JPH11176911A - 基板搬送装置及び基板処理装置 - Google Patents

基板搬送装置及び基板処理装置

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JPH11176911A
JPH11176911A JP9361663A JP36166397A JPH11176911A JP H11176911 A JPH11176911 A JP H11176911A JP 9361663 A JP9361663 A JP 9361663A JP 36166397 A JP36166397 A JP 36166397A JP H11176911 A JPH11176911 A JP H11176911A
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substrate
carrier
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propelled
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JP9361663A
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Jiro Kobayashi
二郎 小林
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 キャリアを安全に取り扱うことと、基板処理
装置に対して効率的な省スペース化を図ることと。 【解決手段】 インターフェイス装置71により、露光
装置100に対してキャリア搬送装置200を接続する
ことができる。キャリア載置台3上のキャリア2中の基
板は、ロボットアーム4によって定盤83上の移動ステ
ージ84上に移載され、移動ステージ84上の基板は、
ロボットアーム4によってキャリア2中に移載される。
インターフェイス装置71は、露光装置100とキャリ
ア搬送装置200との間に設けられて、露光装置100
とキャリア搬送装置200との間で基板を受け渡す際
に、露光装置100とキャリア搬送装置200との位置
決めを行ったり、相互間で情報伝達を行うために利用さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハや
液晶ガラス基板等の基板を搬送する基板搬送装置及び基
板に対して露光等の処理を施す基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】基板処理装置等の半導体プロセス装置
は、ウェハキャリア(以下キャリア)を装置内の適所に
設置してキャリア中の基板に種々のプロセスを実行す
る。
【0003】図11は、従来の半導体プロセス装置の構
造を説明する平面図である。同図において、キャリア設
置台93は、キャリア2を載せる台で、図示を省略する
上下動機構等を有している。キャリア設置台93を必要
時に上下動させることにより、キャリア2中の所望位置
の基板をロボットアーム94に渡すことができる。キャ
リア設置台93は、通常半導体プロセス装置に2〜3個
設けてあって、装置の前面側に配置されていることが多
い。このような配置から、半導体プロセス装置91の設
置面積は、基板サイズの大口径化に比例して大きくなる
ということが理解される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来装置
において、キャリア載置台93に対するキャリア2の設
置は手作業で行われている。この作業の際、基板にダメ
ージを与えないようにキャリア2を取り扱うことが必要
である。特に、基板が12インチ以上の大口径の半導体
ウェハとなると、キャリア2の移動や設置の作業が困難
になると考えられる。同時に、基板1枚毎の付加価値も
上がるため、取り扱いに関してより安全性が要求され
る。
【0005】また、大口径の基板を取り扱うことに伴
い、半導体プロセス装置の設置面積が広くなる可能性が
ある。しかしながら、クリーンルームの有効活用から、
半導体プロセス装置の設置面積も極力省スペース化を要
求されるようになっており、何らかの方策が必要と考え
られている。
【0006】そこで、本発明は、キャリアを安全に取り
扱うことと、基板処理装置等の半導体プロセス装置に対
して効率的な省スペース化を図ることとを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためのものであり、以下に、実施形態に示した各
図面を用いてその内容を説明する。
【0008】本発明の基板搬送装置は、基板を収納する
キャリア(2)を保持する保持部(3)を有し、基板処
理装置(100)に対して自走可能な自走装置(5)
と、前記自走装置から前記基板処理装置に前記基板を受
