JPH11158107A - カルボニル化合物の製造法 - Google Patents
カルボニル化合物の製造法Info
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- JPH11158107A JPH11158107A JP33253697A JP33253697A JPH11158107A JP H11158107 A JPH11158107 A JP H11158107A JP 33253697 A JP33253697 A JP 33253697A JP 33253697 A JP33253697 A JP 33253697A JP H11158107 A JPH11158107 A JP H11158107A
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- alcohol
- hydrogen peroxide
- mmol
- acid
- carbonyl compound
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/29—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation of hydroxy groups
- C07C45/294—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation of hydroxy groups with hydrogen peroxide
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルコール類を過酸化水素で酸化するカルボ
ニル化合物の有利な製造法を提供すること。 【解決手段】 アルコール類と過酸化水素とを、タング
ステン酸類および第４級アンモニウム硫酸水素塩の存在
下に反応させることを特徴とするカルボニル化合物の製
造法。
ニル化合物の有利な製造法を提供すること。 【解決手段】 アルコール類と過酸化水素とを、タング
ステン酸類および第４級アンモニウム硫酸水素塩の存在
下に反応させることを特徴とするカルボニル化合物の製
造法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアルコール類の酸化
方法に関し、さらに詳しくは、過酸化水素を酸化剤とす
る優れた収率、優れた選択性を有するカルボニル化合物
の製造法に関する。
方法に関し、さらに詳しくは、過酸化水素を酸化剤とす
る優れた収率、優れた選択性を有するカルボニル化合物
の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】過酸化水素によるアルコールの酸化方法
としては、タングステン酸ナトリウムとメチルトリオク
チルアンモニウムクロリドからなる触媒系を使用する方
法が知られている（J.Org.Chem.,51,1986,2661-266
3.）。しかしながら溶媒としてジクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素が必要であり、環境汚染の観点から
好ましくない。このようなハロゲン化炭化水素溶媒を使
用しない方法として、メチルトリオクチルアンモニウム
テトラキス(オキソジパーオキソタングスト)リン酸触
媒を使用する方法もあるが（J.Org.Chem.,56,1991,5924
-5931.）、過酸化水素基準の収率が数十％と低く、また
危険性の高いタングステン過酸化物を多量に用いなけれ
ばならないため、効率の良い酸化方法が望まれていた。
としては、タングステン酸ナトリウムとメチルトリオク
チルアンモニウムクロリドからなる触媒系を使用する方
法が知られている（J.Org.Chem.,51,1986,2661-266
3.）。しかしながら溶媒としてジクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素が必要であり、環境汚染の観点から
好ましくない。このようなハロゲン化炭化水素溶媒を使
用しない方法として、メチルトリオクチルアンモニウム
テトラキス(オキソジパーオキソタングスト)リン酸触
媒を使用する方法もあるが（J.Org.Chem.,56,1991,5924
-5931.）、過酸化水素基準の収率が数十％と低く、また
危険性の高いタングステン過酸化物を多量に用いなけれ
ばならないため、効率の良い酸化方法が望まれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らはこのよう
な状況に鑑み、ハロゲン化炭化水素溶媒を用いずに過酸
化水素基準の選択率に優れた効率的なアルコールの過酸
化水素酸化を提供することを目的として鋭意検討した結
果、タングステン酸類と第４級アンモニウム硫酸水素塩
共存下に反応させることにより目的を達成できることを
見い出し、本発明を完成させるに至った。
な状況に鑑み、ハロゲン化炭化水素溶媒を用いずに過酸
化水素基準の選択率に優れた効率的なアルコールの過酸
化水素酸化を提供することを目的として鋭意検討した結
果、タングステン酸類と第４級アンモニウム硫酸水素塩
共存下に反応させることにより目的を達成できることを
見い出し、本発明を完成させるに至った。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、アル
コール類と過酸化水素とを、タングステン酸類および第
４級アンモニウム硫酸水素塩の存在下に反応させること
を特徴とするカルボニル化合物の製造法を提供するもの
である。
コール類と過酸化水素とを、タングステン酸類および第
４級アンモニウム硫酸水素塩の存在下に反応させること
を特徴とするカルボニル化合物の製造法を提供するもの
である。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明により得られるカルボニル
化合物としては、ケトン類、カルボン酸類、アルデヒド
類であるが、これらは基質であるアルコール類の種類、
用いる過酸化水素の量に対応して決まる。すなわち、２
級アルコール類が基質の場合には、ケトン類が得られ、
１級アルコール類が基質の場合には、基質に対して１．
５モル倍以上の過酸化水素を用いれば主生成物としてカ
ルボン酸類が得られ、基質に対して１．５モル倍未満の
過酸化水素を用いれば主生成物としてアルデヒド類が得
られる。また、分子内に２級アルコールと１級アルコー
ルが共存する場合は、２級アルコールが選択的に酸化さ
れたヒドロキシケトン類が得られる。
化合物としては、ケトン類、カルボン酸類、アルデヒド
類であるが、これらは基質であるアルコール類の種類、
用いる過酸化水素の量に対応して決まる。すなわち、２
級アルコール類が基質の場合には、ケトン類が得られ、
１級アルコール類が基質の場合には、基質に対して１．
５モル倍以上の過酸化水素を用いれば主生成物としてカ
ルボン酸類が得られ、基質に対して１．５モル倍未満の
過酸化水素を用いれば主生成物としてアルデヒド類が得
られる。また、分子内に２級アルコールと１級アルコー
ルが共存する場合は、２級アルコールが選択的に酸化さ
れたヒドロキシケトン類が得られる。
【0006】本発明における基質の２級アルコール類として
は、例えば、２−プロパノール、２−ブタノール、２−
ペンタノール、３−ペンタノール、２−ヘキサノール、
３−ヘキサノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノー
