JPH11149792A - メモリ - Google Patents

メモリ

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JPH11149792A
JPH11149792A JP10268241A JP26824198A JPH11149792A JP H11149792 A JPH11149792 A JP H11149792A JP 10268241 A JP10268241 A JP 10268241A JP 26824198 A JP26824198 A JP 26824198A JP H11149792 A JPH11149792 A JP H11149792A
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JP
Japan
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memory cells
normal
memory
row
redundant
Prior art date
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JP10268241A
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Karl-Peter Pfefferl
プフェッファール カール−ペーター
Martin Gall
ガル マーティン
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Original Assignee
Siemens AG
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    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
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    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
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    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/80Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メモリがパッケージングされた後でも故障し
たノーマルメモリセルが冗長メモリセルによって置き換
えられるメモリを提供することである。 【解決手段】 上記課題は、メモリセルのアレイを有
し、このアレイは複数のノーマルメモリセル及び冗長メ
モリセルを有し、デコーダを有し、このデコーダはノー
マルメモリセルのうちのアドレス指定されたセルをアド
レス及びノーマル状態信号に応答して選択し、さらにこ
のデコーダは冗長メモリセルをアドレス及び障害状態信
号に応答してアドレス指定し、冗長デコーダは電子工学
的に消去可能なリードオンリーメモリセルを有し、冗長
デコーダはノーマル状態信号を発生し、リードオンリー
メモリセルが障害状態にプログラムされる場合にはノー
マル状態信号を障害状態信号に変換することによって解
決される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリに関す
る。より特定すれば本発明は冗長回路を有する半導体メ
モリに関する。
【0002】
【従来の技術】当業者には周知のように、半導体メモリ
は行及び列のマトリクス状に配置されるメモリセルのア
レイ、メモリセルの行のうちの1つを選択的にアドレス
指定するための行アドレスデコーダ及びメモリセルの列
のうちの1つを選択するための列アドレスデコーダを有
する。半導体メモリが高密度に集積されるにつれて、チ
ップ上の故障セルの数も相応して増加する。これらの故
障は大抵の場合バーンインによって検出される。今日で
は、高密度メモリは冗長メモリセルを有する。より特定
すると、行及び列アドレスデコーダは、故障セルを減結
合して有効にこれら故障セルをチップ上に製造された冗
長セルによって置き換えるための冗長回路を有する。故
障セルを減結合してこれらを冗長セルによって置き換え
るのに使用される1つの技術はフューズ可能なリンクの
利用である。バーンインの後、パッケージングの前にも
しメモリセルの故障が判明したら、レーザを使用してフ
ューズ可能なリンクの部分を蒸発させ、これにより開回
路を作る。レーザが適当なフューズ可能なリンクを開回
路にした後で、チップはパッケージングされメモリが再
検査される。幾つかのケースでは、このパッケージング
プロセス自体によって故障が発生し、これによりパッケ
ージングされたメモリの有用性が損なわれてしまう。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、メモ