け渡す際、前記自走装置と前記基板処理装置との位置決
めを行う位置決め手段(71,74,174)とを有す
る。
【0009】また、好ましい態様によれば、前記自走装
置(5)が、前記キャリア(2)を所定位置に昇降させ
る昇降機構(56,57,58)を有することを特徴と
する。
【0010】また、本発明の別の態様によれば、基板を
収容可能なキャリア(2)を載置台(3)上に載置して
移動可能な台車装置(5)と、半導体プロセス装置(2
00)と前記台車装置との間で位置合わせ及び情報伝達
を可能にするインターフェイス装置(71)と、前記台
車装置に設けられ、前記台車装置から前記半導体プロセ
ス装置に基板の受け渡しを行うため、前記キャリアを載
置した前記載置台を所定位置に昇降させる上下駆動装置
(56,57,58)とを備える。
【0011】また、好ましい態様によれば、前記インタ
ーフェイス装置(71)が、前記半導体プロセス装置と
前記台車装置との位置合わせが正確に行われているか否
かを検出する位置センサ(77a,77b)を備えるこ
とを特徴とする。
【0012】また、好ましい態様によれば、前記キャリ
ア(2)中に収納されている基板の処理工程の段階を表
示する工程表示装置(67)をさらに備えることを特徴
とする。
【0013】また、本発明の基板処理装置によれば、基
板に所定の処理を施す基板処理装置(100)であっ
て、基板を収納するキャリア(2)を保持する保持部
(3)を有し前記基板処理装置に対して自走可能な自走
装置(5)から、当該自走装置及び前記基板処理装置の
少なくとも一方に設けた移載装置(88)を介して前記
基板を受け渡す際、前記自走装置と前記基板処理装置と
の位置決めを行う位置決め手段(71,79,81a,
100a)を有することを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板搬送装置
及び基板処理装置の具体的実施形態について図面を参照
しつつ説明する。
【0015】〔第1実施形態〕図1は、第1実施形態の
装置を説明するための側面図であり、基板処理装置であ
る露光装置100と基板搬送装置であるキャリア搬送装
置200との配置関係を示す。露光装置100は、床3
00の上に固定された基台81と、基台81の四隅に立
設された振動吸収用のダンパ82(2個のダンパのみを
図示)と、ダンパ82に姿勢制御及び加速度制御されて
支持された定盤83と、定盤83上で2次元的に移動す
る移動ステージ84と、支持コラム85を介して移動ス
テージ84上方に配置固定された露光光学系86(投影
光学系及び照明光学系を含む)と、キャリア搬送装置2
00と移動ステージ84との間で基板を受け渡す基板移
載機構88とを備える。なお、基板移載機構88は、キ
ャリア搬送装置200に設けられてもよい。また、露光
装置100全体は、チャンバ89で覆われている。この
チャンバ89には、シャッタを設けることもできるウェ
ハ搬送口89aが形成されており、このウェハ搬送口8
9aを介して、基板移載機構88に設けたロボットアー
ム4がキャリア搬送装置200側から基板を受け取る。
【0016】キャリア搬送装置200は、床300の上
に固定された調整台70上を移動するとともに露光装置
100に接続可能な台車本体5と、基板を収納可能なキ
ャリア2を載置するキャリア載置台3とを備える。
【0017】露光装置100とキャリア搬送装置200
との間には、露光装置100とキャリア搬送装置200
との間で基板を受け渡す際に、露光装置100とキャリ
ア搬送装置200との位置決めを行ったり、相互間で情
報伝達を行うためのインターフェイス装置71が設けら
れている。
【0018】なお、露光装置100とキャリア搬送装置
200とを位置決めするときには、露光装置100の基
台81の側面に設けられた基準面100aとキャリア搬
送装置200の基準面200aとを当接させてインター
フェイス装置71で固定する。この際、調整台70は、
キャリア搬送装置200の高さを調整する役割を有する
とともにキャリア搬送装置200の傾きを防止する役割
を有する。
【0019】図2は、図1に示す露光装置100とキャ
リア搬送装置200の平面的な配置を説明する図であ
る。図からも明らかなように、露光装置100に対して
2つのキャリア搬送装置200を接続することができる
ようになっており、各キャリア載置台3上のキャリア2
中の基板は、基板移載機構88のロボットアーム4によ
って定盤83上の移動ステージ84上に移載され、移動
ステージ84上の基板は、ロボットアーム4によってキ
ャリア2中に移載される。
【0020】図3は、図2に示すキャリア搬送装置20
0のA−A矢視断面図である。キャリア搬送装置200
は、台車本体5として、ベース部材51と、ベース部材
51下部に設けた移動用車輪52と、作業者が操作する
ための移動用持ち手53とを備える。ベース部材51の
