JPH11197457A - 脱臭用ヒータとその製造方法および脱臭用ヒータを使用した空気調和機 - Google Patents
脱臭用ヒータとその製造方法および脱臭用ヒータを使用した空気調和機Info
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- JPH11197457A JPH11197457A JP10007278A JP727898A JPH11197457A JP H11197457 A JPH11197457 A JP H11197457A JP 10007278 A JP10007278 A JP 10007278A JP 727898 A JP727898 A JP 727898A JP H11197457 A JPH11197457 A JP H11197457A
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Landscapes
- Air Filters, Heat-Exchange Apparatuses, And Housings Of Air-Conditioning Units (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 悪臭成分の除去機能有する高性能脱臭用ヒー
タを提供するとともに、そのヒータを効率的に製造する
方法をも提供する。 【解決手段】 シーズヒータと、前記シーズヒータの全
体または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長手方
向に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属フィ
ンと前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムまたは
グラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属フィ
ンの表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上に触
媒被覆層を形成する。また、琺瑯質皮膜が下地である第
１層と上地である第２層とで構成され、前記第２層は第
１層よりも表面粗さが粗く、前記第２層が焼成によって
形成された後、シリカゾルまたはアルミナゾルで被覆層
を形成し、その後触媒被覆層を形成する。
タを提供するとともに、そのヒータを効率的に製造する
方法をも提供する。 【解決手段】 シーズヒータと、前記シーズヒータの全
体または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長手方
向に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属フィ
ンと前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムまたは
グラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属フィ
ンの表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上に触
媒被覆層を形成する。また、琺瑯質皮膜が下地である第
１層と上地である第２層とで構成され、前記第２層は第
１層よりも表面粗さが粗く、前記第２層が焼成によって
形成された後、シリカゾルまたはアルミナゾルで被覆層
を形成し、その後触媒被覆層を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、悪臭成分の除去機
能を有する脱臭用ヒータとその製造方法および脱臭用ヒ
ーターを使用した空気調和機に関するものである。
能を有する脱臭用ヒータとその製造方法および脱臭用ヒ
ーターを使用した空気調和機に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、悪臭や有害ガスを除去する方法と
して、活性炭や鉄錯体に代表される吸着材を室内に配置
して、ガス状の悪臭物質を吸着して脱臭する方法が主に
とられてきた。また、最近では悪臭物質を触媒やオゾン
ガス等によって酸化分解するといった方法もとられてき
ている。
して、活性炭や鉄錯体に代表される吸着材を室内に配置
して、ガス状の悪臭物質を吸着して脱臭する方法が主に
とられてきた。また、最近では悪臭物質を触媒やオゾン
ガス等によって酸化分解するといった方法もとられてき
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、触媒に
よる方法では、脱臭触媒を外部から加熱して臭気成分を
触媒で酸化分解していたのでは、触媒の活性化にかなり
の時間がかかり、また熱ロスが大きい等の問題があり、
活性化までの時間を短縮してほしいニーズは高かった。
金属フィンの表面に琺瑯質皮膜を形成するが、琺瑯層の
熱容量を低減させ、立ち上がり特性を向上させることも
できる。しかし、琺瑯層を薄くすると琺瑯質皮膜にピン
ホール等が生じやすくなり、上層の触媒により下地の金
属を腐食させることが懸念される。したがって、品質を
保証するためには琺瑯質皮膜を厚く管理する必要があっ
た。
よる方法では、脱臭触媒を外部から加熱して臭気成分を
触媒で酸化分解していたのでは、触媒の活性化にかなり
の時間がかかり、また熱ロスが大きい等の問題があり、
活性化までの時間を短縮してほしいニーズは高かった。
金属フィンの表面に琺瑯質皮膜を形成するが、琺瑯層の
熱容量を低減させ、立ち上がり特性を向上させることも
できる。しかし、琺瑯層を薄くすると琺瑯質皮膜にピン
ホール等が生じやすくなり、上層の触媒により下地の金
属を腐食させることが懸念される。したがって、品質を
保証するためには琺瑯質皮膜を厚く管理する必要があっ
た。
【０００４】そこで、本発明は上記従来の問題点を鑑み
て、脱臭機能効果を発現させるまでの時間を短縮させる
とともに、より薄い琺瑯質被覆層で脱臭用ヒータの長期
耐久保証ができる高性能な脱臭用ヒータとその製造方法
およびそれを使用した空気調和機を提供することを目的
とする。
て、脱臭機能効果を発現させるまでの時間を短縮させる
とともに、より薄い琺瑯質被覆層で脱臭用ヒータの長期
耐久保証ができる高性能な脱臭用ヒータとその製造方法
およびそれを使用した空気調和機を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、シーズヒータと、前記シーズヒータの全体
または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長手方向
に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属フィン
と前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムまたはグ
ラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属フィン
の表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上に触媒
被覆層を形成した脱臭用ヒータである。
に本発明は、シーズヒータと、前記シーズヒータの全体
