JPH11189891A - パラジウム電気めっき液 - Google Patents
パラジウム電気めっき液Info
- Publication number
- JPH11189891A JPH11189891A JP35649097A JP35649097A JPH11189891A JP H11189891 A JPH11189891 A JP H11189891A JP 35649097 A JP35649097 A JP 35649097A JP 35649097 A JP35649097 A JP 35649097A JP H11189891 A JPH11189891 A JP H11189891A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- salt
- thallium
- soluble
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体、電子部品用リードフレーム材料とし
て要求される、はんだ濡れ性、耐熱性が得られるパラジ
ウム析出物を得ることができるパラジウム電気めっき液
を提供すること。 【解決手段】 可溶性パラジウム塩をパラジウム量とし
て、１〜３０ｇ／Ｌ、ピリジンスルホン酸又はその塩を
０．１〜２０ｇ／Ｌ、可溶性タリウム塩を０．１〜３０
０ｐｐｍ含むことを特徴とするパラジウム電気めっき
液。
て要求される、はんだ濡れ性、耐熱性が得られるパラジ
ウム析出物を得ることができるパラジウム電気めっき液
を提供すること。 【解決手段】 可溶性パラジウム塩をパラジウム量とし
て、１〜３０ｇ／Ｌ、ピリジンスルホン酸又はその塩を
０．１〜２０ｇ／Ｌ、可溶性タリウム塩を０．１〜３０
０ｐｐｍ含むことを特徴とするパラジウム電気めっき
液。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パラジウム電気め
っき用のめっき液に関し、特に半導体、電子部品用リー
ドフレーム材料として要求される、はんだ濡れ性、耐熱
性が得られるパラジウム析出物を得ることのできるパラ
ジウム電気めっき液に関するものである。
っき用のめっき液に関し、特に半導体、電子部品用リー
ドフレーム材料として要求される、はんだ濡れ性、耐熱
性が得られるパラジウム析出物を得ることのできるパラ
ジウム電気めっき液に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】パラジウム電気めっき液は従来から電
気、電子部品用に実用化されてきたが、近年、はんだめ
っきリードフレームに替わってパラジウムめっきリード
フレーム用途が注目されるようになった。リードフレー
ムはパッケージ組立工程で熱履歴を受けた後、ワイヤボ
ンディング、はんだ付けされるため、パラジウム析出物
には熱履歴後のはんだ濡れ性、ワイヤボンディング性、
はんだ接合信頼性、耐マイグレーション性、耐食性など
が要求される。従来公知のパラジウムめっき技術、例え
ば特開昭６３−１１１１９４号公報や特開平２−４３３
９３号公報などは、リードフレーム用に適宜条件を最適
化すれば、ある程度の性能は得られるが、特に熱履歴後
のはんだ濡れ性に関しては改善できないことが到命的で
あった。
気、電子部品用に実用化されてきたが、近年、はんだめ
っきリードフレームに替わってパラジウムめっきリード
フレーム用途が注目されるようになった。リードフレー
ムはパッケージ組立工程で熱履歴を受けた後、ワイヤボ
ンディング、はんだ付けされるため、パラジウム析出物
には熱履歴後のはんだ濡れ性、ワイヤボンディング性、
はんだ接合信頼性、耐マイグレーション性、耐食性など
が要求される。従来公知のパラジウムめっき技術、例え
ば特開昭６３−１１１１９４号公報や特開平２−４３３
９３号公報などは、リードフレーム用に適宜条件を最適
化すれば、ある程度の性能は得られるが、特に熱履歴後
のはんだ濡れ性に関しては改善できないことが到命的で
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述のリードフレーム
用パラジウム析出物に要求される性能のうち、熱履歴後
のはんだ濡れ性はパラジウムの析出状態に敏感に影響さ
