JPH11197441A - 排ガスの洗浄装置 - Google Patents
排ガスの洗浄装置Info
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- JPH11197441A JPH11197441A JP10005255A JP525598A JPH11197441A JP H11197441 A JPH11197441 A JP H11197441A JP 10005255 A JP10005255 A JP 10005255A JP 525598 A JP525598 A JP 525598A JP H11197441 A JPH11197441 A JP H11197441A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】洗浄処理能力を向上し、有害成分を含んだ洗浄
水の排水処理を効率良く行い、さらに、フィルタのメン
テナンスに優れた排ガスの洗浄装置を提供することを課
題とする。 【解決手段】使用済の排ガスを吸入する吸入部３を備え
るハウジング２と、このハウジング内で前記吸入部から
送られてきた排ガスを高速気流とする旋回傾斜板５と、
この旋回傾斜板の上方に設けた気液接触室６と、この気
液接触室の上方に設けたフィルタ７、８と、このフィル
タに散水する散水機構９と、前記フィルタを通過して上
昇する処理済の排ガスを排出する排出口１０を備えた排
ガスの洗浄装置１として構成した。
水の排水処理を効率良く行い、さらに、フィルタのメン
テナンスに優れた排ガスの洗浄装置を提供することを課
題とする。 【解決手段】使用済の排ガスを吸入する吸入部３を備え
るハウジング２と、このハウジング内で前記吸入部から
送られてきた排ガスを高速気流とする旋回傾斜板５と、
この旋回傾斜板の上方に設けた気液接触室６と、この気
液接触室の上方に設けたフィルタ７、８と、このフィル
タに散水する散水機構９と、前記フィルタを通過して上
昇する処理済の排ガスを排出する排出口１０を備えた排
ガスの洗浄装置１として構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、工場等から排出
された排ガスを浄化して大気に放出するための洗浄装置
に係り、特に、その洗浄能力に優れた排ガスの洗浄装置
に関する。
された排ガスを浄化して大気に放出するための洗浄装置
に係り、特に、その洗浄能力に優れた排ガスの洗浄装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図４で示すように、排ガスの洗浄
処理を行う洗浄装置５０は、ハウジング５１と、このハ
ウジング５１の下方側に設けた排ガスの吸気部５２と、
この吸気部５２の上部側に設けた排ガスの気流を高速に
する旋回傾斜板５３と、この旋回傾斜板５３の上方に設
けた気液接触室５４と、この気液接触室５４の所定位置
に設けた液体供給部５５と、この液体供給部５５上方に
設けた塵埃除去部５６と、この塵埃除去部５６の上方に
設けた処理済の排ガスを大気に放出する放出口５７とか
ら構成されている。
処理を行う洗浄装置５０は、ハウジング５１と、このハ
ウジング５１の下方側に設けた排ガスの吸気部５２と、
この吸気部５２の上部側に設けた排ガスの気流を高速に
する旋回傾斜板５３と、この旋回傾斜板５３の上方に設
けた気液接触室５４と、この気液接触室５４の所定位置
に設けた液体供給部５５と、この液体供給部５５上方に
設けた塵埃除去部５６と、この塵埃除去部５６の上方に
設けた処理済の排ガスを大気に放出する放出口５７とか
ら構成されている。
【０００３】そして、前記ハウジング５１の下端位置に
は、前記気液接触室５４で排ガスと接触して滴下する水
滴をそのハウジング５１外に排出する排出口５８を備え
ている。また、前記旋回傾斜板５３は、ハウジング５１
の中心側に位置するように設けた円筒状の取付基体５３
ａと、この取付基体５３ａの円周面に所定角度傾斜させ
て複数設けた傾斜板５３ｂとから構成されている。さら
