JPH11157867A - 情報記録ディスク基板用ガラス - Google Patents
情報記録ディスク基板用ガラスInfo
- Publication number
- JPH11157867A JPH11157867A JP9336547A JP33654797A JPH11157867A JP H11157867 A JPH11157867 A JP H11157867A JP 9336547 A JP9336547 A JP 9336547A JP 33654797 A JP33654797 A JP 33654797A JP H11157867 A JPH11157867 A JP H11157867A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- glass
- information recording
- cuo
- nio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 機械的強度が大きく、表面が平滑で、レーザ
ーテクスチャー性の良好な実質的にアルカリ金属を含有
しない情報記録ディスク基板製造に適したガラスを提供
すること。 【解決手段】 ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 からな
り、三者の組成割合が重量比で２：１：２である成分を
主成分とする記録ディスク基板用ガラス。
ーテクスチャー性の良好な実質的にアルカリ金属を含有
しない情報記録ディスク基板製造に適したガラスを提供
すること。 【解決手段】 ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 からな
り、三者の組成割合が重量比で２：１：２である成分を
主成分とする記録ディスク基板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスの溶融性、
成形性に優れ、磁気ディスクや光磁気ディスク、更には
ディジタルビデオディスクなどの情報記録ディスク用基
板材料に適した表面特性を有する、アルカリを含まない
ガラスに関する。
成形性に優れ、磁気ディスクや光磁気ディスク、更には
ディジタルビデオディスクなどの情報記録ディスク用基
板材料に適した表面特性を有する、アルカリを含まない
ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大型コンピュータ、パーソナルコ
ンピュータ等の外部記録媒体として、磁気ディスク、光
磁気ディスク等の使用が増大している。更に今後の情報
時代を迎え、高密度記録が可能な情報記録ディスクの開
発が強く要望されている。高密度記録用の情報記録ディ
スク基板としては、次のような特性が要求される。即
ち、 （１）ＧＭＲヘッド、ＴＭＲヘッドの実用化に向け、更
にヘッド浮上量を低下させて記録密度の向上を図る方向
にあるので、ディスク表面が平坦、かつ平滑であるこ
と。特に基板の表面粗度（Ｒａ）が１０Ａ以下であるこ
とが望ましい。
ンピュータ等の外部記録媒体として、磁気ディスク、光
磁気ディスク等の使用が増大している。更に今後の情報
時代を迎え、高密度記録が可能な情報記録ディスクの開
発が強く要望されている。高密度記録用の情報記録ディ
スク基板としては、次のような特性が要求される。即
ち、 （１）ＧＭＲヘッド、ＴＭＲヘッドの実用化に向け、更
にヘッド浮上量を低下させて記録密度の向上を図る方向
にあるので、ディスク表面が平坦、かつ平滑であるこ
と。特に基板の表面粗度（Ｒａ）が１０Ａ以下であるこ
とが望ましい。
【０００３】（２）基板材料に異方性や欠陥がなく、組
織が緻密で均質かつ微細であること。 （３）高速回転やヘッドの接触等に耐える機械的強度、
硬度を有すること。 （４）種々の薬品による洗浄やエッチングに耐える化学
的耐久性を有すること。 （５）できるだけ軽量であること。 （６）ガラス材料を用いる場合、溶融成形が容易で、製
造条件がある程度変わっても均一性、緻密性、熱膨張係
数が変わらず、又量産性に優れていること。 （７）ＣＳＳ方式のハードディスク装置において、ディ
スクの起動及び停止時に生ずるスティクション（吸着）
を防止するため、精密なテクスチャリングが容易に行え
ること。 （８）情報記録の信頼性を向上させるために、ガラス材