内部には、上下動機構として、ベース部材51に設けた
ガイド(図示を省略)に案内されてキャリア載置台3と
ともに昇降可能な支持部材56と、支持部材56を上下
に駆動するネジ機構57及びモータ58とが配置されて
いる。キャリア載置台3上には、キャリア2が載置され
る。
【0021】ベース部材51の露光装置100側の面に
は、露光装置100と接続する際に露光装置100及び
キャリア搬送装置200を相互に位置決めして固定する
ためのインターフェイス装置71として、例えばボルト
74が設けられている。このようなボルト74により、
露光装置100とキャリア搬送装置200とが構造上一
体となり、キャリア載置台3上のキャリア2中の基板を
ロボットアーム4によって動作上支障なく確実に取り出
すことができるようになる。尚、ベース部材51には、
ボルト74を操作する為の開口部47aが設けられる。
【0022】また、ベース部材51の露光装置100側
の面には、露光装置100と接続する際に露光装置10
0及びキャリア搬送装置200の相互関で情報の受渡し
を可能にするインターフェイス装置71として、コネク
タ73が固設されている。このようなコネクタ73によ
り、基板の受渡しに際して、露光装置100側からモー
タ58を制御してキャリア載置台3の高さを適宜調節す
ることができる。
【0023】図4は、図1〜図3に示す位置決め方法の
変形例を示したものである。キャリア搬送装置200側
のベース部材51に設けた基準面200aからは、鉛直
軸の回りに回転可能なローラベアリング75a、76a
を有する部材75、76が延びる。露光装置100とキ
ャリア搬送装置200との接続に際して、部材75のロ
ーラベアリング75aは、基台81の基準面100aに
当接し、部材76のローラベアリング76aは、基台8
1の基準面100a側に設けた位置合わせ用の凹部81
aに嵌まる。これにより、両基準面100a、200a
の水平方向の位置合わせが可能になる。例えば図3に示
すボルト74と同様の構造の連結装置等によって、キャ
リア搬送装置200に露光装置100側に向かう一定の
付勢力を与えておけば、露光装置100に対しキャリア
搬送装置200を正確に位置決めできる。
【0024】位置決めに際しては、基台81側に突起さ
せた投受光器77aから出射した検出光がベース部材5
1側に突起させた反射部材77bで反射されて投受光器
77aで検出されるか否かで、位置決めの適否を判断す
ることができる。
【0025】図5は、図4に示す位置決め方法の変形例
を示したものである。ベース部材51に設けた基準面2
00aには、鉛直軸の回りに回転可能なローラベアリン
グ75aを有する部材75と、一対の傾斜面78a、7
8bを有する基準突起78とが形成されている。露光装
置100とキャリア搬送装置200との接続に際して、
部材75のローラベアリング75aは、基準面100a
に当接し、基準突起78の傾斜面78a、78bは、基
台81側に設けた位置合わせ用の一対のローラ79に当
接する。これにより、両基準面100a、200aの水
平方向の位置合わせが可能になる。基準突起78は、基
準面200aの固定側から先端形状が徐々に小さくなる
形状である。
【0026】また、ベース部材51には、ラッチ174
aが設けられており、基台81には、ラッチ174aに
嵌まるローラ174cを有する部材174bが設けられ
ている。かかるラッチ構造により、キャリア搬送装置2
00に露光装置100側に向かう一定の付勢力を与える
ことができ、露光装置100とキャリア搬送装置200
との位置決めが可能となる。
【0027】図6は、露光装置100とキャリア搬送装
置200の制御システムを説明するブロック図である。
露光装置100に設けた制御装置60は、図1に示す基
板移載機構88に設けたロボットアーム4を動作させる
アーム駆動部61、移動ステージ84を動作させるステ
ージ駆動部(図示を省略)等を制御する。また、制御装
置60は、投受光器77aを制御して、露光装置100
に対してキャリア搬送装置200が適切に位置決めされ
たか否かを判断する。さらに、制御装置60は、インタ
ーフェイス装置71の一部を構成するコネクタ173を
介してキャリア搬送装置200側に設けたコネクタ73
に接続される。両コネクタ73、173は、露光装置1
00とキャリア搬送装置200とが位置決めして接続さ
れた際に、互いに電気的に接続されて制御装置60とキ
ャリア搬送装置200側との通信を可能にする。
【0028】キャリア搬送装置200には、モータ58
を駆動してキャリア載置台3を昇降させる台昇降部65
と、キャリア載置台3上のキャリア2中の各位置に基板
があるか否かを判断するウェハセンサ66と、キャリア
搬送装置200の適所に設けた液晶表示器67を駆動す
る液晶ドライバ68とを設けている。これらの台昇降部
65、ウェハセンサ66、及び液晶ドライバ68は、コ
