JPH11154738A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH11154738A
JPH11154738A JP9319501A JP31950197A JPH11154738A JP H11154738 A JPH11154738 A JP H11154738A JP 9319501 A JP9319501 A JP 9319501A JP 31950197 A JP31950197 A JP 31950197A JP H11154738 A JPH11154738 A JP H11154738A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sub
cell array
chips
semiconductor device
array block
Prior art date
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Pending
Application number
JP9319501A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Machio Segawa
真知夫 瀬川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH11154738A publication Critical patent/JPH11154738A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To readily produce an intermediate memory capacity which corresponds to a memory capacity of a multiple of four. SOLUTION: A cell array block and a control circuit for controlling operation of the cell array block constitute a sub-chip A, and a plurality of sub-chips A are used to obtain a memory of desired capacity. In addition, an interval region D is assured between adjoining sub-chips A, and a cell array block not required due to memory capacity reduction is separated from the control circuit for controlling cell array block operation with the interval region D.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリを用
いた半導体装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor device using a semiconductor memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイナミックRAMなどの半導体メモリ
は、メモリ容量が4倍の係数で大きくなり、それに合わ
せて、それらをコントロールする制御回路も増大し、そ
の結果として、消費電流も増加する。その対策として、
特開平4−144276号公報に開示されているように
セルアレイブロックと、セルアレイブロックの動作を制
御する回路とを各々分割し、選択されている部分のみを
動作させるなどして、消費電流を減らす工夫をしてい
る。
2. Description of the Related Art A semiconductor memory such as a dynamic RAM has a memory capacity which increases by a factor of four, and accordingly, the number of control circuits for controlling them increases, and as a result, the current consumption also increases. As a countermeasure,
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-144276, a cell array block and a circuit for controlling the operation of the cell array block are each divided, and only a selected portion is operated to reduce current consumption. You are.

【0003】特開平4−144276号公報に開示され
た技術は、チップ中心に、全体を制御する回路Bとボン
ディングパッドCとを配置し、その両側に、全体のメモ
リ容量の半分となるように、セルアレイブロックと、セ
ルアレイブロックの動作を制御する回路を配置する。更
に図5に示すように、メモリ容量が1/2となるように
前記セルアレイブロックと、セルアレイブロックの動作
を制御する回路とを分割し、この分割された後のセルア
レイブロックとセルアレイブロックの動作を制御する回
路とで構成されるサブチップAの動作領域を限定するこ
とにより、消費電流を減少させている。図5において、
2は共通に全体を制御する回路、C2は共通なボンディ
ングパッド、Fは左半分のサブチップAのみを制御する
回路、Gは左半分のサブチップAのみで使用されるボン
ディングパッドである。
According to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-144276, a circuit B for controlling the entirety and a bonding pad C are arranged at the center of a chip, and both sides thereof have a half of the total memory capacity. , A cell array block and a circuit for controlling the operation of the cell array block are arranged. Further, as shown in FIG. 5, the cell array block and a circuit for controlling the operation of the cell array block are divided so that the memory capacity is reduced to 1 /, and the operation of the divided cell array block and the cell array block is performed. The current consumption is reduced by limiting the operation area of the subchip A including the control circuit. In FIG.
B 2 is a circuit for controlling the whole in common, C 2 is a common bonding pad, F is a circuit for controlling only the left half sub-chip A, and G is a bonding pad used only in the left half sub-chip A.

【0004】セルアレイブロックとセルアレイブロック
の動作を制御する回路とで構成されるサブチップAは、
さらにこれ以上細分化することも可能である。
[0004] A subchip A composed of a cell array block and a circuit for controlling the operation of the cell array block includes:
It is also possible to further subdivide.