または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長手方向
に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属フィン
と前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムまたはグ
ラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属フィン
の表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上に触媒
被覆層を形成した脱臭用ヒータである。
【０００６】
【発明の実施の形態】上記の課題を解決するための請求
項１記載の発明は、シーズヒータと、前記シーズヒータ
の全体または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長
手方向に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属
フィンと前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムま
たはグラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属
フィンの表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上
に触媒被覆層を形成した脱臭用ヒータである。放熱フィ
ンの内部に熱伝導体を配設することによって、ヒータの
熱は積極的に伝達されて触媒層を活性化させる時間を短
縮できる。
項１記載の発明は、シーズヒータと、前記シーズヒータ
の全体または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長
手方向に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属
フィンと前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムま
たはグラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属
フィンの表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上
に触媒被覆層を形成した脱臭用ヒータである。放熱フィ
ンの内部に熱伝導体を配設することによって、ヒータの
熱は積極的に伝達されて触媒層を活性化させる時間を短
縮できる。
【０００７】請求項２記載の発明は、琺瑯質皮膜の表面
粗さを最適化して、その後に形成される触媒被覆層が熱
衝撃等でも問題とならない信頼性を保証できる。
粗さを最適化して、その後に形成される触媒被覆層が熱
衝撃等でも問題とならない信頼性を保証できる。
【０００８】また、請求項３記載の発明は、熱容量を低
減して立ち上がり特性を向上させるため、金属フィン上
に形成された琺瑯質皮膜をより薄くした時に懸念される
ピンホール等の欠陥部発生にも簡単な後加工によって充
分な耐久信頼性を保証できる。
減して立ち上がり特性を向上させるため、金属フィン上
に形成された琺瑯質皮膜をより薄くした時に懸念される
ピンホール等の欠陥部発生にも簡単な後加工によって充
分な耐久信頼性を保証できる。
【０００９】また、請求項４記載の発明は、本目的に適
した脱臭用ヒータを製造するため、金属管と熱伝導体
（銅管，アルミニウム管，グラファイトシート）とを二
重にして一緒にプレスカシメ加工することによって、熱
伝導体を金属フィンとフィットさせ、シーズヒータから
の伝熱特性を向上させる方法である。これによってクラ
ッド材等の高価な材料を使用することなく、ほぼ同等伝
熱特性を得ることができる。
した脱臭用ヒータを製造するため、金属管と熱伝導体
（銅管，アルミニウム管，グラファイトシート）とを二
重にして一緒にプレスカシメ加工することによって、熱
伝導体を金属フィンとフィットさせ、シーズヒータから
の伝熱特性を向上させる方法である。これによってクラ
ッド材等の高価な材料を使用することなく、ほぼ同等伝
熱特性を得ることができる。
【００１０】また、請求項５記載の発明は、本発明によ
る脱臭用ヒータを空気調和機に使用することによって間
欠的に脱臭効果を発揮させるために必要な電力量を低減
することが可能となる。
る脱臭用ヒータを空気調和機に使用することによって間
欠的に脱臭効果を発揮させるために必要な電力量を低減
することが可能となる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例について説明する。
【００１２】（実施例１）図１は脱臭用ヒータの構成
図、図２は脱臭用ヒータの断面図、図３は図２のＡ部分
拡大要部断面図である。１００Ｖ、２５０Ｗのシーズヒ
ータ１（長さ４００ｍｍ、直径１０ｍｍ）の長手方向に
沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放熱フィン２が配
置されている。シーズヒータ１は金属管とその内部に電
気抵抗線と酸化マグネシウムを充填し、金属管の両端を
ガラス封口材により封口処理されて構成される。放熱フ
ィン２はアルミナイズド鋼管３（肉厚０．５ｍｍ）と銅
管４（肉厚０．１ｍｍ）を同時にカシメた構造体とな
り、アルミナイズド鋼管３上には琺瑯層５が形成され、
その上層部には触媒被覆層６が形成されている。放熱フ
ィン２は触媒被覆層６の有効面積を増大させ、触媒効果
を向上させる。次に、琺瑯層５の構成と作用について説
明する。琺瑯層５は第１琺瑯層７と第２琺瑯層８からな
り、第１琺瑯層７はアルミナイズド鋼管３上のアルミニ
ウム層との密着性に優れたものを使用する。また、アル
ミナイズド鋼管３の耐食性を保護するために表面がほぼ
光沢を有し、ピンホールレスの状態に仕上げる必要があ
る。第２琺瑯層８は第１琺瑯層７と触媒被覆層６との密
着性に優れたものを使用する。第２琺瑯層８は触媒被覆
層６との密着性を考慮し、ある程度の表面粗度を有する
仕様にする必要がある。
図、図２は脱臭用ヒータの断面図、図３は図２のＡ部分
拡大要部断面図である。１００Ｖ、２５０Ｗのシーズヒ
ータ１（長さ４００ｍｍ、直径１０ｍｍ）の長手方向に
沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放熱フィン２が配
置されている。シーズヒータ１は金属管とその内部に電
気抵抗線と酸化マグネシウムを充填し、金属管の両端を
ガラス封口材により封口処理されて構成される。放熱フ
ィン２はアルミナイズド鋼管３（肉厚０．５ｍｍ）と銅
管４（肉厚０．１ｍｍ）を同時にカシメた構造体とな
り、アルミナイズド鋼管３上には琺瑯層５が形成され、
その上層部には触媒被覆層６が形成されている。放熱フ
ィン２は触媒被覆層６の有効面積を増大させ、触媒効果
を向上させる。次に、琺瑯層５の構成と作用について説
明する。琺瑯層５は第１琺瑯層７と第２琺瑯層８からな
り、第１琺瑯層７はアルミナイズド鋼管３上のアルミニ
ウム層との密着性に優れたものを使用する。また、アル
ミナイズド鋼管３の耐食性を保護するために表面がほぼ
光沢を有し、ピンホールレスの状態に仕上げる必要があ
る。第２琺瑯層８は第１琺瑯層７と触媒被覆層６との密
