements are the same, there is no possibility that adjacent probe elements will be damaged when the probe unit is manufactured.

【0016】各第2のプローブ要素の第1の箇所に形成
されたバンプの少なくとも表面は電気絶縁性を有するこ
とができる。これにより、各第2のプローブ要素の第1
の箇所に形成されたバンプに起因する被検査体の電極部
又は配線部の電気的短絡が防止される。
[0016] At least the surface of the bump formed at the first location of each second probe element can have electrical insulation. This allows the first probe element of each second
The electrical short-circuit of the electrode portion or the wiring portion of the device under test due to the bump formed at the position is prevented.

【0017】さらに、板状部から第1及び第2のプロー
ブ要素に伸びる配線部を備え、バンプを配線部に形成し
てもよい。また、第1のプローブ要素の第1の箇所に形
成されたバンプと第2のプローブ要素の第2の箇所に形
成されたバンプは同じ形状を有することができる。さら
に、各第2のプローブ要素に形成されたバンプは同じ形
状を有していてもよいし、異なる形状を有していてもよ
い。
Further, a wiring portion extending from the plate portion to the first and second probe elements may be provided, and a bump may be formed on the wiring portion. Also, the bumps formed at the first location of the first probe element and the bumps formed at the second location of the second probe element can have the same shape. Further, the bumps formed on each second probe element may have the same shape or different shapes.

【0018】各第2のプローブ要素に形成されたバンプ
は当該第2のプローブ要素の長手方向に間隔をおいてい
てもよい。しかし、各第2のプローブ要素に形成された
バンプを少なくとも部分的に連続させてもよい。
The bumps formed on each second probe element may be spaced apart in the longitudinal direction of the second probe element. However, the bumps formed on each second probe element may be at least partially continuous.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1、図2及び図3を参照する
に、フィルム状プローブユニット10は、フィルム状の
プローブ基板12と、プローブ基板12に結合されたフ
ィルム状の接続基板14と、接続基板14の上に取り付
けられた板状のブロック16とを含む。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS. 1, 2 and 3, a film probe unit 10 includes a film probe substrate 12, a film connection substrate 14 coupled to the probe substrate 12, and A plate-shaped block 16 mounted on the connection board 14.

【0020】プローブ基板12は、ばね性を有する金属
層18をポリイミドのような電気絶縁性の樹脂層20の
一方の面に積層しており、また複数の配線部(配線パタ
ーン)22を樹脂層20の他方の面に印刷配線技術によ
り形成している。このため、プローブ基板12は、ある
程度の強靭性及び可撓性を有する。
The probe board 12 has a metal layer 18 having a spring property laminated on one surface of an electrically insulating resin layer 20 such as polyimide, and a plurality of wiring portions (wiring patterns) 22 formed on the resin layer. 20 is formed on the other surface by a printed wiring technique. For this reason, the probe substrate 12 has some toughness and flexibility.

【0021】プローブ基板12は、幅寸法がほぼ一定の
第1の領域と、該第1の領域の後端に続きかつ幅寸法が
後方側に向けて漸次増大する第2の領域と、該第2の領
域の後端に続きかつほぼ一定の幅寸法を有する第3の領
域とを有する。配線部22は、第1の領域の先端部から
第2の領域を経て第3の領域の後端部まで連続して伸び
ている。隣り合う配線部22の間隔は、第1の領域にお
いてはほぼ同じであるが、第2領域においては漸次増大
し、第3の領域においてほぼ同じである。
The probe substrate 12 has a first region having a substantially constant width dimension, a second region following the rear end of the first region, and having a width gradually increasing rearward. A third region following the rear end of the second region and having a substantially constant width dimension. The wiring section 22 extends continuously from the front end of the first area to the rear end of the third area via the second area. The distance between adjacent wiring portions 22 is substantially the same in the first region, but gradually increases in the second region, and is substantially the same in the third region.

【0022】プローブ基板12の第1の領域は、スリッ
ト24により1以上の配線部22を含むフィンガー状の
複数のプローブ要素26,28に分離されており、した
がってプローブ領域として作用する。プローブ基板12
のうち、プローブ領域以外の領域は、板状部として作用
する。プローブ要素26,28は、同じ先端位置及び同
じ長さ寸法を有する。
The first region of the probe substrate 12 is separated by a slit 24 into a plurality of finger-like probe elements 26 and 28 including one or more wiring portions 22, and thus functions as a probe region. Probe board 12
Of these, the region other than the probe region acts as a plate-like portion. The probe elements 26, 28 have the same tip position and the same length dimension.