れることがわかった。すなわち、熱履歴中に下地のＮｉ
やＣｕがパラジウム層に拡散し、表面に至って酸化され
るため、はんだ濡れ性が劣化するものと考えられた。そ
こで、パラジウム層内の拡散速度は析出物の結晶形態に
よって著しく影響されることを見出し、パラジウム電気
めっき液の組成を種々検討した結果、本発明に至ったの
である。
用パラジウム析出物に要求される性能のうち、熱履歴後
のはんだ濡れ性はパラジウムの析出状態に敏感に影響さ
れることがわかった。すなわち、熱履歴中に下地のＮｉ
やＣｕがパラジウム層に拡散し、表面に至って酸化され
るため、はんだ濡れ性が劣化するものと考えられた。そ
こで、パラジウム層内の拡散速度は析出物の結晶形態に
よって著しく影響されることを見出し、パラジウム電気
めっき液の組成を種々検討した結果、本発明に至ったの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、ピリジンスル
ホン酸あるいはその塩および可溶性タリウム塩をパラジ
ウムめっき液に配合することにより、熱履歴後のはんだ
濡れ性が極めて優れ、ワイヤボンディング性、はんだ接
合信頼性、耐マイグレーション性、耐食性も優れたリー
ドフレーム用に好適な物性のパラジウム析出物が得られ
ることを知見したものである。
ホン酸あるいはその塩および可溶性タリウム塩をパラジ
ウムめっき液に配合することにより、熱履歴後のはんだ
濡れ性が極めて優れ、ワイヤボンディング性、はんだ接
合信頼性、耐マイグレーション性、耐食性も優れたリー
ドフレーム用に好適な物性のパラジウム析出物が得られ
ることを知見したものである。
【０００５】その発明の要旨とするところは、 （１）可溶性パラジウム塩をパラジウム量として、１〜
３０ｇ／Ｌ、ピリジンスルホン酸又はその塩を０．１〜
２０ｇ／Ｌ、可溶性タリウム塩を０．１〜３００ｐｐｍ
含むことを特徴とするパラジウム電気めっき液。 （２）可溶性パラジウム塩はアミン化合物からなり、そ
の塩化物、臭化物、亜硝酸塩の中から選ばれた少なくと
も１種類を含むことを特徴とする前記（１）に記載のパ
ラジウム電気めっき液。
３０ｇ／Ｌ、ピリジンスルホン酸又はその塩を０．１〜
２０ｇ／Ｌ、可溶性タリウム塩を０．１〜３００ｐｐｍ
含むことを特徴とするパラジウム電気めっき液。 （２）可溶性パラジウム塩はアミン化合物からなり、そ
の塩化物、臭化物、亜硝酸塩の中から選ばれた少なくと
も１種類を含むことを特徴とする前記（１）に記載のパ
ラジウム電気めっき液。
【０００６】（３）電導塩として硝酸アンモニウム、塩
化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸水素アンモ
ニウムの中から選ばれた少なくとも１種類を含むことを
特徴とする前記（１）に記載のパラジウム電気めっき
液。 （４）可溶性タリウム塩は、その塩化物、臭化物、硝酸
塩、硫酸塩、酢酸塩の中から選ばれた少なくとも１種類
を含むことを特徴とする前記（１）に記載のパラジウム
電気めっき液にある。
化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸水素アンモ
ニウムの中から選ばれた少なくとも１種類を含むことを
特徴とする前記（１）に記載のパラジウム電気めっき
液。 （４）可溶性タリウム塩は、その塩化物、臭化物、硝酸
塩、硫酸塩、酢酸塩の中から選ばれた少なくとも１種類
を含むことを特徴とする前記（１）に記載のパラジウム
電気めっき液にある。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明に用いる可溶性パラジウム塩は、例えば、
ジクロロテトラアンミンパラジウム、ジクロロジアミン
パラジウム、ジブロモジアミンパラジウム、ジブロモテ
トラアンミンパラジウム、ジニトロジアミンパラジウ
ム、ジニトロテトラアンミンパラジウムなどが挙げられ
る。可溶性パラジウム塩は、めっき液中にＰｄ量とし
て、１〜３０ｇ／Ｌ、好ましくは１〜１０ｇ／Ｌ配合さ
れる。これらの塩は単独で用いてもよく、２種以上併用
して用いてもよい。
する。本発明に用いる可溶性パラジウム塩は、例えば、
ジクロロテトラアンミンパラジウム、ジクロロジアミン
パラジウム、ジブロモジアミンパラジウム、ジブロモテ