ネクタ73、173を介して露光装置100に設けた制
御装置60によって制御可能となっている。
【0029】制御装置60は、ウェハセンサ66の検出
出力に基づいて台昇降部65を制御してキャリア載置台
3すなわちキャリア2の高さ位置を適宜調節し、ロボッ
トアーム4によるキャリア2中の基板の取り出しを円滑
にする。この結果、露光装置100にキャリア2中の基
板を供給する際に、従来の如くキャリア2に触れる必要
がなくなり、作業が簡単かつ確実なものとなる。
【0030】また、制御装置60は、液晶ドライバ68
を制御してキャリア載置台3上のキャリア2中の基板の
処理の進捗度等を文字・記号等として表示し、作業者が
キャリア搬送装置200を移動させる際の参考とする。
これにより、工程間のキャリア2の移動がスムーズに行
え、工程ミス等の事故を防止できる。
【0031】以下、第1実施形態の装置の動作について
説明する。まず、キャリア搬送装置200に設けたキャ
リア載置台3上にキャリア2を載置する。次に、キャリ
ア搬送装置200を目的の露光装置100まで手動で移
動させる。なお、ここではキャリア搬送装置200を手
動で移動させるが、自動搬送タイプのキャリア搬送装置
であれば自動的に目的の露光装置100まで移動する。
次に、すでに説明した方法によってキャリア搬送装置2
00を露光装置100に対して位置決めして固定する。
このような位置決めにより、キャリア搬送装置200と
露光装置100との間で情報伝達可能となり、露光装置
100側の制御装置60によって搬送装置200が制御
可能となる。次に、キャリア載置台3上のキャリア2か
らロボットアーム4を利用して基板を取り出す。具体的
には、制御装置60がキャリア載置台3の高さ調節を行
ってキャリア2中の未露光の基板とロボットアーム4と
の位置合わせ等を行いつつ、ロボットアーム4によって
キャリア2中から目的とする基板を取り出す。キャリア
2中から取り出された基板は、露光装置100内に搬入
され、移動ステージ84上に載置される。そして、移動
ステージ84によって基板のアライメントを行いつつ露
光光学系86によって所定の露光処理を行う。露光後の
基板は、ロボットアーム4によって露光装置100外に
搬出されて、キャリア2中の未露光の基板と交換され
る。キャリア2中の未露光の基板がすべて露光済みの基
板と交換されたときは、キャリア搬送装置200を露光
装置100から切り離す。そして、キャリア搬送装置2
00を次の処理を施す基板処理装置に移動させる。以上
のような動作を繰り返すことにより、基板の処理が進行
する。
【0032】〔第2実施形態〕図7は、第2実施形態の
基板搬送装置であるキャリア搬送装置200を示す断面
図である。図示のキャリア搬送装置200は、図3に示
したキャリア搬送装置200を自走型にした変形例であ
り、同一部分には同一符号を付して重複説明を省略す
る。
【0033】キャリア搬送装置200の台車本体5内部
には、移動用車輪52を駆動してキャリア搬送装置20
0を移動させる移動装置54と、キャリア搬送装置20
0が自動搬走路に沿って適所を移動しているか否かを監
視するための位置センサ59とが設けられている。位置
センサ59は、開口部59aを介して床に形成されてい
る搬送経路を検出する。
【0034】また、図3のボルト74の代わりに、露光
装置100及びキャリア搬送装置200を相互に位置決
めして固定するための手段として、例えば図5に示す機
構と同様の位置決め固定装置174が設けられている。
【0035】さらに、キャリア2の周囲を覆うようにカ
バー12が取り付けられている。これにより、キャリア
2を周囲環境に対して分離することができ、基板が搬送
経路途中で塵埃によって汚染されることを防止できる。
このカバー12には、基板を取り出すためのスリット開
口13が設けてあって、さらにスリット開口13の内側
には、開閉可能な蓋14が付いている。この蓋14は、
図示を省略する駆動機構によって、露光装置100との
間で基板を受け渡すタイミングで、露光装置100側の
ロボットアーム4の動作に対応して開閉するようになっ
ている。なお、本実施形態では、蓋14をカバー12側
に設けた駆動装置によって駆動しているが、これをベー
ス部材51側に設けた駆動装置によって駆動することも
できる。
【0036】図8は、図7のキャリア搬送装置200の
制御システムを説明するブロック図である。この制御シ
ステムは、図6の制御システムの変形例である。この場
合、キャリア搬送装置200も独自の台車制御装置62
を備えており、位置センサ59からの検出出力に基づい
て移動装置54を制御して、キャリア搬送装置200を
目的の露光装置100まで移動させることができる。
【0037】また、台車制御装置62は、露光装置10
0に設けた制御装置60からの制御信号とウェハセンサ
66の検出出力とに基づいて台昇降部65を制御してキ