ル、４−ヘプタノール、２−オクタノール、３−オクタ
ノール、４−オクタノール、２−ノナール、３−ノナー
ル、４−ノナール、５−ノナール、２−デカノール、３
−デカノール、４−デカノール、５−デカノール、１１
−ドデセン−２−オール、１−ドデセン−３−オール、
シクロブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサ
ノール、シクロヘプタノール、シクロオクタノール、シ
クロドデカノール、２−メチルシクロヘキサノール、３
−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサ
ノール、２−tert−ブチルシクロヘキサノール、３−te
rt−ブチルシクロヘキサノール、４−tert−ブチルシク
ロヘキサノール、メントール、１，７，７−トリメチル
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オール、５−シ
クロヘキサデセノール、２−メチル−１，３−ヘキサン
ジオール、２−メチル−１，４−ヘキサンジオール、２
−メチル−１，５−ヘキサンジオール、２−エチル−
１，３−ヘキサンジオール、２−エチル−１，４−ヘキ
サンジオール、２−エチル−１，５−ヘキサンジオー
ル、１−フェニルエタノール、１−(２−フルオロフェ
ニル)エタノール、１−(３−フルオロフェニル)エタノ
ール、１−(４−フルオロフェニル)エタノール、１−
(４−クロロフェニル)エタノール、１−(４−ブロモフ
ェニル)エタノール、１−(４−メトキシフェニル)エタ
ノール、１−(４−メトキシカルボニルフェニル)エタノ
ール、１−(４−アセチルフェニル)エタノール、１−
(４−シアノフェニル)エタノール、１−フェニルプロパ
ノールなどが挙げられる。尚、炭素−炭素２重結合を有
する化合物の適用範囲は１置換オレフィンまたは２置換
オレフィンである。
は、例えば、２−プロパノール、２−ブタノール、２−
ペンタノール、３−ペンタノール、２−ヘキサノール、
３−ヘキサノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノー
ル、４−ヘプタノール、２−オクタノール、３−オクタ
ノール、４−オクタノール、２−ノナール、３−ノナー
ル、４−ノナール、５−ノナール、２−デカノール、３
−デカノール、４−デカノール、５−デカノール、１１
−ドデセン−２−オール、１−ドデセン−３−オール、
シクロブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサ
ノール、シクロヘプタノール、シクロオクタノール、シ
クロドデカノール、２−メチルシクロヘキサノール、３
−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサ
ノール、２−tert−ブチルシクロヘキサノール、３−te
rt−ブチルシクロヘキサノール、４−tert−ブチルシク
ロヘキサノール、メントール、１，７，７−トリメチル
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オール、５−シ
クロヘキサデセノール、２−メチル−１，３−ヘキサン
ジオール、２−メチル−１，４−ヘキサンジオール、２
−メチル−１，５−ヘキサンジオール、２−エチル−
１，３−ヘキサンジオール、２−エチル−１，４−ヘキ
サンジオール、２−エチル−１，５−ヘキサンジオー
ル、１−フェニルエタノール、１−(２−フルオロフェ
ニル)エタノール、１−(３−フルオロフェニル)エタノ
ール、１−(４−フルオロフェニル)エタノール、１−
(４−クロロフェニル)エタノール、１−(４−ブロモフ
ェニル)エタノール、１−(４−メトキシフェニル)エタ
ノール、１−(４−メトキシカルボニルフェニル)エタノ
ール、１−(４−アセチルフェニル)エタノール、１−
(４−シアノフェニル)エタノール、１−フェニルプロパ
ノールなどが挙げられる。尚、炭素−炭素２重結合を有
する化合物の適用範囲は１置換オレフィンまたは２置換
オレフィンである。
【0007】基質の１級アルコール類としては、例えば、エ
タノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペ
ンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１
−オクタノール、１−ノナール、１−デカノール、２−
メチル−１−ヘキサノール、３−メチル−１−ヘキサノ
ール、４−メチル−１−ヘキサノール、５−メチル−１
−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、３−
エチル−１−ヘキサノール、４−エチル−１−ヘキサノ
ール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、１，２−
エポキシ−１０−デカノール、ベンジルアルコール、２
−フルオロベンジルアルコール、３−フルオロベンジル
アルコール、４−フルオロベンジルアルコール、４−ク
ロロベンジルアルコール、４−ブロモベンジルアルコー
ル、４−メトキシベンジルアルコール、４−メトキシカ
ルボニルベンジルアルコール、４−アセチルベンジルア
ルコール、４−シアノベンジルアルコールなどが挙げら
れる。
タノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペ
ンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１
−オクタノール、１−ノナール、１−デカノール、２−
メチル−１−ヘキサノール、３−メチル−１−ヘキサノ
ール、４−メチル−１−ヘキサノール、５−メチル−１
−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、３−
エチル−１−ヘキサノール、４−エチル−１−ヘキサノ
ール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、１，２−
エポキシ−１０−デカノール、ベンジルアルコール、２
−フルオロベンジルアルコール、３−フルオロベンジル
アルコール、４−フルオロベンジルアルコール、４−ク
ロロベンジルアルコール、４−ブロモベンジルアルコー
ル、４−メトキシベンジルアルコール、４−メトキシカ
ルボニルベンジルアルコール、４−アセチルベンジルア
ルコール、４−シアノベンジルアルコールなどが挙げら
れる。
【0008】過酸化水素の使用量はケトン類を製造する場
合、２級アルコール類に対して通常０．８〜３モル倍、
好ましくは０．９〜１．３モル倍の範囲である。カルボ
ン酸類を製造する場合、１級アルコール類に対して通常
１．５〜５モル倍、好ましくは２．０〜２．７モル倍の
範囲であり、アルデヒド類を製造する場合、１級アルコ
ール類に対して通常１．５モル倍未満、好ましくは０．
９〜１．３モル倍の範囲である。過酸化水素の濃度は特
に制限はなく、市販の３０％水溶液で充分であるが、希
釈して用いてもよい。
合、２級アルコール類に対して通常０．８〜３モル倍、
好ましくは０．９〜１．３モル倍の範囲である。カルボ
ン酸類を製造する場合、１級アルコール類に対して通常
１．５〜５モル倍、好ましくは２．０〜２．７モル倍の
範囲であり、アルデヒド類を製造する場合、１級アルコ
ール類に対して通常１．５モル倍未満、好ましくは０．
９〜１．３モル倍の範囲である。過酸化水素の濃度は特