に、前記液体供給部５５は、前記気液接触室５４側に浄
化用の液体、例えば浄化水を霧状にして供給する構成と
している。
は、前記気液接触室５４で排ガスと接触して滴下する水
滴をそのハウジング５１外に排出する排出口５８を備え
ている。また、前記旋回傾斜板５３は、ハウジング５１
の中心側に位置するように設けた円筒状の取付基体５３
ａと、この取付基体５３ａの円周面に所定角度傾斜させ
て複数設けた傾斜板５３ｂとから構成されている。さら
に、前記液体供給部５５は、前記気液接触室５４側に浄
化用の液体、例えば浄化水を霧状にして供給する構成と
している。
【０００４】そのため、吸気部５２から送られて来た排
ガスは、上昇して旋回傾斜板５３の傾斜板５３ｂを通過
する際に気流が高速となり、その高速気流の排ガスと、
液体供給部５５から供給された浄化水とが、気液接触室
５４内で衝突すると共に、混合して排ガス内の有害成分
が浄化水側に移動し、滴下して除去されるように構成さ
れている。そして、有害成分が除去された排ガスは、放
出口５７から大気側に排出されることになる。さらに、
前記滴下した有害成分を含む水滴は、ハウジング５１の
下方側に設けた排出口５８側から排出される構成として
いる。
ガスは、上昇して旋回傾斜板５３の傾斜板５３ｂを通過
する際に気流が高速となり、その高速気流の排ガスと、
液体供給部５５から供給された浄化水とが、気液接触室
５４内で衝突すると共に、混合して排ガス内の有害成分
が浄化水側に移動し、滴下して除去されるように構成さ
れている。そして、有害成分が除去された排ガスは、放
出口５７から大気側に排出されることになる。さらに、
前記滴下した有害成分を含む水滴は、ハウジング５１の
下方側に設けた排出口５８側から排出される構成として
いる。
【０００５】そのため、液体供給器で供給される浄化水
を、排ガスに対応させて使用することで、各種工場で使
用された排ガスである例えば、フッ化水素ガス、塩化水
素ガス、塩素ガスなどの有害成分を取り除くことが可能
となるものである。
を、排ガスに対応させて使用することで、各種工場で使
用された排ガスである例えば、フッ化水素ガス、塩化水
素ガス、塩素ガスなどの有害成分を取り除くことが可能
となるものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
排ガスの洗浄装置では、つぎのような問題点が存在して
いた。すなわち、洗浄装置は、環境に対しての配慮から
排ガスの有害成分のさらなる浄化能力の向上が望まれて
いた。
排ガスの洗浄装置では、つぎのような問題点が存在して
いた。すなわち、洗浄装置は、環境に対しての配慮から
排ガスの有害成分のさらなる浄化能力の向上が望まれて
いた。
【０００７】また、気液接触室で有害成分を含んだ洗浄
水は、ハウジングの下方側に滴下して排出されている
が、その有害成分を含んだ排水の処理を効率良く行うこ
とが望まれていた。さらに、ハウジングの上方に配置し
たフィルタの取替作業や、フィルタの洗浄作業を効率良
く行う構成の装置が望まれていた。
水は、ハウジングの下方側に滴下して排出されている
が、その有害成分を含んだ排水の処理を効率良く行うこ
とが望まれていた。さらに、ハウジングの上方に配置し
たフィルタの取替作業や、フィルタの洗浄作業を効率良
く行う構成の装置が望まれていた。
【０００８】この発明は、上記の問題点に鑑み創案され
たもので、洗浄処理能力を向上し、有害成分を含んだ洗
浄水の排水処理を効率良く行い、さらに、フィルタのメ
ンテナンスに優れた排ガスの洗浄装置を提供することを
目的とする。
たもので、洗浄処理能力を向上し、有害成分を含んだ洗
浄水の排水処理を効率良く行い、さらに、フィルタのメ
ンテナンスに優れた排ガスの洗浄装置を提供することを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、この発明は、使用済の排ガスを吸入する吸入部を備
えるハウジングと、このハウジング内で前記吸入部から
送られてきた排ガスを高速気流とする旋回傾斜板と、こ
