JPH11184925A - 製造工程の管理方法及びそれに使用される管理装置 - Google Patents

製造工程の管理方法及びそれに使用される管理装置

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JPH11184925A
JPH11184925A JP34954397A JP34954397A JPH11184925A JP H11184925 A JPH11184925 A JP H11184925A JP 34954397 A JP34954397 A JP 34954397A JP 34954397 A JP34954397 A JP 34954397A JP H11184925 A JPH11184925 A JP H11184925A
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    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理待ちの仕掛の蓄積を防止して優先度が低
い製品をも滞りなく処理することができると共に、工程
間の時間が規定されている製品を確実に規定時間内で処
理することができる製造工程の管理方法及びそれに使用
される管理装置を提供する。 【解決手段】 処理可能な被処理物の処理条件、残りの
処理工程及びその処理時間並びに納期に基づいて処理可
能な被処理物の全てについて第1の設備での処理の優先
度を算出する(S9)。そして、最も優先度が高い処理
可能な被処理物を処理候補とし、前記第1の設備よりも
後で使用される第2の設備の状態を示す情報に基づいて
第1の設備においてその処理候補の処理を行うか行わな
いかの判断を行う(S10、S11)。その処理候補の
処理を行わないと判断した場合には、その処理候補の次
に優先度が高い処理可能な被処理物を処理候補として判
断を行う工程に戻る(S12、S10)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、必要処理時間、納
期及び処理可能設備の状況等から処理される製品の順序
を管理し、半導体装置の製造に好適な製造工程の管理方
法及びそれに使用される管理装置に関し、特に、効率よ
く製品を処理することが可能な製造工程の管理方法及び
それに使用される管理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置は、製品毎に所定の複数の処
理工程を経て製造されている。そして、各処理工程に
は、所定の処理条件が設定されている。
【0003】複数種の製品が処理される場合、どの製品
をどの工程にどのような順序で供給するかということ
は、効率的に設備を稼動させるために重要である。従来
の供給順序の決定方法としては、供給順序が決定される
対象の工程の前工程における終了時刻が前のものから対
象の工程に供給する方法がとられていた。しかし、この
方法では各製品の納期に拘わらず処理を進めるので、納
期が近く短期間で完成させる必要がある製品に関する納
期管理が困難である。
【0004】そこで、納期が近く短期間で製造する必要
がある製品がある場合には、工程管理者がその製品の進
捗状況を逐次監視し、各工程の作業者に指示を出して他
の製品より優先して作業させていた。しかし、人が管理
することができる範囲は狭く、詳細な指示を各工程に出
すことは困難である。
【0005】そこで、例えば、特開平7−29785号
公報に、処理の優先度を計算し、この優先度をもとにし
て製造工程を決定する工程管理システムが提案されてい
る。この公報に記載された従来の工程管理システムにお
いては、供給順序が決定される対象の工程の予定処理終
了日をA、実際の処理終了日をC、最終工程の予定処理
終了日をBとしたとき、下記数式1で優先度Dを定義し
ている。
【0006】
【数1】D=100×(B−C)/(B−A)
【0007】そして、優先度Dの値が小さな順に各工程
で処理順を入れ替えて各製品を処理している。
【0008】この従来の工程管理システムによれば、全
ての製品の納期を考慮して工程を管理することができ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
7−29785号公報に記載された工程管理システムを
使用して各工程を管理する場合、処理される被処理物の
順序が入れ替えられた工程の後工程の状況に拘わらず、
優先度Dの値が小さい被処理物から処理するので、後工
程が作業不可能な状態なときには、被処理物が後工程で
設備待ちの状態となってしまう。この結果、その設備で
処理待ちの仕掛が蓄積されるという問題点がある。
【0010】また、常に優先度Dの値が小さな被処理物
から処理されるため、優先度Dの値が大きな被処理物の
処理が妨げられるという問題点もある。
【0011】更に、ある被処理物について前工程の終了
