JPH11192478A - 浴槽中の温水の浄化材及び温浴システム - Google Patents

浴槽中の温水の浄化材及び温浴システム

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JPH11192478A
JPH11192478A JP9368375A JP36837597A JPH11192478A JP H11192478 A JPH11192478 A JP H11192478A JP 9368375 A JP9368375 A JP 9368375A JP 36837597 A JP36837597 A JP 36837597A JP H11192478 A JPH11192478 A JP H11192478A
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JP
Japan
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purifying
water
purifying material
inorganic oxide
bath
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JP9368375A
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English (en)
Inventor
Hiromichi Hori
浩道 堀
Michio Goshima
教夫 五嶋
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Bridgestone Corp
Original Assignee
Bridgestone Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は浴槽内の温水を取水して浄化し、これ
を再度浴槽内へ戻す浄化材及び温浴システムに係るもの
である。 【解決手段】浴槽中の温水を導入して浄化する浄化材で
あって、光触媒反応によってマイナスイオンを発生する
微粒粉状の無機酸化物を用いた浴槽中の温水の浄化材。
1‥浴槽、2、20 ‥浄化容器、3‥温浴器、31 ‥温
水の吸引口、32‥フィルタ−、33 ‥循環ポンプ、34
‥吐出口、35 ‥空気取入れホ−ス。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は浴槽内の温水を取水
して浄化し、これを再度浴槽内へ戻す浄化材及び温浴シ
ステムに係るものである。
【0002】
【従来の技術】図3は常時使用できる温浴器を用いた温
浴システムを示すものであって、循環パイプ20にその
上流側(温水取水側)から下流側(温水流出側)に向け
て、順次温水を取り入れる取水部21、水を循環させる
循環ポンプ22、温水を殺菌する紫外線殺菌装置23、
温水を浄化する濾過槽24、温水を所定温度に加熱する
加熱装置25、泡出部26よりなるものであり、循環ポ
ンプ22から加熱装置25までは全てケ−シング(図示
せず)内に収納されている。そしてこのケ−シングの表
面部には図示しないコントロ−ルパネルが配設されてい
る。温浴器としては24時間保温、また温水中の有機
物、体脂肪、アンモニア成分等の浄化による温水の取り
替え不要や浴槽の清掃不要等を目的に商品が販売されて
いる。
【0003】しかるに上記の例に見る通常の温浴システ
ムにあっては、次の問題点が指摘されている。 (1) 微生物が生息するまでの期間浄化が遅れ浴槽の温水
が汚れて(白濁等)しまう。 (2) 入浴者の数や、入浴者の体質等による温水への体
液、有機物の分泌量(溶出成分の量)等により、浄化容
器(セラミック等が充填された微生物の増殖筒)中の微
生物のバランスがくずれると浴槽中の微生物の流出や、
浄化不足によるトラブルが発生する。 (3) 微生物は、その種類により増殖最適温度が異なり、
省エネルギ−のため保温スイッチを切った場合には微生
物の生息状態が変化し、浄化性能が低下する現象が起こ
る。 (4) 温水の温度の変化で増殖する微生物の種類が変わっ
たり、好気性、嫌気性の微生物が共存したりして微生物
種間のバランスがこわれ、それが浴槽中に流出し、この
ため入浴者の個人差によって人体になんら影響がないこ
とが保証されない。 (5) 24時間保温機能は常時入浴が可能という大きな利
便性があるが、一方そのエネルギ−は相当な電気量とな
り不経済な一面もある。 (6) 通常は温水の温度が36〜40度とされるが、この
温度域では一般的に細菌類(雑菌、病原菌)の増殖をは
やめる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】通常、これらの欠点を
