JP3246461B2 - レチクル搬送制御方法 - Google Patents

レチクル搬送制御方法

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JP3246461B2 JP35963698A JP35963698A JP3246461B2 JP 3246461 B2 JP3246461 B2 JP 3246461B2 JP 35963698 A JP35963698 A JP 35963698A JP 35963698 A JP35963698 A JP 35963698A JP 3246461 B2 JP3246461 B2 JP 3246461B2
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置製造ラ
インの露光工程におけるレチクル搬送制御方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置製造ラインにおける露光工程
は、製品ならびに処理工程毎に、使用するレチクルが特
定されている。よって、露光装置を用いてロットを処理
するときには、該当レチクルを設備にセットするか、あ
るいは逆に、該当レチクルがセットされている露光装置
にロットをセットする必要がある。
【0003】半導体装置製造ラインの露光工程における
レチクルの取り扱いに関しては、従来、工程管理をして
いるホストコンピュータから、各ロットの仕掛り状態を
見て、露光装置にレチクルをセットし、あるいは必要に
よりレチクルの交換を行っていた。
【0004】しかし、上記のような方法によるときに
は、各ロットの仕掛り状態を、作業員の目視によるチェ
ックに頼るものであったため、経験の多少や判断に個人
差があり、効率が悪く、判断ミスや見落としが発生する
のは避けられない。
【0005】このような問題を解決し、露光装置の稼動
効率を向上させる方法として、製造ロットの露光作業時
に、レチクルを露光作業開始時に間に合うタイミングで
レチクル収納棚より出庫・配膳することにより、レチク
ルの配膳待ちによる露光装置の空きを回避する方法が提
案された(特開平6−268043号:レチクル配膳方
法)(先行例1)。
【0006】上記先行例1においては、次のような手順
でレチクルが、露光装置に配膳される。すなわち、露光
工程の数工程前の処理工程中に露光処理の開始もしくは
処理終了などのタイミングにあわせて、該当ロットが露
光装置に到着する時刻を予測する。次に、該当ロットの
露光装置への予測到着時刻に、該当レチクルも露光装置
に到着するように、レチクル収納棚から出庫する時刻を
予測する。そして、実時刻が、レチクル出庫予測時刻に
なったら、該当レチクルをレチクル収納棚から出庫した
のちに、該当露光装置に搬送する、というものである。
上記先行例1によれば、人の判断を介入させないでレチ
クル搬送が可能となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、先行例
1に記載されたレチクル配膳方法によるときには、処理
ロットが露光装置に仕掛かる時刻を予測して、その予測
時刻をもとに、レチクルの搬送が行われるため、予測状
態と実状態とに時間的なズレが生じた場合には、レチク
ルとロットとの露光装置への搬送タイミングに影響が及
び、露光装置へのレチクルあるいはロットの搬送が遅れ
が発生すると、露光処理の開始が出来ず、これが原因と
なって、露光装置の稼働率低下を招くことになる。
【0008】また、先行例1の方法では、該当レチクル
の使用可能・不可能のチェックを行わないため、該当レ
チクルの使用が可能かどうかの確認が行われないままに
ロットが搬送されると、他のロットで該当レチクルが使
用処理を行っていた場合には、当然にそのレチクルを目
的の設備に搬送することは不可能であるために、設備に
搬送されてきたロットはそのまま設備で待たなければな
らない。
【0009】つまり、先行例1の方法によるときには、
該当レチクルの使用可能・不可能のチェックを行わない
ことによる待ち時間の発生は避けられないという問題が
ある。さらに、先行例1の方法では、露光工程の数工程
前の工程の処理開始または処理終了によって、搬送すべ
きレチクルが決定されるため、レチクルの交換および搬
送回数が増加し、搬送・交換時にレチクルへゴミが付着
する可能性が増大するという問題が発生する。
【0010】そのうえ、露光工程の数工程前で処理の順
番を決定してしまうために、露光工程に仕掛かった時点