に制限はなく、市販の３０％水溶液で充分であるが、希
釈して用いてもよい。
【0009】タングステン酸類としては、水中でタングステ
ン酸アニオンを生成する化合物であり、例えば、タング
ステン酸ナトリウム２水和塩、タングステン酸カリウム
２水和塩等のタングステン酸アルカリ、タングステン酸
アンモン、三酸化タングステン、三硫化タングステン、
六塩化タングステン、リンタングステン酸などが挙げら
れるが、タングステン酸ナトリウム２水和塩、タングス
テン酸カリウム２水和塩等のタングステン酸アルカリが
好ましい。タングステン酸類は単独で使用しても、２種
類以上を混合使用してもよい。その使用量は基質のアル
コール類に対して通常０．０００１〜５モル％、好まし
くは０．０００５〜３モル％の範囲である。
ン酸アニオンを生成する化合物であり、例えば、タング
ステン酸ナトリウム２水和塩、タングステン酸カリウム
２水和塩等のタングステン酸アルカリ、タングステン酸
アンモン、三酸化タングステン、三硫化タングステン、
六塩化タングステン、リンタングステン酸などが挙げら
れるが、タングステン酸ナトリウム２水和塩、タングス
テン酸カリウム２水和塩等のタングステン酸アルカリが
好ましい。タングステン酸類は単独で使用しても、２種
類以上を混合使用してもよい。その使用量は基質のアル
コール類に対して通常０．０００１〜５モル％、好まし
くは０．０００５〜３モル％の範囲である。
【0010】第４級アンモニウム硫酸水素塩としては、例え
ばテトラメチルアンモニウム硫酸水素、テトラエチルア
ンモニウム硫酸水素、テトラプロピルアンモニウム硫酸
水素、テトラブチルアンモニウム硫酸水素、ベンジルト
リメチルアンモニウム硫酸水素、ベンジルトリエチルア
ンモニウム硫酸水素、ラウリルトリメチルアンモニウム
硫酸水素、ステアリルトリメチルアンモニウム硫酸水
素、ジラウリルジメチルアンモニウム硫酸水素、メチル
トリオクチルアンモニウム硫酸水素、エチルトリオクチ
ルアンモニウム硫酸水素、メチルトリカプリルアンモニ
ウム硫酸水素、Ｎ−ラウリルピリジニウム硫酸水素、Ｎ
−セチルピリジニウム硫酸水素、 Ｎ−ラウリルピコリ
ニウム硫酸水素、 Ｎ−セチルピコリニウム硫酸水素、
Ｎ−ラウリルキノリウム硫酸水素、 Ｎ−セチルキノリ
ウム硫酸水素などが挙げられ、その使用量は基質のアル
コール類に対して通常０．０１〜５モル％、好ましくは
０．０５〜３モル％の範囲である。
ばテトラメチルアンモニウム硫酸水素、テトラエチルア
ンモニウム硫酸水素、テトラプロピルアンモニウム硫酸
水素、テトラブチルアンモニウム硫酸水素、ベンジルト
リメチルアンモニウム硫酸水素、ベンジルトリエチルア
ンモニウム硫酸水素、ラウリルトリメチルアンモニウム
硫酸水素、ステアリルトリメチルアンモニウム硫酸水
素、ジラウリルジメチルアンモニウム硫酸水素、メチル
トリオクチルアンモニウム硫酸水素、エチルトリオクチ
ルアンモニウム硫酸水素、メチルトリカプリルアンモニ
ウム硫酸水素、Ｎ−ラウリルピリジニウム硫酸水素、Ｎ
−セチルピリジニウム硫酸水素、 Ｎ−ラウリルピコリ
ニウム硫酸水素、 Ｎ−セチルピコリニウム硫酸水素、
Ｎ−ラウリルキノリウム硫酸水素、 Ｎ−セチルキノリ
ウム硫酸水素などが挙げられ、その使用量は基質のアル
コール類に対して通常０．０１〜５モル％、好ましくは
０．０５〜３モル％の範囲である。
【0011】反応は通常３０〜１３０℃の範囲で行われ、特
に有機溶媒を必要としないが、反応終了後に使用する抽
出溶媒を予め添加して反応を行ってもよい。このような
有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン、エチル
ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘプタンなどの
脂肪族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒
はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、
その使用量はアルコール類に対して通常０．５〜１０重
量倍、好ましくは１〜５重量倍の範囲である。
に有機溶媒を必要としないが、反応終了後に使用する抽
出溶媒を予め添加して反応を行ってもよい。このような
有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン、エチル
ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘプタンなどの
脂肪族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒
はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、
その使用量はアルコール類に対して通常０．５〜１０重
量倍、好ましくは１〜５重量倍の範囲である。
【0012】かくして得られるカルボニル化合物としては、
例えば、アセトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、３
−ペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、２−
ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−オ
クタノン、３−オクタノン、４−オクタノン、２−ノナ
ノン、３−ノナノン、４−ノナノン、５−ノナノン、２
−デカノン、３−デカノン、４−デカノン、５−デカノ
ン、１１−ドデセン−２−オン、１−ドデセン−３−オ
ン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサ
ノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロド
デカノン、２−メチルシクロヘキサノン、３−メチルシ
クロヘキサノン、４−メチルシクロヘキサノン、２−te
rt−ブチルシクロヘキサノン、３−tert−ブチルシクロ
ヘキサノン、４−tert−ブチルシクロヘキサノン、メン
トン、カンファー、５−シクロヘキサデセノン、２−メ
チル−１−ヒドロキシ−３−ヘキサノン、２−メチル−
１−ヒドロキシ−４−ヘキサノン、２−メチル−１−ヒ
ドロキシ−５−ヘキサノン、２−エチル−１−ヒドロキ
シ−３−ヘキサノン、２−エチル−１−ヒドロキシ−４
−ヘキサノン、２−エチル−１−ヒドロキシ−５−ヘキ
サノン、アセトフェノン、o−フルオロアセトフェノ
ン、 m−フルオロアセトフェノン、 p−フルオロアセト
フェノン、 p−クロロアセトフェノン、 p−ブロモアセ
トフェノン、 p−メトキシアセトフェノン、 p−アセチ
ルアセトフェノン、 p−シアノアセトフェノン、プロピ
オフェノンなどのケトン類、
例えば、アセトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、３
−ペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、２−
ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−オ
クタノン、３−オクタノン、４−オクタノン、２−ノナ
ノン、３−ノナノン、４−ノナノン、５−ノナノン、２
−デカノン、３−デカノン、４−デカノン、５−デカノ
ン、１１−ドデセン−２−オン、１−ドデセン−３−オ
ン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサ
ノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロド
デカノン、２−メチルシクロヘキサノン、３−メチルシ
クロヘキサノン、４−メチルシクロヘキサノン、２−te
rt−ブチルシクロヘキサノン、３−tert−ブチルシクロ
ヘキサノン、４−tert−ブチルシクロヘキサノン、メン
トン、カンファー、５−シクロヘキサデセノン、２−メ
チル−１−ヒドロキシ−３−ヘキサノン、２−メチル−
１−ヒドロキシ−４−ヘキサノン、２−メチル−１−ヒ
ドロキシ−５−ヘキサノン、２−エチル−１−ヒドロキ
シ−３−ヘキサノン、２−エチル−１−ヒドロキシ−４
−ヘキサノン、２−エチル−１−ヒドロキシ−５−ヘキ
サノン、アセトフェノン、o−フルオロアセトフェノ
ン、 m−フルオロアセトフェノン、 p−フルオロアセト
フェノン、 p−クロロアセトフェノン、 p−ブロモアセ
トフェノン、 p−メトキシアセトフェノン、 p−アセチ
ルアセトフェノン、 p−シアノアセトフェノン、プロピ
オフェノンなどのケトン類、
【0013】酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキ
サン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン
酸、２−メチルヘキサン酸、３−メチルヘキサン酸、４
−メチルヘキサン酸、５−メチルヘキサン酸、２−エチ
ルヘキサン酸、３−エチルヘキサン酸、４−エチルヘキ
サン酸、５−エチルヘキサン酸、２，２−ジメチルプロ
パン酸、９，１０−エポキシデカン酸、安息香酸、o−
フルオロ安息香酸、m−フルオロ安息香酸、 p−フルオ
ロ安息香酸、 p−クロロ安息香酸、 p−ブロモ安息香
酸、 p−メトキシ安息香酸、 p−メトキシカルボニル安
息香酸、 p−シアノ安息香酸などのカルボン酸類、
サン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン
酸、２−メチルヘキサン酸、３−メチルヘキサン酸、４
−メチルヘキサン酸、５−メチルヘキサン酸、２−エチ
ルヘキサン酸、３−エチルヘキサン酸、４−エチルヘキ
サン酸、５−エチルヘキサン酸、２，２−ジメチルプロ
パン酸、９，１０−エポキシデカン酸、安息香酸、o−
フルオロ安息香酸、m−フルオロ安息香酸、 p−フルオ
ロ安息香酸、 p−クロロ安息香酸、 p−ブロモ安息香
酸、 p−メトキシ安息香酸、 p−メトキシカルボニル安
息香酸、 p−シアノ安息香酸などのカルボン酸類、
【0014】アセトアルデヒド、プロパナール、ブタナー
ル、ペンタナール、ヘキサナール、ヘプタナール、オク
タナール、ノナール、デカナール、２−メチルヘキサナ
ール、３−メチルヘキサナール、４−メチルヘキサナー
ル、５−メチルヘキサナール、２−エチルヘキサナー
ル、３−エチルヘキサナール、４−エチルヘキサナー
ル、５−エチルヘキサナール、tert−ブチルアセトアル
デヒド、９，１０−エポキシデカナール、ベンズアルデ
ヒド、o−フルオロベンズアルデヒド、 m−フルオロベ
ンズアルデヒド、 p−フルオロベンズアルデヒド、 p−
クロロベンズアルデヒド、 p−ブロモベンズアルデヒ
ド、 p−メトキシベンズアルデヒド、 p−メトキシカル
ボニルベンズアルデヒド、 p−シアノベンズアルデヒド
などのアルデヒド類が挙げられる。
ル、ペンタナール、ヘキサナール、ヘプタナール、オク
タナール、ノナール、デカナール、２−メチルヘキサナ
ール、３−メチルヘキサナール、４−メチルヘキサナー
ル、５−メチルヘキサナール、２−エチルヘキサナー
ル、３−エチルヘキサナール、４−エチルヘキサナー
ル、５−エチルヘキサナール、tert−ブチルアセトアル
デヒド、９，１０−エポキシデカナール、ベンズアルデ
ヒド、o−フルオロベンズアルデヒド、 m−フルオロベ
ンズアルデヒド、 p−フルオロベンズアルデヒド、 p−
クロロベンズアルデヒド、 p−ブロモベンズアルデヒ
ド、 p−メトキシベンズアルデヒド、 p−メトキシカル
ボニルベンズアルデヒド、 p−シアノベンズアルデヒド
などのアルデヒド類が挙げられる。
【0015】かくして生成した目的のカルボニル化合物は、
反応終了後の混合物を分液、チオ硫酸ナトリウム水洗浄
後、蒸留、再結晶やカラムクロマトグラフィーなどの方
法によって取り出すことができる。
反応終了後の混合物を分液、チオ硫酸ナトリウム水洗浄
後、蒸留、再結晶やカラムクロマトグラフィーなどの方
法によって取り出すことができる。
【0016】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、ハロゲン化炭
化水素溶媒を用いずにアルコール類の過酸化水素酸化を
優れた選択性で実施でき、カルボニル化合物、すなわ
ち、ケトン類、カルボン酸類、アルデヒド類を効率良く
製造することができる。
化水素溶媒を用いずにアルコール類の過酸化水素酸化を
優れた選択性で実施でき、カルボニル化合物、すなわ
ち、ケトン類、カルボン酸類、アルデヒド類を効率良く
製造することができる。
【0017】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。 （実施例１）５００−ｍＬの四つ口フラスコに、マグネ
ティックスターラー、還流冷却管を装着し、０．５０７
ｇ（１．５４ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ、０．
７１７ｇ（１．５４ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ−Ｃ
8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と９５．８ｇ（８４４ミリモル）
の３０％過酸化水素水を仕込む。この２相混合物を室温
で１０分間激しく攪拌する。ついで、１００ｇ（７６８
ミリモル）の２−オクタノールを滴下する。滴下後、混
合物を９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反
応後、室温まで冷却し、有機層を分液し１００ｍｌの飽
和チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２−オ
クタノンを９３．９ｇ（収率：９５％対２−オクタノー
ル、８６％対過酸化水素）得た。 無色液体、ｂｐ：１７３．０−１７３．３℃
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。 （実施例１）５００−ｍＬの四つ口フラスコに、マグネ
ティックスターラー、還流冷却管を装着し、０．５０７
ｇ（１．５４ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ、０．
７１７ｇ（１．５４ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ−Ｃ
8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と９５．８ｇ（８４４ミリモル）
の３０％過酸化水素水を仕込む。この２相混合物を室温
で１０分間激しく攪拌する。ついで、１００ｇ（７６８
ミリモル）の２−オクタノールを滴下する。滴下後、混
合物を９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反
応後、室温まで冷却し、有機層を分液し１００ｍｌの飽
和チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２−オ
クタノンを９３．９ｇ（収率：９５％対２−オクタノー
ル、８６％対過酸化水素）得た。 無色液体、ｂｐ：１７３．０−１７３．３℃
【0018】（実施例２）実施例１において、３０％過酸化
水素水を３％過酸化水素水（８４４ミリモル）に代える
以外は実施例１と同様に行い、２−オクタノンを得た
（収率：９５％対２−オクタノール、８６％対過酸化水
素）。
水素水を３％過酸化水素水（８４４ミリモル）に代える
以外は実施例１と同様に行い、２−オクタノンを得た
（収率：９５％対２−オクタノール、８６％対過酸化水
素）。
【0019】（実施例３）１−Ｌの四つ口フラスコに、マグ
ネティックスターラー、還流冷却管を装着し、実施例１
の水層（タングステン触媒を含有する）、０．７１７ｇ
（１．５４ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］
ＨＳＯ4と９５．８ｇ（８４４ミリモル）の３０％過酸
化水素水および実施例１の蒸留残渣（アンモニウム塩を
含有する）を仕込む。この２相混合物を室温で１０分間
激しく攪拌する。ついで、１００ｇ（７６８ミリモル）
の２−オクタノールを滴下する。滴下後、混合物を９０
℃で１０時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応後、室
温まで冷却し、有機層を分液し１００ｍｌの飽和チオ硫
酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２−オクタノン
を８４．７ｇ（収率：８６％対２−オクタノール、７８
％対過酸化水素）得た。
ネティックスターラー、還流冷却管を装着し、実施例１
の水層（タングステン触媒を含有する）、０．７１７ｇ
（１．５４ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］
ＨＳＯ4と９５．８ｇ（８４４ミリモル）の３０％過酸
化水素水および実施例１の蒸留残渣（アンモニウム塩を
含有する）を仕込む。この２相混合物を室温で１０分間
激しく攪拌する。ついで、１００ｇ（７６８ミリモル）
の２−オクタノールを滴下する。滴下後、混合物を９０
℃で１０時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応後、室
温まで冷却し、有機層を分液し１００ｍｌの飽和チオ硫
酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２−オクタノン
を８４．７ｇ（収率：８６％対２−オクタノール、７８
％対過酸化水素）得た。
【0020】（実施例４）１−Ｌの四つ口フラスコに、マグ
ネティックスターラー、還流冷却管を装着し、実施例３
の水層（タングステン触媒を含有する）、０．７１７ｇ
（１．５４ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］
ＨＳＯ4と９５．８ｇ（８４４ミリモル）の３０％過酸
化水素水および実施例２の蒸留残渣（アンモニウム塩を
含有する）を仕込む。この２相混合物を室温で１０分間
激しく攪拌する。ついで、１００ｇ（７６８ミリモル）
の２−オクタノールを滴下する。滴下後、混合物を９０
℃で２４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応後、室
温まで冷却し、有機層を分液し１００ｍｌの飽和チオ硫
酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２−オクタノン
を９０．６ｇ（収率：９２％対２−オクタノール、８４
％対過酸化水素）得た。
ネティックスターラー、還流冷却管を装着し、実施例３
の水層（タングステン触媒を含有する）、０．７１７ｇ
（１．５４ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］
ＨＳＯ4と９５．８ｇ（８４４ミリモル）の３０％過酸
化水素水および実施例２の蒸留残渣（アンモニウム塩を
含有する）を仕込む。この２相混合物を室温で１０分間
激しく攪拌する。ついで、１００ｇ（７６８ミリモル）
の２−オクタノールを滴下する。滴下後、混合物を９０
℃で２４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応後、室
温まで冷却し、有機層を分液し１００ｍｌの飽和チオ硫
酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２−オクタノン
を９０．６ｇ（収率：９２％対２−オクタノール、８４
％対過酸化水素）得た。
【0021】（実施例５）２−オクタノールに代えて４−ｔ
−ブチルシクロヘキサノール（６４０ミリモル）を用
い、Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏを１．３ミリモル用い、［Ｃ
Ｈ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．３ミリモルを用
い、トルエン１００ｍＬを用いる以外は実施例１と同様
にして４−ｔ−ブチルシクロヘキサノンを収率９６％で
得た。 ｂｐ：１１６．０−１１８．０℃／２０ｍｍＨｇ
−ブチルシクロヘキサノール（６４０ミリモル）を用
い、Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏを１．３ミリモル用い、［Ｃ
Ｈ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．３ミリモルを用
い、トルエン１００ｍＬを用いる以外は実施例１と同様
にして４−ｔ−ブチルシクロヘキサノンを収率９６％で
得た。 ｂｐ：１１６．０−１１８．０℃／２０ｍｍＨｇ
【0022】（実施例６）２−オクタノールに代えて（±）
−１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−オール（６４８ミリモル）用い、 Ｎａ2ＷＯ
4・２Ｈ2Ｏを１．３ミリモル用い、［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ
17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．３ミリモルを用い、トルエン１
００ｍＬを用いる以外は実施例１と同様にして（±）−
カンファーを収率８４％で得た。 ｂｐ：２０４．０−２０５．０℃
−１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−オール（６４８ミリモル）用い、 Ｎａ2ＷＯ
4・２Ｈ2Ｏを１．３ミリモル用い、［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ
17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．３ミリモルを用い、トルエン１
００ｍＬを用いる以外は実施例１と同様にして（±）−
カンファーを収率８４％で得た。 ｂｐ：２０４．０−２０５．０℃
【0023】（実施例７）２−オクタノールに代えて（−）
−メントール（６４０ミリモル）用い、 Ｎａ2ＷＯ4・
２Ｈ2Ｏを１．３ミリモル用い、［ＣＨ3（ｎ−Ｃ
8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．３ミリモルを用いる以外は