料中での移動度が大きいＬｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金
属を含有しないこと、等である。
織が緻密で均質かつ微細であること。 （３）高速回転やヘッドの接触等に耐える機械的強度、
硬度を有すること。 （４）種々の薬品による洗浄やエッチングに耐える化学
的耐久性を有すること。 （５）できるだけ軽量であること。 （６）ガラス材料を用いる場合、溶融成形が容易で、製
造条件がある程度変わっても均一性、緻密性、熱膨張係
数が変わらず、又量産性に優れていること。 （７）ＣＳＳ方式のハードディスク装置において、ディ
スクの起動及び停止時に生ずるスティクション（吸着）
を防止するため、精密なテクスチャリングが容易に行え
ること。 （８）情報記録の信頼性を向上させるために、ガラス材
料中での移動度が大きいＬｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金
属を含有しないこと、等である。
【０００４】従来の情報記録ディスク用のガラス基板材
料は、ガラスを結晶化させるか又は基板表面をイオン交
換等により化学強化することによって機械的強度及び硬
度を改善し、実用化されてきた。しかし結晶化ガラスの
場合、機械的強度を向上させるためには結晶のサイズを
大きくする必要があり、反面、結晶のサイズを大きくす
ると研磨後の粗さを小さくできないという問題があり、
平滑性と強度の改善に限界がある。一方、化学強化ガラ
ス基板の場合は、イオン交換後に保護膜を形成する必要
があり、工程が繁雑であった。特開平８−１６９７２４
号公報には、アルカリフリーのＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3−
ＣａＯ−ＢａＯ系の基板材料用高膨張係数ガラスが記載
されているが、磁気ディスク基板として要求される強度
と表面特性を十分満足するものではない。
料は、ガラスを結晶化させるか又は基板表面をイオン交
換等により化学強化することによって機械的強度及び硬
度を改善し、実用化されてきた。しかし結晶化ガラスの
場合、機械的強度を向上させるためには結晶のサイズを
大きくする必要があり、反面、結晶のサイズを大きくす
ると研磨後の粗さを小さくできないという問題があり、
平滑性と強度の改善に限界がある。一方、化学強化ガラ
ス基板の場合は、イオン交換後に保護膜を形成する必要
があり、工程が繁雑であった。特開平８−１６９７２４
号公報には、アルカリフリーのＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3−
ＣａＯ−ＢａＯ系の基板材料用高膨張係数ガラスが記載
されているが、磁気ディスク基板として要求される強度
と表面特性を十分満足するものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上述の
点に鑑み、実質的にＬｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属を
含有せず、ガラスの結晶化処理やイオン交換処理を行わ
ずに、研磨後の表面の平滑性と機械的強度を改善し、こ
れにより信頼性が高く高密度記録に適した磁気ディスク
や光磁気ディスク、ディジタルビデオディスク等の製造
を可能とするガラス基板を得ることにある。本発明の他
の目的は、良好なＣＳＳ特性を得るためにテクスチャー
性が優れ、特にレーザーによる精密なテクスチャリング
の可能なガラス基板を得ることにある。
点に鑑み、実質的にＬｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属を
含有せず、ガラスの結晶化処理やイオン交換処理を行わ
ずに、研磨後の表面の平滑性と機械的強度を改善し、こ
れにより信頼性が高く高密度記録に適した磁気ディスク
や光磁気ディスク、ディジタルビデオディスク等の製造
を可能とするガラス基板を得ることにある。本発明の他
の目的は、良好なＣＳＳ特性を得るためにテクスチャー
性が優れ、特にレーザーによる精密なテクスチャリング
の可能なガラス基板を得ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、酸化物換算の
重量基準で、（Ａ）ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 の
割合が約２：１：２の組成を有する主成分１００部と、