着性に優れたものを使用する。第２琺瑯層８は触媒被覆
層６との密着性を考慮し、ある程度の表面粗度を有する
仕様にする必要がある。
【００１３】本実施例では第１琺瑯層として琺瑯フリッ
トＡ（ガラス転移点；４１０℃）５０部，琺瑯フリット
Ｂ（ガラス転移点；４３０℃）５０部，二酸化チタン１
０部，粘土１部，水ガラス１４部，水４０部の割合で混
合したものを所定時間ボールミルして使用した。スプレ
ーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ焼成
した。第１琺瑯層は６ｇ形成された。次に、第２琺瑯層
として琺瑯フリットＡ（ガラス転移点；４１０℃）６０
部，琺瑯フリットＢ（ガラス転移点；４３０℃）４０
部，アルミナ１５部，二酸化チタン１０部，粘土２部，
水ガラス２０部，水４０部の割合で混合したものを所定
時間ボールミルして使用した。スプレーによって塗膜
し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ焼成した。第２琺瑯
層は１．５ｇ形成され、この時第２琺瑯層の表面粗さは
Ｒａ １５μｍであった。次に、触媒被覆層として銅イ
オン交換型ゼオライト３００ｇ、アルミナ・セリア２０
０ｇ、ジニトロソジアンミン白金水溶液をＰｔとして１
０ｇ、塩化パラジウム水溶液をＰｔとして５ｇ、コロイ
ダルシリカ５００ｇ、水１０００ｇを加え、所定時間ボ
ールミルすることによってスラリーを調整した。スプレ
ーによって第２琺瑯層上に塗膜し、乾燥後、４００℃で
２０ｍｉｎ焼成して１０ｇの触媒被覆層６を完成させ
た。得られたサンプルを脱臭用ヒータＡとする。
トＡ（ガラス転移点；４１０℃）５０部，琺瑯フリット
Ｂ（ガラス転移点；４３０℃）５０部，二酸化チタン１
０部，粘土１部，水ガラス１４部，水４０部の割合で混
合したものを所定時間ボールミルして使用した。スプレ
ーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ焼成
した。第１琺瑯層は６ｇ形成された。次に、第２琺瑯層
として琺瑯フリットＡ（ガラス転移点；４１０℃）６０
部，琺瑯フリットＢ（ガラス転移点；４３０℃）４０
部，アルミナ１５部，二酸化チタン１０部，粘土２部，
水ガラス２０部，水４０部の割合で混合したものを所定
時間ボールミルして使用した。スプレーによって塗膜
し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ焼成した。第２琺瑯
層は１．５ｇ形成され、この時第２琺瑯層の表面粗さは
Ｒａ １５μｍであった。次に、触媒被覆層として銅イ
オン交換型ゼオライト３００ｇ、アルミナ・セリア２０
０ｇ、ジニトロソジアンミン白金水溶液をＰｔとして１
０ｇ、塩化パラジウム水溶液をＰｔとして５ｇ、コロイ
ダルシリカ５００ｇ、水１０００ｇを加え、所定時間ボ
ールミルすることによってスラリーを調整した。スプレ
ーによって第２琺瑯層上に塗膜し、乾燥後、４００℃で
２０ｍｉｎ焼成して１０ｇの触媒被覆層６を完成させ
た。得られたサンプルを脱臭用ヒータＡとする。
【００１４】（実施例２）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置される。その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とアルミニウム管（肉厚０．
１ｍｍ）を同時にカシメた構造体として構成される。放
熱フィンには実施例１と同様に第１琺瑯層と第２琺瑯層
が形成され、さらにその上層部に同じく実施例１と同様
な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサンプルを
脱臭用ヒータＢとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置される。その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とアルミニウム管（肉厚０．
１ｍｍ）を同時にカシメた構造体として構成される。放
熱フィンには実施例１と同様に第１琺瑯層と第２琺瑯層
が形成され、さらにその上層部に同じく実施例１と同様
な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサンプルを
脱臭用ヒータＢとする。
【００１５】（実施例３）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置される。その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とグラファイトシート（肉厚
０．１ｍｍ）を同時にカシメた構造体として構成され
る。放熱フィンには実施例１と同様に第１琺瑯層と第２
琺瑯層が形成され、さらにその上層部に同じく実施例１
と同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサン
プルを脱臭用ヒータＣとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置される。その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とグラファイトシート（肉厚
０．１ｍｍ）を同時にカシメた構造体として構成され
る。放熱フィンには実施例１と同様に第１琺瑯層と第２
琺瑯層が形成され、さらにその上層部に同じく実施例１
と同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサン
プルを脱臭用ヒータＣとする。
【００１６】（比較例１）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置される。その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）をカシメて構成される。放熱
フィンには実施例１と同様に第１琺瑯層と第２琺瑯層が
形成され、さらにその上層部に同じく実施例１と同様な
触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサンプルを脱
臭用ヒータＤとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置される。その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）をカシメて構成される。放熱
フィンには実施例１と同様に第１琺瑯層と第２琺瑯層が
形成され、さらにその上層部に同じく実施例１と同様な
触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサンプルを脱
臭用ヒータＤとする。
【００１７】上記脱臭用ヒータＡ〜Ｄに対して立ち上が
り特性を試験した。１００Ｖを入力して端部の温度が２
５０℃に達する時間を測定した。
り特性を試験した。１００Ｖを入力して端部の温度が２
５０℃に達する時間を測定した。
【００１８】
【表１】
【００１９】上記結果より、放熱フィンの内部に熱伝導
体を配設することによってヒータ端部での立ち上がり特
性の向上が確認された。実施例１〜３では熱伝導体とし
て厚み０．１ｍｍのものを使用したが、それより薄いも