で進捗に遅れが発生したロットを優先して処理すること
が出来ないという問題もあった。
【0011】本発明の目的は、各ロットの進捗、仕掛り
状態と、レチクルの使用状態、所在の条件を加味してロ
ットおよびレチクルを露光装置へ効率よく搬送するレチ
クル搬送制御方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のレチクル搬送制御方法においては、進捗率
判断処理と、搬送制御処理とを有するレチクル搬送制御
方法であって、進捗率判断処理は、各ロット毎に、納
期、残工程、各工程の処理時間から算出された進捗率を
参照する処理であり、搬送制御処理は、参照した進捗率
の中で、進捗遅れロットが存在する場合に、該当ロット
レチクルの使用可否をチェックし、レチクルの使用が
可能ならそのロットを露光装置へ搬送し、この時、露光
装置に該当レチクルが存在しない場合は、同時にレチク
ルも搬送し、進捗遅れロットが存在しない場合は、露光
装置内にセットされているレチクルを用いて処理可能な
ロットを検索してそのロットを露光装置に搬送し、処理
可能ロットが存在しない場合は、露光処理で使用するレ
チクル毎に、仕掛りロット数を算出し、算出した結果か
ら、もっとも仕掛かりの多いレチクルを該当露光装置に
搬送すると共に、そのレチクルを用いるロットを該当露
光装置に搬送する処理である。
【0013】
【0014】
【0015】
【0016】
【0017】
【0018】また、進捗率判断処理と、搬送制御処理と
を有するレチクル搬送制御方法であって、進捗率判断処
理は、ロット検索処理によって、該当ロットが存在する
場合は、各該当ロットの進捗率を計算し、進捗が遅れて
いるロットの存在有無をチェックして進捗遅れのロット
が存在する場合に、進捗率をキーに該当ロットをソート
する処理であり、搬送制御処理は、レチクル使用可否の
チェック処理と、レチクルの所在チェック処理と、搬送
処理とを含み、作業中のレチクル、設備保管中のレチク
ルにより処理可能なロットが存在しない場合に、レチク
ル保管棚に保管されているレチクル毎に、仕掛りロット
数を集計し、その集計結果をもとに、レチクルを決定
し、そのレチクルを使用して処理するロットのなかで進
捗が1番遅れているロットを選択し、該当露光装置に、
そのロットおよびレチクルを搬送するものである。
【0019】本発明によれば、レチクルを処理ロットと
同時に運ぶために、露光装置でロットの時間待ちやレチ
クル待ちの発生がなくなる。また、露光装置にセットさ
れているレチクルで処理可能なロットを優先して搬送さ
せることや、仕掛りロットの多いレチクルを優先して搬
送させることで、レチクルの交換や搬送回数を最小限に
コントロールする事が可能になる。
【0020】
【発明の実施の形態】(実施形態1)本発明の第1の実
形態を、図を用いて説明する。図1は、本実施形態のレ
チクル搬送装置のブロック図である。図において、本発
明は、半導体の製造ライン107に、露光装置110
と、レチクル保管庫108と、製品保管庫109と、搬
送装置113とを有しているものである。
【0021】製造ライン107は、中央処理装置101
によって制御される。中央処理装置101は、ロット情
報記憶装置102と、レチクル情報記憶装置103と、
処理手順情報記憶装置104を有している。
【0022】ロット情報記憶装置102には、ロットの
状態、仕掛り工程、納期が記憶され、レチクル情報記憶
装置103には、レチクルの状態および所在情報が記憶
されている。
【0023】処理手順情報記憶装置104には、各半導
体装置の処理手順、処理条件および処理時間が記憶され
ているものである。また、中央処理装置101は、レチ
クルとロットとの搬送をコントロールする搬送コントロ
ールプロセス105も有している。
【0024】レチクル保管棚108は、レチクルを保管
し、製品保管棚109は、処理待ちの製品を保管してい
る。露光装置110は、半導体装置の露光処理を行うも
のであり、これらの装置が、ネットワーク106によっ
て中央処理装置101に接続されているものである。
【0025】搬送装置113は、レチクル保管棚108
及び製品保管棚109と露光装置110間や、製品保管
棚109の相互間で、ロットやレチクルを搬送するもの
である。露光装置110においては、レチクルを複数枚
保管可能なレチクルチェンジャー112および、製品保
管棚109から露光装置110に搬送されてきた製品を
一時的に保管するためのポート111を複数有してい