から後工程での処理までの時間が決められている場合に
も、優先度Dの値のみで後工程で処理される被処理物の
順序が決定されてしまうと、その被処理物が所定時間内
に後工程で処理されないこともある。
【0012】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、処理待ちの仕掛の蓄積を防止して優先度が
低い製品をも滞りなく処理することができると共に、工
程間の時間が規定されている被処理物を確実に規定時間
内で処理することができる製造工程の管理方法及びそれ
に使用される管理装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明に係る製造工程の
管理方法は、複数種の被処理物を複数種の処理工程の組
み合わせで処理して製品を製造する製造工程の管理方法
において、前記被処理物の処理条件、残りの処理工程及
びその処理時間並びに納期に基づいて前記被処理物の優
先順位を決定し、その優先順位に従って処理するに際
し、前記被処理物の先工程の設備の状態を示す情報を考
慮して、処理を行うか行わないかを判断することを特徴
とする。
【0014】本発明に係る他の製造工程の管理方法は、
複数種の被処理物を複数種の処理工程の組み合わせで処
理して製品を製造する製造工程の管理方法において、第
1の設備において処理可能な被処理物が2種以上ある場
合に、前記処理可能な被処理物の処理条件、残りの処理
工程及びその処理時間並びに納期に基づいて前記処理可
能な被処理物の全てについて前記第1の設備での処理の
優先度を算出する工程と、最も優先度が高い処理可能な
被処理物を処理候補とする工程と、その時点での処理候
補について前記第1の設備よりも後で使用される第2の
設備の状態を示す情報に基づいて前記第1の設備におい
て前記処理候補の処理を行うか行わないかの判断を行う
工程と、前記処理候補の処理を行わないと判断した場合
に、前記処理候補の次に優先度が高い処理可能な被処理
物を処理候補として前記判断を行う工程に戻る工程とを
有することを特徴とする。
【0015】本発明においては、第1の設備における処
理可能な被処理物の優先度を算出し、この優先度が最も
高いものについて、第2の設備の状態を示す情報に基づ
いて第1の設備で処理するかしないかの判断を行ってい
るので、例えば、第2の設備が非稼動状態のときにも仕
掛が蓄積することが防止される。また、常に優先度が高
い被処理物から処理するわけではないので、優先度が高
い被処理物が優先度が低い被処理物の処理を妨げること
が抑制される。
【0016】なお、前記処理候補の処理を行うと判断し
た場合に、前記処理候補の処理を前記第2の設備で最も
優先して行うという予約をする工程と、前記第2の設備
で前記処理候補の処理が終了した後に前記予約を消去す
る工程とを有することができる。
【0017】また、前記判断を行う工程は、前記第2の
設備の仕掛を示す情報及び仕掛予定を示す情報を調査す
る工程を有してもよい。
【0018】本発明に係る製造工程の管理装置は、複数
種の被処理物を複数種の処理工程の組み合わせで処理し
て製品を製造する製造工程の管理装置において、前記被
処理物の処理条件、残りの処理工程及びその処理時間並
びに納期からその被処理物の第1の設備での優先度を算
出する優先度算出手段と、前記第1の設備よりも後で使
用される第2の設備の状態を示す情報に基づいて前記第
1の設備での前記被処理物の処理を行うか行わないかの
判断を行う判断手段とを有することを特徴とする。
【0019】本発明においては、第1の設備において処
理可能な被処理物の優先度が算出された後、最も優先度
が高い処理可能被処理物が選択され、その処理可能な被
処理物から製品を製造する際に第1の設備よりも後で使
用される第2の設備の状態を示す情報に基づいて第1の
設備でその処理可能な被処理物が処理されるかされない
かが判断される。このため、第2の設備が非稼動状態の
ときにも仕掛が蓄積することが防止される。また、優先
度が低い被処理物が優先度が高い被処理物よりも先に処
理されることもある。
【0020】なお、前記被処理物の処理を行うと判断し
た場合に、前記被処理物の処理を前記第2の設備で最も
優先して行うという予約をする予約手段と、前記第2の
設備で前記被処理物の処理が終了した後に前記予約を消
去する予約消去手段とを有することができる。
【0021】また、前記判断手段は、前記第2の設備の
仕掛を示す情報及び仕掛予定を示す情報を調査する調査
手段を有してもよい。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施例方法
に係る工程の管理方法について、添付の図面を参照して
具体的に説明する。図1は本実施例方法に使用する工程
の管理装置を示すブロック図である。本実施例において
は、中央演算装置1に各種データを入力するための入力