解決するため、温浴器には紫外線ランプやオゾン発生装
置等の殺菌装置等を組み込んでいるシステムが多いが、
これ又大量のエネルギ−(電気代)、製品コストがアッ
プすることが避けられないこと等、消費者側の負担によ
るところが大となっている。本発明は上記の課題を解決
すると共に、温浴器の新しいシステムを提供することを
目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の要旨は、
浴槽中の温水を導入して浄化する浄化材であって、光触
媒反応によってマイナスイオンを発生する微粒粉状の無
機酸化物を用いたことを特徴とするものである。そし
て、前記無機酸化物がシリカ、アルミナ、チタニア、マ
グネシア、二価三価鉄銀酸化物であり、この無機酸化物
の微粒粉が0.1ミクロン以下に粉砕されたものであ
る。そして、浄化材が光触媒反応によってマイナスイオ
ンを発生する微粒粉状の無機酸化物と、シラン化合物、
ジルコニウム化合物、その他の充填剤等とを混合し、低
温加熱によって無機質被覆を作る組成物であって、砂或
いはセラミックフォ−ム等の表面積の大きな母材に固定
したものが採用される。この場合、母材に対して例えば
塗装したり焼き付けによって固定されるものである。
【0006】そして第2の要旨は、温浴システムに係る
ものであり、その一つは浴槽中の温水を温浴器中に循環
させ、循環路中に浄化材を配置して温水を浄化する温浴
システムであって、温浴器内の浄化材として光触媒によ
りマイナスイオンを発生する微粒粉状の無機酸化物を用
いたことを特徴とし、もう一つは浴槽中の温水を循環さ
せて温水を加温する温浴器とは別に温水を導入して浄化
する浄化材とを備えてなる温浴システムであって、前記
浄化材として光触媒によりマイナスイオンを発生する微
粒粉状の無機酸化物を使用したことを特徴とするもので
ある。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の第1は光触媒によってマ
イナスイオンを放出する無機酸化物の微粉粒体を温水の
浄化材とするものであって、物理化学的な触媒作用によ
ってアンモニア、硫化水素その他の有機物を接触分解す
るものである。そして、この浄化材を用いることにより
微生物の増殖容器を必要とせず、微生物による温水中へ
の進入、浄化不良による温水の汚れを阻止することがで
きる。細菌の増殖について言えば、浴水中に漬けた触媒
の抗菌作用によりこれを滅菌する効果があり、このた
め、紫外線ランプやオゾン発生装置等を不要とするもの
である。
【0008】温水中の諸成分の接触分解作用は、先の無
機酸化物が超微粒化により大表面積を有するという特徴
があり、流水エネルギ−や光触媒反応によりバンドギャ
ップを越える光を受けることにより価電子帯から導電帯
に電子が移動してマイナスイオンを放出し、これが界面
近傍で水と反応してラジカルを生成し、化学的連鎖反応
でアンモニア等の有機物を分解する機構となっている。
尚、銀イオンの抗菌作用と、光触媒反応との相乗効果も
あって、多くの細菌はその環境水では増殖は勿論、生息
もできず、抗菌性のある温水が得られることとなる。
【0009】浄化材としてはシリカ、アルミナ、チタニ
ア、マグネシア、ジルコニア、二価三価鉄及び銀等の無
機酸化物を好ましくは0.1ミクロン以下の細かさに粉
砕して表面積を極めて大きくし、この超微粒粉を目的に
応じて、一定の割合で混合するものである。これらをシ
ラン化合物、ジルコニウム化合物、その他の充填材例え
ばアルコ−ル、水、アクリルと混合し、低温加熱して無
機質を作る組成物を用いて砂や微細な空隙を備えたフィ
ルタ−状のセラミックフォ−ムを母材とし、これに塗
布、焼き付けにより固定したものでよい。尚、本発明に
用いる浄化材は医王石や麦飯石と呼ばれる天然石と混合
してもよいことは勿論である。以上の処理をした浄化材
を衝撃等で砕き、細かくなった粒子が温水中に飛散しな
いように、例えば同一材料をコ−ティングした不織布又
は布等の袋に入れ、浄化容器に納めるものがよい。
【0010】尚、本発明の浄化材をクリア−塗装するこ
とにより、カビの発生を抑制することができ、撥水性、
防汚性塗装することによりゴム等が付着した際にもこれ
を簡単に除去することも可能である。更に、高温、多湿
の環境下でのカビの発生増殖を抑制でき、制御のための
電子回路等へのカビによるトラブルの発生をも抑制可能
である。
【0011】本発明の第2の温浴システムにあっては、
浄化材を前記したものを用いるものであり、この浄化材
を温浴器の循環路内に配置するシステムでも、この循環
路とは別系統とするシステムでもよく、このシステムに
おいては、紫外線ランプやオゾン発生装置等を特に必要
とはしない。
【0012】
【実施例】以下、本発明の第2である温浴システムをも
って更に詳細に説明する。図1は、本発明の浄化材を用
