JPH1114538A - 濃度測定装置 - Google Patents

濃度測定装置

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JPH1114538A
JPH1114538A JP16577197A JP16577197A JPH1114538A JP H1114538 A JPH1114538 A JP H1114538A JP 16577197 A JP16577197 A JP 16577197A JP 16577197 A JP16577197 A JP 16577197A JP H1114538 A JPH1114538 A JP H1114538A
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Yusuke Muraoka
祐介 村岡
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液中に混入した気泡が光透過部に入るこ
とを防止して、処理液の濃度の測定精度を向上する。 【解決手段】 処理液供給管2の途中箇所に、処理液供
給管2よりも管径が大きい拡大測定部8を管継手9を介
してシール状態で接続する。拡大測定部8に、その周方
向の一部に凹部を形成して、透明の壁8a,8aを所定
の間隔で対向させた光透過部10を形成し、それを挟ん
で光源6と受光器7とを設ける。拡大測定部8内に、光
透過部10を囲むように、表面をテフロンコーティング
により疎水性にしたポリエチレン製の網状体11を設
け、拡大測定部8により処理液の流速を低下して気泡を
重力分離しやすくするとともに、処理液中に混入してい
る気泡が光透過部10に流れることを網状体11によっ
て阻止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理等に用い
る処理液の濃度を測定する濃度測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の濃度測定装置としては、
例えば、特開平8−68746号公報に開示されている
ものが知られている。この従来の濃度測定装置によれ
ば、図12に示すように、基板処理用の処理液を流す処
理液供給管01の途中箇所に光透過部02を形成し、そ
の光透過部02を間にして一方側に光源(図示せず)
を、他方側に光検出器(図示せず)をそれぞれ設けてい
る。そして、処理液供給管01内に流れている処理液に
光を照射し、その処理液を透過した光を光検出器で受
け、光検出器での光の強度に基づいて処理液の濃度を測
定している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、処理液を基
板の処理を行う処理槽へ供給するために窒素ガスによっ
て加圧しているような場合、その処理液中に窒素が溶け
込んでいる。バルブの開閉やポンプの駆動・駆動停止に
起因して、供給系で圧力が急に減少したようなときに、
処理液中の窒素が気泡化する。また、ポンプの吸入時に
気泡が取り込まれて混入する場合がある。更に、例え
ば、約80℃程度の高温の純水を混合使用する場合、その
混合に伴って窒素が気泡化する。また、基板処理用の処
理液として、アンモニア水と過酸化水素水との混合薬
液、塩酸と過酸化水素水との混合薬液、硫酸と過酸化水
素水との混合薬液、バッファードフッ酸(BHF)とい
った発泡性の薬液を用いる場合、気泡の存在は避けるこ
とができない。
【0004】しかしながら、従来例の場合に、光透過部
02において処理液中に混入している気泡部分を光が透
過したときに透過損失が減少し、測定濃度が処理液の実
際の濃度よりも低下する欠点があった。
【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、処理液に混入した気泡が光透過部に入
ることを防止して、処理液の濃度の測定の精度を向上す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、請求項1に記載の発明は、処理液が流される処
理液供給管に設けられた測定部内に形成された光透過部
に光を照射する投光手段と、前記光透過部を透過した光
を受光する受光手段とを備え、前記受光手段によって受
光された光の強度に基づいて処理液の濃度を測定する濃
度測定装置において、前記測定部内において処理液に気