装置2が接続されている。また、製品毎にその製造に使
用される工程フロー、納期等の情報及び状況が記憶され
る製品情報記憶装置5、工程フロー毎に使用される工程
フロー及び設備群等が記憶される工程フロー記憶装置3
並びに設備群毎に使用される処理可能号機及び処理時間
等が記憶される処理条件記憶装置4が中央演算装置1に
接続されている。更に、工程フロー記憶装置3、処理条
件記憶装置4又は製品情報記憶装置5に記憶されている
データに基づいて製品となる被処理物の処理順序を決定
する処理順決定モジュール6が中央処理装置1に接続さ
れている。
【0023】記憶装置3、4又は5に記憶されるデータ
について、下記表1乃至3を参照して説明する。表1は
工程フロー記憶装置3に記憶されるデータの構成の一例
を示しており、表2は処理条件記憶装置4に記憶される
データの構成の一例を示しており、表3は製品情報記憶
装置5に記憶されるデータの構成の一例を示している。
【0024】
【表1】
【0025】
【表2】
【0026】
【表3】
【0027】上記表1に示すように、工程フロー記憶装
置3においては、工程フロー名毎にデータテーブルが設
定され、このデータテーブルには、処理段階毎の工程
名、処理に使用される設備群、処理条件及び指定フラグ
が記憶される。指定フラグは何工程先の設備状態をチェ
ックするかを示す数値である。
【0028】また、上記表2に示すように、処理条件記
憶装置4においては、設備群毎にデータテーブルが設定
され、このデータテーブルには、処理条件、処理時間及
び処理可能な設備号機が記憶される。
【0029】更に、上記表3に示すように、製品情報記
憶装置5においては、製品番号毎にその製造に使用され
る工程フロー名、被処理物が仕掛かっている仕掛工程
名、処理待ち又は処理中を示す状態、後工程で予約して
いる設備及び納期日時が記憶される。
【0030】また、中央演算装置1にはネットワーク7
が接続されており、ネットワーク7には、製造ライン8
中の各種設備9及び被処理物保管棚10が接続されてい
る。被処理物保管棚10は処理待ちの被処理物を保管す
るものである。また、各種設備9と被処理物保管棚10
との間又は被処理物保管棚10間で被処理物を搬送する
搬送装置11が設けられている。各種設備9から処理開
始、処理終了及び設備の状態等の情報がネットワーク7
を介して中央処理装置1に送信される。また、搬送装置
による被処理物の搬送がネットワーク7を介して中央処
理装置1により制御される。
【0031】次に、処理順決定モジュール6による処理
フローについて説明する。図2は処理順決定モジュール
による処理を示すフローチャートである。製造ライン8
中の設備9から、例えば、被処理物要求のトリガ信号が
ネットワーク7を介して中央処理装置1に入力される
と、中央処理装置1により処理順決定モジュール6が起
動される。
【0032】起動した処理順位決定モジュール6は中央
処理装置1を介して製品情報記憶装置5に記憶されてい
るデータから被処理物要求のトリガ信号を発した設備9
に予約されている被処理物を検索する(S1)。予約さ
れている被処理物がある場合には、その被処理物をその
設備9に搬送することを搬送装置11に指示する(S
8)。
【0033】一方、予約されている被処理物がない場合
には、後工程の処理設備で予約されている被処理物の有
無を前述の方法と同様の方法により検索する(S2)。
ここで、予約されている被処理物がある場合には、その
被処理物をトリガ信号を発した設備9に搬送することを
搬送装置11に指示する(S8)。
【0034】ここでも、予約されている被処理物がない
場合には、中央処理装置1を介して製品情報記憶装置5
に記憶されているデータからトリガ信号を発した設備9
で処理することが可能な被処理物を検索する(S3)。
【0035】検索の結果(S4)、処理可能な被処理物
が1つの場合、工程フロー記憶装置3に記憶されたその
製品の工程フローを検索し、仕掛工程の指定フラグがO
nになっているかチェックする(S5)。指定フラグが
Offの場合、その被処理物をトリガ信号を発した設備
9に搬送することを搬送装置11に指示する(S8)。
【0036】一方、指定フラグがOnの場合、指定フラ
グ内に記憶されている数値分だけ後の工程の処理条件に
応じることができる設備群を処理条件記憶装置4に記憶
されているデータから検索し、その設備群の状況をネッ
トワーク7を介してチェックする(S6)。チェックの
結果、その被処理物を処理することが可能であり他の被
処理物の予約がない号機が存在する場合、その設備群を
予約して、その被処理物の処理が完了するまで、他の被
処理物が処理されないようにする。また、製品情報記憶
装置5に予約した設備群を記憶させる(S7)。これに
より、前工程の終了から後工程での処理までの時間が決
められている場合でも、その時間内で対処することがで