【0005】4の係数倍でメモリ容量が増加している
が、システム構成によっては、その中間の容量を必要と
するものがある。従来では、容量の大きいものを前記分
割動作で使うことで対処していた。
[0005] The memory capacity is increased by a factor of 4, but some systems require intermediate capacity depending on the system configuration. Conventionally, measures have been taken by using a capacitor having a large capacity in the dividing operation.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
では、要らないメモリ容量分だけチップサイズが大きく
なり、その分だけコスト高を招いてしまうという問題が
ある。又、強制的に要らない部分を削除しようとして
も、セルアレイブロックの動作を制御する回路で共通に
使っている部分がはみ出す形で残ってしまい、本来可能
なチップサイズより大きくなるなどの問題がある。
However, in the conventional example, there is a problem that the chip size is increased by an unnecessary memory capacity, and the cost is increased accordingly. Further, even if an attempt is made to delete a part that is not required forcibly, a part commonly used in a circuit for controlling the operation of the cell array block remains in a protruding form, resulting in a problem that the chip size becomes larger than originally possible. .

【0007】その理由は、メモリ容量削減のために必要
としていないセルアレイブロックと、セルアレイブロッ
クの動作を制御する回路とを特定面で切り離すことを想
定していないためである。
The reason is that it is not assumed that a cell array block that is not required for reducing the memory capacity and a circuit that controls the operation of the cell array block are separated on a specific surface.

【0008】本発明の目的は、システム構成で要求され
るメモリ容量を従来よりも細かく対応し、かつ迅速に供
給可能な半導体装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of more quickly responding to a memory capacity required in a system configuration than in the past and supplying the semiconductor device quickly.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体装置は、4倍の係数でメモリ容
量が増加する半導体メモリを備えた半導体装置であっ
て、元のメモリ容量の倍数で分割されたセルアレイブロ
ックと、前記セルアレイブロックの動作を制御する回路
とから構成されたサブチップを複数有し、前記サブチッ
プ同士が隣接する領域毎に隔離領域を有し、前記隔離領
域は、最上層にのみ金属配線を備えており、該金属配線
により前記サブチップ同士を接続したものである。
In order to achieve the above object, a semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device having a semiconductor memory whose memory capacity increases by a factor of four. A plurality of sub-chips each including a cell array block divided by a multiple and a circuit for controlling the operation of the cell array block, the sub-chip having an isolated area for each adjacent area, A metal wiring is provided only in the upper layer, and the sub chips are connected to each other by the metal wiring.

【0010】また前記隔離領域は、少なくとも1μmの
幅を有するものである。
Further, the isolation region has a width of at least 1 μm.

【0011】また前記サブチップは、隔離領域を挟んで
内外に整列されたものである。
The sub-chips are arranged inside and outside with an isolation region interposed therebetween.

【0012】また前記サブチップは、隔離領域を中心と
した領域内にブロック状に組込まれて配置されたもので
ある。
The sub-chips are arranged in a block-like manner in an area centered on the isolation area.

【0013】また本発明に係る半導体装置は、4倍の係
数でメモリ容量が増加する半導体メモリを備えた半導体
装置であって、元のメモリ容量の倍数で分割されたセル
アレイブロックと、前記セルアレイブロックの動作を制
御する制御回路とから構成されたサブチップを複数有
し、チップ本体の中心を通る交差部に前記制御回路を配
置し、かつ、該交差部の角部に前記サブチップを均等に
配置し、前記チップ本体上のサブチップを前記交差部を
中心として左右に分割する隔離領域を設けたものであ
る。
Further, the semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device having a semiconductor memory whose memory capacity increases by a factor of four, wherein the cell array block is divided by a multiple of the original memory capacity, And a control circuit for controlling the operation of the plurality of sub-chips, the control circuit is arranged at an intersection that passes through the center of the chip body, and the sub-chip is evenly arranged at the corner of the intersection And an isolation region for dividing a sub chip on the chip body into right and left around the intersection.