ャリア載置台3の高さ位置を適宜調節し、ロボットアー
ム4によるキャリア2中の基板の取り出しを円滑にす
る。また、台車制御装置62は、液晶ドライバ68を制
御してキャリア載置台3上のキャリア2中の基板の処理
工程を表示する。
【0038】〔第3実施形態〕図9は、第3実施形態の
基板搬送装置及び基板処理装置を示す平面図である。第
3実施形態は、図1及び図2に示す第1実施形態の装置
を変形したものである。ここでは、露光装置300aの
前段にコータ・デベロッパ300bをインライン接続し
て半導体プロセス装置300としている。このような半
導体プロセス装置では、コータ・デベロッパ300bで
レジスト塗布された基板は、インターフェース300c
を通って露光装置300aに供給され、露光処理後再び
インターフェース300cを通ってコータ・デベロッパ
300aに戻り、現像処理される構成になっている。
【0039】この実施形態では、図3や図7に示すもの
と同一構造のキャリア搬送装置200が、コータ・デベ
ロッパ300b側に接続される。この場合も、図示を省
略してあるが、コータ・デベロッパ300bとキャリア
搬送装置200との間には、キャリア搬送装置200と
半導体プロセス装置300とを接続してこれらの間で基
板を受け渡す際に、キャリア搬送装置200とコータ・
デベロッパ300bとの位置決めを行ったり、相互間で
情報伝達を行うためのインターフェイス装置が設けられ
ている。
【0040】〔第4実施形態〕図10は、第4実施形態
の基板搬送装置及び基板処理装置を示す平面図である。
第4実施形態は、図9に示す第3実施形態の装置を変形
したものである。この実施形態では、露光装置300d
にもキャリア搬送装置200を接続することができる。
つまり、キャリア搬送装置200と露光装置300dと
の間にも、キャリア搬送装置200と露光装置300d
との位置決めを行ったり、相互間で情報伝達を行うため
のインターフェイス装置が設けられている。露光装置3
00dがスタンドアロンとして使用される場合、図示の
ようにキャリア搬送装置200を接続することで対応で
きる。露光装置300dがスタンドアロンとして使用さ
れない場合、図中でキャリア搬送装置200が配置され
ている領域分だけ、省スペース化を図ることができる。
【0041】以上実施形態に即してこの発明を説明した
が、この発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、半導体プロセス装置以外の欠陥検査装置、
パターン位置検出装置等にも、上記のようなキャリア搬
送装置200を電気的かつ機械的に接続して基板を受け
渡すことにより、装置の省スペース化を図ることができ
る。また、キャリア搬送装置200によってキャリア2
に収納して搬送する対象は、半導体ウェハに限らず、液
晶ガラス基板等であってもよい。
【0042】
【発明の効果】本発明の基板搬送装置では、位置決め手
段が、前記自走装置から前記基板処理装置に前記基板を
受け渡す際前記自走装置と前記基板処理装置との位置決
めを行うので、必要に応じて自走装置を前記基板処理装
置まで移動させた後位置決めして連結し、自走装置側に
保持した基板を基板処理装置内に円滑に供給することが
できる。この際、自走装置から基板処理装置内に基板を
直接供給できるので、従来存在したキャリア載置台等の
スペースが不要となり、基板処理装置の省スペース化を
図ることができる。
【0043】また、好ましい態様によれば、前記自走装
置が前記キャリアを所定位置に昇降させる昇降機構を有
するので、自走装置を前記基板処理装置と連結した後に
これらの間での基板の受け渡しが容易となる。
【0044】また、本発明の別の態様によれば、インタ
ーフェイス装置が半導体プロセス装置と前記台車との間
で位置合わせ及び情報伝達を可能にし、上下駆動装置が
前記キャリアを載置した前記載置台を所定位置に昇降さ
せるので、前記台車装置から前記半導体プロセス装置内
に基板を直接確実に供給できる。よって、従来存在した
キャリア載置台等のスペースが不要となり、基板処理装
置の省スペース化を図ることができる。
【0045】また、好ましい態様によれば、前記インタ
ーフェイス装置が前記半導体プロセス装置と前記台車装
置との位置合わせが正確に行われているか否かを検出す
る位置センサを備えるので、前記台車装置と前記半導体
プロセス装置との接続がより確実で正確なものとなる。
【0046】また、好ましい態様によれば、前記載置台
上に載置されている前記キャリア中に収納されている基
板の処理工程の段階を表示する工程表示装置をさらに備
えるので、基板の工程管理が容易になる。
【0047】また、本発明の基板処理装置によれば、基
板を収納するキャリアを保持する保持部を有し前記基板
処理装置に対して自走可能な自走装置から、当該自走装
置及び前記基板処理装置の少なくとも一方に設けた移載
装置を介して前記基板を受け渡す際、前記自走装置と前