リがパッケージングされた後でも故障したノーマルメモ
リセルが冗長メモリセルによって置き換えられるメモリ
を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題は、メモリセル
のアレイを有し、このアレイは複数のノーマルメモリセ
ル及び冗長メモリセルを有し、デコーダを有し、このデ
コーダはノーマルメモリセルのうちのアドレス指定され
たセルをアドレス及びノーマル状態信号に応答して選択
し、さらにこのデコーダは冗長メモリセルをアドレス及
び障害状態信号に応答してアドレス指定し、冗長デコー
ダは電子工学的に消去可能なリードオンリーメモリセル
を有し、この冗長デコーダはノーマル状態信号を発生
し、リードオンリーメモリセルが障害状態にプログラム
される場合にはノーマル状態信号を障害状態信号に変換
することによって解決される。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明によれば、メモリセルのア
レイを有するメモリが設けられる。このアレイは複数の
ノーマルメモリセル及び冗長メモリセルを有する。デコ
ーダが設けられ、このデコーダはノーマルメモリセルの
うちのアドレス指定されたセルをアドレス及びノーマル
状態信号に応答して選択し、さらに冗長メモリセルをア
ドレス及び障害状態信号に応答してアドレス指定する。
冗長デコーダは電子工学的に消去可能なリードオンリー
メモリセルを有する。この冗長デコーダはノーマル状態
信号を発生し、リードオンリーメモリセルが障害状態に
プログラムされる場合にノーマル状態信号を障害状態信
号に変換する。
【0006】リードオンリーメモリセルの各々は、フラ
ッシュメモリセル、強誘電体メモリセル又は他のタイプ
の電子工学的に消去可能なリードオンリーメモリセルを
有し、これらメモリセルの各々は実質的には不揮発性で
あり、比較的長い期間そのプログラムされた状態を保持
することができる。このような装置によって、電子工学
的に消去可能なリードオンリーメモリセルは電子工学的
にプログラミング可能であるので、メモリがパッケージ
ングされた後でも故障したノーマルメモリセルが冗長メ
モリセルによって置き換えられる。
【0007】本発明の他の特徴によれば、メモリセルの
アレイを有するメモリが設けられており、このアレイは
ノーマルメモリセルの複数の行及び列と冗長メモリセル
の行及び列とを有する。行デコーダが設けられ、この行
デコーダはノーマルメモリセルの行のうちのアドレス指
定された行を行アドレス及びノーマル行状態信号に応答
して選択し、さらに冗長メモリセルの行を行アドレス及
び行障害状態信号に応答してアドレス指定する。列デコ
ーダが設けられ、この列デコーダはノーマルメモリセル
の列のうちのアドレス指定された列を列アドレス及びノ
ーマル列状態信号に応答して選択し、さらに冗長メモリ
セルの列を列アドレス及び列障害状態信号に応答してア
ドレス指定する。冗長行デコーダは電子工学的に消去可
能な第1の複数のリードオンリーメモリセルを有する。
この冗長行デコーダはノーマル行状態信号を発生し、第
1の複数のリードオンリーメモリセルのうちの選択され
たセルが行障害状態にプログラムされる場合にはノーマ
ル行状態信号を行障害状態信号に変換する。この第1の
複数のリードオンリーメモリセルのうちの選択されたセ
ルは故障状態を有するメモリセルのノーマル行のうちの
1つの行に相応して行障害状態にプログラムされる。冗
長列デコーダは電子工学的に消去可能な第2の複数のリ
ードオンリーメモリセルを有する。この冗長列デコーダ
はノーマル列状態信号を発生し、第2の複数のリードオ
ンリーメモリセルのうちの選択されたセルが列障害状態
にプログラムされる場合にはノーマル列状態信号を列障
害状態信号に変換する。この第2の複数のリードオンリ
ーメモリセルのうちの選択されたセルは故障状態を有す
るメモリセルのノーマル列のうちの1つの列に相応して
列障害状態にプログラムされる。
【0008】本発明の1つの実施形態では、アレイ状の
メモリセルはダイナミックランダムアクセスメモリセ
ル、つまりDRAMセルである。リードオンリーメモリ
セルの各々はトランジスタを有し、このトランジスタは
DRAMと同一の半導体物体で形成されたソース、ドレ
イン及びゲート領域を有する。第1の絶縁層はゲート領
域の上に配置される。第1のフローティングゲートは第
1の絶縁層の上に配置される。第2の絶縁層は第1のフ
ローティングゲートの上に配置される。第2のゲートは
第2の絶縁層の上に配置される。リードオンリーメモリ
セルは、フローティングゲートの電荷蓄積に従ってプロ
グラムされた状態に置かれる。
【0009】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて詳しく説明
する。
【0010】図1にはメモリセル14N、14Rのアレ
イ12を有するメモリ10が図示されている。メモリ1
0は、例えばランダムアクセスメモリ(RAM)回路、
ダイナミックRAM(DRAM)回路、シンクロナスD
RAM(SDRAM)回路、スタティックRAM(SR