【0014】本発明によれば、セルアレイブロックと該
セルアレイブロックの動作を制御する制御回路とからサ
ブチップAを構成し、このサブチップAを複数用いるこ
とにより、所望のメモリ容量を得る。さらに隣接するサ
ブチップA間に隔離領域Dを確保し、メモリ容量削減の
ために必要としていないセルアレイブロックと、セルア
レイブロックの動作を制御する制御回路とを隔離領域D
で切り離す。
According to the present invention, a subchip A is constituted by a cell array block and a control circuit for controlling the operation of the cell array block, and a desired memory capacity is obtained by using a plurality of the subchips A. Further, an isolation region D is secured between adjacent sub-chips A, and a cell array block which is not necessary for reducing memory capacity and a control circuit for controlling the operation of the cell array block are separated from each other.
And disconnect.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係る半導体装置を示す構成図、図2は、図1のI部
拡大図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a configuration diagram showing a semiconductor device according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a portion I in FIG.

【0017】図において本発明の実施形態1に係る半導
体装置は基本的構成として、4倍の係数でメモリ容量が
増加するダイナミックRAM等の半導体メモリを備えた
半導体装置を対象とするものであり、複数のサブチップ
Aと、隔離領域Dとを有している。
Referring to FIG. 1, the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention is basically intended for a semiconductor device having a semiconductor memory such as a dynamic RAM whose memory capacity is increased by a factor of four. It has a plurality of sub chips A and an isolation region D.

【0018】サブチップAは、元のメモリ容量の倍数で
分割されたセルアレイブロックと該セルアレイブロック
の動作を制御する制御回路とから構成されており、さら
に複数のサブチップAは、そのメモリ容量の総和が分割
前の元のメモリ容量と等しくなる個数だけ装備されてい
る。
The sub-chip A is composed of a cell array block divided by a multiple of the original memory capacity and a control circuit for controlling the operation of the cell array block. As many as the original memory capacity before the division is provided.

【0019】隔離領域Dは、複数のサブチップAの隣接
する領域に形成された空白領域であり、最上層にのみ金
属配線を有しており、隣接するサブチップA同士を前記
金属配線で接続したものである。
The isolation region D is a blank region formed in a region adjacent to the plurality of sub-chips A, has metal wiring only in the uppermost layer, and is formed by connecting adjacent sub-chips A with each other by the metal wiring. It is.

【0020】図1及び図2に示す本発明の実施形態1で
は、チップ本体の中央部に共通なポンディングパッドC
を左右に直線状に設け、その両側に沿わせて全体を制御
する制御回路B、Bを直線状に設け、制御回路Bの外側
に2つのサブチップA,Aを左右に設け、その外側に直
線状の隔離領域をD,Dを設け、その外側に2つのサブ
チップA,Aを左右に設けている。すなわち、複数のサ
ブチップA,Aを、隔離領域Dを挟んで内外に整列して
設け、分離するサブチップの位置を隔離領域Dにて明確
にしている。
In the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, a common bonding pad C is provided at the center of the chip body.
Are provided linearly on the left and right sides, control circuits B and B for controlling the whole are provided linearly along both sides thereof, and two sub-chips A and A are provided on the left and right sides outside the control circuit B, and a straight line D-shaped isolation regions are provided, and two sub-chips A, A are provided on the right and left outside the isolation regions. That is, a plurality of sub-chips A, A are provided in line inside and outside with the isolation region D interposed therebetween, and the position of the sub-chip to be separated is defined by the isolation region D.

【0021】図1に示す場合では、サブチップAは、元
のメモリ容量の8倍で分割されたセルアレイブロックと
該セルアレイブロックの動作を制御する制御回路とから
構成されている。
In the case shown in FIG. 1, the sub-chip A is composed of a cell array block divided by eight times the original memory capacity and a control circuit for controlling the operation of the cell array block.

【0022】さらに隣接するサブチップA,A間を分離
する隔離領域Dは、少なくとも少なくとも1μmの幅を
もち、その最上層に金属配線Eを有し、金属配線Eによ
り隣接するサブチップA,A同士を接続した構造になっ
ている。この場合、サブチップAは最小の面積になるよ
うにし、更に一部のパターンのみが突出したような形状
では無く、データが均一に配置された四角形の形状に配
列している。
Further, the isolation region D separating the adjacent sub chips A has a width of at least 1 μm, has a metal wiring E in the uppermost layer, and connects the adjacent sub chips A with each other by the metal wiring E. It has a connected structure. In this case, the sub-chip A has a minimum area, and is arranged not in a shape in which only some of the patterns protrude, but in a square shape in which data are uniformly arranged.