実施例１と同様にして（−）−メントンを収率９３％で
得た。 ｂｐ：７０．０−７２．０℃／１ｍｍＨｇ 立体化学純度：９９．３％
−メントール（６４０ミリモル）用い、 Ｎａ2ＷＯ4・
２Ｈ2Ｏを１．３ミリモル用い、［ＣＨ3（ｎ−Ｃ
8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．３ミリモルを用いる以外は
実施例１と同様にして（−）−メントンを収率９３％で
得た。 ｂｐ：７０．０−７２．０℃／１ｍｍＨｇ 立体化学純度：９９．３％
【0024】（実施例８）２−オクタノールに代えて２−エ
チル−１，３−ヘキサンジオール（６８４ミリモル）用
い、 Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏを１．４ミリモル用い、［Ｃ
Ｈ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．４ミリモル用い
る以外は実施例１と同様にして２−エチル−１−ヒドロ
キシ−３−ヘキサノンを収率８３％で得た。 ｂｐ：９０．９−９９．０℃／１ｍｍＨｇ
チル−１，３−ヘキサンジオール（６８４ミリモル）用
い、 Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏを１．４ミリモル用い、［Ｃ
Ｈ3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．４ミリモル用い
る以外は実施例１と同様にして２−エチル−１−ヒドロ
キシ−３−ヘキサノンを収率８３％で得た。 ｂｐ：９０．９−９９．０℃／１ｍｍＨｇ
【0025】（実施例９）２−オクタノールに代えて１−フ
ェニルエタノール（８１９ミリモル）用い、Ｎａ2ＷＯ4
・２Ｈ2Ｏを１．６ミリモル用い、［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ
17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．６ミリモル用い、反応時間を１
時間とする以外は実施例１と同様にしてアセトフェノン
を収率９６％で得た。 ｂｐ：８５．５−８８．０℃／２０ｍｍＨｇ
ェニルエタノール（８１９ミリモル）用い、Ｎａ2ＷＯ4
・２Ｈ2Ｏを１．６ミリモル用い、［ＣＨ3（ｎ−Ｃ8Ｈ
17）3Ｎ］ＨＳＯ4を１．６ミリモル用い、反応時間を１
時間とする以外は実施例１と同様にしてアセトフェノン
を収率９６％で得た。 ｂｐ：８５．５−８８．０℃／２０ｍｍＨｇ
【0026】（実施例１０）２０−ｍＬの四つ口フラスコ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
３．３ｍｇ（０．０１０ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ
2Ｏ、４．７ｍｇ（０．０１０ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ
−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と８５０ｍｇ（７．５ミリモ
ル）の３０％過酸化水素水を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、９２２ｍｇ
（５．００ミリモル）の１１−ドデセン−２−オールを
滴下する。滴下後、混合物を９０℃で３時間、１０００
ｒｐｍで攪拌する。反応後、室温まで冷却した反応混合
物をＧＣ−ＩＳ法で定量したところ、１１−ドデセン−
２−オンの収率は、９７％で、１１，１２−エポキシド
デカン−２−オンが０．４％生成した。
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
３．３ｍｇ（０．０１０ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ
2Ｏ、４．７ｍｇ（０．０１０ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ
−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と８５０ｍｇ（７．５ミリモ
ル）の３０％過酸化水素水を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、９２２ｍｇ
（５．００ミリモル）の１１−ドデセン−２−オールを
滴下する。滴下後、混合物を９０℃で３時間、１０００
ｒｐｍで攪拌する。反応後、室温まで冷却した反応混合
物をＧＣ−ＩＳ法で定量したところ、１１−ドデセン−
２−オンの収率は、９７％で、１１，１２−エポキシド
デカン−２−オンが０．４％生成した。
【0027】（実施例１１）２０−ｍＬの四つ口フラスコ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
６．６ｍｇ（０．０２０ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ
2Ｏ、１８．６ｍｇ（０．０２０ミリモル）の［ＣＨ
3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と１０．２ｇ（１５．０
ミリモル）の５％過酸化水素水を仕込む。この２相混合
物を室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、２．３９
ｇ（１０．０ミリモル）の５−シクロヘキサデセノール
（Ｅ／Ｚ＝２／１の混合物）および２ｍＬのトルエンを
添加する。その後、混合物を１１０℃で１０．５時間無
攪拌で保持する。1Ｈ ＮＭＲによる転換率は１００％
であり、選択率は、９８％である。反応後、室温まで冷
却し、有機層を分液し３ｍＬの飽和チオ硫酸ナトリウム
水溶液で洗浄した。シリカゲルクロマトグラフィー（Ｂ
Ｗ８２０、１０：１、ヘキサン−エーテル）処理し、
２．３４ｇ（収率：９９％）の５−シクロヘキサデセノ
ン（ Ｅ／Ｚ＝２／１の混合物）を無色液体として得
た。また、本反応で１０００ｒｐｍの攪拌下に実施する
と、５−シクロヘキサデセノンが、９１％の収率で得ら
れ、５，６−エポキシシクロヘキサデカノンが４％の収
率で生成する。
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
６．６ｍｇ（０．０２０ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ
2Ｏ、１８．６ｍｇ（０．０２０ミリモル）の［ＣＨ
3（ｎ−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と１０．２ｇ（１５．０
ミリモル）の５％過酸化水素水を仕込む。この２相混合
物を室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、２．３９
ｇ（１０．０ミリモル）の５−シクロヘキサデセノール
（Ｅ／Ｚ＝２／１の混合物）および２ｍＬのトルエンを
添加する。その後、混合物を１１０℃で１０．５時間無
攪拌で保持する。1Ｈ ＮＭＲによる転換率は１００％
であり、選択率は、９８％である。反応後、室温まで冷
却し、有機層を分液し３ｍＬの飽和チオ硫酸ナトリウム
水溶液で洗浄した。シリカゲルクロマトグラフィー（Ｂ
Ｗ８２０、１０：１、ヘキサン−エーテル）処理し、
２．３４ｇ（収率：９９％）の５−シクロヘキサデセノ