の旋回傾斜板の上方に設けた気液接触室と、この気液接
触室の上方に設けたフィルタと、このフィルタに散水す
る散水機構と、前記フィルタを通過して上昇する処理済
の排ガスを排出する排出口を備えた排ガスの洗浄装置。
め、この発明は、使用済の排ガスを吸入する吸入部を備
えるハウジングと、このハウジング内で前記吸入部から
送られてきた排ガスを高速気流とする旋回傾斜板と、こ
の旋回傾斜板の上方に設けた気液接触室と、この気液接
触室の上方に設けたフィルタと、このフィルタに散水す
る散水機構と、前記フィルタを通過して上昇する処理済
の排ガスを排出する排出口を備えた排ガスの洗浄装置。
【００１０】また、前記フィルタは、排ガスの流路が粗
である第１フィルタと、この第１フィルタより排ガスの
流路が密である第２フィルタとから構成することや、前
記気液接触室で排ガスと接触して滴下した水滴を、その
ハウジングの下端側に設けた除去フィルタを介して前記
散水機構側に循環させる循環機構を備える構成とすると
都合が良い。
である第１フィルタと、この第１フィルタより排ガスの
流路が密である第２フィルタとから構成することや、前
記気液接触室で排ガスと接触して滴下した水滴を、その
ハウジングの下端側に設けた除去フィルタを介して前記
散水機構側に循環させる循環機構を備える構成とすると
都合が良い。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
図面に基づいて説明する。図１は、洗浄装置の全体を示
す一部断面図、図２（ａ）（ｂ）は、洗浄装置の排ガス
の処理状態を示す要部の断面図、図３は、洗浄装置の他
の形態を示す要部の断面図である。
図面に基づいて説明する。図１は、洗浄装置の全体を示
す一部断面図、図２（ａ）（ｂ）は、洗浄装置の排ガス
の処理状態を示す要部の断面図、図３は、洗浄装置の他
の形態を示す要部の断面図である。
【００１２】図１で示すように、洗浄装置１は、塔筒状
に設けたハウジング２と、このハウジング２の下方側に
設けた排ガスＧの吸入部３と、この吸入部３に連続して
形成した排ガスＧの収納室４と、この収納室４の上部に
設けた旋回傾斜板５と、この旋回傾斜板５の上方に設け
た気液接触室６と、この気液接触室６の上方に設けた第
１フィルタ７と、この第１フィルタ７の上方に設けた第
２フィルタ８と、この第２フィルタの上方に設けた散水
機構９の散水口９ａと、この散水口９ａの上方に設けた
排気口１０とから構成されている。
に設けたハウジング２と、このハウジング２の下方側に
設けた排ガスＧの吸入部３と、この吸入部３に連続して
形成した排ガスＧの収納室４と、この収納室４の上部に
設けた旋回傾斜板５と、この旋回傾斜板５の上方に設け
た気液接触室６と、この気液接触室６の上方に設けた第
１フィルタ７と、この第１フィルタ７の上方に設けた第
２フィルタ８と、この第２フィルタの上方に設けた散水
機構９の散水口９ａと、この散水口９ａの上方に設けた
排気口１０とから構成されている。
【００１３】そして、前記吸入部３には、使用済の排ガ
スＧを送る送風ダクト１２が接続されており、この送風
ダクト１２は、物品の製造工程や処理工程で使用された
処理ガスを排ガスとして排出処理する必要がある工場や
焼却場あるいはボイラーや加熱炉から洗浄装置１まで延
設して設ける構成としており、その搬送ダクト１２の所
定位置に排ガスＧの吸引量を調整するポンプ１２ａおよ
び開閉弁１２ｂなどを備えている。
スＧを送る送風ダクト１２が接続されており、この送風
ダクト１２は、物品の製造工程や処理工程で使用された
処理ガスを排ガスとして排出処理する必要がある工場や
焼却場あるいはボイラーや加熱炉から洗浄装置１まで延
設して設ける構成としており、その搬送ダクト１２の所
定位置に排ガスＧの吸引量を調整するポンプ１２ａおよ
び開閉弁１２ｂなどを備えている。
【００１４】前記旋回傾斜板５は、ハウジング２の中央
に取り付けた支持円柱部５ａと、この支持円柱部５ａの
周側面に一定間隔でかつ所定角度に取り付けた傾斜羽根