（Ｂ）ＭｇＯ ０〜１０部、ＢａＯ ０〜１０部、Ｓｒ
Ｏ ０〜１０部、ＺｎＯ０〜１０部、ＴｉＯ2 ０〜１０
部、ＺｒＯ2 ０〜１５部、Ｙ2 Ｏ3 ０〜１０部、Ｌａ2
Ｏ3 ０〜１０部、Ａｓ2 Ｏ3 ＋Ｓｂ2 Ｏ3 ０〜５部、Ｆ
ｅ2 Ｏ3 ０〜１０部、Ｃｒ2 Ｏ3 ０〜１０部、ＮｉＯ
０〜１０部、Ｖ2 Ｏ5 ０〜１０部、ＣｕＯ ０〜１０
部、Ａｇ2 Ｏ ０〜１０部、ＭｎＯ2 ０〜１０部、Ｍｏ
Ｏ3 ０〜１０部（但しＦｅ2 Ｏ3 ＋Ｃｒ2 Ｏ3 ＋ＮｉＯ
＋Ｖ2 Ｏ5 ＋ＣｕＯ＋Ａｇ2 Ｏ＋ＭｎＯ2 ＋ＭｏＯ3 ０
〜１０部）から選ばれる１種又は２種以上の成分０〜１
５部とからなる情報記録ディスク基板用ガラスを要旨と
するものである。
重量基準で、（Ａ）ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 の
割合が約２：１：２の組成を有する主成分１００部と、
（Ｂ）ＭｇＯ ０〜１０部、ＢａＯ ０〜１０部、Ｓｒ
Ｏ ０〜１０部、ＺｎＯ０〜１０部、ＴｉＯ2 ０〜１０
部、ＺｒＯ2 ０〜１５部、Ｙ2 Ｏ3 ０〜１０部、Ｌａ2
Ｏ3 ０〜１０部、Ａｓ2 Ｏ3 ＋Ｓｂ2 Ｏ3 ０〜５部、Ｆ
ｅ2 Ｏ3 ０〜１０部、Ｃｒ2 Ｏ3 ０〜１０部、ＮｉＯ
０〜１０部、Ｖ2 Ｏ5 ０〜１０部、ＣｕＯ ０〜１０
部、Ａｇ2 Ｏ ０〜１０部、ＭｎＯ2 ０〜１０部、Ｍｏ
Ｏ3 ０〜１０部（但しＦｅ2 Ｏ3 ＋Ｃｒ2 Ｏ3 ＋ＮｉＯ
＋Ｖ2 Ｏ5 ＋ＣｕＯ＋Ａｇ2 Ｏ＋ＭｎＯ2 ＋ＭｏＯ3 ０
〜１０部）から選ばれる１種又は２種以上の成分０〜１
５部とからなる情報記録ディスク基板用ガラスを要旨と
するものである。
【０００７】又、本発明は、酸化物換算の重量基準で、
（Ａ）ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 の割合が約２：
１：２の組成を有する主成分１００部と、（Ｂ）ＭｇＯ
０〜９部、ＢａＯ ０〜９部、ＳｒＯ ０〜９部、Ｚ
ｎＯ ０〜９部、ＴｉＯ2 ０〜９部、Ｙ2 Ｏ3 ０〜９
部、Ｌａ2 Ｏ3 ０〜９部、Ａｓ2 Ｏ3＋Ｓｂ2 Ｏ3 ０〜
５部、Ｆｅ2 Ｏ3 ０〜９部、Ｃｒ2 Ｏ3 ０〜９部、Ｎｉ
Ｏ ０〜９部、Ｖ2 Ｏ5 ０〜９部、ＣｕＯ ０〜９部、
Ａｇ2 Ｏ ０〜９部、ＭｎＯ2０〜９部、ＭｏＯ3 ０〜
９部から選ばれる１種又は２種以上の成分０〜９部と、
（Ｃ）ＺｒＯ2 ６〜１５部とからなる情報記録ディスク
基板用ガラスを要旨とするものである。
（Ａ）ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 の割合が約２：
１：２の組成を有する主成分１００部と、（Ｂ）ＭｇＯ
０〜９部、ＢａＯ ０〜９部、ＳｒＯ ０〜９部、Ｚ
ｎＯ ０〜９部、ＴｉＯ2 ０〜９部、Ｙ2 Ｏ3 ０〜９
部、Ｌａ2 Ｏ3 ０〜９部、Ａｓ2 Ｏ3＋Ｓｂ2 Ｏ3 ０〜
５部、Ｆｅ2 Ｏ3 ０〜９部、Ｃｒ2 Ｏ3 ０〜９部、Ｎｉ
Ｏ ０〜９部、Ｖ2 Ｏ5 ０〜９部、ＣｕＯ ０〜９部、
Ａｇ2 Ｏ ０〜９部、ＭｎＯ2０〜９部、ＭｏＯ3 ０〜
９部から選ばれる１種又は２種以上の成分０〜９部と、
（Ｃ）ＺｒＯ2 ６〜１５部とからなる情報記録ディスク
基板用ガラスを要旨とするものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】ガラスの原料としては前記各成分
の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、水
酸化物、珪酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩など通常のものを
用いる。ガラスの製造は、まずこれらの原料化合物を適
宜選択して所定の比率で混合し、１３００〜１５５０℃
程度の温度で溶融させる。溶融原料はプレス成形、金型
によるキャスティング、圧延等の方法で円盤状等所定の
形状に成形し、次いでガラス化させる。望ましくはその
後、歪取りのため５５０〜８５０℃程度の温度で熱処理
を行う。処理温度が５５０℃より低いとガラス内部に残
留応力が発生し、又高すぎると結晶化が始まるので望ま
しくない。
の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、水
酸化物、珪酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩など通常のものを