ン（ Ｅ／Ｚ＝２／１の混合物）を無色液体として得
た。また、本反応で１０００ｒｐｍの攪拌下に実施する
と、５−シクロヘキサデセノンが、９１％の収率で得ら
れ、５，６−エポキシシクロヘキサデカノンが４％の収
率で生成する。
【0028】（実施例１２）２０−ｍＬの四つ口フラスコ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
６．６ｍｇ（０．０２０ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ
2Ｏ、９．３ｍｇ（０．０２０ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ
−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と１．１３ｇ（１０．０ミリ
モル）の３０％過酸化水素水を仕込む。この２相混合物
を室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、１．８４ｇ
（１０．０ミリモル）の１−ドデセン−３−オールを添
加する。その後、混合物を９０℃で３時間、１０００ｒ
ｐｍで攪拌する。反応後、室温まで冷却した反応混合物
をＧＣ−ＩＳ法で定量した結果、１−ドデセン−３−オ
ンは、収率８０％、１，２−エポキシドデカン−３−オ
ンが収率４％、１，２−エポキシドデカン−３−オール
が収率１４％であった。
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
６．６ｍｇ（０．０２０ミリモル）のＮａ2ＷＯ4・２Ｈ
2Ｏ、９．３ｍｇ（０．０２０ミリモル）の［ＣＨ3（ｎ
−Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4と１．１３ｇ（１０．０ミリ
モル）の３０％過酸化水素水を仕込む。この２相混合物
を室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、１．８４ｇ
（１０．０ミリモル）の１−ドデセン−３−オールを添
加する。その後、混合物を９０℃で３時間、１０００ｒ
ｐｍで攪拌する。反応後、室温まで冷却した反応混合物
をＧＣ−ＩＳ法で定量した結果、１−ドデセン−３−オ
ンは、収率８０％、１，２−エポキシドデカン−３−オ
ンが収率４％、１，２−エポキシドデカン−３−オール
が収率１４％であった。
【0029】（実施例１３）５００−ｍＬの四つ口フラスコ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ（１５ミリモル）、［ＣＨ3（ｎ−
Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4（１５ミリモル）と３０％過酸
化水素水（１．９２モル）を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、１−オクタノ
ール（７６８ミリモル）を滴下する。滴下後、混合物を
９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応後、
室温まで冷却し、有機層を２５０ｍｌの飽和チオ硫酸ナ
トリウム水溶液で洗浄後、蒸留してオクタン酸を収率８
７％で得た。 ｂｐ：９３．０−９５．０℃／０．５ｍｍＨｇ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ（１５ミリモル）、［ＣＨ3（ｎ−
Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4（１５ミリモル）と３０％過酸
化水素水（１．９２モル）を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、１−オクタノ
ール（７６８ミリモル）を滴下する。滴下後、混合物を
９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応後、
室温まで冷却し、有機層を２５０ｍｌの飽和チオ硫酸ナ
トリウム水溶液で洗浄後、蒸留してオクタン酸を収率８
７％で得た。 ｂｐ：９３．０−９５．０℃／０．５ｍｍＨｇ
【0030】（実施例１４）１−オクタノールに代えて２−
エチルヘキサノール（７６８ミリモル）を用いる以外は
実施例１３と同様に行い、２−エチルヘキサン酸を収率
６８％で得た。 ｂｐ：１０５．０−１１０．０℃／２ｍｍＨｇ
エチルヘキサノール（７６８ミリモル）を用いる以外は
実施例１３と同様に行い、２−エチルヘキサン酸を収率
６８％で得た。 ｂｐ：１０５．０−１１０．０℃／２ｍｍＨｇ
【0031】（実施例１５）５００−ｍＬの四つ口フラスコ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ（２３ミリモル）、［ＣＨ3（ｎ−
Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4（２３ミリモル）と３０％過酸
化水素水（２．８２モル）を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、２，２−ジメ
チルプロパノール（１１３０ミリモル）を滴下する。滴
下後、混合物を９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌
する。反応後、室温まで冷却し、有機層を３６８ｍｌの
飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２，
２−ジメチルプロパン酸を収率５２％で得た。 ｂｐ：７２．０−７５．０℃／２０ｍｍＨｇ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ（２３ミリモル）、［ＣＨ3（ｎ−
Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4（２３ミリモル）と３０％過酸
化水素水（２．８２モル）を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、２，２−ジメ
チルプロパノール（１１３０ミリモル）を滴下する。滴
下後、混合物を９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌
する。反応後、室温まで冷却し、有機層を３６８ｍｌの
飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄後、蒸留して２，
２−ジメチルプロパン酸を収率５２％で得た。 ｂｐ：７２．０−７５．０℃／２０ｍｍＨｇ
【0032】（実施例１６）５００−ｍＬの四つ口フラスコ
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ（１９ミリモル）、［ＣＨ3（ｎ−
Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4（１９ミリモル）と３０％過酸
化水素水（２．３１モル）を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、ベンジルアル
コール（９２５ミリモル）を滴下する。滴下後、混合物
を９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応
後、室温まで冷却し、有機層を３０１ｍｌの飽和亜硫酸
ナトリウム水溶液で洗浄後、エタノールから再結晶でし
て安息香酸を収率８７％で得た。