５ｂとから構成されている。なお、前記傾斜羽根５ｂ
は、ハウジング２の内周面に当接しており、排ガスＧが
傾斜羽根５ｂの間から上部側に流通する構成としてい
る。
に取り付けた支持円柱部５ａと、この支持円柱部５ａの
周側面に一定間隔でかつ所定角度に取り付けた傾斜羽根
５ｂとから構成されている。なお、前記傾斜羽根５ｂ
は、ハウジング２の内周面に当接しており、排ガスＧが
傾斜羽根５ｂの間から上部側に流通する構成としてい
る。
【００１５】前記旋回傾斜板５の上方には、気液接触室
６が形成されており、この気液接触室６の上部側にフィ
ルタとしての第１フィルタ７および第２フィルタ８を配
置している。前記第１フィルタ７は、活性炭を配置して
おり、また、第２フィルタ８は、不織布を用いる構成と
している。なお、前記第１フィルタ７および第２フィル
タ８は、排ガスＧｃの流路の密度を異ならせる構成とし
ており、排気側に向かうにしたがってその流路の密度が
密になるように構成されると都合が良い。そして、前記
各フィルタ７、８の一方は、メッシュの網を使用し、第
２フィルタ８のメッシュの網目を密として構成しても構
わない。
６が形成されており、この気液接触室６の上部側にフィ
ルタとしての第１フィルタ７および第２フィルタ８を配
置している。前記第１フィルタ７は、活性炭を配置して
おり、また、第２フィルタ８は、不織布を用いる構成と
している。なお、前記第１フィルタ７および第２フィル
タ８は、排ガスＧｃの流路の密度を異ならせる構成とし
ており、排気側に向かうにしたがってその流路の密度が
密になるように構成されると都合が良い。そして、前記
各フィルタ７、８の一方は、メッシュの網を使用し、第
２フィルタ８のメッシュの網目を密として構成しても構
わない。
【００１６】前記散水機構９は、第２フィルタ８の上部
に配置されており、その第２フィルタ８にシャワー状に
洗浄液Ｗａを供給する供給口９ａと、この供給口９ａに
洗浄液Ｗａを揚送する揚送機構１１とから構成されてい
る。前記揚送機構１１は、揚送ポンプ１１ｂと、この揚
送ポンプ１１ｂにより送りだされる洗浄液Ｗａの配管１
１ｃなどから構成されている。
に配置されており、その第２フィルタ８にシャワー状に
洗浄液Ｗａを供給する供給口９ａと、この供給口９ａに
洗浄液Ｗａを揚送する揚送機構１１とから構成されてい
る。前記揚送機構１１は、揚送ポンプ１１ｂと、この揚
送ポンプ１１ｂにより送りだされる洗浄液Ｗａの配管１
１ｃなどから構成されている。
【００１７】そして、前記洗浄液Ｗａは、排ガスＧの種
類に対応した液体が使用されている。例えば、ＨＦガス
では、ＮａＯＨ液を使用し、Ｃｌ2 ガスにはＮａＯＨ液
を使用し、ＳＯ2 ガスでは、ＮａＨＳＯ3 液を使用する
など、排出される排ガスＧに対応して適切な液体を使用
する構成としている。なお、前記揚送機構１１の一端側
の配管１１ａは、洗浄液Ｗａの供給タンク（図示せず）
に接続している。
類に対応した液体が使用されている。例えば、ＨＦガス
では、ＮａＯＨ液を使用し、Ｃｌ2 ガスにはＮａＯＨ液
を使用し、ＳＯ2 ガスでは、ＮａＨＳＯ3 液を使用する
など、排出される排ガスＧに対応して適切な液体を使用
する構成としている。なお、前記揚送機構１１の一端側
の配管１１ａは、洗浄液Ｗａの供給タンク（図示せず）
に接続している。
【００１８】そして、前記散水機構９の上部側には、ハ
ウジング２の上端を開口させて、洗浄液Ｗａ，Ｗｆおよ
び両フィルタ７、８により浄化された排ガスＧｃを排気
する排気口１０を形成している。
ウジング２の上端を開口させて、洗浄液Ｗａ，Ｗｆおよ
び両フィルタ７、８により浄化された排ガスＧｃを排気
する排気口１０を形成している。
【００１９】つぎに、この洗浄装置１の作用について説
明する。図１および図２（ａ）で示すように、使用済の
排ガスＧは、送風ダクト１２からはじめに収納室４に送
られる。そして、収納室４に送風された排ガスＧは、上
昇して上部の旋回傾斜板５の傾斜羽根５ｂの間を通過す
るときに、通過速度が加速（約２０ｍ／ｓｅｃ）すると
共に、旋回するように送り出される。