ので同様な効果を得ることはできた。しかし、加工性を
考慮すると銅，アルミニウムでは０．０２ｍｍ以上が必
要であり、グラファイトでは０．０５ｍｍ以上が必要で
あった。また、熱伝導体はある程度厚くなるとそれ以上
の効果は期待できず、逆に立ち上がり特性を悪化させる
結果となった。したがって、好ましくは０．２ｍｍ以下
であった。
体を配設することによってヒータ端部での立ち上がり特
性の向上が確認された。実施例１〜３では熱伝導体とし
て厚み０．１ｍｍのものを使用したが、それより薄いも
ので同様な効果を得ることはできた。しかし、加工性を
考慮すると銅，アルミニウムでは０．０２ｍｍ以上が必
要であり、グラファイトでは０．０５ｍｍ以上が必要で
あった。また、熱伝導体はある程度厚くなるとそれ以上
の効果は期待できず、逆に立ち上がり特性を悪化させる
結果となった。したがって、好ましくは０．２ｍｍ以下
であった。
【００２０】（実施例４）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ２２部，二酸化チ
タン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水４１部の割
合で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。
スプレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉ
ｎ焼成した。この時、第２琺瑯層の表面粗さはＲａ ２
０μｍであった。さらにその上層部に同じく実施例１と
同様な触媒被覆層１５ｇが形成される。得られたサンプ
ルを脱臭用ヒータＥとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ２２部，二酸化チ
タン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水４１部の割
合で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。
スプレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉ
ｎ焼成した。この時、第２琺瑯層の表面粗さはＲａ ２
０μｍであった。さらにその上層部に同じく実施例１と
同様な触媒被覆層１５ｇが形成される。得られたサンプ
ルを脱臭用ヒータＥとする。
【００２１】（実施例５）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ１０部，二酸化チ
タン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水３９部の割
合で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。
スプレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉ
ｎ焼成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第
２琺瑯層の表面粗さはＲａ １０μｍであった。さらに
その上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇ
が形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＦとす
る。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ１０部，二酸化チ
タン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水３９部の割
合で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。
スプレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉ
ｎ焼成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第
２琺瑯層の表面粗さはＲａ １０μｍであった。さらに
その上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇ
が形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＦとす
る。
【００２２】（実施例６）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ５部，二酸化チタ
ン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水３８部の割合
で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。ス
プレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ
焼成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第２
琺瑯層の表面粗さはＲａ ５μｍであった。さらにその
上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇが形
成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＧとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ５部，二酸化チタ
ン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水３８部の割合
で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。ス
プレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ
焼成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第２
琺瑯層の表面粗さはＲａ ５μｍであった。さらにその
上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇが形
成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＧとする。
【００２３】（実施例７）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ５部，二酸化チタ
ン５部，粘土２部，水ガラス２０部，水３７部の割合で
混合したものを所定時間ボールミルして使用した。スプ
レーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ焼
成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第２琺
瑯層の表面粗さはＲａ５μｍであった。さらにその上層
部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層７ｇが形成され
る。得られたサンプルを脱臭用ヒータＨとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ５部，二酸化チタ