いた温浴システムの一例を示す概念図である。図中、1
は浴槽であり、2は本発明の浄化材を不織布製袋内に収
納した浄化容器、3は温浴器である。この浄化容器2は
好ましくは光を通すために透明であるのがよい。そし
て、温浴器3は、温水の吸引口31 、フィルタ−32
循環ポンプ33 、吐出口34 よりなっており、吸引され
た温水はこの経路をたどって浴槽1内に戻ることとな
る。尚、35 は空気取入れホ−スである。フィルタ−3
2 は温水中の固形物(毛髪、砂、垢等)を物理的に除去
するために循環経路中に備えられる。
【0013】さて、この例における浄化容器2は、温浴
器3とは独立して別置きとなっている例を示し、浄化容
器2は浴槽1の温水中に常時浸漬されるものである。
【0014】尚、本発明の第2の温浴システムにあって
は、浄化容器2を温水の循環経路中に備えてもよく、図
例における点線で示すものはこの場合の浄化容器20
示している。即ち、フィルタ−32 と循環ポンプ33
間に浄化容器20 が備えられているシステムである。
【0015】
【発明の効果】本発明の浄化材及びこれを用いた温浴シ
ステムにあっては微生物の増殖容器を不要とし、微生物
による温水中への侵入、浄化不良による汚れの発生を防
止できる等、優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の浄化材を用いた温浴システムの
一例を示す概念図である。
【符号の説明】
1‥‥浴槽、 2、20 ‥‥浄化容器、 3‥‥温浴器、 31 ‥‥温水の吸引口、 32 ‥‥フィルタ−、 33 ‥‥循環ポンプ、 34 ‥‥吐出口、 35 ‥‥空気取入れホ−ス。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 浴槽中の温水を導入して浄化する浄化材
    であって、光触媒反応によってマイナスイオンを発生す
    る微粒粉状の無機酸化物を用いたことを特徴とする浴槽
    中の温水の浄化材。
  2. 【請求項2】 無機酸化物がシリカ、アルミナ、チタニ
    ア、マグネシア、二価三価鉄銀酸化物である請求項第1
    項記載の浴槽中の温水の浄化材。
  3. 【請求項3】 無機酸化物の微粒粉が0.1ミクロン以
    下に粉砕されたものである請求項第1項乃至第2項記載
    の浴槽中の温水の浄化材。
  4. 【請求項4】 光触媒反応によってマイナスイオンを発
    生する微粒粉状の無機酸化物と、シラン化合物、ジルコ
    ニウム化合物、その他の充填剤等とを混合し、低温加熱
    によって無機質被覆を作る組成物であって、砂或いはセ
    ラミックフォ−ム等の表面積の大きな母材に固定した請
    求項第1項乃至第3項記載の浴槽中の温水の浄化材。
  5. 【請求項5】 浴槽中の温水を温浴器中に循環させ、循
    環路中に浄化材を配置して温水を浄化する温浴システム
    であって、温浴器内の浄化材として光触媒によりマイナ
    スイオンを発生する微粒粉状の無機酸化物を用いたこと
    を特徴とする温浴システム。
  6. 【請求項6】 浴槽中の温水を循環させて温水を加温す
    る温浴器と、温水を導入して浄化する浄化材とを備えて
    なる温浴システムであって、前記浄化材として光触媒に
    よりマイナスイオンを発生する微粒粉状の無機酸化物を
    使用したことを特徴とする温浴システム。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020072855A (ko) * 2001-03-13 2002-09-19 주식회사 디.아이 주조공정상의 미분사 또는 황토흙을 이용한 인 분해용세라믹소결체 및 그 제조방법
WO2003105648A1 (en) * 2002-06-17 2003-12-24 U.S.Spa Spol. Sr.O. Bath and/or relaxation vessel
WO2004053891A3 (en) * 2002-05-14 2005-05-12 Nanoscale Materials Inc System for control of chemical / biological warfare agents
CN1305776C (zh) * 2004-08-27 2007-03-21 南昌东方星河纳米科技有限公司 增氧活化水处理剂及其制作工艺
US7335808B2 (en) 1998-09-15 2008-02-26 Nanoscale Corporation Method for biological and chemical contamination

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