明する。図１および図２（ａ）で示すように、使用済の
排ガスＧは、送風ダクト１２からはじめに収納室４に送
られる。そして、収納室４に送風された排ガスＧは、上
昇して上部の旋回傾斜板５の傾斜羽根５ｂの間を通過す
るときに、通過速度が加速（約２０ｍ／ｓｅｃ）すると
共に、旋回するように送り出される。
【００２０】一方、図２（ａ）で示すように、散水機構
９の供給口９ａから供給された洗浄液Ｗａは、第２フィ
ルタ８を通過して第１フィルタ７側に落下し、さらに、
第１フィルタ７を通過して気液接触室６内に供給され
る。このとき、前記旋回傾斜板５側から高速気流となっ
て上昇する排ガスＧｃと、供給される洗浄液Ｗｆとが激
しく衝突し、剪断されながら細かい気泡となり洗浄液Ｗ
ｆと排ガスＧｃとが密接に接触し混合した後に、排ガス
Ｇｃに含まれている有害成分を洗浄液Ｗｆ側に移行す
る。
９の供給口９ａから供給された洗浄液Ｗａは、第２フィ
ルタ８を通過して第１フィルタ７側に落下し、さらに、
第１フィルタ７を通過して気液接触室６内に供給され
る。このとき、前記旋回傾斜板５側から高速気流となっ
て上昇する排ガスＧｃと、供給される洗浄液Ｗｆとが激
しく衝突し、剪断されながら細かい気泡となり洗浄液Ｗ
ｆと排ガスＧｃとが密接に接触し混合した後に、排ガス
Ｇｃに含まれている有害成分を洗浄液Ｗｆ側に移行す
る。
【００２１】そして、洗浄された排ガスＧｃは、さらに
第１フィルタ７および第２フィルタ８を通過して浄化さ
れた状態で排気口１０から排出される。また、散水口９
ａから供給される洗浄液Ｗａは、両フィルタ７、８を介
して気液接触室６側に供給されるため、両フィルタ７、
８を通過する排ガスＧｃは、両フィルタ７、８に有害成
分を吸収されると共に、洗浄液Ｗａによりさらに洗浄さ
れた状態で排気口１０から排出されることになる。
第１フィルタ７および第２フィルタ８を通過して浄化さ
れた状態で排気口１０から排出される。また、散水口９
ａから供給される洗浄液Ｗａは、両フィルタ７、８を介
して気液接触室６側に供給されるため、両フィルタ７、
８を通過する排ガスＧｃは、両フィルタ７、８に有害成
分を吸収されると共に、洗浄液Ｗａによりさらに洗浄さ
れた状態で排気口１０から排出されることになる。
【００２２】なお、前記両フィルタ７、８は、排ガスＧ
ｃを浄化しており、これら両フィルタ７、８は、常に散
水口９ａから供給される浄化液Ｗａにより洗浄されてい
ため浄化能力の高い状態で、その両フィルタ７、８を維
持することが可能となる。また、排ガスＧｃから有害成
分を奪い滴下した水滴Ｗｄは、収納室４の下部側から所
定位置に搬送されて処理された後に処分される構成とし
ても良い。
ｃを浄化しており、これら両フィルタ７、８は、常に散
水口９ａから供給される浄化液Ｗａにより洗浄されてい
ため浄化能力の高い状態で、その両フィルタ７、８を維
持することが可能となる。また、排ガスＧｃから有害成
分を奪い滴下した水滴Ｗｄは、収納室４の下部側から所
定位置に搬送されて処理された後に処分される構成とし
ても良い。
【００２３】さらに、前記水滴Ｗｄは、排ガスＧおよび
使用する洗浄水Ｗａの構成によっては、浄化処理した後
に散水機構９側に循環機構１３を介して循環させて使用
する構成としても構わない。すなわち、図３で示すよう
に、前記循環機構１３は、収納室４の下部側に除去フィ
ルタ１３ａを設けると共に、その収納室４の下部に循環
用配管１３ｂを設け、その循環用配管１３ｂを前記揚送
機構１１側に接続する構成としている。
使用する洗浄水Ｗａの構成によっては、浄化処理した後
に散水機構９側に循環機構１３を介して循環させて使用
する構成としても構わない。すなわち、図３で示すよう
に、前記循環機構１３は、収納室４の下部側に除去フィ
ルタ１３ａを設けると共に、その収納室４の下部に循環
用配管１３ｂを設け、その循環用配管１３ｂを前記揚送
機構１１側に接続する構成としている。
【００２４】前記除去フィルタ１３ａは、シート状の活
性炭を使用するなど、水滴Ｗｄの有害成分を除去フィル