きる。
【0037】また、検索の結果(S4)、処理可能な被
処理物が2つ以上ある場合、それらの優先度αを算出す
る(S9)。優先度αは下記数式2で表される。
【0038】
【数2】α=(最終工程終了までの処理時間の総和)/
((納期日時)−(現在日時))
【0039】最終工程終了までの処理時間の総和は以下
のようにして算出される。先ず、工程フロー記憶装置3
に記憶されているデータから、残り工程及びその各工程
の処理条件が読込まれ、その処理条件に要する処理時間
が処理条件記憶装置4から読込まれる。そして、最終工
程終了までの処理時間の総和として、全ての残り工程に
要する処理時間が算出される。
【0040】上記数式2より、例えば、2種類の製品の
納期日時が等しく、被処理物の最終工程終了までの処理
時間の総和が相違する場合、最終工程終了までの処理時
間の総和が大きい方が優先度αが高くなり、優先して処
理される。また、2種類の被処理物の最終工程終了まで
の処理時間の総和が等しく、製品の納期日時が相違する
場合、納期日時が近く、納期日時と現在日時との差が小
さい方の優先度αが高くなり、優先して処理される。
【0041】優先度αを計算(S9)した後、優先度α
が最も大きい製品の指定フラグをチェックする(S1
0)。指定フラグがOffの場合、その製品の被処理物
をトリガ信号を発した設備9に搬送することを搬送装置
11に指示する(S8)。
【0042】指定フラグがOnの場合、指定フラグ内に
記憶されている数値分だけ後の工程の処理条件に応じる
ことができる設備群を処理条件記憶装置4に記憶されて
いるデータから検索し、その設備群の状況をネットワー
ク7を介してチェックする(S11)。チェックの結
果、その被処理物を処理することが可能であり他の被処
理物の予約がない号機が存在する場合、その設備を予約
して、その被処理物の処理が完了するまで、他の被処理
物が処理されないようにする。また、製品情報記憶装置
5に予約した設備群を記憶させる(S7)。チェックの
結果、設備の予約が不可能な場合(S12)、次に優先
度αが高い被処理物について指定フラグをチェックする
(S10)。
【0043】検索の結果(S4)、処理可能な被処理物
が2以上ある場合には、このように、優先度αが高い順
に指定フラグのチェックを行い(S10)、処理可能な
被処理物が決定したら、その被処理物をトリガ信号を発
した設備9に搬送することを搬送装置11に指示する
(S8)。
【0044】そして、予約された設備で予約被処理物の
処理を開始した時点で、製品情報記憶装置5内に記憶さ
れているデータを消去して予約を解除する。
【0045】本実施例方法においては、先ず、優先度α
の高低を基準にして被処理物の処理順序の目処を立てた
後、指定フラグをチェックすることにより、後工程の状
況をチェックして、後工程の設備状態が処理可能である
場合に限りその被処理物を処理するので、仕掛を蓄積す
ることが防止される。また、常に優先度αが高い製品の
被処理物から処理するわけではないので、優先度αが高
い製品が優先度αが低い製品の被処理物の処理を妨げる
ことが抑制される。
【0046】次に、本発明の第2の実施例方法について
説明する。本実施例方法においても、第1の実施例方法
と同様に、図1に示す工程の管理装置が使用される。但
し、各記憶装置3、4又は5に記憶されるデータは第1
の実施例方法のものと相違する。表4は工程フロー記憶
装置3に記憶されるデータの構成の一例を示しており、
表5は処理条件記憶装置4に記憶されるデータの構成の
一例を示しており、表6は製品情報記憶装置5に記憶さ
れるデータの構成の一例を示している。
【0047】
【表4】
【0048】
【表5】
【0049】
【表6】
【0050】上記表4に示すように、工程フロー記憶装
置3においては、工程フロー名毎にデータテーブルが設
定され、このデータテーブルには、処理段階毎の工程
名、処理に使用される設備群及び処理条件が記憶され
る。第1の実施例と相違する点は、指定フラグが記憶さ
れない点である。
【0051】また、上記表5に示すように、処理条件記
憶装置4においては、設備群毎にデータテーブルが設定
され、このデータテーブルには、設備(号機)1台あた
りの仕掛限界値、設備号機毎の処理可能な処理条件、仕
掛又は仕掛予定製品番号及び各製品の仕掛値並びに合計
仕掛値が記憶される。
【0052】更に、上記表6に示すように、製品情報記
憶装置5においては、製品番号毎に使用される工程フロ
ー名、被処理物が仕掛かっている工程名、処理待ち又は
処理中を示す状態及び納期日時が記憶される。第1の実
施例と相違する点は、後工程で予約している設備が記憶
されない点である。
【0053】次に、処理順決定モジュール6による処理
フローについて説明する。図3は処理順決定モジュール
による処理を示すフローチャートである。製造ライン8
中の設備9から、例えば、被処理物要求のトリガ信号が