【0023】各プローブ要素26は、通電試験時に集積
回路の端子部に押圧される接触子として作用するバンプ
(突起)30を先端部に有する。これに対し、各プロー
ブ要素28は、同種のバンプ32,34を先端部に有す
る。プローブ要素の長手方向におけるバンプ32の位置
は、バンプ30とほぼ同じである。しかし、バンプ34
は、バンプ32から内側(第2の領域の側)へ後退した
位置に形成されている。
Each probe element 26 has at its tip a bump (projection) 30 which acts as a contact pressed against the terminal of the integrated circuit at the time of the conduction test. On the other hand, each probe element 28 has the same type of bumps 32 and 34 at the tip. The position of the bump 32 in the longitudinal direction of the probe element is substantially the same as the position of the bump 30. However, bump 34
Are formed at positions retreated inward (toward the second region) from the bumps 32.

【0024】図に示すプローブユニット10は、パッド
配列(電極部配列)が2列の図10に示す集積回路チッ
プの通電試験に用いるものであることから、バンプ配列
を2列にしているが、バンプ配列は検査すべき被検査体
のパッド配列に対応する配列にすればよい。
In the probe unit 10 shown in the figure, since the pad arrangement (electrode arrangement) is used for the conduction test of the integrated circuit chip shown in FIG. 10 having two rows, the bump arrangement is two rows. The bump arrangement may be an arrangement corresponding to the pad arrangement of the device to be inspected.

【0025】バンプ30,32,34は、同じ大きさの
半球状の突起であり、また、ニッケルのような導電性の
材料で形成されている。しかし、バンプ32を電気絶縁
材料で形成するか、電気絶縁性の膜をバンプ32の少な
くとも表面に形成することが好ましい。
The bumps 30, 32, and 34 are hemispherical protrusions of the same size, and are made of a conductive material such as nickel. However, it is preferable that the bump 32 be formed of an electrically insulating material or that an electrically insulating film be formed on at least the surface of the bump 32.

【0026】プローブ基板12は、たとえば、金属層1
8を樹脂層20に一方の面に積層して弾性変形可能のフ
ィルム状部材(フィルム状積層体)を形成し、該フィル
ム状部材の他方の面に配線パターンを印刷配線技術によ
り形成し、第1の領域を複数のスリット24によりフィ
ンガー状に分離することにより形成することができる。
バンプ30,32,34は、適宜な時期にメッキ、接
着、コーティング等により形成される。
The probe substrate 12 is formed, for example, of the metal layer 1
8 is laminated on the resin layer 20 on one surface to form an elastically deformable film-like member (film-like laminate), and a wiring pattern is formed on the other surface of the film-like member by printed wiring technology. It can be formed by separating one region into a finger shape by a plurality of slits 24.
The bumps 30, 32, and 34 are formed at appropriate times by plating, bonding, coating, or the like.

【0027】接続基板14の配線は、その配線部36が
多層構造となるように、ポリイミドのような電気絶縁材
料製のベースに印刷配線技術のような適宜な手法により
複数層に形成されている。このため、接続基板14は、
ある程度の強靭性及び可撓性を有する。
The wiring of the connection board 14 is formed in a plurality of layers by an appropriate technique such as a printed wiring technique on a base made of an electrically insulating material such as polyimide so that the wiring portion 36 has a multilayer structure. . For this reason, the connection board 14
It has some toughness and flexibility.

【0028】接続基板14は、幅寸法がプローブ基板1
2の第3の領域とほぼ同じ長方形の領域と、該長方形の
領域の後端に続きかつ幅寸法が後端側に向けて漸次増大
する扇形状の領域とにより、ほぼ扇形状に形成されてい
る。配線部36は、長方形の領域の先端部から扇形状の
領域の後端部まで連続して形成されている。隣り合う配
線部36の間隔は、それぞれ、長方形の領域においては
ほぼ同じであるが、扇形状の領域においては後端側に向
けて漸次増大する。
The connection board 14 has a width dimension of the probe board 1.
2 and a substantially fan-shaped region formed by a rectangular region substantially the same as the third region and a fan-shaped region following the rear end of the rectangular region and gradually increasing in width toward the rear end. I have. The wiring portion 36 is formed continuously from the front end of the rectangular area to the rear end of the fan-shaped area. The intervals between adjacent wiring portions 36 are substantially the same in the rectangular region, but gradually increase toward the rear end in the fan-shaped region.