る。
【0026】図2は、ロット状態記憶装置102のデー
タ構成図である。ロット状態記憶装置102には、ロッ
トNo.(No.1,2,3・・・)ごとに、使用して
いる処理手順名(例えば処理手順A,D,B・・・)、
そのロットが仕掛かっている仕掛工程(例えば工程C,
E,F・・・)、ロットの所在および状態(例えばロッ
トNo.1は、設備A:処理中、ロットNo.2は、棚
B:保管、ロットNo.3は、搬送中など)、納期日時
(例えば納期A,B,C,・・・)が記憶されている。
【0027】図3は、レチクル情報記憶装置103のデ
ータ構成図である。レチクル情報記憶装置103には、
レチクル毎ごとに、レチクル名(レチクルA,B,C・
・・)、レチクルの所在(例えば設備A、棚A、設備B
など)、レチクル使用状態(例えば使用中、保管、な
ど)が記憶されている。
【0028】図4は、処理手順情報記憶装置104のデ
ータ構造図である。処理手順情報記憶装置104には、
処理手順名毎に、処理の流れ(例えば処理手順Aな
ど)、工程(工程A,B,C・・・)の各工程毎の処理
条件と露光工程で使用すべきレチクル名(例えば設備
A:条件α、設備C:条件β:レチクルA、設備E:条
件βなど)および処理時間(例えば処理時間A,B,C
・・・)が記憶されている。
【0029】本発明は、進捗率判断処理と、搬送制御処
理とを行うものである。最初に、露光工程仕掛りで、製
品保管棚に保管されているロットが検索され、進捗率判
断処理として、納期、残工程、各工程の処理時間から算
出された進捗率が参照される。
【0030】搬送制御処理は、レチクル使用可否をチェ
ックし、レチクルの所在をチェックし、レチクルの搬送
をコントロールする。すなわち、参照した進捗率で、進
捗遅れロットが存在する場合、該当ロットの処理の可否
をチェックし、可能ならそのロットを露光装置へ搬送す
る。この時、装置に該当レチクルが存在しない場合は、
同時にレチクルも搬送する。
【0031】進捗遅れロットが存在しない場合は、露光
装置内にセットされているレチクルで処理可能なロット
を検索して搬送する。処理可能ロットが存在しない場合
は、露光処理で使用するレチクル毎に、仕掛りロット数
を算出する。算出した結果から、最も仕掛かりの多いレ
チクルを該当露光装置に搬送すると共に、ロットを該当
露光装置に搬送する。
【0032】以下にその詳細を図5の搬送コントロール
プロセスの動作フローを用いて説明する。図5におい
て、処理完了ロットがポート111から搬送装置113
で回収された時に、露光装置110は、ネットワーク1
06を介して中央処理装置101に、処理ロットの搬送
を要求する。
【0033】中央処理装置101は、搬送要求信号を受
信したら、搬送コントロールプロセス105に起動信号
を送信する。起動信号を受信した搬送コントロールプロ
セス105は、ロット検索処理として、最初に、露光工
程仕掛りで、製品保管棚109に保管されているロット
をロット情報記憶装置102から検索する(ステップ5
01)。
【0034】検索した結果、該当ロットが存在しない場
合は、入庫検索処理として、製品保管棚109に、新た
なロットが入庫されるのを監視し、入庫が発生したとこ
ろで再検索を行う(ステップ502)。もし該当ロット
が存在する場合は、各該当ロットの進捗率を計算する
(ステップ503)。
【0035】尚、進捗率は、式1に示す通り、残りの処
理工程の各処理時間の和を処理手順情報記憶装置104
から求め、現在日時と、ロット情報記憶装置102が記
憶している納期日時の差で割った値である。 進捗率=残処理工程の処理時間の総和/(現在日時ー納期日時)(式1) 各ロットの進捗率結果が所定の値より小さい値のロット
(進捗が遅れているロット)の存在有無をチェックする
(ステップ504)。
【0036】進捗遅れのロットが存在する場合は、進捗
率をキーに該当ロットをソートする(ステップ50
5)。ソート後、搬送制御処理が行われるが、搬送制御
処理は、レチクル使用可否のチェック処理として、最も
進捗の遅れているロットの使用レチクルを処理手順情報
記憶装置104から検索し、レチクル状態記憶装置10
3を用い、該当レチクルの所在をレチクル保管棚108
で保管中または、搬送要求信号を送信した設備内で保管
ないしは使用中かを検索して、レチクル使用の可否をチ
ェックする。
【0037】もし他の設備で保管ないしは使用中で不可
の場合は、次の進捗遅れロットについて同様の検索をす
る(ステップ506)。検索の結果、レチクルが使用可