AM)回路又は併合されたDRAM論理回路又は何らか
の回路装置である。より特定すれば、アレイ10はノー
マルメモリセル14Nの複数の行及び列と冗長メモリセ
ル14Rの行及び列とを有する。ここでは、メモリ10
をわかりやすくするために、4つの行R0〜R3及び4つ
の列C0〜C3だけが図示されており、典型的なメモリに
は16、32又はこれより多くのこのような行及び列が
存在する。
【0011】行デコーダセクション16が設けられてい
る。この行デコーダセクション16はノーマル行デコー
ダ18と冗長行デコーダ19とを含む。ノーマル行状態
信号がライン20で冗長デコーダ19によって後述する
やり方で発生される場合、ノーマル行デコーダ18はノ
ーマルメモリセル14Nの行R0〜R3のうちのアドレス
指定された行を行アドレス、ここでは2ビットアドレス
A,Bに応答して選択する。メモリのパッケージングの
後で、もしノーマルメモリセル14Nがメモリ10のパ
ッケージ後の検査中に故障していると判明したならば、
デコーダ16の冗長行デコーダ19は、後述するやり方
で、故障ノーマルメモリセル14Nを有する行R0〜R3
の代わりに冗長メモリセル14Rの行RNを行アドレス
A,Bに応答してアドレス指定するようにプログラムさ
れている、とここでは言うにとどめておく。
【0012】従って、図示されているように、ノーマル
行デコーダ18は複数のANDゲート210〜213を有
し、これらANDゲート210〜213の各々はそれぞれ
ノーマルメモリセル14Nの行R0〜R3のうちの相応す
る行に結合された出力側を有する。
【0013】
【外1】
【0014】従って、ライン20上の信号が論理1だと
仮定して、もしラインA及びB上のビットが00なら
ば、ANDゲート210の出力は論理1であり(すなわ
ちノーマル行状態にあり)、ANDゲート211〜213
の各々の出力は論理0である。それゆえ、AB上の行ア
ドレス00に応答して行R0のみが選択される。同様に
して、アドレスABが01、10及び11の場合、それ
ぞれ行R1、R2及びR3が選択される。もしライン20
上の論理信号が論理0である(すなわち障害行状態にあ
る)ならば、行R0〜R3のどれも選択されないことに注
意してほしい。
【0015】冗長行デコーダ19は第1の複数の、ここ
では4個の電子工学的に消去可能なリードオンリーメモ
リセル301〜304を有する。この冗長行デコーダ19
はパッケージ後の検査モード中にライン20上にノーマ
ル行状態信号を発生する。もしメモリ10がパッケージ
ングされメモリのパッケージ後の検査の後で、メモリが
行R0〜R3のうちの1つの行のノーマルメモリセル14
Nが故障していることを検出したならば、この冗長行デ
コーダ19は行冗長プログラム端末32Rの信号によっ
てプログラムされた状態に置かれる。端末32の信号と
故障ノーマルセル14Nを有する行R0〜R3のうちの1
つの行のアドレスとに応答して、このアドレスにより選
択されるリードオンリーメモリセル301〜304のうち
の一対は導電性状態にプログラムされ、これにより冗長
デコーダ19はライン20上のノーマル行状態信号(す
なわち論理1)を行障害状態信号(すなわち論理0)に
変換する。つまり、パッケージ後の検査の後でノーマル
メモリセル14Nの行が故障していると判明した場合、
第1の複数のリードオンリーメモリセルのうちの選択さ
れたセルは行障害状態にプログラムされる。この第1の
複数のリードオンリーメモリセル301〜304のうちの
選択されたセルは故障状態を有するメモリセル14Nの
ノーマル行R0〜R3のうちの1つの行に相応して行障害
状態にプログラムされるのである。
【0016】例えば、リードオンリーメモリセル301
〜304が各々フラッシュメモリセルであるとすると、
例示的にここでセル301が図2に図示されている。こ
のようなセル301はソース領域S、ドレイン領域D及
びこのソース領域とドレイン領域との間に配置されたゲ
ート領域を形成する半導体物体を有する。このゲート領
域はセル301の表面上に形成された絶縁層を有する。
ドーピングされた多結晶質層がこの絶縁層の上に形成さ
れてこのセルのためのフローティングゲートを提供す
る。第2の絶縁層がこのフローティングゲートの上に配
置される。ゲート電極はこの第2の絶縁層の上に配置さ
れる。注意すべきは、この半導体物体はDRAMセル1
4N及び14Rも形成することである。従って、ここで
リードオンリーメモリセルは、ゲートに紫外線を照射し
てフローティングゲートに存在するかもしれない電荷を
除去することによって非導電性状態に置かれる。そし
て、このリードオンリーメモリセルは電荷をフローティ
ングゲートにトンネリングさせることによって導電性状
態にプログラムされる。これによりソースとゲート電極
の間に電位差が生じる。
【0017】
【外2】
【0018】セル301及び302のソース領域Sは相互
に接続されてANDゲート40の第1の入力側と成って
いる。セル303及び304のソース領域Sは相互に接続
されてANDゲート40の第2の入力側と成っている。