【0029】接続基板14は、さらに、各配線部36の
後端部に電気的に接続された複数の接続部38を後端部
に有する。各接続部38は導電性のスルーホールであ
る。接続部36は、接続基板14の後端部に複数列(図
示の例では、4列)に形成されている。
The connecting board 14 further has a plurality of connecting portions 38 at the rear end electrically connected to the rear end of each wiring portion 36. Each connection portion 38 is a conductive through hole. The connection portions 36 are formed in a plurality of rows (four rows in the illustrated example) at the rear end of the connection board 14.

【0030】プローブ基板12と接続基板14とを結合
する前においては、プローブ基板12の配線部22は全
体的に露出されており、また、接続基板14の配線部3
6は一端部(先端部)において露出されている。プロー
ブ基板12は、配線部22を下側とした状態で後端部を
接続基板14の先端部上側に異方導電性フィルム(図示
せず)を間にして重ねられ、熱圧着される。これによ
り、プローブ基板12及び接続基板14は、それぞれ、
先端部及び後端部において互いに結合される。
Before connecting the probe board 12 and the connection board 14, the wiring section 22 of the probe board 12 is entirely exposed.
6 is exposed at one end (tip). The probe substrate 12 is stacked with the rear end thereof on the upper end of the connection substrate 14 with the anisotropic conductive film (not shown) therebetween with the wiring portion 22 being on the lower side, and is thermocompression-bonded. Thereby, the probe board 12 and the connection board 14 are respectively
At the leading and trailing ends they are joined together.

【0031】異方導電性フィルムは、厚さ方向に配置さ
れた多数の金属細線等により厚さ方向には導電性を有す
るが、他の方向には導電性を有しない。このため、プロ
ーブ基板12の配線部22及び接続基板14の配線部3
6は、それぞれ、後端部及び先端部において、異方導電
性フィルムにより一対一の形に電気的に接続されてい
る。
The anisotropic conductive film has conductivity in the thickness direction due to a large number of thin metal wires arranged in the thickness direction, but does not have conductivity in other directions. Therefore, the wiring section 22 of the probe board 12 and the wiring section 3 of the connection board 14
Numerals 6 are electrically connected in a one-to-one manner by an anisotropic conductive film at the rear end and the front end, respectively.

【0032】ブロック16は、ほぼT字状の形を有して
おり、また上方に開放する2 組の穴40,42を有す
る。一方の穴40は、ねじ穴であり、またプローブ要素
26の長手方向に間隔をおいている。他方の穴42は、
穴40の先端側に形成された一般的な穴であり、またプ
ローブ要素26,28の配列方向(プローブ要素の長手
方向と直角の方向)に間隔をおいている。
The block 16 has a substantially T-shape, and has two sets of holes 40 and 42 that open upward. One of the holes 40 is a threaded hole and is spaced longitudinally of the probe element 26. The other hole 42
This is a general hole formed on the tip side of the hole 40, and is spaced in the arrangement direction of the probe elements 26 and 28 (a direction perpendicular to the longitudinal direction of the probe element).

【0033】ブロック16は、穴42が穴40より先端
側となるように、プローブ基板12の上側に接着剤44
により接着されている。プローブユニット10は、プロ
ーブ基板12と接続基板14とを結合させ、次いでブロ
ック16をプローブ基板12の上側に接着することによ
り、図1に示すように組み立てることができる。
The block 16 is provided with an adhesive 44 on the upper side of the probe substrate 12 such that the hole 42 is on the front end side of the hole 40.
It is adhered by. The probe unit 10 can be assembled as shown in FIG. 1 by bonding the probe board 12 and the connection board 14 and then bonding the block 16 to the upper side of the probe board 12.

