JPH11175576A - レイアウト検証システム - Google Patents

レイアウト検証システム

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JPH11175576A
JPH11175576A JP9338446A JP33844697A JPH11175576A JP H11175576 A JPH11175576 A JP H11175576A JP 9338446 A JP9338446 A JP 9338446A JP 33844697 A JP33844697 A JP 33844697A JP H11175576 A JPH11175576 A JP H11175576A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
current density
layout
electromigration
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9338446A
Other languages
English (en)
Inventor
Susumu Sugita
晋 杉田
Tsuyoshi Takahashi
強 高橋
Kazumasa Yanagisawa
一正 柳澤
Katsuhiko Kubota
勝彦 久保田
Kosuke Okuyama
幸祐 奥山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP9338446A priority Critical patent/JPH11175576A/ja
Publication of JPH11175576A publication Critical patent/JPH11175576A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明はエレクトロマイグレーションの重要
なファクタである温度を考慮しながら、高速に信号線の
エレクトロマイグレーションを検証できるようにする。 【解決手段】 論理回路に対する論理シミュレーション
101において得た各配線(ネット)の動作周波数と論
理回路を元に行ったレイアウト102の結果から回路抽
出103、配線セグメントの電流密度計算104した結
果と、レイアウトの結果から熱回路抽出105、各配線
セグメントの温度計算106、許容電流密度計算107
を行った結果を比較し、エレクトロマイグレーションの
不良判定108を行う。 【効果】 エレクトロマイグレーションの重要なファク
タである温度を考慮しながら、高速に信号線のエレクト
ロマイグレーションが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
設計技術に関わり、特にレイアウト検証ツールを利用し
てエレクトロマイグレーションの検証を行ってその解析
に資するレイアウト検証方法及びレイアウト検証システ
ムに関する。
【0002】
【従来の技術】エレクトロマイグレーションとは、過度
の電流が金属配線に一定時間加わることにより、配線中
の金属原子が周辺のSi酸化膜に拡散する現象である。
エレクトロマイグレーションに起因するボイド(voi
d)は高い抵抗値を引き起こし、最終的には断線不良を
引き起こす。また、エレクトロマイグレーションに起因
するホイスカ(whisker)・ヒロック(hill
ock)は配線のショート不良を引き起こす。エレクト
ロマイグレーションに起因するボイド・ホイスカ・ヒル
ロックが発生する時間と箇所は、電流密度と温度によっ
て決定される。
【0003】従来のエレクトロマイグレーション不良を
予測し、防止する方法としては、エレクトロマイグレー
ションの不良モデルを解析し、回路シミュレーションを
行うという方法である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
様な回路シミュレーションによる方法では、エレクトロ
マイグレーション不良の発生箇所が回路シミュレーショ
ンの入力パターンに大きく依存するという問題点、膨大
な量の回路シミュレーション時間が必要になるという問
題点、さらに、エレクトロマイグレーションの重要なフ
ァクタである温度を考慮できないという問題点を有して
いる。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、配線ネット毎
の動作周波数データと、レイアウトデータを入力とし、
レイアウトデータから回路ネット(素子、ネット、コン
タクト、及びその接続関係)を抽出する手段と、配線図
形を配線セグメントに分割する手段と、それらの配線セ
グメント毎の電流密度を計算する手段と、レイアウトデ
ータから熱回路ネット(配線セグメント、熱抵抗、及び
その接続関係)を抽出する手段と、それらの配線セグメ
ント毎の温度を計算する手段と、それらの配線セグメン
ト毎の許容電流密度を計算する手段と、配線セグメント
毎の電流密度と許容電流密度を比較し当該配線セグメン
トがエレクトロマイグレーション不良を発生するかを判
定する手段を備えたことを特徴とするレイアウト検証シ
ステムを提供するものである。
【0006】ここで、配線セグメントとは、配線を構成
する矩形、コンタクトをいう。2つの配線を構成する同
一層の矩形がT字型、又は十字型を構成する場合は、そ
の交点で矩形を2つの矩形に分割しそれらの矩形を配線
セグメントとする。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例によるブロック
図を第1図に示す。このシステムは、電流密度計算処理
12と、許容電流密度計算処理13と、EM不良判定処
理14からなるEM検証装置11で構成されている。ま
た、1はレイアウト結果、2は配線ネット名とそのネッ
トの動作周波数情報、3は特性情報、4および5はそれ
ぞれ本装置から処理後に出力されるリストおよび表示用
データ、そして6はその表示データ用の表示装置であ
る。
【0008】以下、第2図に示した本装置を用いたエレ
クトロマイグレーション検証方法の概略的な処理手順を
示す処理フローについて説明する。
【0009】最終的な論理回路111に対して論理シミ
ュレーション101を行い、配線ネット名と動作周波数
112を得ておく。次にこの論理回路を元にレイアウト
102を行ったレイアウト結果114と配線間の容量値
を計算する基本データとなる特性情報113を入力し、
回路抽出103を行い回路図を得る。その回路図と先に
求めておいた配線ネット名と動作周波数112を用いて
各配線セグメントの電流密度計算104を行い、電流密
度を得る。また、先に得た回路図から熱回路抽出105
を行い熱回路を得る。その熱回路から熱回路方程式を作