【0023】(実施形態2)図3は、本発明の実施形態
2に係る半導体装置を示す構成図である。本発明の実施
形態2に係る半導体装置においては、サブチップAは、
隔離領域Dを中心とした領域内にブロック状に組込まれ
て配置したことを特徴とするものである。
(Embodiment 2) FIG. 3 is a configuration diagram showing a semiconductor device according to Embodiment 2 of the present invention. In the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, the sub chip A
It is characterized in that it is arranged in a block shape in an area centered on the isolation area D.

【0024】図3に基いて具体的に説明すると、サブチ
ップAは、セルアレイブロックと該セルアレイブロック
の動作を制御する制御回路とから構成されている。
More specifically, referring to FIG. 3, the sub-chip A includes a cell array block and a control circuit for controlling the operation of the cell array block.

【0025】そして、チップ本体の中心を通る交差部
に、直線状の共通なボンデイングパッドC1を横方向に
配置する。この共通なボンデイングパッドC1は、後述
する縦方向の隔離領域Dにて左右に分離され、その一部
が左半分のサブチップAのみで使用されるボンデイング
パッドGとして用いられる。
[0025] Then, the intersection through the center of the chip body, to place the common bonding pad C 1 straight in the transverse direction. The common bonding pad C 1 is separated into the left and right in the isolated region D in the vertical direction to be described later, a part is used as a bonding pad G which is used only in the sub chip A in the left half.

【0026】さらに、チップ本体の中心を通る交差部の
2辺に沿って、共通に全体を制御する制御回路B1を設
け、チップ本体の中心を通る交差部の4隅にサブチップ
Aを均等に配置し、前記チップ本体の中心交差部を横切
る縦方向の隔離領域Dでチップ本体を左右に区画する。
また左(又は右)のサブチップAのみに使われる制御回
路Fと、右(又は左)側の上下2段のサブチップAで使
用される制御回路B1とから制御回路が構成されてい
る。また縦方向の制御回路B1の一部には共通なボンデ
イングパッドC1が連結して設けられている。
Furthermore, along the two sides of the cross section through the center of the chip body, the control circuit B 1 for controlling the entire commonly provided, the sub chip A evenly at the four corners of the intersection through the center of the chip body The chip body is divided into right and left by a vertical isolation region D crossing the center intersection of the chip body.
Further, a control circuit is composed of a control circuit F used only for the left (or right) sub chip A and a control circuit B 1 used for the upper and lower two sub chips A on the right (or left) side. The longitudinal direction of the control circuit common bonding pad C 1 Some B 1 is provided in conjunction.

【0027】また図3に示すように、共通に全体を制御
する回路B1の一部分を切り離す面に添うようにして、
突出部分が形成されないようにする。更に、1μm以上
の隔離領域Dを確保し、隔離領域Dの最上層に設けた金
属配線を使って、右側の隣接するサブチップA間を接続
し、信号を授受する配線として用いる。また、制御回路
1の切り離し面の延長線上の外側に共通なボンディン
グパッドC1の一部を配置する。この場合も、サブチッ
プAは先と同様な構成にする。
As shown in FIG. 3, a part of a circuit B 1 for controlling the whole is shared along a surface for separating the same.
Make sure that no projecting parts are formed. Further, an isolation region D of 1 μm or more is secured, and the right adjacent sub-chips A are connected to each other using a metal wiring provided on the uppermost layer of the isolation region D, and used as a wiring for transmitting and receiving signals. Also, placing the common part of the bonding pad C 1 to the outside of an extension of disconnection surface of the control circuit B 1. Also in this case, the sub chip A has the same configuration as above.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、1
μm以上の間隔でパターンがない隔離領域から外側のサ
ブチップを簡単に切り離せるため、メモリ容量を1/2
にした半導体メモリにて構成される半導体装置のマスク
パターンを迅速に提供することができる。
As described above, according to the present invention, 1
The memory capacity is reduced by half so that the outer sub-chips can be easily separated from the isolated area having no pattern at intervals of μm or more.
It is possible to quickly provide a mask pattern of a semiconductor device constituted by the semiconductor memory described above.