トラアンミンパラジウム、ジニトロジアミンパラジウ
ム、ジニトロテトラアンミンパラジウムなどが挙げられ
る。可溶性パラジウム塩は、めっき液中にＰｄ量とし
て、１〜３０ｇ／Ｌ、好ましくは１〜１０ｇ／Ｌ配合さ
れる。これらの塩は単独で用いてもよく、２種以上併用
して用いてもよい。
【０００８】本発明に用いるピリジンスルホン酸または
その塩としては、例えば、ピリジン３スルホン酸、ピリ
ジン３スルホン酸アンモニウム、ピリジン３スルホン酸
カリウムなどが挙げられる。ピリジンスルホン酸または
その塩は、めっき液中に０．１〜２０ｇ／Ｌ、好ましく
は３〜１０ｇ／Ｌ配合される。これらは単独ないし２種
以上併用して用いることができる。ピリジンスルホン酸
またはその塩はバラジウム結晶を微細化し緻密な析出物
を得る効果がある。
その塩としては、例えば、ピリジン３スルホン酸、ピリ
ジン３スルホン酸アンモニウム、ピリジン３スルホン酸
カリウムなどが挙げられる。ピリジンスルホン酸または
その塩は、めっき液中に０．１〜２０ｇ／Ｌ、好ましく
は３〜１０ｇ／Ｌ配合される。これらは単独ないし２種
以上併用して用いることができる。ピリジンスルホン酸
またはその塩はバラジウム結晶を微細化し緻密な析出物
を得る効果がある。
【０００９】本発明に用いる可溶性タリウム塩は、例え
ば、硝酸タリウム、塩化タリウム、臭化タリウム、硫酸
タリウム、酢酸タリウムなどの１価タリウム塩である。
可溶性タリウム塩は、めっき液中に０．１〜３００ｐｐ
ｍ、好ましくは０．１〜１００ｐｐｍ配合される。これ
らは単独ないし２種以上併用して用いることができる。
可溶性タリウム塩の作用は十分明らかではないが、次の
ように考えられる。すなわち、アンミン錯体パラジウム
塩が還元されてパラジウムが析出するとき、遊離したア
ンモニウムイオンが電極表面に吸着し、パラジウムの再
溶解を促す。
ば、硝酸タリウム、塩化タリウム、臭化タリウム、硫酸
タリウム、酢酸タリウムなどの１価タリウム塩である。
可溶性タリウム塩は、めっき液中に０．１〜３００ｐｐ
ｍ、好ましくは０．１〜１００ｐｐｍ配合される。これ
らは単独ないし２種以上併用して用いることができる。
可溶性タリウム塩の作用は十分明らかではないが、次の
ように考えられる。すなわち、アンミン錯体パラジウム
塩が還元されてパラジウムが析出するとき、遊離したア
ンモニウムイオンが電極表面に吸着し、パラジウムの再
溶解を促す。
【００１０】その結果パラジウムの表面拡散が妨害さ
れ、均一被覆性が妨げられる。タリウムイオンはアンモ
ニウムの吸着サイトを奪うので、パラジウムの還元が容
易になり、ミクロなつきまわり性が向上する。熱履歴後
のはんだ濡れ性が向上するのは、パラジウム析出物の均
一被覆性が改善されたためと考えられる。事実、エレク
トログラフ法によるピンホール試験はめっき液中に可溶
性タリウム塩の配合により改善される。なお、ボルタン
メトリーによれば、可溶性タリウム塩添加によるパラジ
ウムのアンダーポテンシャル析出の証拠が認められなか
ったので、可溶性タリウム塩の作用は金めっきにおける
作用とは異なるものと推察した。
れ、均一被覆性が妨げられる。タリウムイオンはアンモ
ニウムの吸着サイトを奪うので、パラジウムの還元が容
易になり、ミクロなつきまわり性が向上する。熱履歴後
のはんだ濡れ性が向上するのは、パラジウム析出物の均
一被覆性が改善されたためと考えられる。事実、エレク
トログラフ法によるピンホール試験はめっき液中に可溶
性タリウム塩の配合により改善される。なお、ボルタン
メトリーによれば、可溶性タリウム塩添加によるパラジ
ウムのアンダーポテンシャル析出の証拠が認められなか
ったので、可溶性タリウム塩の作用は金めっきにおける
作用とは異なるものと推察した。
【００１１】本発明に用いる電導塩は、例えば、硝酸ア
ンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リ
ン酸水素アンモニウムなどである。これらの電導塩は単
独ないし２種以上併用して用いることができる。めっき
液のｐＨは５〜１２、好ましくは７〜９に調整される。
ｐＨ調整はアンモニア水または希塩酸を用いることがで
きる。めっき液の温度は、３０〜７０℃、好ましくは４
５〜５５℃である。陰極電流密度は０．２〜２０Ａ／ｄ