成し、各配線セグメントの温度計算106を行い、セグ
メント温度を得る。各セグメントの温度から許容電流密
度計算107を行い、許容電流密度を得る。先に求めた
配線セグメントの電流密度と同じ配線セグメントの許容
電流密度を比較し、電流密度が許容電流密度を超えると
きエレクトロマイグレーション不良と判定108し、検
証結果としてリスト115と表示用データ116を出力
する。
【0010】第3図を元に熱回路の抽出処理について説
明する。レイアウトデータ211を入力し、回路抽出2
01を行って、配線と基板間の容量値と配線間の容量値
が付いた回路図212を得る。その回路図212を入力
し、熱回路抽出202で以下の処理を行う。それらの容
量値を元に熱抵抗値を計算し配線と基板間および配線間
に熱抵抗として挿入し、各配線の動作周波数から計算し
た各配線の電流値を持つ電流源を配線に繋げることで熱
回路213を得る。
【0011】第4図を元に配線図形を配線セグメントに
分割する処理について説明する。
【0012】同層の配線図形401、402がT字型の
交差を構成する場合、T字型の横棒を構成する配線図形
401をその交点で分割し、分割後の配線図形403、
404およびT字型の縦棒を構成する配線図形405を
配線セグメントとする。
【0013】同層の配線図形411、412が十字型の
交差を構成する場合、十字型の任意の1つの配線図形4
11をその交点で分割し、分割後の配線図形413、4
14および十字型の残りの配線図形415を配線セグメ
ントとする。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
エレクトロマイグレーションの重要なファクタである温
度を考慮した上で、全ての信号線について、実用的な処
理時間でエレクトロマイグレーション不良の発生箇所を
検出できる。この様に前述した諸問題を容易に解決可能
なシステムである。また本発明によれば、従来のエレク
トロマイグレーションの解析方法では取り扱うことが出
来なかったコンタクトも解析の対象とすることが出来
る。また適用できる回路も、MOSのみならず、一般的
に論理回路として用いられるバイポーラ、IIL、Bi
−CMOSを利用した回路、及びこれらで混成された回
路にも容易に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に関わるエレクトロマイグレ
ーション検証装置のブロック図である。
【図2】図1の装置を用いたエレクトロマイグレーショ
ン検証方法の概略的な処理手順を示す処理フローであ
る。
【図3】レイアウトデータから抽出した配線間の容量値
を元に熱抵抗を計算することによって熱回路ネットを作
成する演算手法の一例説明図である。
【図4】配線図形から配線セグメントを作成する演算手
法の一例説明図である。
【符号の説明】
1…レイアウト結果情報、2…配線ネット名とそのネッ
トの動作周波数情報、3…特性情報、4…検証結果出力
リスト、5…表示用データ、6…表示装置、11…EM
検証装置、12…電流密度計算処理、13…許容電流密
度計算処理14…EM不良判定処理、101…論理シミ
ュレーション、102…レイアウト、103…回路抽出
処理、104…各配線セグメントの電流密度計算、10
5…熱回路抽出処理、106…各配線セグメントの温度
計算、107…許容電流密度計算、108…エレクトロ
マイグレーション不良判定処理、111…論理回路、1
12…配線ネット名と動作周波数、113…特性情報、
114…レイアウト結果
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保田 勝彦 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 奥山 幸祐 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】配線ネット毎の動作周波数データと、レイ
    アウトデータと、特性情報を入力し、レイアウトデータ
    から回路ネット(素子、ネット、コンタクト、及びその
    接続関係)を抽出する手段と、配線図形を配線セグメン
    トに分割する手段と、それらの配線セグメント毎の電流
    密度を計算する手段と、レイアウトデータから熱回路ネ
    ット(配線セグメント、熱抵抗、及びその接続関係)を
    抽出する手段と、それらの配線セグメント毎の温度を計
    算する手段と、それらの配線セグメント毎の許容電流密
    度を計算する手段と、配線セグメント毎の電流密度と許
    容電流密度を比較し当該配線セグメントがエレクトロマ
    イグレーション(以下EMと略す)不良を発生するかを
    判定する手段を備えたことを特徴とするレイアウト検証
    システム。
  2. 【請求項2】レイアウトデータから熱回路ネット(配線
    セグメント、熱抵抗、及びその接続関係)を抽出する手
    段において、レイアウトデータから抽出した配線間の容
    量値を元に熱抵抗を計算することによって熱回路ネット
    を作成する手段を備えたことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載のレイアウト検証システム。
JP9338446A 1997-12-09 1997-12-09 レイアウト検証システム Pending JPH11175576A (ja)

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JP9338446A JPH11175576A (ja) 1997-12-09 1997-12-09 レイアウト検証システム

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JP9338446A JPH11175576A (ja) 1997-12-09 1997-12-09 レイアウト検証システム

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JPH11175576A true JPH11175576A (ja) 1999-07-02

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ID=18318238

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JP9338446A Pending JPH11175576A (ja) 1997-12-09 1997-12-09 レイアウト検証システム

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