JPH11162912A - ウエハ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハの洗浄を行う際に、洗浄液は上部ホイ
ールが浸漬する量で洗浄を行うことができ、使用薬液の
低減化を図ることができるウエハ洗浄装置を提供する。 【解決手段】 ウエハ洗浄装置１において、ウエハ９を
洗浄するための洗浄液１０が溜められるハウジング２
と、このハウジング２の中でウエハ９を保持したまま回
転するテーブル３と、洗浄液１０を攪拌させるために回
転する上部ホイール７とを具備する。また、洗浄液１０
を冷却する冷却ユニット８を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
製造装置の一部であるウエハ洗浄装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、従来のウエハ洗浄装置は、ウエ
ハ数十枚を薬品洗浄槽へ浸漬させて洗浄を行い、隣接す
るリンス槽で濯ぎを行う。さらに、そのウエハを乾燥さ
せるために、高速で回転させたり、揮発性の高い薬液に
置換させて行うものであった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のウエハ洗浄装置では、洗浄液を１槽増やすと、
リンス槽も合わせて設置しなくてはならない。また、ウ
エハの大口径化などにより、洗浄槽の大型化、使用薬液
の増加をせざるを得ず、また、洗浄効果を上げるために
洗浄液を高温で処理しなければならないという問題点が
ある。

【０００４】本発明は、上記問題点を除去し、ウエハの
洗浄を行う際に、洗浄液は上部ホイールが浸漬する量で
洗浄を行うことができ、使用薬液の低減化を図ることが
できるウエハ洗浄装置を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔１〕ウエハ洗浄装置において、ウエハを洗浄するため
の洗浄液が溜められるハウジングと、このハウジングの
中で前記ウエハを保持したまま回転するテーブルと、前
記洗浄液を攪拌させるために回転する上部ホイールとを
設けるようにしたものである。

【０００６】〔２〕上記〔１〕記載のウエハ洗浄装置に
おいて、前記ハウジングに前記洗浄液を供給する給液口
・給水口と、前記ハウジング側面と底面に設けられた排
水口を有するようにしたものである。 〔３〕上記〔２〕記載のウエハ洗浄装置において、前記
給水口は前記ウエハ側面より前記上部ホイールと前記テ
ーブル間を流れるように設けるようにしたものである。

【０００７】〔４〕上記〔２〕記載のウエハ洗浄装置に
おいて、前記排水口は前記給水口と対向する位置と前記
ハウジング底面に設けるようにしたものである。 〔５〕上記〔１〕記載のウエハ洗浄装置において、前記
上部ホイールと前記テーブルは互いに反対方向に回転す
る機構を設けるようにしたものである。 〔６〕上記〔１〕記載のウエハ洗浄装置において、前記
ハウジング内の洗浄液を冷却するための洗浄液冷却手段
を有するようにしたものである。

【０００８】〔７〕上記〔６〕記載のウエハ洗浄装置に
おいて、前記洗浄液冷却手段は前記洗浄液の冷却ユニッ
トである。 〔８〕上記〔６〕記載のウエハ洗浄装置において、前記
洗浄液冷却手段は薬液に添加される凝固剤である。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
第１実施例を示すウエハ洗浄装置の模式断面図、図２は
そのウエハ洗浄装置の洗浄状態を示す模式構成図であ
る。これらの図に示すように、ウエハ洗浄装置１は洗浄
液１０を溜めるハウジング２と、ウエハ９を保持するこ
とができ、なおかつ、回転機構を有するテーブル３、洗
浄液１０を供給する給液口４、洗浄純水を供給する給水
口５（この給水口５は洗浄純水がウエハ９側面から、上
部ホイール７とテーブル３の間を流れるように設置す
る）、洗浄液１０を排出する排水口６、洗浄液１０を攪
拌させるためにウエハ９面と対向する面に溝を付け、回
転機構を有する上部ホイール７により構成されている。

【００１０】次に、第１実施例のウエハ洗浄装置の動作
について説明する。まず、洗浄されるウエハ９はテーブ
ル３に吸着される。この時、上部ホイール７はウエハ９
移載と干渉しない位置に退避する（図１参照）。次い
で、給液口４より洗浄液１０をハウジング２内へ供給す
る。供給する液量は、図２に示すように、上部ホイール
攪拌部が浸漬するまで供給する。また、同時に上部ホイ
ール７もウエハ９直上に移動する。洗浄液１０の供給が
終了したら、上部ホイール７とテーブル３が回転し、洗
浄液１０の攪拌を行う。この時、上部ホイール７とテー
ブル３は反する方向へ回転させる。ウエハ９の洗浄が終
了したら、薬液を排水口６から排出し、給水口５より洗
浄純水を供給して濯ぎを行う。

【００１１】このように、第１実施例によれば、ウエハ
の洗浄を行う時に、洗浄液は上部ホイールが浸漬する量
で洗浄を行うことができるために、使用薬液の低減化を
図ることができる。また、上部ホイールとテーブルを反
する方向に回転させることにより、ウエハ表面と洗浄液
の界面に流れが生じ、その流れにより、汚染除去を常温
で行うことが可能となる。

【００１２】次に、本発明の第２実施例について説明す
る。図３は本発明の第２実施例のウエハ洗浄装置の洗浄
状態を示す模式構成図である。この実施例では、ハウジ
ング２内の洗浄液１０を冷却するための冷却ユニット８
を設け、洗浄液１０を冷却することにより、洗浄液１０
の粘度を高くし、ウエハ９表面と洗浄液１０界面に大き
な摩擦を生じさせる。