ANDゲート40の出力側はインバータ42を介してラ
イン20に接続されている。従って、パッケージ後の検
査の後で、行冗長プログラム端末32Rに電圧が供給さ
れ、さらに故障のある行、この例では行R1のアドレス
すなわちA=0、B=1が行アドレスABに供給され、
セル302及び303がプログラムされる。つまり、電荷
がこれらセル30 2及び303のフローティングゲートに
トンネリングされ、この結果これらのセル302及び3
3が導電性状態に置かれる。従って、ABアドレス0
1が行デコーダセクション16に供給される場合、行R
1の代わりに冗長行RRが選択される。というのも、A
NDゲート40が論理1を発生する場合にはインバータ
42はライン20上に論理0を発生するからである。
【0019】列デコーダセクション22が設けられてい
る。この列デコーダセクション22は行デコーダセクシ
ョン16と等価であり、ノーマル列デコーダ24及び冗
長列デコーダセクション26を含む。ノーマル列デコー
ダセクション24はノーマルメモリセル14Nの列C0
〜C4のアドレス指定された列を、列アドレス、ここで
は2ビットアドレスC,D及び、後述するやり方で、冗
長デコーダ26によりライン28上に発生されるノーマ
ル列状態信号に応答して選択する。メモリのパッケージ
ングの後で、もしメモリ10のパッケージ後の検査中に
ノーマルメモリセル14Nが故障していると判明したな
らば、後述するやり方で、デコーダセクション22の冗
長列デコーダ24は故障ノーマルメモリセル14Nを有
する列C0〜C3の代わりに冗長メモリセル14Rの列C
Nを列アドレスC,Dとライン28上に発生される列障
害状態信号とに応答してアドレス指定する、とここでは
言うにとどめておく。従って、ライン28上の信号が論
理1だと仮定して、アドレスCDが00、01、10及
び11の場合、それぞれ列C0、C1、C2及びC3が選択
される。ライン28上の論理信号が論理0であるなら
ば、列C0〜C3のどれも選択されないことに注意してほ
しい。
【0020】冗長列デコーダ26は冗長行デコーダ19
と等価であり、ここには図示されてはいない第2の複数
の電子工学的に消去可能なリードオンリーメモリセルを
有する。この冗長列デコーダ26はノーマル列状態信号
をライン28上に発生し、ここには図示されてはいない
第2の複数の電子工学的に消去可能なリードオンリーメ
モリセルのうちの選択されたセルが冗長列プログラム端
末32Cの冗長列プログラム信号に応答して列障害状態
にプログラムされる場合にライン28のノーマル列状態
信号を列障害状態信号に変換する。この第2の複数の電
子工学的に消去可能なリードオンリーメモリセルのうち
の選択されたセルは故障状態を有するメモリセルのノー
マル列のうちの1つの列に相応して列障害状態にプログ
ラムされる。
【0021】他の実施形態は従属請求項に示されてい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のメモリの簡略化された概略的な回路図
である。
【図2】図1のメモリで使用される電子工学的に消去可
能なリードオンリーメモリセルの概略図である。
【符号の説明】
10 メモリ 12 メモリセル 16 行デコーダセクション 18 ノーマル行デコーダ 19 冗長行デコーダ 20 ライン 21 ANDゲート 22 列デコーダセクション 24 ノーマル列デコーダ 26 冗長列デコーダ 28 ライン 30 リードオンリーメモリセル 32C 冗長列プログラム端末 40 ANDゲート 42 インバータ 19A,19B インバータ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリにおいて、 メモリセルのアレイを有し、該アレイは複数のノーマル
    メモリセル及び冗長メモリセルを有し、 デコーダを有し、該デコーダは前記ノーマルメモリセル
    のうちのアドレス指定されたセルをアドレス及びノーマ
    ル状態信号に応答して選択し、さらに前記デコーダは前
    記冗長メモリセルをアドレス及び障害状態信号に応答し
    てアドレス指定し、 冗長デコーダは電子工学的に消去可能なリードオンリー
    メモリセルを有し、前記冗長デコーダはノーマル状態信
    号を発生し、前記リードオンリーメモリセルが障害状態
    にプログラムされる場合には前記ノーマル状態信号を前
    記障害状態信号に変換する、メモリ。
  2. 【請求項2】 メモリにおいて、 メモリセルのアレイを有し、該アレイは複数のノーマル
    メモリセルの行及び冗長メモリセルの行を有し、 デコーダを有し、該デコーダは前記ノーマルメモリセル
    の行のうちのアドレス指定された行をアドレス及びノー
    マル状態信号に応答して選択し、さらに前記デコーダは
    前記冗長メモリセルの行をアドレス及び障害状態信号に
    応答してアドレス指定し、 冗長デコーダは電子工学的に消去可能な複数のリードオ
    ンリーメモリセルを有し、前記冗長デコーダはノーマル
    状態信号を発生し、さらに前記リードオンリーメモリセ