【0029】その理由は、全体を共通で制御する回路や
設計パターンは、既にメモリ容量を1/2にされる前の
半導体メモリにて動作確認済みであるためである。
The reason is that the operation of the circuits and design patterns for controlling the entire circuit has already been confirmed in the semiconductor memory before the memory capacity is reduced to half.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のI部を拡大した図である。FIG. 2 is an enlarged view of a portion I in FIG. 1;

【図3】本発明の実施形態2を示す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の半導体装置を示す構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing a conventional semiconductor device.

【図5】従来の半導体装置を示す構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram showing a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A サブチップ B 全体を制御する制御回路 B1,B2 共通に全体を制御する制御回路 C ボンディングパッド C1、C2 共通なボンディングパッド D 隔離領域 E 最上層の金属配線 A Sub-chip B Control circuit for controlling the whole B1 and B2 Control circuit for controlling the whole C Bonding pads C1 and C2 Bonding pads common to D D Isolation region E Top layer metal wiring

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 4倍の係数でメモリ容量が増加する半導
体メモリを備えた半導体装置であって、 元のメモリ容量の倍数で分割されたセルアレイブロック
と、前記セルアレイブロックの動作を制御する回路とか
ら構成されたサブチップを複数有し、 前記サブチップ同士が隣接する領域毎に隔離領域を有
し、 前記隔離領域は、最上層にのみ金属配線を備えており、
該金属配線により前記サブチップ同士を接続したもので
あることを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising a semiconductor memory whose memory capacity increases by a factor of four, comprising: a cell array block divided by a multiple of the original memory capacity; and a circuit for controlling the operation of the cell array block. Having a plurality of sub-chips, each of the sub-chips has an isolation region for each adjacent region, and the isolation region has a metal wiring only in an uppermost layer,
A semiconductor device wherein the sub-chips are connected to each other by the metal wiring.
【請求項2】 前記隔離領域は、少なくとも1μmの幅
を有するものであることを特徴とする請求項1に記載の
半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the isolation region has a width of at least 1 μm.
【請求項3】 前記サブチップは、隔離領域を挟んで内
外に整列されたものであることを特徴する請求項1又は
2に記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the sub chips are arranged inside and outside with an isolation region interposed therebetween.
【請求項4】 前記サブチップは、隔離領域を中心とし
た領域内にブロック状に組込まれて配置されたものであ
ることを特徴する請求項1,2又は3に記載の半導体装
置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the sub-chip is arranged in a block shape in an area centered on an isolated area.
【請求項5】 4倍の係数でメモリ容量が増加する半導
体メモリを備えた半導体装置であって、 元のメモリ容量の倍数で分割されたセルアレイブロック
と、前記セルアレイブロックの動作を制御する制御回路
とから構成されたサブチップを複数有し、 チップ本体の中心を通る交差部に前記制御回路を配置
し、かつ、該交差部の角部に前記サブチップを均等に配
置し、 前記チップ本体上のサブチップを前記交差部を中心とし
て左右に分割する隔離領域を設けたものであることを特
徴とする半導体装置。
5. A semiconductor device provided with a semiconductor memory whose memory capacity increases by a factor of four, comprising: a cell array block divided by a multiple of the original memory capacity; and a control circuit for controlling the operation of the cell array block. A plurality of sub-chips comprising: a control circuit disposed at an intersection passing through the center of the chip body; and the sub-chips disposed evenly at corners of the intersection; A semiconductor device provided with an isolation region which is divided right and left around the intersection.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11127717B2 (en) 2019-03-04 2021-09-21 Toshiba Memory Corporation Semiconductor device including memory cell arrays and method of manufacturing the same

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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