【0034】プローブユニット10は、プローブ基板1
2を接続基板14と別個に製作することができるから、
精密なプローブ要素26,28を容易に製作することが
できる。しかし、プローブ基板12と接続基板14とを
一体的に形成してもよい。
The probe unit 10 includes the probe substrate 1
2 can be manufactured separately from the connection substrate 14,
Precise probe elements 26, 28 can be easily manufactured. However, the probe substrate 12 and the connection substrate 14 may be formed integrally.

【0035】図4及び図5を参照するに、プローブカー
ド50は、上記した構造を有する複数(図示の例では、
4つ)のプローブユニット10を用いる。プローブカー
ド50は、4つのプローブユニット10のほかに、円板
状の配線基板52と、配線基板52に組み付けられた矩
形のプローブ取付板54と、取付板54に組み付けられ
た板状のスペーサ56とを含む。
Referring to FIG. 4 and FIG. 5, the probe card 50 has a plurality (in the illustrated example,
(4) probe units 10 are used. The probe card 50 includes, besides the four probe units 10, a disk-shaped wiring board 52, a rectangular probe mounting plate 54 mounted on the wiring substrate 52, and a plate-shaped spacer 56 mounted on the mounting plate 54. And

【0036】配線基板52は、十字状の開口58を中央
部に有しかつプローブユニット10の接続部38に接続
された複数の接続部60を開口58の周りに有し、試験
機に電気的に接続される複数のテスターランド62を接
続部60の周りに有し、さらに2層構造の配線部(図示
せず)を接続部60とテスターランド62との間に有す
る。
The wiring board 52 has a cross-shaped opening 58 at the center and a plurality of connecting portions 60 connected to the connecting portion 38 of the probe unit 10 around the opening 58, so that the tester is electrically connected. And a plurality of tester lands 62 around the connection part 60, and a wiring part (not shown) having a two-layer structure between the connection part 60 and the tester land 62.

【0037】プローブ取付版54は、矩形の開口66を
有しており、また開口66が開口58と同軸になるよう
に各隅角部においてねじ68により配線基板52の上側
に組み付けられている。取付板54は、また、3対の貫
通穴70,72,74を四角形の各辺に対応する個所の
それぞれに有するとともに、ねじ穴76を4つの各隅角
部に有する。
The probe mounting plate 54 has a rectangular opening 66, and is mounted on the upper side of the wiring board 52 by screws 68 at each corner so that the opening 66 is coaxial with the opening 58. The mounting plate 54 also has three pairs of through holes 70, 72, 74 at each of the locations corresponding to each side of the square, and has screw holes 76 at each of the four corners.

【0038】貫通穴70はブロック16のねじ穴40に
対応する位置に形成されており、貫通穴72はブロック
16の貫通穴42に対応する位置に形成されている。貫
通穴74は、貫通穴70の配置位置を間にして互いに間
隔をおいている。
The through hole 70 is formed at a position corresponding to the screw hole 40 of the block 16, and the through hole 72 is formed at a position corresponding to the through hole 42 of the block 16. The through holes 74 are spaced from each other with the arrangement position of the through holes 70 therebetween.

【0039】スペーサ56は、配線基板52の開口58
と相似のほぼ十字状の形を有しており、また開口58内
に配置されている。スペーサ56も、貫通穴70及び7
2にそれぞれ対応する2対4組の貫通穴78及び80を
有する。取付板54及びスペーサ56の各貫通穴72,
80は、ブロック16の貫通穴42より大きい直径寸法
を有する。
The spacer 56 is formed in the opening 58 of the wiring board 52.
It has a substantially cross shape similar to the above, and is disposed in the opening 58. The spacer 56 also has through holes 70 and 7
2, two to four pairs of through holes 78 and 80 respectively. Each through hole 72 of the mounting plate 54 and the spacer 56,
80 has a larger diameter dimension than the through hole 42 of the block 16.

【0040】スペーサ56は、また、プローブ取付板5
4の開口66とほぼ同じ形状の開口82を有しており、
開口82が開口66と同軸になりかつ貫通穴78,80
が貫通穴70,72とほぼ整合するように、取付板54
の各貫通穴74に通されたねじ84により取付板54の
下側に組み付けられている。
The spacer 56 is also provided on the probe mounting plate 5.
4 has an opening 82 having substantially the same shape as the opening 66.
The opening 82 is coaxial with the opening 66 and the through holes 78, 80
Are substantially aligned with the through holes 70 and 72.
Are attached to the lower side of the mounting plate 54 by screws 84 passed through the respective through holes 74.