記基板処理装置との位置決めを行う位置決め手段を有す
るので、自走装置側に保持した基板を基板処理装置内に
円滑に供給することができる。この際、自走装置から基
板処理装置内に基板を直接供給できるので、従来存在し
たキャリア載置台等のスペースが不要となり、基板処理
装置の省スペース化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の装置の構造を説明する側面図で
ある。
【図2】図1の装置の平面構造を示す図である。
【図3】図1の基板搬送装置の構造を説明する断面図で
ある。
【図4】図1及び図2に示す装置の別の接続例を説明す
る図である。
【図5】図4に対する別の接続例を説明する図である。
【図6】図1及び図2に示す装置の制御システムを説明
するブロック図である。
【図7】第2実施形態の基板搬送装置の構造を説明する
断面図である。
【図8】第2実施形態の装置の制御システムを説明する
ブロック図である。
【図9】第3実施形態の装置の平面構造を説明する図で
ある。
【図10】第4実施形態の装置の平面構造を説明する図
である。
【図11】従来の基板処理装置の平面構造を示す図であ
る。
【符号の説明】
2 キャリア 3 キャリア設置台 4 ロポットアーム 5 台車本体 12 カバー 52 移動用車輪 51 ベース部材 55 支持部材 71 インターフェイス装置 81 基台 88 基板移載機構 200 キャリア搬送装置 100 露光装置 300 半導体プロセス装置 300a,300d 露光装置 300b コータ・デベロッパ 300c インターフェース

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を収納するキャリアを保持する保持
    部を有し、基板処理装置に対して自走可能な自走装置
    と、 前記自走装置から前記基板処理装置に前記基板を受け渡
    す際、前記自走装置と前記基板処理装置との位置決めを
    行う位置決め手段とを有する基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記自走装置は、前記キャリアを所定位
    置に昇降させる昇降機構を有することを特徴とする請求
    項1に記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 基板を収容可能なキャリアを載置台上に
    載置して移動可能な台車装置と、 半導体プロセス装置と前記台車装置との間で位置合わせ
    及び情報伝達を可能にするインターフェイス装置と、 前記台車装置に設けられ、前記台車装置から前記半導体
    プロセス装置に基板の受け渡しを行うため、前記キャリ
    アを載置した前記載置台を所定位置に昇降させる上下駆
    動装置とを備える基板搬送装置。
  4. 【請求項4】 前記インターフェイス装置は、前記半導
    体プロセス装置と前記台車装置との位置合わせが正確に
    行われているか否かを検出する位置センサを備えること
    を特徴とする請求項3記載の基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 前記キャリア中に収納されている基板の
    処理工程の段階を表示する工程表示装置をさらに備える
    ことを特徴とする請求項3記載の基板搬送装置。
  6. 【請求項6】 基板に所定の処理を施す基板処理装置で
    あって、 基板を収納するキャリアを保持する保持部を有し前記基
    板処理装置に対して自走可能な自走装置から、当該自走
    装置及び前記基板処理装置の少なくとも一方に設けた移
    載装置を介して前記基板を受け渡す際、前記自走装置と
    前記基板処理装置との位置決めを行う位置決め手段を有
    することを特徴とする基板処理装置。
JP9361663A 1997-12-11 1997-12-11 基板搬送装置及び基板処理装置 Withdrawn JPH11176911A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6698944B2 (en) 2000-06-15 2004-03-02 Nikon Corporation Exposure apparatus, substrate processing unit and lithographic system, and device manufacturing method
JP2014165434A (ja) * 2013-02-27 2014-09-08 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置

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