ン５部，粘土２部，水ガラス２０部，水３７部の割合で
混合したものを所定時間ボールミルして使用した。スプ
レーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉｎ焼
成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第２琺
瑯層の表面粗さはＲａ５μｍであった。さらにその上層
部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層７ｇが形成され
る。得られたサンプルを脱臭用ヒータＨとする。
【００２４】（比較例２）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ５部，二酸化チタ
ン５部，粘土２部，水ガラス２０部，水３７部の割合で
混合したものを所定時間ボールミルして使用した。スプ
レーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約１２ｍｉｎ
焼成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第２
琺瑯層の表面粗さはＲａ ３μｍであった。さらにその
上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層７ｇが形成
される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＩとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ５部，二酸化チタ
ン５部，粘土２部，水ガラス２０部，水３７部の割合で
混合したものを所定時間ボールミルして使用した。スプ
レーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約１２ｍｉｎ
焼成した。第２琺瑯層は１．５ｇ形成され、この時第２
琺瑯層の表面粗さはＲａ ３μｍであった。さらにその
上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層７ｇが形成
される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＩとする。
【００２５】（比較例３）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ３０部，二酸化チ
タン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水４１部の割
合で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。
スプレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉ
ｎ焼成した。この時、第２琺瑯層の表面粗さはＲａ ２
５μｍであった。さらにその上層部に同じく実施例１と
同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサンプ
ルを脱臭用ヒータＪとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を同
時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンには
実施例１と同様な第１琺瑯層と、下記に示す第２琺瑯層
で構成される。第２琺瑯層として琺瑯フリットＡ（ガラ
ス転移点；４１０℃）６０部，琺瑯フリットＢ（ガラス
転移点；４３０℃）４０部，アルミナ３０部，二酸化チ
タン１０部，粘土２部，水ガラス２０部，水４１部の割
合で混合したものを所定時間ボールミルして使用した。
スプレーによって塗膜し、乾燥後、５５０℃で約８ｍｉ
ｎ焼成した。この時、第２琺瑯層の表面粗さはＲａ ２
５μｍであった。さらにその上層部に同じく実施例１と
同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサンプ
ルを脱臭用ヒータＪとする。
【００２６】上記脱臭用ヒータに対して、水中急冷試験
を行った。試験方法はヒータを４００℃の電気炉中に一
定時間放置した後、直ちに水中にヒータを浸漬する。そ
の時の触媒被覆層の剥離有無を評価した。
を行った。試験方法はヒータを４００℃の電気炉中に一
定時間放置した後、直ちに水中にヒータを浸漬する。そ
の時の触媒被覆層の剥離有無を評価した。
【００２７】
【表２】
【００２８】ここで、○は水中急冷しても剥離が起こら
なかったもの、×はなんらかの剥離が発生したものであ
る。
なかったもの、×はなんらかの剥離が発生したものであ
る。
【００２９】上記結果から、第２琺瑯層の表面粗さが小
さくなると水中急冷試験では剥離しやすくなることがわ
かった。また、別途行った脱臭性能試験より、明らかな
脱臭性能を得るためには触媒層として７ｇ以上が必要で
あることがわかった。したがって、サンプルＨは表面粗
さＲａ ５μｍに対して触媒被覆層１０ｇを形成した場
合には水中急冷試験では不合格であったが、触媒被覆層
を７ｇとしたサンプルＩでは合格であったので表面粗さ
Ｒａが５μｍ以上であれば実用上問題ないと考えられ
る。
さくなると水中急冷試験では剥離しやすくなることがわ
かった。また、別途行った脱臭性能試験より、明らかな
脱臭性能を得るためには触媒層として７ｇ以上が必要で
あることがわかった。したがって、サンプルＨは表面粗
さＲａ ５μｍに対して触媒被覆層１０ｇを形成した場
合には水中急冷試験では不合格であったが、触媒被覆層
を７ｇとしたサンプルＩでは合格であったので表面粗さ
Ｒａが５μｍ以上であれば実用上問題ないと考えられ
る。
【００３０】また、表面粗さＲａが２０μｍよりも大き
くなると水中急冷試験で、第１琺瑯層と第２琺瑯層との
剥離が発生した。したがって、好ましい第２琺瑯層の表
面粗さはＲａ ５〜２０μｍと考えられる。
くなると水中急冷試験で、第１琺瑯層と第２琺瑯層との
剥離が発生した。したがって、好ましい第２琺瑯層の表
面粗さはＲａ ５〜２０μｍと考えられる。
【００３１】（実施例８）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）をカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシ
リカゾル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４０
０℃で２ｍｉｎ焼成した。さらにその上層部に同じく実
施例１と同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られ
たサンプルを脱臭用ヒータＫとする。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）をカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシ
リカゾル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４０
０℃で２ｍｉｎ焼成した。さらにその上層部に同じく実