ネットワーク7を介して中央処理装置1に入力される
と、中央処理装置1により処理順決定モジュール6が起
動される。
【0054】起動した処理順位決定モジュール6は中央
処理装置1を介して製品情報記憶装置5に記憶されてい
る情報からトリガ信号を発した設備9で処理することが
可能な被処理物を検索する(S21)。
【0055】検索の結果(S22)、処理可能な被処理
物が2以上ある場合、第1の実施例と同様の方法によ
り、被処理物の最終工程終了までの処理時間の総和及び
製品の納期日時と現在日時との差から優先度αを算出す
る(S23)。優先度αを算出した後、優先度αが最も
高い被処理物を検索し、その被処理物の後工程で使用さ
れる処理設備群を工程フロー記憶処置3に記憶されてい
るデータから検索する(S24)。また、検索の結果
(S22)、処理可能な被処理物が1のみの場合、優先
度αを算出することなくその被処理物の後工程で使用さ
れる処理設備群を工程フロー記憶処置3に記憶されてい
るデータから検索する(S24)。
【0056】そして、検索された処理条件で処理可能な
号機を処理条件記憶装置4に記憶されているデータから
検索し、検索された号機の稼働状況をネットワーク7を
介してチェックする(S25)。全ての号機が故障中又
はメンテナンス中等の理由で非稼働状態の場合には、次
に優先度αが高い製品の有無をチェックする(S2
6)。
【0057】チェック(S24)の結果、稼働号機が存
在する場合、各号機の合計仕掛値を処理条件記憶装置4
に記憶されているデータから検索する(S27)。そし
て、全ての号機の合計仕掛値が仕掛限界値を超えている
ときには、次に優先度αが高い被処理物の有無をチェッ
クする(S26)。例えば、表5中の号機3の合計仕掛
値が仕掛限界値を超えている。一方、合計仕掛値が仕掛
限界値以下の設備号機が存在するときには、その号機の
合計仕掛値を以下の手順により変更する(S28)。仕
掛限界値以下の号機が1台のみ存在する場合には、仕掛
値1.0をその号機の仕掛合計値に加算する。表5中の
製品No.2がこれに該当する。また、仕掛限界値以下
の号機が2台以上存在する場合、仕掛値1.0を仕掛限
界値以下の号機台数で割る。そして、その計算結果の値
をそれぞれの号機の仕掛合計値に加算する。表5中の製
品No.5は、仕掛限界値以下の号機が2台存在する場
合に、それらの号機に割り振られた例である。いずれの
場合にも、全体で仕掛合計値は1増加することになる。
【0058】なお、合計仕掛値を変更するのと同時に、
処理条件記憶装置4内の製品No.が記憶されているフ
ィールドに、その製品No.及び算出された仕掛値を追
加記憶させる。
【0059】次に、処理される製品が決定したら、その
被処理物をトリガ信号を発した目的の設備9に搬送する
ことを搬送装置11に指示する(S29)。
【0060】また、各設備で処理条件記憶装置4内の製
品No.が記憶されるフィールドに記憶されている被処
理物の処理を開始した時点で、各号機の製品No.フィ
ールドからその製品No.を消去する共に、その被処理
物の仕掛値を各号機の合計仕掛値から減算し、この値を
処理条件記憶装置4内の製品No.フィールドに記憶さ
せる。
【0061】本実施例においては、優先度αの高低を基
準にして製品の被処理物の処理順序の目処を立てた後、
仕掛合計値をチェックすることにより、後工程の状況を
チェックして、後工程で仕掛値が上限を超えていない場
合に限りその被処理物を処理するので、仕掛を蓄積する
ことが防止される。また、本実施例においても、常に優
先度αが高い製品の被処理物から処理するわけではない
ので、優先度αが高い製品が優先度αが低い製品の被処
理物の処理を妨げることが抑制される。
【0062】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
後の設備の状態に基づいて処理順序を判断する設備で被
処理物を処理するか否かの判断を行っているので、後の
設備が非稼動状態のときにも、その後の設備で仕掛が蓄
積することが防止される。また、優先度が低い被処理物
が優先度が高い被処理物よりも先に処理されることがあ
るので、優先度が低い製品をも滞りなく処理することが
できる。更に、工程間の時間が規定されている製品を確
実にその規定時間内で処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例方法に使用する工程の管理装置
を示すブロック図である。
【図2】第1の実施例方法における処理順決定モジュー
ルによる処理を示すフローチャートである。
【図3】第2の実施例方法における処理順決定モジュー
ルによる処理を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1;中央処理装置 2;入力装置 3;工程フロー記憶装置 4;処理条件記憶装置 5;製品情報記憶装置 6;処理順決定モジュール 7;ネットワーク 8;製造ライン 9;設備 10;被処理物保管棚 11;搬送装置