泡が混入している領域と処理液に気泡が混入していない
領域とを形成する気泡分離手段を備え、前記光透過部
は、前記測定部内の気泡が混入していない領域に形成さ
れている。
【0007】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の濃度測定装置において、前記気泡分離手段は、
網状体で形成されている。
【0008】また、請求項3に記載の発明は、請求項2
に記載の濃度測定装置において、前記網状体は、疎水性
材料で形成されている。
【0009】また、請求項4に記載の発明は、処理液が
流される処理液供給管に設けられた測定部内に形成され
た光透過部に光を照射する投光手段と、前記光透過部を
透過した光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段
によって受光された光の強度に基づいて処理液の濃度を
測定する濃度測定装置において、前記光透過部は、前記
測定部内における処理液の流動中心より下方側に形成さ
れている。
【0010】また、請求項5に記載の発明は、請求項4
に記載の濃度測定装置において、前記測定部内に形成さ
れた前記光透過部の設置箇所を除いた箇所に、複数の球
状体を設けている。
【0011】また、請求項6に記載の発明は、処理液が
流される処理液供給管に設けられた測定部内に形成され
た光透過部に光を照射する投光手段と、前記光透過部を
透過した光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段
によって受光された光の強度に基づいて処理液の濃度を
測定する濃度測定装置において、前記測定部内に突出さ
れ、かつ処理液を前記測定部内へ導入する導入管をさら
に備え、前記光透過部は、前記導入管の外周側に形成さ
れている。
【0012】また、請求項7に記載の発明は、請求項6
に記載の濃度測定装置であって、前記測定部内の前記導
入管の開口よりも下流側に複数の球状体を設け、前記測
定部内の前記導入管の開口よりも上流側に前記球状体が
移動することを防止する囲い部材を備えている。
【0013】また、請求項8に記載の発明は、処理液が
流される処理液供給管に設けられた測定部内に形成され
た光透過部に光を照射する投光手段と、前記光透過部を
透過した光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段
によって受光された光の強度に基づいて処理液の濃度を
測定する濃度測定装置において、前記光透過部は、前記
測定部内に間隔を狭くして気泡の侵入を抑制する間隙部
である。
【0014】また、請求項9に記載の発明は、処理液が
流される処理液供給管に設けられた測定部内に形成され
た光透過部に光を照射する投光手段と、前記光透過部を
透過した光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段
によって受光された光の強度に基づいて処理液の濃度を
測定する濃度測定装置において、前記測定部内に導入さ
れる処理液に旋回流を生じさせる旋回流付与部材を備
え、前記光透過部は、前記測定部内の旋回流が生じてい
る領域以外の場所に形成されている。
【0015】また、請求項10に記載の発明は、処理液
供給管に流れる処理液の濃度を測定する濃度測定装置に
おいて、前記処理液供給管内に処理液の流れに抵抗を与
える抵抗部材と、前記処理液供給管の前記抵抗部材より
も上流側の位置と前記処理液供給管の前記抵抗部材より
も下流側の位置との間で、前記処理液供給管とは別に処
理液を流すバイパス管と、を備え、処理液に光を照射
し、処理液を透過した光の強度に基づいて処理液の濃度
を測定するための光透過部が前記バイパス管内に形成さ
れている。
【0016】
【作用】請求項1に記載の発明によれば、気泡分離手段
は測定部内において処理液に気泡が混入している領域と
処理液に気泡が混入していない領域とを形成し、光透過
部は測定部内の気泡が混入していない領域に形成されて
いるので、光透過部への気泡の侵入が防止される。
【0017】また、請求項2に記載の発明によれば、気
液分離手段は網状体で形成されているので、処理液中の
気泡の光透過部への侵入は確実に防止される。
【0018】また、請求項3に記載の発明によれば、網
状体は疎水性材料で形成されているので、気泡が網状体
の表面に滞留させることなく、処理液は測定部内を流れ
る。