の場合は、レチクルの所在チェック処理として、そのレ
チクルの所在をチェックする(ステップ507)。該当
レチクルがレチクル保管棚108に保管されている場合
は、該当ロットと該当レチクルとを一緒に搬送装置11
3を用いて該当露光装置110に搬送する搬送指示を行
う(ステップ508)。
【0038】また、この搬送の時に、露光装置110内
に保管されているレチクルと交換し、交換したレチクル
は、搬送装置113を用いてレチクル保管棚108に搬
送処理され、棚に保管される。
【0039】該当レチクルが該当露光装置110に存在
する場合は、該当ロットのみを搬送装置113で該当露
光装置110に搬送する搬送指示を行う(ステップ50
9)。全ての進捗遅れロットで使用されるレチクルが使
用不可の場合は、進捗遅れでないロットの有無を確認す
る(ステップ510)。
【0040】進捗が遅れでないロットが存在する場合
は、該当露光装置で作業処理中のレチクルで処理可能な
ロットを検索する(ステップ511)。もし存在しない
場合は、設備保管中のレチクルで処理可能なロットを検
索する(ステップ512)。
【0041】検索の結果、処理可能なロットが存在する
場合は、該当ロットを搬送装置113で該当露光装置1
10に搬送する搬送指示を行う(ステップ513)。ま
た、この指示に基づく搬送処理としての搬送の時に、露
光装置110内に保管されているレチクルと交換し、交
換したレチクルは搬送装置113を用いてレチクル保管
棚108に搬送して棚上に保管する。
【0042】(実施形態2)次に、本発明の第2の実施
形態を図を用いて説明する。図6は、第2の実施形態の
搬送コントロールプロセス105の動作フローを示す図
である。
【0043】本実施形態においても第1の実施形態と同
様に、搬送コントロールプロセス105が起動信号を受
信したら、該当露光装置110の作業中レチクルで処理
可能なロットが製品保管棚109に保管されてないか、
どうかを検索する(ステップ601)。
【0044】もし、ロットが存在する場合は、搬送装置
113を用いて該当ロットを該当露光装置110に搬送
する。作業中、レチクルで処理可能なロットが存在しな
い場合は、該当露光装置110で保管されている設備保
管中のレチクルで処理可能なロットが製品保管棚109
に保管されてないか、どうかを検索する(ステップ60
2)。
【0045】もし、ロットが存在する場合は、搬送装置
113を用いて該当ロットを該当露光装置110に搬送
する、尚、上記検索処理(ステップ601,602)に
おいて、処理可能なロットが複数存在する場合は、進捗
が遅れているロットを優先する。
【0046】次に、作業中レチクル、設備保管中レチク
ルで処理可能なロットが存在しない場合は、レチクル保
管棚108に保管されているレチクル毎に、仕掛りロッ
ト数を集計する(ステップ603)。
【0047】図7は、ステップ603での集計結果のデ
ータ構造図である。レチクル保管棚108に保管されて
いるレチクル(レチクルA,B,C・・・)をキーに、
そのレチクルを使用して露光処理を行うロットを、ロッ
ト情報記憶装置102から検索する。そのときに、露光
処理に仕掛かっているロットと露光処理の1・2工程前
に仕掛かっているロットを検索の対象とし、そのロット
数とウェーハ枚数を集計する。
【0048】本実施形態においては、搬送制御処理とし
て、その集計結果をもとに、レチクルを決定し、そのレ
チクルを使用して処理するロットのなかで進捗が1番遅
れているロットを選択し、搬送装置113を用いて該当
露光装置110に、そのロットおよびレチクルを搬送す
る(ステップ604)。
【0049】次に、前記レチクル名毎の仕掛りロットの
集計データを用いて、搬送指示するレチクルの決定方法
について説明する。図8は、レチクルの決定方法を示し
た流れ図である。集計結果が出力されたら、露光処理仕
掛りのロットが1番多いレチクルを選択する(ステップ
801)。もしロットが同じの場合は、ウェーハ枚数の
多いレチクルを選択する(ステップ802)。図7の例
では、レチクルAが選択される。
【0050】仕掛りロット数およびウェーハ枚数が同数
のレチクルが複数存在する場合は、その該当レチクルの
露光処理1工程前のロット数とウェーハ枚数で同様の選
択を行う(ステップ803,804)。
【0051】露光処理1工程前のロット数とウェーハ枚
数も同数の場合は、露光処理2工程前のロット数とウェ
ーハ数で同様の選択を行う(ステップ805,80
6)。仕掛り工程から2工程前までのロット数およびウ