【0041】各ブロック16は、プローブ要素の先端部
が開口66,82の位置に突出する状態にスペーサ56
に重ねられ、取付板54及びスペーサ56の貫通穴7
0,78に通されてブロック16のねじ穴40にねじ込
まれたねじ86によりスペーサ56を介してプローブ取
付板54に取り付けられている。
Each block 16 is provided with a spacer 56 such that the distal end of the probe element protrudes to the positions of the openings 66 and 82.
And through holes 7 in the mounting plate 54 and the spacer 56.
It is attached to the probe attachment plate 54 via the spacer 56 by a screw 86 which is passed through the screw hole 78 of the block 16 through 0,78.

【0042】スペーサ56を全てのプローブユニット1
0で共通に利用する代わりに、プローブユニット10毎
にスペーサ56を設けてもよい。この場合、各スペーサ
の形状をブロック16に類似した形状とすることができ
る。
The spacer 56 is connected to all the probe units 1
Instead of using a common value of 0, a spacer 56 may be provided for each probe unit 10. In this case, the shape of each spacer can be made similar to the shape of the block 16.

【0043】プローブカード50は、たとえば、各プロ
ーブユニット10を上記のように予め製作し、プローブ
取付板54及びスペーサ56を上記したように配線基板
52に予め取り付けた状態において、先ず各プローブユ
ニット10の接続部38を配線基板52の対応する接続
部60にピン及び半田等により固定し、次いで各プロー
ブユニット10のブロック16をスペーサ56を介して
プローブ取付板54の対応する個所にねじ86で取り付
けることにより、組み立てることができる。
The probe card 50 is manufactured, for example, in a state where each probe unit 10 is manufactured in advance as described above, and the probe mounting plate 54 and the spacer 56 are previously mounted on the wiring board 52 as described above. Are fixed to the corresponding connection portions 60 of the wiring board 52 by pins, solder, or the like, and then the blocks 16 of each probe unit 10 are attached to the corresponding portions of the probe mounting plate 54 via the spacers 56 with screws 86. By doing so, it can be assembled.

【0044】プローブユニット10は、各プローブ要素
26,28の先端側ほど下方となるように、配線基板5
2に対し角度を有する状態に組み付けられる。また、プ
ローブユニット10は、ブロック16が取付板54に組
み付けられるとき、プローブ要素26,28の先端が配
線基板52に対し所定の位置になるように、プローブユ
ニット10毎に位置合わせをされる。各プローブユニッ
ト10の位置合わせは、ブロック16がスペーサ56に
対し移動可能な程度にねじ86を緩めた状態で、マニピ
ュレータを用いて行うことができる。
The probe unit 10 is mounted on the wiring board 5 so that the probe elements 26 and 28 are located at the lower ends of the probe elements 26 and 28.
It is assembled in a state having an angle with respect to 2. When the block 16 is assembled to the mounting plate 54, the probe units 10 are aligned with each other so that the tips of the probe elements 26 and 28 are at predetermined positions with respect to the wiring board 52. Positioning of each probe unit 10 can be performed using a manipulator with the screw 86 loosened to such an extent that the block 16 can move with respect to the spacer 56.

【0045】プローブユニット10を配線基板52に取
り付けるとき、各プローブユニット10を図5に示すよ
うに接続基板14において湾曲させることができる。ま
た、接続基板14が弾性変形し難い場合、図5に示すよ
うに接続基板14にその幅方向全体にわたる湾曲部46
を形成しておくならば、プローブユニット10はその湾
曲部において容易に弾性変形し、配線基板52へのプロ
ーブ要素の組付けが容易になる。
When the probe units 10 are attached to the wiring board 52, each probe unit 10 can be curved on the connection board 14 as shown in FIG. When the connecting board 14 is hardly elastically deformed, the connecting board 14 is provided with a curved portion 46 extending over the entire width thereof as shown in FIG.
Is formed, the probe unit 10 is easily elastically deformed at its curved portion, and the assembling of the probe element to the wiring board 52 is facilitated.