【0019】また、請求項4に記載の発明によれば、光
透過部は測定部内における処理液の流動中心より下方側
に形成されているので、光透過部への気泡の侵入が防止
される。
【0020】また、請求項5に記載の発明によれば、測
定部内に形成された光透過部の設置箇所を除いた箇所
に、複数の球状体を設けたので、複数の球状体により測
定部内での気泡の分散が防止され、光透過部への気泡の
侵入が確実に防止される。
【0021】また、請求項6に記載の発明によれば、処
理液を測定部内へ導入する導入管が測定部内に突出し、
光透過部が導入管の外周側に形成されているので、光透
過部への気泡の侵入が防止される。
【0022】また、請求項7に記載の発明によれば、測
定部内の導入管の開口よりも下流側に複数の球状体を設
け、囲い部材が測定部内の導入管の開口よりも上流側へ
の球状体の移動を防止しているので、複数の球状体によ
り測定部内での気泡の分散が防止され、光透過部への気
泡の侵入が確実に防止される。
【0023】また、請求項8に記載の発明によれば、光
透過部は測定部内に間隔を狭くして気泡の侵入を抑制す
る間隙部であるので、光透過部への気泡の侵入が防止さ
れる。
【0024】また、請求項9に記載の発明によれば、旋
回流付与部材が測定部内に導入される処理液に旋回流を
生じさせ、光透過部が測定部内の旋回流が生じている領
域以外の場所に形成されているので、光透過部への気泡
の侵入が防止される。
【0025】また、請求項10に記載の発明によれば、
処理液供給管内に処理液の流れに抵抗を与える抵抗部材
を備え、処理液供給管の抵抗部材よりも上流側の位置と
処理液供給管の抵抗部材よりも下流側の位置との間で、
処理液供給管とは別に処理液を流すバイパス管に光透過
部を設けているので、光透過部への気泡の侵入が防止さ
れる。
【0026】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例を図面に基
づいて詳細に説明する。図1は、本発明に係る実施例の
濃度測定装置を用いた基板処理装置の概略構成図であ
る。この基板処理装置では、半導体ウエハなどの基板を
浸漬して基板の表面を処理する処理槽1を備え、この処
理槽1の下部に、アンモニア水と過酸化水素水との混合
薬液、塩酸と過酸化水素水との混合薬液、硫酸と過酸化
水素水との混合薬液、バッファードフッ酸(BHF)な
どの基板処理用の処理液を下方から供給する処理液供給
管2が連通接続されている。また、処理槽1の周囲に排
液槽3が設けられるとともに排液槽3に排液管4が連通
接続されている。これらの構成により、処理槽1に処理
液を供給し、その処理槽1に設けられた整流多孔板若し
くは注入管(図示せず)により均一に処理液を上昇させ
るとともにオーバーフローさせ、その上昇流で基板の表
面を処理する。また、処理槽1をオーバーフローした処
理液は、排液槽3から排液管4を介して排出する。
【0027】処理液供給管2の途中箇所に、処理液の濃
度を光学的に測定する測定部5が設けられ、その測定部
5を間にして、一方側に、流動状態の処理液に対して光
を照射する投光手段としての光源6が、他方側に、処理
液を透過した光を受ける受光手段としての受光器7が設
けられ、受光器7での光の強度に基づいて処理液の濃度
が測定される。
【0028】図2(a)は、第1実施例の濃度測定装置
の測定部の縦断面図、図2(b)は横断面図である。測
定部5は、図2(a)に示すように、処理液供給管2
に、それよりも管径が大きい拡大測定部8が管継手9を
介してシール状態で接続されている。
【0029】拡大測定部8には、図2(b)に示すよう
に、その周方向の一部に凹部が形成され、透明の壁8
a,8aを所定の間隔で対向させた光透過部10が形成
されている。また、この光透過部10を挟んで、光源6
と受光器7とが設けられている。
【0030】拡大測定部8内に、光透過部10を囲むよ
うに、気泡分離手段として、表面を疎水性のテフロン製
の網状体11が設けられている。なお、網状体11の網
目は、処理液中に混入している気泡を通過させない程度
の大きさ(例えば、最大長さ部分が1mm以下)に設定さ
れている。
【0031】この第1実施例によれば、拡大測定部8に
より処理液の流速を低下させて処理液中の気泡を重力分
離しやすくするとともに、網状体11によって、拡大測
定部8内において、処理液中に気泡が混入される領域と
混入されない領域とが形成される。そして、光透過部1