に、マグネティックスターラー、還流冷却管を装着し、
Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ（１９ミリモル）、［ＣＨ3（ｎ−
Ｃ8Ｈ17）3Ｎ］ＨＳＯ4（１９ミリモル）と３０％過酸
化水素水（２．３１モル）を仕込む。この２相混合物を
室温で１０分間激しく攪拌する。ついで、ベンジルアル
コール（９２５ミリモル）を滴下する。滴下後、混合物
を９０℃で４時間、１０００ｒｐｍで攪拌する。反応
後、室温まで冷却し、有機層を３０１ｍｌの飽和亜硫酸
ナトリウム水溶液で洗浄後、エタノールから再結晶でし
て安息香酸を収率８７％で得た。
【0033】（実施例１７）３０％過酸化水素水（９２５ミ
リモル）とし、精製工程を蒸留とする以外は、実施例１
６と同様に行いベンズアルデヒドを収率８６％で得た。 ｂｐ：７５．５−７８．０℃
リモル）とし、精製工程を蒸留とする以外は、実施例１
６と同様に行いベンズアルデヒドを収率８６％で得た。 ｂｐ：７５．５−７８．０℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 45/29 Ｃ０７Ｃ 45/29 49/04 49/04 Ａ 49/17 49/17 Ａ 49/403 49/403 Ａ 49/437 49/437 49/78 49/78 51/285 51/285 53/126 53/126 53/128 53/128 63/06 63/06 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｄ 301/12 Ｃ０７Ｄ 301/12
Claims (10)
- 【請求項１】アルコール類と過酸化水素とを、タングス
テン酸類および第４級アンモニウム硫酸水素塩の存在下
に反応させることを特徴とするカルボニル化合物の製造
法。 - 【請求項２】アルコール類が、２級アルコール類であ
り、カルボニル化合物が、ケトン類である請求項１記載
の製造法。 - 【請求項３】アルコール類が、１級アルコール類であ
り、カルボニル化合物がアルデヒド類またはカルボン酸
類である請求項１記載の製造法。 - 【請求項４】アルコール類が、１級アルコール類であ
り、過酸化水素の使用量が、１級アルコール類に対し
て、１．５モル倍未満であり、カルボニル化合物が、ア
ルデヒド類である請求項１記載の製造法。 - 【請求項５】アルコール類が、１級アルコール類であ
り、過酸化水素の使用量が、１級アルコール類に対し
て、１．５モル倍以上であり、カルボニル化合物が、カ
ルボン酸類である請求項１記載の製造法。 - 【請求項６】タングステン酸類がタングステン酸アルカ
リである請求項１〜５のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項７】反応温度が５０〜１００℃である請求項１
〜６のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項８】過酸化水素の使用量が２級アルコールに対
して０．９〜１．３モル倍である請求項２に記載のケト
ン類の製造法。 - 【請求項９】過酸化水素の使用量が１級アルコール類に
対して２．０〜２．７モル倍である請求項５に記載のカ
ルボン酸類の製造法。 - 【請求項１０】過酸化水素の使用量が１級アルコール類
に対して０．９〜１．３モル倍である請求項４に記載の
アルデヒド類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33253697A JPH11158107A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | カルボニル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33253697A JPH11158107A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | カルボニル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158107A true JPH11158107A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18256025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33253697A Pending JPH11158107A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | カルボニル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11158107A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003073323A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | 有機化合物の酸化方法 |
| JP2003096016A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Sumitomo Chem Co Ltd | カルボニル化合物の製造方法 |
| JP2004331652A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-25 | Sumitomo Chem Co Ltd | 金属錯体およびその用途 |
| JP2008156298A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Toyota Motor Corp | カルボン酸の製造方法 |
| KR20170131432A (ko) | 2015-03-25 | 2017-11-29 | 다카사고 고료 고교 가부시키가이샤 | 메틸멘톨 유도체 및 그것을 함유하는 냉감제 조성물 |
-
1997
- 1997-12-03 JP JP33253697A patent/JPH11158107A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003073323A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | 有機化合物の酸化方法 |
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| JP2008156298A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Toyota Motor Corp | カルボン酸の製造方法 |
| KR20170131432A (ko) | 2015-03-25 | 2017-11-29 | 다카사고 고료 고교 가부시키가이샤 | 메틸멘톨 유도체 및 그것을 함유하는 냉감제 조성물 |
| US10494330B2 (en) | 2015-03-25 | 2019-12-03 | Takasago International Corporation | Methyl menthol derivative and cooling agent composition containing same |
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