【0046】プローブカード50に組み立てられたプロ
ーブユニット10は、バンプ30,34を検査装置にお
いて被検査体である集積回路のパッドに押圧され、それ
により各プローブ要素26,28は弧状に反る。
In the probe unit 10 assembled on the probe card 50, the bumps 30, 34 are pressed against the pads of the integrated circuit, which is the object to be inspected, in the inspection apparatus, whereby the probe elements 26, 28 are curved in an arc.

【0047】プローブユニット10が集積回路120に
押圧されるとき、先ず図6(A)に示すように先端側の
バンプ30が集積回路120の対応するパッド122に
接触し、次いで図6(B)に示すようにプローブ要素2
6がわずかに反るとともに、バンプ32が集積回路12
0の表面に接触し、次いで図6(C)に示すようにプロ
ーブ要素26がさらに反るとともに、バンプ34がパッ
ド124に接触してプローブ要素28が反る。
When the probe unit 10 is pressed against the integrated circuit 120, first, the bump 30 on the tip side contacts the corresponding pad 122 of the integrated circuit 120 as shown in FIG. Probe element 2 as shown
6 are slightly warped, and the bumps 32 are
Then, as shown in FIG. 6C, the probe element 26 further warps, and the bump 34 contacts the pad 124 to warp the probe element 28 as shown in FIG.

【0048】上記のように、プローブユニット10によ
れば、プローブ要素26,28の長さ寸法が同じである
にもかかわらず、プローブ要素26,28の先端、特に
エッジ部が集積回路120の表面に直接接触せず、従っ
てプローブ要素26,28が弧状に反っても、集積回路
120を損傷するおそれはない。また、プローブ要素2
6,28の長さ寸法が同じであるから、プローブユニッ
トの製作時に隣のプローブ要素を損傷するおそれがな
い。
As described above, according to the probe unit 10, although the lengths of the probe elements 26 and 28 are the same, the tips, particularly the edges, of the probe elements 26 and 28 are formed on the surface of the integrated circuit 120. Therefore, there is no danger of damaging the integrated circuit 120 even if the probe elements 26 and 28 warp in an arc shape. Also, probe element 2
Since the lengths of 6, 28 are the same, there is no possibility that adjacent probe elements will be damaged when the probe unit is manufactured.

【0049】なお、パッドに接触しないいわゆるダミー
バンプ32をパッドに接触するバンプ30,34と同じ
形状とする代わりに、パッドに接触しないダミーバンプ
32を図7及び図8に示すようにパッドに接触するバン
プ30,34と異なる形状にしてもよい。また、パッド
に接触しないダミーバンプをプローブ要素26の側にも
設けてもよい。さらに、各プローブ要素26,28に複
数のバンプを形成した場合、それらのバンプを連ねても
よく、この場合、パッドに接触するバンプの突出高さを
パッドに接触しないダミーバンプのそれより大きくする
ことができる。
The dummy bumps 32 that do not come into contact with the pads have the same shapes as the bumps 30 and 34 that come into contact with the pads. Instead of the dummy bumps 32 that do not come into contact with the pads, as shown in FIGS. The shape may be different from 30 and 34. Further, a dummy bump which does not contact the pad may be provided on the probe element 26 side. Further, when a plurality of bumps are formed on each of the probe elements 26 and 28, the bumps may be connected to each other. In this case, the height of the bump contacting the pad should be larger than that of the dummy bump not contacting the pad. Can be.

【0050】本発明は、上記実施例に限定されない。た
とえば、本発明は、集積回路、特に回路チップの通電試
験に用いるプローブユニット及びプローブカードとして
好適であるが、液晶表示パネルのような他の平板状被検
査体の通電試験に用いるプローブユニット及びプローブ
カードにも適用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the present invention is suitable as a probe unit and a probe card for use in an energization test of an integrated circuit, particularly a circuit chip, but a probe unit and a probe used for an energization test of another flat test object such as a liquid crystal display panel. It can be applied to cards.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るプローブユニットの一実施例を示
す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of a probe unit according to the present invention.

【図2】図1に示すプローブユニットの側面図である。FIG. 2 is a side view of the probe unit shown in FIG.

【図3】図1に示すプローブユニットのプローブ要素部
分の拡大斜視図である。
FIG. 3 is an enlarged perspective view of a probe element portion of the probe unit shown in FIG.

【図4】図1に示すプローブユニットを用いたプローブ
カードの一実施例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing one embodiment of a probe card using the probe unit shown in FIG.