タ１３ａ側に吸収できるフィルタ部材を使用している。
そして、除去フィルタ１３ａを通過した水滴Ｗｄは、循
環用配管１３ｂを介して揚送機構１１側に送られ、揚送
ポンプ１１ｂにより散水機構９側に揚送されて使用され
る構成としている。
性炭を使用するなど、水滴Ｗｄの有害成分を除去フィル
タ１３ａ側に吸収できるフィルタ部材を使用している。
そして、除去フィルタ１３ａを通過した水滴Ｗｄは、循
環用配管１３ｂを介して揚送機構１１側に送られ、揚送
ポンプ１１ｂにより散水機構９側に揚送されて使用され
る構成としている。
【００２５】このように、洗浄水Ｗａを循環して使用す
ることで、気液接触室６内で排ガスＧｃと接触せずに下
方に滴下した洗浄液の使用を可能としている。そして、
除去フィルタ１３ａで洗浄水Ｗａの有害成分を除去して
いるため、その除去フィルタ１３ａを定期的に交換すれ
ば良いため、操作が簡単になる。
ることで、気液接触室６内で排ガスＧｃと接触せずに下
方に滴下した洗浄液の使用を可能としている。そして、
除去フィルタ１３ａで洗浄水Ｗａの有害成分を除去して
いるため、その除去フィルタ１３ａを定期的に交換すれ
ば良いため、操作が簡単になる。
【００２６】なお、前記旋回傾斜板は、排ガスの上昇速
度を加速できる構成のものであれば良く、例えば、所定
厚みの板に収納室側が穴径を大きくし、気液接触室側の
穴径を小さくした貫通穴を所定傾斜角度で複数設ける構
成としても良い。また、滴下する水滴を循環機構で循環
させる場合は、除去フィルタの下部に形成する空間の下
端面を傾斜させて、洗浄水が循環用配管側に流れやすく
する構成とすると都合が良い。
度を加速できる構成のものであれば良く、例えば、所定
厚みの板に収納室側が穴径を大きくし、気液接触室側の
穴径を小さくした貫通穴を所定傾斜角度で複数設ける構
成としても良い。また、滴下する水滴を循環機構で循環
させる場合は、除去フィルタの下部に形成する空間の下
端面を傾斜させて、洗浄水が循環用配管側に流れやすく
する構成とすると都合が良い。
【００２７】
【発明の効果】この発明は、上記のように構成したので
次のような優れた効果を奏する。 排ガスの洗浄装置は、気液接触室の上部にフィルタ
を設け、そのフィルタの上部に排ガスに対応した洗浄水
の散水機構を設けている。そのため、排ガスは、気液接
触室で洗浄された後に、さらにフィルタにより有害成分
を吸収される。このとき、フィルタは常に散水機構によ
り洗浄されている状態となり、フィルタの洗浄能力が高
い状態で使用することができると共に、排ガスに確実に
洗浄液が接触することが可能となり、さらに高い洗浄能
力を備えることが可能となる。
次のような優れた効果を奏する。 排ガスの洗浄装置は、気液接触室の上部にフィルタ
を設け、そのフィルタの上部に排ガスに対応した洗浄水
の散水機構を設けている。そのため、排ガスは、気液接
触室で洗浄された後に、さらにフィルタにより有害成分
を吸収される。このとき、フィルタは常に散水機構によ
り洗浄されている状態となり、フィルタの洗浄能力が高
い状態で使用することができると共に、排ガスに確実に
洗浄液が接触することが可能となり、さらに高い洗浄能
力を備えることが可能となる。
【００２８】 排ガスの洗浄装置は、散水機構がフィ
ルタの上方に配置されていることと共に、フィルタの構
成を、第１フィルタおよび第２フィルタに分けて使用
し、各フィルタの排ガスの流路を粗から密になるように
構成しているため、排ガスの除去が適切にでき、かつ、
各フィルタのメンテナンスも容易になる。
ルタの上方に配置されていることと共に、フィルタの構
成を、第１フィルタおよび第２フィルタに分けて使用
し、各フィルタの排ガスの流路を粗から密になるように
構成しているため、排ガスの除去が適切にでき、かつ、
各フィルタのメンテナンスも容易になる。
【００２９】 排ガスの洗浄装置は、散水機構がフィ
ルタの上方に配置されていることと共に、排ガスの有害
成分を吸収し滴下する洗浄水を除去フィルタで処理し、
循環機構により再び散水機構側に循環して使用する構成
とすることで、無駄のない洗浄水の使用を可能にすると