施例１と同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られ
たサンプルを脱臭用ヒータＫとする。
【００３２】（実施例９）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）をカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層２ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシ
リカゾル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４０
０℃で２ｍｉｎ焼成した。これを３回繰り返した。さら
にその上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０
ｇが形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＬと
する。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）をカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層２ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシ
リカゾル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４０
０℃で２ｍｉｎ焼成した。これを３回繰り返した。さら
にその上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０
ｇが形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＬと
する。
【００３３】（実施例１０）実施例１と同様なシーズヒ
ータの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された
放熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とカシメて構成される。放熱
フィンには実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実
施例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次に
アルミナゾル（固形分１０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、
３００℃で５ｍｉｎ焼成した。これを３回繰り返した。
さらにその上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層
１０ｇが形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータ
Ｍとする。
ータの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された
放熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とカシメて構成される。放熱
フィンには実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実
施例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次に
アルミナゾル（固形分１０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、
３００℃で５ｍｉｎ焼成した。これを３回繰り返した。
さらにその上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層
１０ｇが形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータ
Ｍとする。
【００３４】（比較例４）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。さらに
その上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇ
が形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＮとす
る。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。さらに
その上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇ
が形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＮとす
る。
【００３５】（比較例５）実施例１と同様なシーズヒー
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層２ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。さらに
その上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇ
が形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＯとす
る。
タの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された放
熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズド
鋼管（肉厚０．５ｍｍ）とカシメて構成される。放熱フ
ィンには実施例１と同様な第１琺瑯層２ｇと、また実施
例１と同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。さらに
その上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇ
が形成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＯとす
る。
【００３６】（実施例１１）実施例１と同様なシーズヒ
ータの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された
放熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を
同時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンに
は実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実施例１と
同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシリカゾ
ル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４００℃で
２ｍｉｎ焼成した。さらにその上層部に同じく実施例１
と同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサン
プルを脱臭用ヒータＰとする。
ータの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された
放熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を
同時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンに
は実施例１と同様な第１琺瑯層４ｇと、また実施例１と
同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシリカゾ
ル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４００℃で
２ｍｉｎ焼成した。さらにその上層部に同じく実施例１
と同様な触媒被覆層１０ｇが形成される。得られたサン
プルを脱臭用ヒータＰとする。
【００３７】（実施例１２）実施例１と同様なシーズヒ
ータの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された
放熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を
同時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンに
は実施例１と同様な第１琺瑯層２ｇと、また実施例１と
同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシリカゾ
ル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４００℃で
２ｍｉｎ焼成した。これを３回繰り返した。さらにその
上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇが形
成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＱとする。
ータの長手方向に沿ってほぼ全体に触媒層を形成された
放熱フィンが配置され、その放熱フィンはアルミナイズ
ド鋼管（肉厚０．５ｍｍ）と銅管（肉厚０．１ｍｍ）を
同時にカシメた構造体として構成される。放熱フィンに
は実施例１と同様な第１琺瑯層２ｇと、また実施例１と
同様な第２琺瑯層１．５ｇで構成される。次にシリカゾ
ル（固形分２０ｗｔ％）で浸漬し、乾燥後、４００℃で
２ｍｉｎ焼成した。これを３回繰り返した。さらにその
上層部に同じく実施例１と同様な触媒被覆層１０ｇが形
成される。得られたサンプルを脱臭用ヒータＱとする。
【００３８】上記脱臭用ヒータＤ，Ｋ〜Ｑに対して、立
ち上がり特性試験と塩乾湿試験を行った。立ち上がり特
性試験は１００Ｖを入力して端部の温度が２５０℃に達
する時間を測定した。塩乾湿試験は５ｗｔ％の塩水噴霧
を３５℃で１ｈ行った後、乾燥させ、１０ｍｉｎヒータ
通電することを１サイクルとする試験である。この試験
を２０サイクル行った後、サンプルを評価した。
ち上がり特性試験と塩乾湿試験を行った。立ち上がり特
性試験は１００Ｖを入力して端部の温度が２５０℃に達
する時間を測定した。塩乾湿試験は５ｗｔ％の塩水噴霧
を３５℃で１ｈ行った後、乾燥させ、１０ｍｉｎヒータ
通電することを１サイクルとする試験である。この試験
を２０サイクル行った後、サンプルを評価した。
【００３９】
【表３】
【００４０】上記結果より、第１琺瑯層を薄くすること
によってヒータの立ち上がり特性向上が確認された。し
かし、第１琺瑯層が薄くなった場合には琺瑯層にピンホ
ールを生じやすくなる。第１琺瑯層にピンホールがある
と、第２琺瑯層はある程度の表面粗度を有するように形
成するため、上部触媒層と下部触媒層とに連通孔を有し
ている。したがって、触媒層で腐食成分はベース基材ま
で達し、容易に腐食に至った。
によってヒータの立ち上がり特性向上が確認された。し
かし、第１琺瑯層が薄くなった場合には琺瑯層にピンホ
ールを生じやすくなる。第１琺瑯層にピンホールがある
と、第２琺瑯層はある程度の表面粗度を有するように形
成するため、上部触媒層と下部触媒層とに連通孔を有し
ている。したがって、触媒層で腐食成分はベース基材ま
で達し、容易に腐食に至った。
【００４１】（実施例１３）実施例１２によって得られ
たサンプルＱを使用して図４に示されるような空気調和
機の室内機Ａを作製した。脱臭ヒータ９は熱交換器１０
の内側、クロスフローファン１１の上層部に配置され、
吸入前面パネルからの吸入気から臭気成分を吸着し、所
定の時間サイクルで脱臭機能を発揮させる構成である。
たサンプルＱを使用して図４に示されるような空気調和
機の室内機Ａを作製した。脱臭ヒータ９は熱交換器１０
の内側、クロスフローファン１１の上層部に配置され、
吸入前面パネルからの吸入気から臭気成分を吸着し、所
定の時間サイクルで脱臭機能を発揮させる構成である。
【００４２】（比較例６）比較例１によって得られたサ
ンプルＤを使用して実施例１３と同様な空気調和機の室
内機Ｂを作製した。
ンプルＤを使用して実施例１３と同様な空気調和機の室
内機Ｂを作製した。
【００４３】２３ｍ3 の室内に上記空気調和機の室内機
Ａ，Ｂを設置して、意図的にアンモニア，酢酸，メルカ
プタンの混合ガスを充填し、吸着および脱臭性能を評価
した。実施例１３は２ｈ吸着させ、その後脱臭ヒータに
２５０Ｗ通電で端部が２５０℃となるように温度調節を
行いながら、４ｍｉｎヒータ入力を行うことを３サイク
ル行った。その結果、臭気は初期値に対してすべて１０
％以下に低減できた。一方、比較例６の空気調和機では
２ｈ吸着させ、その後脱臭ヒータに２５０Ｗ通電で端部
が２５０℃となるように温度調節を行いながら、８ｍｉ
ｎヒータ入力を行うことを３サイクル行った。その結
果、臭気は初期値に対してすべて１０％以下に低減でき
た。
Ａ，Ｂを設置して、意図的にアンモニア，酢酸，メルカ
プタンの混合ガスを充填し、吸着および脱臭性能を評価
した。実施例１３は２ｈ吸着させ、その後脱臭ヒータに
２５０Ｗ通電で端部が２５０℃となるように温度調節を
行いながら、４ｍｉｎヒータ入力を行うことを３サイク
ル行った。その結果、臭気は初期値に対してすべて１０
％以下に低減できた。一方、比較例６の空気調和機では
２ｈ吸着させ、その後脱臭ヒータに２５０Ｗ通電で端部
が２５０℃となるように温度調節を行いながら、８ｍｉ
ｎヒータ入力を行うことを３サイクル行った。その結
果、臭気は初期値に対してすべて１０％以下に低減でき
た。
【００４４】したがって、実施例１３では比較例６に対
して脱臭目的に入力する消費電力が明らかに低減でき
た。
して脱臭目的に入力する消費電力が明らかに低減でき
た。
【００４５】
【発明の効果】上記実施例から明らかなように、請求項
１記載の発明によれば、放熱フィンの内部に銅，アルミ
ニウムまたはグラファイトの熱伝導体を配設することに
よって、ヒータの熱は積極的に伝達されて触媒層を活性
化させる時間を短縮できた。
１記載の発明によれば、放熱フィンの内部に銅，アルミ
ニウムまたはグラファイトの熱伝導体を配設することに
よって、ヒータの熱は積極的に伝達されて触媒層を活性
化させる時間を短縮できた。
【００４６】また、請求項２記載の発明によれば、琺瑯
質皮膜の表面粗さを最適化することによって、その後に
形成される触媒被覆層がヒートサイクル等の衝撃を受け