ェーハ枚数が同数のレチクルが存在する場合は、それら
レチクルを使用して処理される仕掛工程ロットの内で進
捗が1番遅れているロットの処理に使用するレチクルを
選択する(ステップ807)。
【0052】
【発明の効果】以上のように、本発明によるときには、
露光装置内に存在するレチクルで処理可能なロットを搬
送するか、あるいは、ロットと共に処理に必要なレチク
ルを同時に搬送するため、ロットまたはレチクルの搬送
遅れによる露光装置の処理待ちがなくなり、露光装置の
稼働率を向上することができる。
【0053】また、本発明によるときには、露光装置内
に存在するレチクルを、仕掛ロットの多いレチクルの順
で、検索を行うために、レチクルの交換および搬送回数
が少なくなり、レチクルにゴミが付着する可能性を低減
できる。さらに、露光工程に仕掛った時に、処理ロット
を決定することによって、進捗遅れロットを優先して処
理することができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の構成を示すブロック図である。
【図2】ロット情報記憶装置のデータ構成図である。
【図3】レチクル情報記憶装置のデータ構成図である。
【図4】処理手順情報記憶装置のデータ構成図である。
【図5】本発明による第1の実施形態を示すレチクル搬
送制御方法のプロセス処理の流れ図である。
【図6】本発明による第2の実施形態を示すレチクル搬
送制御方法のプロセス処理の流れ図である。
【図7】第2の実施形態の処理集計結果のデータ構造図
である。
【図8】第2実施形態のレチクル決定処理の流れ図であ
る。
【符号の説明】
101 中央処理装置 102 ロット情報記憶装置 103 レチクル情報記憶装置 104 処理手順記憶装置 105 搬送コントロールプロセス 106 ネットワーク 107 製造ライン 108 レチクル保管棚 109 製品保管棚 110 露光装置 111 ポート 112 レチクルチェンジャー 113 搬送装置 501〜513 ステップ 601〜605 ステップ 801〜807 ステップ

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 進捗率判断処理と、搬送制御処理とを有
    するレチクル搬送制御方法であって、 進捗率判断処理は、各ロット毎に、納期、残工程、各工
    程の処理時間から算出された進捗率を参照する処理であ
    り、 搬送制御処理は、参照した進捗率の中で、進捗遅れロッ
    トが存在する場合に、該当ロットのレチクルの使用可否
    をチェックし、レチクルの使用が可能ならそのロットを
    露光装置へ搬送し、この時、露光装置に該当レチクルが
    存在しない場合は、同時にレチクルも搬送し、進捗遅れ
    ロットが存在しない場合は、露光装置内にセットされて
    いるレチクルを用いて処理可能なロットを検索してその
    ロットを露光装置に搬送し、処理可能ロットが存在しな
    い場合は、露光処理で使用するレチクル毎に、仕掛りロ
    ット数を算出し、算出した結果から、もっとも仕掛かり
    の多いレチクルを該当露光装置に搬送すると共に、その
    レチクルを用いるロットを該当露光装置に搬送する処理
    であることを特徴とするレチクル搬送制御方法。
  2. 【請求項2】 進捗率判断処理と、搬送制御処理とを有
    するレチクル搬送制御方法であって、 進捗率判断処理は、ロット検索処理によって、該当ロッ
    トが存在する場合は、各該当ロットの進捗率を計算し、
    進捗が遅れているロットの存在有無をチェックして進捗
    遅れのロットが存在する場合に、進捗率をキーに該当ロ
    ットをソートする処理であり、搬送制御処理は、レチクル使用可否のチェック処理と、
    レチクルの所在チェック処理と、搬送処理とを含み、作
    業中のレチクル、設備保管中のレチクルにより処理可能
    なロットが存在しない場合に、レチクル保管棚に保管さ
    れているレチクル毎に、仕掛りロット数を集計し、その
    集計結果をもとに、レチクルを決定し、そのレチクルを
    使用して処理するロットのなかで進捗が1番遅れている
    ロットを選択し、該当露光装置に、そのロットおよびレ
    チクルを搬送することを特徴とするレチクル搬送制御方
    法。
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