用いる。ガラスの製造は、まずこれらの原料化合物を適
宜選択して所定の比率で混合し、１３００〜１５５０℃
程度の温度で溶融させる。溶融原料はプレス成形、金型
によるキャスティング、圧延等の方法で円盤状等所定の
形状に成形し、次いでガラス化させる。望ましくはその
後、歪取りのため５５０〜８５０℃程度の温度で熱処理
を行う。処理温度が５５０℃より低いとガラス内部に残
留応力が発生し、又高すぎると結晶化が始まるので望ま
しくない。
【０００９】ガラスの主成分であるＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3
及びＳｉＯ2 の重量比率は約２：１：２である。この約
２：１：２ということは、この数値が本発明の、良好な
研削性や機械的強度を有する非晶質ガラスの形成を損わ
ない範囲で多少の許容範囲を有することを意味するもの
であり、三成分の組成割合で表わせばＣａＯ３５〜４５
％、Ａｌ2 Ｏ3 １５〜２５％、ＳｉＯ2 ３５〜４５％、
特に好ましくはＣａＯ３８〜４２％、Ａｌ2 Ｏ3 １８〜
２２％、ＳｉＯ2 ３８〜４２％程度の巾をもつというこ
とである。この範囲を越えると強度が低下するばかりで
なく、失透し易くなり、目的とするガラスが得られな
い。
及びＳｉＯ2 の重量比率は約２：１：２である。この約
２：１：２ということは、この数値が本発明の、良好な
研削性や機械的強度を有する非晶質ガラスの形成を損わ
ない範囲で多少の許容範囲を有することを意味するもの
であり、三成分の組成割合で表わせばＣａＯ３５〜４５
％、Ａｌ2 Ｏ3 １５〜２５％、ＳｉＯ2 ３５〜４５％、
特に好ましくはＣａＯ３８〜４２％、Ａｌ2 Ｏ3 １８〜
２２％、ＳｉＯ2 ３８〜４２％程度の巾をもつというこ
とである。この範囲を越えると強度が低下するばかりで
なく、失透し易くなり、目的とするガラスが得られな
い。
【００１０】（Ｂ）成分は必ずしも含有しなくてもよい
が、必要に応じて適宜添加される。ＭｇＯ、ＢａＯ、Ｓ
ｒＯ、ＺｎＯはガラス原料の溶解性を改善するが、添加
量が多すぎると化学的耐久性が低下する。ＴｉＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 、Ｙ2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 は機械的強度、化学的耐
久性を向上させる。これらの成分はそれぞれ上限値を越
えると結晶化し易くなるので望ましくない。ＺｒＯ2 は
特に耐水性の向上に有効であり、本発明の組成のガラス
においてはこの目的のために、ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及び
ＳｉＯ2 の合計１００重量部に対して６〜１５重量部と
多量に含有させて、耐失透性を維持した耐水性の良好
な、強度、耐久性の大きいガラスを得ることができる。
が、必要に応じて適宜添加される。ＭｇＯ、ＢａＯ、Ｓ
ｒＯ、ＺｎＯはガラス原料の溶解性を改善するが、添加
量が多すぎると化学的耐久性が低下する。ＴｉＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 、Ｙ2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 は機械的強度、化学的耐
久性を向上させる。これらの成分はそれぞれ上限値を越
えると結晶化し易くなるので望ましくない。ＺｒＯ2 は
特に耐水性の向上に有効であり、本発明の組成のガラス
においてはこの目的のために、ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 及び
ＳｉＯ2 の合計１００重量部に対して６〜１５重量部と
多量に含有させて、耐失透性を維持した耐水性の良好
な、強度、耐久性の大きいガラスを得ることができる。
【００１１】Ａｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 は清澄剤として使
用される。Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、Ｖ
2 Ｏ5 、ＣｕＯ、Ａｇ2 Ｏ、ＭｎＯ2 、ＭｏＯ3 を添加
するとレーザー加工性が改善されるので、レーザーによ
る精密なテクスチャリングが可能になり、ＣＳＳ特性の