共に、除去フィルタを定期的に交換すことで洗浄液の有
害成分の処理が可能となり、上方に設置したフィルタの
取り替え作業と合わせても洗浄装置全体のメンテナンス
を容易にする。
ルタの上方に配置されていることと共に、排ガスの有害
成分を吸収し滴下する洗浄水を除去フィルタで処理し、
循環機構により再び散水機構側に循環して使用する構成
とすることで、無駄のない洗浄水の使用を可能にすると
共に、除去フィルタを定期的に交換すことで洗浄液の有
害成分の処理が可能となり、上方に設置したフィルタの
取り替え作業と合わせても洗浄装置全体のメンテナンス
を容易にする。
【図１】この発明の洗浄装置の全体を示す一部断面図で
ある。
ある。
【図２】（ａ）（ｂ）は、この発明の洗浄装置の排ガス
の処理状態を示す要部の断面図である。
の処理状態を示す要部の断面図である。
【図３】この発明の洗浄装置の他の形態を示す要部の断
面図である。
面図である。
【図４】従来の洗浄装置の構成を示す一部断面図であ
る。
る。
１ 洗浄装置 ２ ハウジング ３ 吸入部 ４ 収納室 ５ 旋回傾斜板 ５ａ 支持円柱部 ５ｂ 傾斜羽根 ６ 気液接触室 ７ 第１フィルタ（フィルタ） ８ 第２フィルタ（フィルタ） ９ 散水機構 １０ 排気口 １１ 揚送機構 １２ 送風ダクト １３ 循環機構 １３ａ 除去フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 53/18
Claims (3)
- 【請求項１】使用済の排ガスを吸入する吸入部を備える
ハウジングと、このハウジング内で前記吸入部から送ら
れてきた排ガスを高速気流とする旋回傾斜板と、この旋
回傾斜板の上方に設けた気液接触室と、この気液接触室
の上方に設けたフィルタと、このフィルタに散水する散
水機構と、前記フィルタを通過して上昇する処理済の排
ガスを排出する排出口を備えた排ガスの洗浄装置。 - 【請求項２】前記フィルタは、排ガスの流路が粗である
第１フィルタと、この第１フィルタより排ガスの流路が
密である第２フィルタとからなることを特徴とする請求
項１に記載の排ガスの洗浄装置。 - 【請求項３】前記気液接触室で排ガスと接触して滴下し
た水滴を、そのハウジングの下端側に設けた除去フィル
タを介して前記散水機構側に循環させる循環機構を備え
る請求項１に記載の排ガスの洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10005255A JPH11197441A (ja) | 1998-01-14 | 1998-01-14 | 排ガスの洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10005255A JPH11197441A (ja) | 1998-01-14 | 1998-01-14 | 排ガスの洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11197441A true JPH11197441A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11606125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10005255A Pending JPH11197441A (ja) | 1998-01-14 | 1998-01-14 | 排ガスの洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11197441A (ja) |
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- 1998-01-14 JP JP10005255A patent/JPH11197441A/ja active Pending
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