ｍ2 、好ましくは１〜１０Ａ／ｄｍ2 である。
ンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リ
ン酸水素アンモニウムなどである。これらの電導塩は単
独ないし２種以上併用して用いることができる。めっき
液のｐＨは５〜１２、好ましくは７〜９に調整される。
ｐＨ調整はアンモニア水または希塩酸を用いることがで
きる。めっき液の温度は、３０〜７０℃、好ましくは４
５〜５５℃である。陰極電流密度は０．２〜２０Ａ／ｄ
ｍ2 、好ましくは１〜１０Ａ／ｄｍ2 である。
【００１２】
【実施例】以下に、本発明の実施例によりさらに具体的
に説明する。 （実施例１） パラジウム電気めっき液の組成 ジクロロテトラアンミンパラジウム ４ｇ／Ｌ（Ｐｄ量として） ピリジン３スルホン酸 ５ｇ／Ｌ 硝酸タリウム ２７ｐｐｍ 硝酸アンモニウム ４００ｇ／Ｌ 塩化アンモニウム １０７ｇ／Ｌ アンモニア水または希塩酸にてｐＨ８に調整 めっき液温度 ５０℃ めっき試験基材としてハルセル銅板を使用し、予め無光
沢Ｎｉめっきを１μｍ施した後、パラジウムめっきを攪
拌しながら電流密度２Ａ／ｄｍ2 で２０秒行った。パラ
ジウム析出物は光沢のある良好な外観であり、エレクト
ログラフ試験ではピンホールは認められなかった。この
パラジウム析出物に３１５℃で３０秒間の熱履歴を与え
た後のはんだ濡れ性は良好であった。
に説明する。 （実施例１） パラジウム電気めっき液の組成 ジクロロテトラアンミンパラジウム ４ｇ／Ｌ（Ｐｄ量として） ピリジン３スルホン酸 ５ｇ／Ｌ 硝酸タリウム ２７ｐｐｍ 硝酸アンモニウム ４００ｇ／Ｌ 塩化アンモニウム １０７ｇ／Ｌ アンモニア水または希塩酸にてｐＨ８に調整 めっき液温度 ５０℃ めっき試験基材としてハルセル銅板を使用し、予め無光
沢Ｎｉめっきを１μｍ施した後、パラジウムめっきを攪
拌しながら電流密度２Ａ／ｄｍ2 で２０秒行った。パラ
ジウム析出物は光沢のある良好な外観であり、エレクト
ログラフ試験ではピンホールは認められなかった。この
パラジウム析出物に３１５℃で３０秒間の熱履歴を与え
た後のはんだ濡れ性は良好であった。
【００１３】 （実施例２） パラジウム電気めっき液の組成 ジクロロテトラアンミンパラジウム ４ｇ／Ｌ（Ｐｄ量として） ピリジン３スルホン酸アンモニウム １０ｇ／Ｌ 硝酸タリウム ０．９ｐｐｍ 硝酸アンモニウム ３２０ｇ／Ｌ 塩化アンモニウム １６０ｇ／Ｌ リン酸１水素アンモニウム １０ｇ／Ｌ アンモニア水または希塩酸にてｐＨ８に調整 めっき液温度 ５０℃ めっき試験基材としてハルセル銅板を使用し、予め無光
沢Ｎｉめっきを１μｍ施した後、パラジウムめっきを攪
拌しながら電流密度５Ａ／ｄｍ2 で１５秒行った。パラ
ジウム析出物は光沢のある良好な外観であり、エレクト
ログラフ試験ではピンホールは認められなかった。この
パラジウム析出物に３１５℃で３０秒間の熱履歴を与え
た後のはんだ濡れ性は良好であった。
沢Ｎｉめっきを１μｍ施した後、パラジウムめっきを攪
拌しながら電流密度５Ａ／ｄｍ2 で１５秒行った。パラ
ジウム析出物は光沢のある良好な外観であり、エレクト
ログラフ試験ではピンホールは認められなかった。この
パラジウム析出物に３１５℃で３０秒間の熱履歴を与え
た後のはんだ濡れ性は良好であった。
【００１４】 （比較例） パラジウム電気めっき液の組成 ジクロロテトラアンミンパラジウム ４ｇ／Ｌ（Ｐｄ量として） ピリジン３スルホン酸 ５ｇ／Ｌ 硝酸アンモニウム ４００ｇ／Ｌ 塩化アンモニウム １０７ｇ／Ｌ アンモニア水または希硫酸にてｐＨ８．０に調整 めっき液温度 ５０℃ 実施例１のパラジウム電気めっき液から硝酸タリウムを
除いた組成のめっき液を用いた他は実施例１と同様の条
件でパラジウムめっきを行った。パラジウム析出物は光
沢のある良好な外観であったが、エレクトログラフ試験
でピンホール数が０．１／ｃｍ2 の密度で検出された。
このパラジウム析出物に３１５℃で３０秒間の熱履歴を
与えた後のはんだ濡れ性はばらつきが激しく、信頼性に
劣った。
除いた組成のめっき液を用いた他は実施例１と同様の条
件でパラジウムめっきを行った。パラジウム析出物は光
沢のある良好な外観であったが、エレクトログラフ試験
でピンホール数が０．１／ｃｍ2 の密度で検出された。