0は、気泡が混入されない領域に形成されているので、
その結果、気泡に起因する透過損失の減少が無く、処理
液の濃度を精度良く測定できる。
【0032】また、この第1実施例では、全体を網状体
11で囲まれた箇所に光透過部10を設けるように構成
しているが、気泡が光透過部10に流れ込まないように
構成すれば良い。
【0033】なお、第1実施例では、処理液を下方から
上方へ流すように構成しているが、水平方向に流す場合
にも適用できる。また、拡大測定部8は、処理液供給管
2よりも管径を大きくしているが、処理液供給管2自体
の径が比較的大きい場合には、その処理液供給管2とほ
ぼ同径に測定部5を構成し、そこに光透過部10を設け
るようにしてもよい。
【0034】図3は第2実施例の濃度測定装置の測定部
の縦断面図である。図3に示すように、処理液を上方に
流す上下の処理液供給管2,2は、その管軸芯が平面方
向で互いに離れる位置に配置され、その処理液供給管
2,2に、処理液の流路断面積を拡大して流速を低下す
る拡大測定部12が、管継手13を介してシール状態で
連通接続されている。
【0035】拡大測定部12内には、流れている処理液
の流動中心C1よりも下方に光透過部14が設けられて
いる。光透過部14よりも処理液の流動方向上流側にお
いて処理液の流速が低下させられ、かつ主に重力分離に
よって、処理液中の気泡が光透過部14に流れることが
防止される。なお、図3においては、光源および受光器
は省略されているが、その構成は図1に示す第1実施例
と同じである。
【0036】図4は、第3実施例の濃度測定装置の測定
部の縦断面図である。図4に示すように、処理液を水平
方向に流すように構成され、流動方向上流側の処理液供
給管2に対して、流動方向下流側の処理液供給管2は、
その管軸芯が鉛直方向で上方に離れる位置に設けられ、
両処理液供給管2,2が拡大測定部15に管継手16を
介してシール状態で連通接続されている。
【0037】拡大測定部15内には、流れている処理液
の流動中心C2よりも下方に光透過部17が設けられて
いる。光透過部17よりも処理液の流動方向上流側にお
いて処理液の流速が低下させられ、かつ主に重力分離に
よって、処理液中の気泡が光透過部17に流れることが
防止される。図4においては、光源および受光器は省略
されているが、その構成は、図1に示す第1実施例と同
じである。
【0038】図5(a)は、第4実施例の濃度測定装置
の測定部の縦断面図である。図5(a)に示すように、
処理液を上方に流す上下の処理液供給管2,2に、処理
液の流路断面積を拡大して処理液の流速を低下する拡大
測定部18が、管継手19を介してシール状態で連通接
続されている。
【0039】拡大測定部18内に導入管20が突出して
設けられ、その導入管20の外周面に近く、かつ、導入
管20の先端よりも処理液の流動方向上流側の位置に光
透過部21が設けられている。その結果、気泡を含む処
理液は導入管20から上方へ向かって拡大測定部18内
へ導入されるので、導入管20の外周面近くに設けられ
ている光透過部21へ気泡が流れることが防止される。
図5(a)においては、光源および受光器は省略されて
いるが、その構成は、図1に示す第1実施例と同じであ
る。
【0040】図5(b)は、第5実施例の濃度測定装置
の測定部の縦断面図であり、図5(a)に示す第4実施
例と異なるところは次の通りである。すなわち、処理液
を水平方向に流動させるように構成されるとともに、流
出側の処理液供給管2が導入管20よりも上方に配置さ
れ、その導入管20の外周面に近く、かつ、導入管20
の先端よりも処理液の流動方向上流側の下方位置に光透
過部21が設けられている。他の構成は第4実施例と同
じである。この第5実施例によれば、導入管20から導
入される処理液を斜め上方に向かって流動させ、気泡を
より良好に重力分離できる。
【0041】上記第4および第5実施例において、導入
管20の先端形状を、図5(c)の変形例の縦断面図に
示すように、光透過部21側の突出量を大きくし、そし
て、そこから遠ざかる程突出量が小さくなるように構成
してもよい。この変形例の構成によれば、導入管20の
内周面との間での流動抵抗の差により、光透過部21か
ら遠ざかる側からの流速が速くなり、見掛け上、流動中
心を光透過部21から遠ざけ、気泡の光透過部21への
侵入をより良好に防止できる。
【0042】図6(a)は第6実施例の濃度測定装置の