優れたディスクが製造できる。このような効果を得るた
めには、これらの酸化物は（Ａ）成分１００重量部に対
して合計で０．５重量部以上含有させることが好まし
い。
用される。Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、Ｖ
2 Ｏ5 、ＣｕＯ、Ａｇ2 Ｏ、ＭｎＯ2 、ＭｏＯ3 を添加
するとレーザー加工性が改善されるので、レーザーによ
る精密なテクスチャリングが可能になり、ＣＳＳ特性の
優れたディスクが製造できる。このような効果を得るた
めには、これらの酸化物は（Ａ）成分１００重量部に対
して合計で０．５重量部以上含有させることが好まし
い。
【００１２】
【実施例】実施例１ 酸化物換算でＣａＯ４０．０重量％、Ａｌ2 Ｏ3 ２０．
０重量％、ＳｉＯ2 ４０．０重量％となるよう常法に従
ってガラス原料を混合し、通常の溶融装置を用いて約１
５３０℃で溶融し、溶融物を撹拌、均質化した後、円板
状に成形し、徐冷してガラス化させた。このガラスを約
１０℃／分の昇温速度で７７５℃に昇温し、この温度に
おいて１時間保持して歪取り処理を行い、基板用ガラス
を得た。得られたガラスをＸ線回折により分析したとこ
ろ、結晶のピークは認められなかった。研磨剤としてＣ
ｅＯ2 を用いてこのガラスを研磨した結果、表面粗度Ｒ
ａが約４．９Ａの平滑な表面が得られた。ガラスの曲げ
強度は１０．８ｋｇｆ・ｍｍ-2、ヤング率は８８００ｋ
ｇｆ・ｍｍ-2、ビッカース硬度５９９ｋｇｆ・ｍｍ-2で
あった。
０重量％、ＳｉＯ2 ４０．０重量％となるよう常法に従
ってガラス原料を混合し、通常の溶融装置を用いて約１
５３０℃で溶融し、溶融物を撹拌、均質化した後、円板
状に成形し、徐冷してガラス化させた。このガラスを約
１０℃／分の昇温速度で７７５℃に昇温し、この温度に
おいて１時間保持して歪取り処理を行い、基板用ガラス
を得た。得られたガラスをＸ線回折により分析したとこ
ろ、結晶のピークは認められなかった。研磨剤としてＣ
ｅＯ2 を用いてこのガラスを研磨した結果、表面粗度Ｒ
ａが約４．９Ａの平滑な表面が得られた。ガラスの曲げ
強度は１０．８ｋｇｆ・ｍｍ-2、ヤング率は８８００ｋ
ｇｆ・ｍｍ-2、ビッカース硬度５９９ｋｇｆ・ｍｍ-2で
あった。
【００１３】実施例２〜４ 配合組成を表−１の通りとする以外は実施例１と同様に
して、基板用ガラスを得た。表−１にこのガラスの諸特
性を併せて示す。 比較例１〜３ 配合組成を表−１の通りとする以外は実施例１と同様に
して、基板用ガラスを得た。表−１にこのガラスの諸特
性を併せて示した。
して、基板用ガラスを得た。表−１にこのガラスの諸特
性を併せて示す。 比較例１〜３ 配合組成を表−１の通りとする以外は実施例１と同様に
して、基板用ガラスを得た。表−１にこのガラスの諸特
性を併せて示した。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【発明の効果】本発明のガラスは、機械的強度が大き
く、しかも非晶質であるため表面が極めて平滑で、研磨
後の表面粗度が１０Ａ以下と小さい磁気ディスク又は光
磁気ディスク用基板が容易に製造できるものであり、高
密度記録化に対応可能である。又このガラス材料は化学
的耐久性に優れ、かつ移動度の大きいアルカリ金属を実
質的に含有しないため信頼性が高い。更に本発明によれ
ば、レーザーテクスチャー性の良好なガラス基板を製造
することができる。
く、しかも非晶質であるため表面が極めて平滑で、研磨
後の表面粗度が１０Ａ以下と小さい磁気ディスク又は光
磁気ディスク用基板が容易に製造できるものであり、高
密度記録化に対応可能である。又このガラス材料は化学
的耐久性に優れ、かつ移動度の大きいアルカリ金属を実
質的に含有しないため信頼性が高い。更に本発明によれ
ば、レーザーテクスチャー性の良好なガラス基板を製造
することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新藤 直人 東京都新宿区西新宿２丁目１番１号 エス イーシー株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 酸化物換算の重量基準で、（Ａ）Ｃａ
Ｏ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 の割合が約２：１：２の組