【００１３】図３に示すように、ウエハ洗浄装置１は洗
浄液１０を溜めるハウジング２と、ウエハ１０を保持す
ることができ、なおかつ、回転機構を有するテーブル
３、洗浄液を供給する給液口４、洗浄純水を供給する給
水口５（この給水口５は洗浄純水がウエハ９側面から、
上部ホイール７とテーブル３の間を流れるように設置す
る）、洗浄液１０を排出する排水口６、洗浄液１０を攪
拌させるためにウエハ９面と対向する面に溝を付け、回
転機構を有する上部ホイール７、ハウジング２内の洗浄
液を冷却する冷却ユニット８により構成されている。

【００１４】以下、第２実施例のウエハ洗浄装置の動作
について説明する。洗浄されるウエハ９はテーブル３に
吸着される。この時、上部ホイール７はウエハ移載と干
渉しない位置に退避する。次に、洗浄液１０をハウジン
グ２内へ供給する。供給する液量は、図３に示すよう
に、上部ホイール攪拌部が浸漬するまで供給する。ま
た、同時に上部ホイール７もウエハ９直上に移動する。
洗浄液１０の供給が終了したら、上部ホイール７とテー
ブル３が回転し、洗浄液１０の攪拌を行う。この時、上
部ホイール７とテーブル３は反する方向へ回転させる。
同時に洗浄液１０の冷却を開始する。ウエハ９の洗浄が
終了したら、薬液を排水口６から排出し、給水口５より
洗浄純水を供給して濯ぎを行う。

【００１５】このように、第２実施例によれば、ウエハ
の洗浄を行う時に、洗浄液は上部ホイールが浸漬する量
で洗浄を行うことができるために、使用薬液の低減化を
図ることができる。また、洗浄液を冷却することによ
り、洗浄液の粘度を高くし、ウエハ表面と洗浄液界面に
大きな摩擦を生じさせる。この摩擦により、非接触での
スクライブ効果が得られる。さらに、上部ホイールとテ
ーブルを反する方向に回転させることにより、ウエハ表
面と洗浄液の界面に流れが生じ、その流れにより汚染除
去を常温で行うことが可能となる。

【００１６】この第２実施例では、洗浄液の粘度を高く
するために、冷却ユニットを用いたが、薬液に凝固剤を
添加することでも可能である。なお、本発明は上記実施
例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて
種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排
除するものではない。

【００１７】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、次のような効果を奏することができる。 （１）請求項１乃至４記載の発明によれば、ウエハの洗
浄を行う時に、洗浄液は上部ホイールが浸漬する量で洗
浄を行うことができるために、使用薬液の低減を図るこ
とができる。

【００１８】（２）請求項５記載の発明によれば、上部
ホイールとテーブルを反する方向に回転させることによ
り、ウエハ表面と洗浄液の界面に流れが生じ、その流れ
により汚染除去を常温で行うことが可能となる。 （３）請求項６乃至８記載の発明によれば、洗浄液を冷
却することにより、洗浄液の粘度を高くし、ウエハ表面
と洗浄液界面に大きな摩擦を生じさせることができる。
この摩擦により、非接触でのスクライブ効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例を示すウエハ洗浄装置の模
式断面図である。

【図２】本発明の第１実施例のウエハ洗浄装置の洗浄状
態を示す模式構成図である。

【図３】本発明の第２実施例のウエハ洗浄装置の洗浄状
態を示す模式構成図である。

【符号の説明】

１ ウエハ洗浄装置 ２ 洗浄液を溜めるハウジング ３ 回転機構を有するテーブル ４ 洗浄液を供給する給液口 ５ 洗浄純水を供給する給水口 ６ 洗浄液を排出する排水口 ７ 上部ホイール ８ 冷却ユニット ９ ウエハ １０ 洗浄液

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）ウエハを洗浄するための洗浄液が溜
   められるハウジングと、（ｂ）該ハウジングの中で前記
   ウエハを保持したまま回転するテーブルと、（ｃ）前記
   洗浄液を攪拌させるために回転する上部ホイールとを具
   備することを特徴とするウエハ洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のウエハ洗浄装置におい
   て、前記ハウジングに前記洗浄液を供給する給液口・給
   水口と、前記ハウジング側面と底面に設けられた排水口
   を有することを特徴とするウエハ洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載のウエハ洗浄装置におい
   て、前記給水口は前記ウエハ側面より前記上部ホイール
   と前記テーブル間を流れるように設けられたことを特徴
   とするウエハ洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項２記載のウエハ洗浄装置におい
   て、前記排水口は前記給水口と対向する位置と前記ハウ
   ジング底面に設けられたことを特徴とするウエハ洗浄装
   置。
5. 【請求項５】 請求項１記載のウエハ洗浄装置におい
   て、前記上部ホイールと前記テーブルは互いに反対方向
   に回転する機構を有することを特徴とするウエハ洗浄装
   置。
6. 【請求項６】 請求項１記載のウエハ洗浄装置におい
   て、前記ハウジング内の洗浄液を冷却するための洗浄液
   冷却手段を有することを特徴とするウエハ洗浄装置。
7. 【請求項７】 請求項６記載のウエハ洗浄装置におい
   て、前記洗浄液冷却手段は前記洗浄液の冷却ユニットで
   あることを特徴とするウエハ洗浄装置。
8. 【請求項８】 請求項６記載のウエハ洗浄装置におい
   て、前記洗浄液冷却手段は薬液に添加される凝固剤であ
   ることを特徴とするウエハ洗浄装置。