    ルのうちの選択されたセルが障害状態にプログラムされ
    る場合には前記ノーマル状態信号を前記障害状態信号に
    変換し、前記リードオンリーメモリセルのうちの選択さ
    れたセルは故障状態を有するメモリセルのノーマル行の
    うちの1つの行に相応して障害状態にプログラムされ
    る、メモリ。
  3. 【請求項3】 メモリにおいて、 メモリセルのアレイを有し、該アレイはノーマルメモリ
    セルの複数の行及び列と冗長メモリセルの行及び列とを
    有し、 行デコーダを有し、該行デコーダは前記ノーマルメモリ
    セルの行のうちのアドレス指定された行を行アドレス及
    びノーマル行状態信号に応答して選択し、さらに前記行
    デコーダは前記冗長メモリセルの行を行アドレス及び行
    障害状態信号に応答してアドレス指定し、 列デコーダを有し、該列デコーダは前記ノーマルメモリ
    セルの列のうちのアドレス指定された列を列アドレス及
    びノーマル列状態信号に応答して選択し、さらに前記列
    デコーダは前記冗長メモリセルの列を列アドレス及び列
    障害状態信号に応答してアドレス指定し、 冗長行デコーダは電子工学的に消去可能な第1の複数の
    リードオンリーメモリセルを有し、前記冗長行デコーダ
    はノーマル行状態信号を発生し、前記第1の複数のリー
    ドオンリーメモリセルのうちの選択されたセルが行障害
    状態にプログラムされる場合には前記ノーマル行状態信
    号を前記行障害状態信号に変換し、前記第1の複数のリ
    ードオンリーメモリセルのうちの選択されたセルは故障
    状態を有するメモリセルのノーマル行のうちの1つの行
    に相応して行障害状態にプログラムされ、 冗長列デコーダは電子工学的に消去可能な第2の複数の
    リードオンリーメモリセルを有し、前記冗長列デコーダ
    はノーマル列状態信号を発生し、前記第2の複数のリー
    ドオンリーメモリセルのうちの選択されたセルが列障害
    状態にプログラムされる場合には前記ノーマル列状態信
    号を前記列障害状態信号に変換し、前記第2の複数のリ
    ードオンリーメモリセルのうちの選択されたセルは故障
    状態を有するメモリセルのノーマル列のうちの1つの列
    に相応して列障害状態にプログラムされる、メモリ。
  4. 【請求項4】 第1及び第2の複数のリードオンリーメ
    モリセルの各々は、フラッシュメモリセルを有する、請
    求項3記載のメモリ。
  5. 【請求項5】 第1及び第2の複数のリードオンリーメ
    モリセルの各々は、強誘電体メモリセルを有する、請求
    項3記載のメモリ。
  6. 【請求項6】 リードオンリーメモリセルの各々はトラ
    ンジスタを有し、該トランジスタは半導体物体で形成さ
    れたソース、ドレイン及びゲート領域を有し、第1の絶
    縁層は前記ゲート領域の上に配置され、第1のフローテ
    ィングゲートは前記第1の絶縁層の上に配置され、第2
    の絶縁層は前記第1のフローティングゲートの上に配置
    され、第2のゲートは前記第2の絶縁層の上に配置され
    る、請求項3記載のメモリ。
  7. 【請求項7】 第1のゲートはドーピングされた多結晶
    質シリコンを有する、請求項8記載のメモリ。
JP10268241A 1997-09-25 1998-09-22 メモリ Withdrawn JPH11149792A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/937570 1997-09-25
US08/937,570 US6078534A (en) 1997-09-25 1997-09-25 Semiconductor memory having redundancy circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11149792A true JPH11149792A (ja) 1999-06-02

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ID=25470107

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JP10268241A Withdrawn JPH11149792A (ja) 1997-09-25 1998-09-22 メモリ

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6078534A (ja)
EP (1) EP0905624A3 (ja)
JP (1) JPH11149792A (ja)
KR (1) KR19990030131A (ja)
TW (1) TW405231B (ja)

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