成を有する主成分１００部と、（Ｂ）ＭｇＯ ０〜１０
部、ＢａＯ ０〜１０部、ＳｒＯ ０〜１０部、ＺｎＯ
０〜１０部、ＴｉＯ2 ０〜１０部、ＺｒＯ2 ０〜１５
部、Ｙ2 Ｏ3 ０〜１０部、Ｌａ2 Ｏ3 ０〜１０部、Ａｓ
2 Ｏ3 ＋Ｓｂ2 Ｏ3 ０〜５部、Ｆｅ2 Ｏ3 ０〜１０部、
Ｃｒ2 Ｏ3 ０〜１０部、ＮｉＯ ０〜１０部、Ｖ2 Ｏ5
０〜１０部、ＣｕＯ ０〜１０部、Ａｇ2 Ｏ ０〜１０
部、ＭｎＯ2 ０〜１０部、ＭｏＯ3 ０〜１０部（但しＦ
ｅ2 Ｏ3 ＋Ｃｒ2 Ｏ3 ＋ＮｉＯ＋Ｖ2 Ｏ5 ＋ＣｕＯ＋Ａ
ｇ2 Ｏ＋ＭｎＯ2 ＋ＭｏＯ3 ０〜１０部）から選ばれる
１種又は２種以上の成分０〜１５部とからなる情報記録
ディスク基板用ガラス。 - 【請求項２】 酸化物換算の重量基準で、（Ａ）Ｃａ
Ｏ、Ａｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 の割合が約２：１：２の組
成を有する主成分１００部と、（Ｂ）ＭｇＯ ０〜９
部、ＢａＯ ０〜９部、ＳｒＯ ０〜９部、ＺｎＯ ０
〜９部、ＴｉＯ2 ０〜９部、Ｙ2 Ｏ3 ０〜９部、Ｌａ2
Ｏ3 ０〜９部、Ａｓ2 Ｏ3＋Ｓｂ2 Ｏ3 ０〜５部、Ｆｅ
2 Ｏ3 ０〜９部、Ｃｒ2 Ｏ3 ０〜９部、ＮｉＯ ０〜９
部、Ｖ2 Ｏ5 ０〜９部、ＣｕＯ ０〜９部、Ａｇ2 Ｏ
０〜９部、ＭｎＯ2０〜９部、ＭｏＯ3 ０〜９部から選
ばれる１種又は２種以上の成分０〜９部と、（Ｃ）Ｚｒ
Ｏ2 ６〜１５部とからなる情報記録ディスク基板用ガラ
ス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9336547A JPH11157867A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 情報記録ディスク基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9336547A JPH11157867A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 情報記録ディスク基板用ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11157867A true JPH11157867A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18300268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9336547A Pending JPH11157867A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 情報記録ディスク基板用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11157867A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008007596A1 (fr) * | 2006-07-14 | 2008-01-17 | Central Glass Company, Limited | VERRE SANS PLOMB à bas point de fusion |
| WO2023042717A1 (ja) * | 2021-09-14 | 2023-03-23 | Ａｇｃ株式会社 | ガラスブロックおよびその製造方法ならびに半導体製造装置用部材 |
-
1997
- 1997-11-21 JP JP9336547A patent/JPH11157867A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008007596A1 (fr) * | 2006-07-14 | 2008-01-17 | Central Glass Company, Limited | VERRE SANS PLOMB à bas point de fusion |
| WO2023042717A1 (ja) * | 2021-09-14 | 2023-03-23 | Ａｇｃ株式会社 | ガラスブロックおよびその製造方法ならびに半導体製造装置用部材 |
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