測定部の斜視図、図6(b)は正面断面図、図6(c)
は側面断面図である。図6(a)(b)(c)に示すよ
うに、処理液を上方に流す上下の処理液供給管2,2
に、処理液の流路断面積を拡大して処理液の流速を低下
する拡大測定部22が、管継手23を介してシール状態
で連通接続されている。
【0043】拡大測定部22の中心相当箇所に、対向壁
の間隔を他部よりも狭くして気泡の侵入を阻止する間隙
部Sが形成され、この間隙部Sに光透過部24が設けら
れ、光透過部24を間にして、一方に光源6が、そし
て、他方に受光器7がそれぞれ設けられている。前述し
た間隙部Sによって、処理液中に混入した気泡が光透過
部24に流れることが防止される。なお、間隙部Sの間
隔は、0.7mm 以上で1mm未満に設定される。
【0044】図7(a)は、第7実施例の濃度測定装置
の測定部の縦断面図である。図7(a)に示すように、
処理液を上方に流す上下の処理液供給管2,2に、処理
液の流路断面積を拡大して処理液の流速を低下する拡大
測定部25の上下の直線状の管体26a,26bが、管
継手27を介してシール状態で連通接続されている。
【0045】上下の直線状の管体26a,26bと拡大
測定部25とが同芯状に構成され、上流側である下方の
管体26b内に、板材を所定角度捩じった形状に構成し
た旋回付与部材28が設けられ、拡大測定部25内に上
昇して導入する処理液に旋回流を生じさせる。
【0046】拡大測定部25内において、処理液導入側
となる下方の管体26bの仮想延長線L箇所から外れた
位置に光透過部29が設けられている。前述した旋回付
与部材28を設ける構成と光透過部29の位置とによっ
て、処理液中の混入気泡が光透過部29に流れることが
防止される。
【0047】上記構成により、拡大測定部25内に処理
液を旋回流動状態で導入し、遠心力を受けさせることに
より、比重の軽い気泡を中心箇所に集めて流動させる。
そして、中心箇所から外れた気泡が流動しない箇所で、
処理液の濃度を測定できる。
【0048】図7(b)は、第8実施例の濃度測定装置
の測定部の縦断面図であり、図7(a)に示す第7実施
例と異なるところは次の通りである。すなわち、処理液
を水平方向に流す状態で設け、拡大測定部25内におい
て、そこへの処理液導入側となる管体26bの仮想延長
線L箇所から外れた下方の位置に光透過部30が設けら
れている。他の構成は図7(a)に示す第7実施例と同
じである。
【0049】この第8実施例によれば、遠心力による分
離作用に加えて重力による分離作用をも与えることがで
き、気泡が光透過部30に侵入することをより良好に防
止できる。
【0050】図8(a)は、第9実施例の濃度測定装置
の測定部の縦断面図であり、図3、図4に示す第2実施
例を改良したものである。すなわち、拡大測定部12内
に石英製の球状体31が充填されるとともに、光透過部
14が、球状体31の侵入を防止する囲い32によって
覆われ、拡大測定部12内に処理液が導入するときに、
処理液中に混入した気泡の分散が防止される。他の構成
は第2実施例と同じであり、図3と同一図番を付してあ
り、その説明は省略する。
【0051】図8(b)は、第10実施例の濃度測定装
置の測定部の縦断面図であり、図5(a)に示す第4実
施例を改良したものである。すなわち、拡大測定部18
内に石英製の球状体33が充填されるとともに、光透過
部21が、球状体33の侵入を防止する囲い部材34に
よって覆われ、拡大測定部18内に処理液が導入すると
きに、処理液中に混入した気泡の分散が防止される。他
の構成は第4実施例と同じであり、図5(a)と同一図
番を付してあり、その説明は省略する。
【0052】図9(a)は、第11実施例の濃度測定装
置の測定部の縦断面図である。図9(a)に示すように
処理液を上方に流す処理液供給管2,2に管継手35を
介して接続される直線状の管体36の途中に、管体36
の内径よりも小径の抵抗部37が設けられ、この抵抗部
37は処理液に流動抵抗を付与している。
【0053】抵抗部37よりも処理液の流動方向上流側
の位置と抵抗部37よりも処理液の流動方向下流側の位
置とにわたり、下方に屈曲する状態でバイパス管38が
接続され、そのバイパス管38内の下方屈曲部分に光透
過部39が設けられている。処理液の一部がバイパス管
38内に流れており、かつ処理液中の気泡が重力分離さ
れ、その結果、処理液中に混入した気泡が光透過部39