【図5】図4の5−5線に沿って得た断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along the line 5-5 in FIG. 4;

【図6】図1に示すプローブユニットのプローブ要素の
動作状態を説明するための図である。
FIG. 6 is a view for explaining an operation state of a probe element of the probe unit shown in FIG. 1;

【図7】プローブ要素の他の一実施例を示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a sectional view showing another embodiment of the probe element.

【図8】図7に示すプローブ要素の底面図である。8 is a bottom view of the probe element shown in FIG.

【図9】従来のプローブユニットの一例を示す斜視図で
ある。
FIG. 9 is a perspective view showing an example of a conventional probe unit.

【図10】検査すべき集積回路チップのパッド配列の一
例を示す平面図である。
FIG. 10 is a plan view showing an example of a pad arrangement of an integrated circuit chip to be inspected.

【図11】従来のプローブユニットの他の例を示す斜視
図である。
FIG. 11 is a perspective view showing another example of a conventional probe unit.

【図12】図11に示すプローブユニットの動作を説明
するための図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining the operation of the probe unit shown in FIG.

【図13】従来のプローブユニットのさらに他の例を示
す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing still another example of a conventional probe unit.

【符号の説明】 10 プローブユニット 12 プローブ基板 14 接続基板 16 プローブブロック 18 金属層 20 樹脂層 22 プローブユニットの配線部 24 スリット 26,28 プローブ要素 30,32,34 バンプDESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Probe unit 12 Probe board 14 Connection board 16 Probe block 18 Metal layer 20 Resin layer 22 Wiring part of probe unit 24 Slit 26, 28 Probe element 30, 32, 34 Bump

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルム状の板状部と、該板状部からフ
ィンガー状に伸びかつ同じ長さ寸法を有する複数の第1
及び第2のプローブ要素とを備え、前記第1及び第2の
プローブ要素のそれぞれは先端側の第1の箇所にバンプ
を有し、前記第2のプローブ要素はさらに前記第1の箇
所より前記板状部側の第2の箇所にバンプを有する、フ
ィルム状プローブユニット。
1. A film-like plate-like portion, and a plurality of first plates extending in a finger-like shape from the plate-like portion and having the same length.
And a second probe element, wherein each of the first and second probe elements has a bump at a first location on the distal end side, and the second probe element further has a bump from the first location. A film-like probe unit having a bump at a second location on the plate-like portion side.
【請求項2】 各第2のプローブ要素の第1の箇所に形
成されたバンプの少なくとも表面は電気絶縁性を有す
る、請求項1に記載のプローブユニット。
2. The probe unit according to claim 1, wherein at least a surface of the bump formed at the first location of each second probe element has an electrical insulating property.
【請求項3】 さらに、前記板状部から前記第1及び第
2のプローブ要素に伸びる配線部を備え、前記バンプは
前記配線部に形成されている、請求項1又は2項に記載
のプローブユニット。
3. The probe according to claim 1, further comprising a wiring portion extending from the plate portion to the first and second probe elements, wherein the bump is formed on the wiring portion. unit.
【請求項4】 前記第1のプローブ要素の第1の箇所に
形成されたバンプと前記第2のプローブ要素の第2の箇
所に形成されたバンプは同じ形状を有する、請求項1,
2又は3に記載のプローブユニット。
4. The bump formed at a first location of the first probe element and a bump formed at a second location of the second probe element have the same shape.
4. The probe unit according to 2 or 3.
【請求項5】 各第2のプローブ要素に形成されたバン
プは互いに異なる形状を有する、請求項1,2又は3に
記載のプローブユニット。
5. The probe unit according to claim 1, wherein the bumps formed on each second probe element have different shapes.
【請求項6】 各第2のプローブ要素に形成されたバン
プは当該第2のプローブ要素の長手方向に間隔をおいて
いる、請求項1から5のいずれか1項に記載のプローブ
ユニット。
6. The probe unit according to claim 1, wherein the bumps formed on each second probe element are spaced from each other in a longitudinal direction of the second probe element.
【請求項7】 各第2のプローブ要素に形成されたバン
プは少なくとも部分的に連続している、請求項1から5
のいずれか1項に記載のプローブユニット。
7. The bump formed on each second probe element is at least partially continuous.
The probe unit according to any one of the above.
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