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数種の被処理物を複数種の処理工程の
    組み合わせで処理して製品を製造する製造工程の管理方
    法において、前記被処理物の処理条件、残りの処理工程
    及びその処理時間並びに納期に基づいて前記被処理物の
    優先順位を決定し、その優先順位に従って処理するに際
    し、前記被処理物の先工程の設備の状態を示す情報を考
    慮して、処理を行うか行わないかを判断することを特徴
    とする製造工程の管理方法。
  2. 【請求項2】 複数種の被処理物を複数種の処理工程の
    組み合わせで処理して製品を製造する製造工程の管理方
    法において、第1の設備において処理可能な被処理物が
    2種以上ある場合に、前記処理可能な被処理物の処理条
    件、残りの処理工程及びその処理時間並びに納期に基づ
    いて前記処理可能な被処理物の全てについて前記第1の
    設備での処理の優先度を算出する工程と、最も優先度が
    高い処理可能な被処理物を処理候補とする工程と、その
    時点での処理候補について前記第1の設備よりも後で使
    用される第2の設備の状態を示す情報に基づいて前記第
    1の設備において前記処理候補の処理を行うか行わない
    かの判断を行う工程と、前記処理候補の処理を行わない
    と判断した場合に、前記処理候補の次に優先度が高い処
    理可能な被処理物を処理候補として前記判断を行う工程
    に戻る工程とを有することを特徴とする製造工程の管理
    方法。
  3. 【請求項3】 前記処理候補の処理を行うと判断した場
    合に、前記処理候補の処理を前記第2の設備で最も優先
    して行うという予約をする工程と、前記第2の設備で前
    記処理候補の処理が終了した後に前記予約を消去する工
    程とを有することを特徴とする請求項2に記載の製造工
    程の管理方法。
  4. 【請求項4】 前記判断を行う工程は、前記第2の設備
    の仕掛を示す情報及び仕掛予定を示す情報を調査する工
    程を有することを特徴とする請求項2に記載の製造工程
    の管理方法。
  5. 【請求項5】 複数種の被処理物を複数種の処理工程の
    組み合わせで処理して製品を製造する製造工程の管理装
    置において、前記被処理物の処理条件、残りの処理工程
    及びその処理時間並びに納期からその被処理物の第1の
    設備での優先度を算出する優先度算出手段と、前記第1
    の設備よりも後で使用される第2の設備の状態を示す情
    報に基づいて前記第1の設備での前記被処理物の処理を
    行うか行わないかの判断を行う判断手段とを有すること
    を特徴とする製造工程の管理装置。
  6. 【請求項6】 前記被処理物の処理を行うと判断した場
    合に、前記被処理物の処理を前記第2の設備で最も優先
    して行うという予約をする予約手段と、前記第2の設備
    で前記被処理物の処理が終了した後に前記予約を消去す
    る予約消去手段とを有することを特徴とする請求項5に
    記載の製造工程の管理装置。
  7. 【請求項7】 前記判断手段は、前記第2の設備の仕掛
    を示す情報及び仕掛予定を示す情報を調査する調査手段
    を有することを特徴とする請求項5に記載の製造工程の
    管理装置。
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US6535778B2 (en) 2000-08-24 2003-03-18 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process control method and process control apparatus

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WO2001086704A1 (en) * 2000-05-09 2001-11-15 Tokyo Electron Limited Semiconductor manufacturing system and control method thereof
US6839603B2 (en) 2000-05-09 2005-01-04 Tokyo Electron Limited Semiconductor manufacturing system and control method thereof
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