このパラジウム析出物に３１５℃で３０秒間の熱履歴を
与えた後のはんだ濡れ性はばらつきが激しく、信頼性に
劣った。
【００１５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のパラジウム
電気めっき液を使用して得たパラジウム析出物は、ピン
ホールを根絶し、熱履歴後のはんだ濡れ性が良好であ
る。従って、特にリードフレーム用めっき液等として極
めて有効である。
電気めっき液を使用して得たパラジウム析出物は、ピン
ホールを根絶し、熱履歴後のはんだ濡れ性が良好であ
る。従って、特にリードフレーム用めっき液等として極
めて有効である。
Claims (4)
- 【請求項１】 可溶性パラジウム塩をパラジウム量とし
て、１〜３０ｇ／Ｌ、ピリジンスルホン酸又はその塩を
０．１〜２０ｇ／Ｌ、可溶性タリウム塩を０．１〜３０
０ｐｐｍ含むことを特徴とするパラジウム電気めっき
液。 - 【請求項２】 可溶性パラジウム塩はアミン化合物から
なり、その塩化物、臭化物、亜硝酸塩の中から選ばれた
少なくとも１種類を含むことを特徴とする請求項１に記
載のパラジウム電気めっき液。 - 【請求項３】 電導塩として硝酸アンモニウム、塩化ア
ンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウ
ムの中から選ばれた少なくとも１種類を含むことを特徴
とする請求項１に記載のパラジウム電気めっき液。 - 【請求項４】 可溶性タリウム塩は、その塩化物、臭化
物、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩の中から選ばれた少なくと
も１種類を含むことを特徴とする請求項１に記載のパラ
ジウム電気めっき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35649097A JPH11189891A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | パラジウム電気めっき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35649097A JPH11189891A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | パラジウム電気めっき液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11189891A true JPH11189891A (ja) | 1999-07-13 |
Family
ID=18449283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35649097A Withdrawn JPH11189891A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | パラジウム電気めっき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11189891A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100485762B1 (ko) * | 2001-12-13 | 2005-04-28 | 고지마 가가쿠 야쿠힌 가부시키가이샤 | 팔라듐 도금액 |
| JP2007262573A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-10-11 | Electroplating Eng Of Japan Co | パラジウムめっき液 |
| CN107665870A (zh) * | 2017-11-15 | 2018-02-06 | 贵溪博远金属有限公司 | 一种铜钯银键合线 |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP35649097A patent/JPH11189891A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100485762B1 (ko) * | 2001-12-13 | 2005-04-28 | 고지마 가가쿠 야쿠힌 가부시키가이샤 | 팔라듐 도금액 |