に流れることが防止される。なお、光源および受光器の
構成は、図1に示す第1実施例と同じである。
【0054】図9(b)は、第12実施例の濃度測定装
置の測定部の縦断面図であり、図9(a)に示す第11
実施例と異なるところは次の通りである。すなわち、抵
抗部40が、多数の小径の処理液流路41を分散形成し
て構成され、バイパス管38のバイパス流路R終端が抵
抗部40に接続されている。他の構成は第11実施例と
同じであり、図9(a)と同一図番を付してあり、その
説明は省略する。
【0055】図10は、第13実施例の濃度測定装置の
測定部の縦断面図であり、図9(a)に示す第11実施
例と異なるところは次の通りである。すなわち、バイパ
ス管42において、光透過部39よりも処理液の流動方
向上流側の位置と光透過部39よりも処理液の流動方向
下流側の位置とにわたり、上方に向かうエア抜き管43
が接続され、処理液が光透過部39に流動するまでに、
処理液中に混入した気泡を分離し、気泡が光透過部39
に流れることがより良好に防止される。他の構成は第1
1実施例と同じであり、図9(a)に示す同一図番を付
してあり、その説明は省略する。
【0056】図11は、測定部の変形例を示す横断面図
であり、光透過部44を間にして、一方側に反射鏡45
が、そして他方側に光源46と受光器47とがそれぞれ
設けられ、光源46からの光を反射鏡45で反射させて
から受光器47に受光される。
【0057】この変形例の構成によれば、光透過部44
の一方側に光源46や受光器47の設置スペースを確保
しづらい場合でも容易に組み込める利点がある。更に、
光透過部44の透過経路を往復するため、光の透過長さ
を倍増でき、濃度の測定精度を向上させやすいという利
点もある。
【0058】上記実施例では、処理液に光を透過すると
ともにその透過光を受けさせるのに、その光透過部に近
接して光源と受光器とを設けているが、光源からの光を
光ファイバーを介して光透過部に導入するとともに、光
透過部からの透過光を光ファイバーを介して受光器に導
入するように構成しても良い。
【0059】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明では気泡分離手段は測定部内において処
理液に気泡が混入している領域と処理液に気泡が混入し
ていない領域とを形成し、光透過部は測定部内の気泡が
混入していない領域に形成されているので、光透過部へ
の気泡の侵入を防止でき、その結果、精度のよい処理液
の濃度の測定を行うことができる。
【0060】また、請求項2に記載の発明によれば、気
液分離手段は網状体で形成されているので、処理液中に
混入した気泡の光透過部への侵入を確実に防止でき、そ
の結果、さらに精度のよい処理液の濃度の測定を行うこ
とができる。
【0061】また、請求項3に記載の発明によれば、網
状体は疎水性材料で形成されているので、気泡が網状体
の表面に滞留させることなく、処理液は測定部内を流れ
るので、より精度のよい処理液の濃度の測定を行うこと
ができる。
【0062】また、請求項4に記載の発明によれば、光
透過部は測定部内における処理液の流動中心より下方側
に形成されているので、光透過部への気泡の侵入を防止
でき、その結果、精度のよい処理液の濃度の測定を行う
ことができる。
【0063】また、請求項5に記載の発明によれば、測
定部内に形成された光透過部の設置箇所を除いた箇所
に、複数の球状体を設けたので、複数の球状体により測
定部内での気泡の分散を防止して、光透過部への気泡の
侵入を確実に防止でき、その結果、精度のよい処理液の
濃度の測定を行うことができる。
【0064】また、請求項6に記載の発明によれば、処
理液を測定部内へ導入する導入管が測定部内に突出し、
光透過部が導入管の外周側に形成されているので、光透
過部における気泡の侵入を防止して、光透過部への気泡
の侵入を確実に防止でき、その結果、精度のよい処理液
の濃度の測定を行うことができる。
【0065】また、請求項7に記載の発明によれば、測
定部内の導入管の開口よりも下流側に複数の球状体を設
け、囲い部材が測定部内の導入管の開口よりも上流側へ
の球状体の移動を防止しているので、複数の球状体によ
り測定部内での気泡の分散を防止して、光透過部への気
泡の侵入を確実に防止でき、その結果、精度のよい処理
液の濃度の測定を行うことができる。
【0066】また、請求項8に記載の発明によれば、光