ても問題とならない信頼性を保証できた。
質皮膜の表面粗さを最適化することによって、その後に
形成される触媒被覆層がヒートサイクル等の衝撃を受け
ても問題とならない信頼性を保証できた。
【００４７】また、請求項３記載の発明によれば、熱容
量を低減して立ち上がり特性を向上させるため、金属フ
ィン上に形成された琺瑯質皮膜をより薄くした時に懸念
されるピンホール等の欠陥部発生にも簡単な後加工によ
って充分な耐久信頼性を保証できた。
量を低減して立ち上がり特性を向上させるため、金属フ
ィン上に形成された琺瑯質皮膜をより薄くした時に懸念
されるピンホール等の欠陥部発生にも簡単な後加工によ
って充分な耐久信頼性を保証できた。
【００４８】また、請求項４記載の発明によれば、本目
的に適した脱臭用ヒータを製造するため、金属管と熱伝
導体（銅管，アルミニウム管，グラファイトシート）と
を二重にして一緒にプレスカシメ加工することによっ
て、効率的に熱伝導体を金属フィンとフィットさせ、シ
ーズヒータからの伝熱特性を向上させる製造方法を提供
できた。これによってクラッド材等の高価な材料を使用
することなく、ほぼ同等伝熱特性を得ることができた。
的に適した脱臭用ヒータを製造するため、金属管と熱伝
導体（銅管，アルミニウム管，グラファイトシート）と
を二重にして一緒にプレスカシメ加工することによっ
て、効率的に熱伝導体を金属フィンとフィットさせ、シ
ーズヒータからの伝熱特性を向上させる製造方法を提供
できた。これによってクラッド材等の高価な材料を使用
することなく、ほぼ同等伝熱特性を得ることができた。
【００４９】また、請求項５記載の発明は、本発明によ
る脱臭用ヒータを空気調和機に適用することによって間
欠的に脱臭効果を発揮させるために必要な消費電力量を
低減することが可能となった。
る脱臭用ヒータを空気調和機に適用することによって間
欠的に脱臭効果を発揮させるために必要な消費電力量を
低減することが可能となった。
【図１】本発明の実施例１において示す脱臭用ヒータの
構成図
構成図
【図２】本発明の実施例１において示す脱臭用ヒータの
断面図
断面図
【図３】本発明の実施例１において示す脱臭用ヒータの
拡大要部断面図
拡大要部断面図
【図４】本発明の実施例１３において示す脱臭用ヒータ
を使用した空気調和機の室内機断面図
を使用した空気調和機の室内機断面図
１ シーズヒータ ２ 放熱フィン ３ アルミナイズド鋼管 ４ 銅管 ５ 琺瑯層 ６ 触媒被覆層 ７ 第１琺瑯層 ８ 第２琺瑯層 ９ 脱臭ヒータ １０ 熱交換器 １１ クロスフローファン
Claims (5)
- 【請求項１】 シーズヒータと、前記シーズヒータの全
体または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長手方
向に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属フィ
ンと前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムまたは
グラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属フィ
ンの表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上に触
媒被覆層を形成したことを特徴とする脱臭用ヒータ。 - 【請求項２】 琺瑯質皮膜の表面粗さがＲａ ５〜２０
μｍであることを特徴とする請求項１記載の脱臭用ヒー
タ。 - 【請求項３】 琺瑯質皮膜が下地である第１層と上地で
ある第２層とで構成され、前記第２層は第１層よりも表
面粗さが粗く、前記第２層が焼成によって形成された
後、シリカゾルまたはアルミナゾルで被覆層を形成し、
その後触媒被覆層を形成することを特徴とする脱臭用ヒ
ータの製造方法。 - 【請求項４】 金属管と、前記金属管の内側に銅管，ア
ルミニウム管またはグラファイトシートを配置し、さら
にその内側にシーズヒータを配置して、前記金属管と銅
管，アルミニウム管またはグラファイトシートを共に外
部からプレスカシメ固定することによって前記シーズヒ
ータの全体または一部を覆うように長手方向に沿って金
属フィンを形成し、その後前記金属フィンの表面に琺瑯
質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上に触媒被覆層を形成
することを特徴とする脱臭用ヒータの製造方法。 - 【請求項５】 シーズヒータと、前記シーズヒータの全
体または一部を覆うとともに前記シーズヒータの長手方
向に沿って放熱部を有する金属フィンと、前記金属フィ
ンと前記シーズヒータとの間に銅，アルミニウムまたは
グラファイトからなる熱伝導体を配設し、前記金属フィ
ンの表面に琺瑯質皮膜を形成し、前記琺瑯質皮膜上に触
媒被覆層を形成した脱臭用ヒータを使用したことを特徴
とする空気調和機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10007278A JPH11197457A (ja) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | 脱臭用ヒータとその製造方法および脱臭用ヒータを使用した空気調和機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10007278A JPH11197457A (ja) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | 脱臭用ヒータとその製造方法および脱臭用ヒータを使用した空気調和機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11197457A true JPH11197457A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11661571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10007278A Pending JPH11197457A (ja) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | 脱臭用ヒータとその製造方法および脱臭用ヒータを使用した空気調和機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11197457A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008207101A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 除煙脱臭用触媒体およびその製造方法 |
-
1998
- 1998-01-19 JP JP10007278A patent/JPH11197457A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008207101A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 除煙脱臭用触媒体およびその製造方法 |
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