| JP2007262573A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-10-11 | Electroplating Eng Of Japan Co | パラジウムめっき液 |
| JP4598782B2 (ja) * | 2006-03-03 | 2010-12-15 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | パラジウムめっき液 |
| CN107665870A (zh) * | 2017-11-15 | 2018-02-06 | 贵溪博远金属有限公司 | 一种铜钯银键合线 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1071805C (zh) | 一种在金属表面上形成银镀层的方法 | |
| TWI260351B (en) | Electroless gold plating solution | |
| US5472910A (en) | Process for making OHMIC contacts and photovoltaic cell with ohmic contact | |
| EP2809825B1 (en) | Electroless nickel plating bath | |
| JPS5929118B2 (ja) | パラジウム・ニツケル合金メツキ液 | |
| EP1322798A1 (en) | Bath and method of electroless plating of silver on metal surfaces | |
| SE462434B (sv) | Saett att galvaniskt metallisera foeremaal med minst en icke-metallisk yta. | |
| JP2609349B2 (ja) | 電気メッキ方法 | |
| TW201229327A (en) | Gold plating solution | |
| CN114892225B (zh) | 用于在镍镀层上电镀金的镀液和在镍镀层上电镀金的方法和镀金件与应用 | |
| JP3223829B2 (ja) | 電気ニッケルめっき浴又は電気ニッケル合金めっき浴及びそれを用いためっき方法 | |
| CN113897603B (zh) | 一种耐腐蚀钯类化学镀液及其应用 | |
| JP2002531961A (ja) | サブストレート上に導電層を付着するためのプロセス | |
| JPH11189891A (ja) | パラジウム電気めっき液 | |
| JP2001200387A (ja) | 錫−インジウム合金電気めっき浴 | |
| JPS61238994A (ja) | パラジウム‐ニツケル合金の析出のための方法 | |
| JP2024047324A (ja) | 金電気めっき液および金電気めっき方法 | |
| JP3437980B2 (ja) | 無電解パラジウム−ニッケルめっき浴およびこれを用いるめっき方法ならびにこの方法により得られるめっき製品 | |
| WO2006135079A1 (ja) | 無電解金めっき液 | |
| WO2006068046A1 (ja) | 電気スズおよびスズ合金めっき液 | |
| JPH08269726A (ja) | 無電解ニッケルめっき液及びめっき方法 | |
| JP4570213B2 (ja) | パラジウムめっき液 | |
| JPH01201486A (ja) | 耐マイグレーション性に優れた導電塗料用Ａｇめっき複合粉末 | |
| JP3143707B2 (ja) | 直接電気メッキ用温和塩基性促進液剤 | |
| TW201211323A (en) | Cyanide based electrolytic gold plating solution and plating method using same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050301 |