透過部は測定部内に間隔を狭くして気泡の侵入を抑制す
る間隙部であるので、光透過部への気泡の侵入を防止で
き、その結果、精度のよい処理液の濃度の測定を行うこ
とができる。
【0067】また、請求項9に記載の発明によれば、旋
回流付与部材が測定部内に導入される処理液に旋回流を
生じさせ、光透過部が測定部内の旋回流が生じている領
域以外の場所に形成されているので、光透過部への気泡
の侵入を防止でき、その結果、精度のよい処理液の濃度
の測定を行うことができる。
【0068】また、請求項10に記載の発明によれば、
処理液供給管内に処理液の流れに抵抗を与える抵抗部材
を備え、処理液供給管の抵抗部材よりも上流側の位置と
処理液供給管の抵抗部材よりも下流側の位置との間で、
処理液供給管とは別に処理液を流すバイパス管に光透過
部を設けているので、光透過部への気泡の侵入を防止で
き、その結果、精度のよい処理液の濃度の測定を行うこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係る実施例の濃度測定装置を
用いた基板処理装置の概略構成図である。
【図2】(a)は第1実施例の濃度測定装置の測定部の
縦断面図、(b)は横断面図である。
【図3】第2実施例の濃度測定装置の測定部の縦断面図
である。
【図4】第3実施例の濃度測定装置の測定部の縦断面図
である。
【図5】(a)は第4実施例の濃度測定装置の測定部の
縦断面図、(b)は第5実施例の濃度測定装置の測定部
の縦断面図、(c)は第4実施例、第5実施例の変形例
の縦断面図である。
【図6】(a)は第6実施例の濃度測定装置の測定部の
斜視図、(b)は正面断面図、(c)は側面断面図であ
る。
【図7】(a)は第7実施例の濃度測定装置の測定部の
縦断面図、(b)は第8実施例の濃度測定装置の測定部
の縦断面図である。
【図8】(a)は第9実施例の濃度測定装置の測定部の
縦断面図、(b)は第10実施例の濃度測定装置の測定
部の縦断面図である。
【図9】(a)は第11実施例の濃度測定装置の測定部
の縦断面図、(b)は第12実施例の濃度測定装置の測
定部の縦断面図である。
【図10】第13実施例の濃度測定装置の測定部の縦断
面図である。
【図11】測定部の変形例を示す横断面図である。
【図12】従来の濃度測定装置の測定部を示す縦断面図
である。
【符号の説明】
5…測定部 6…光源 7…受光器 10…光透過部 11…網状体 12…拡大測定部 14…光透過部 15…拡大測定部 17…光透過部 18…拡大測定部 21…光透過部 24…光透過部 29…光透過部 30…光透過部 31…球状体 33…球状体 37…抵抗部 38…バイパス管 39…光透過部 40…抵抗部 42…バイパス管 44…光透過部 S…間隙部

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】処理液が流される処理液供給管に設けられ
    た測定部内に形成された光透過部に光を照射する投光手
    段と、前記光透過部を透過した光を受光する受光手段と
    を備え、前記受光手段によって受光された光の強度に基
    づいて処理液の濃度を測定する濃度測定装置において、 前記測定部内において処理液に気泡が混入している領域
    と処理液に気泡が混入していない領域とを形成する気泡
    分離手段を備え、 前記光透過部は、前記測定部内の気泡が混入していない
    領域に形成されていることを特徴とする濃度測定装置。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の濃度測定装置において、 前記気泡分離手段は、網状体で形成されていることを特
    徴とする濃度測定装置。
  3. 【請求項3】請求項2に記載の濃度測定装置において、 前記網状体は、疎水性材料で形成されていることを特徴
    とする濃度測定装置。
  4. 【請求項4】処理液が流される処理液供給管に設けられ
    た測定部内に形成された光透過部に光を照射する投光手
    段と、前記光透過部を透過した光を受光する受光手段と
    を備え、前記受光手段によって受光された光の強度に基
    づいて処理液の濃度を測定する濃度測定装置において、 前記光透過部は、前記測定部内における処理液の流動中
    心より下方側に形成されていることを特徴とする濃度測
    定装置。
  5. 【請求項5】請求項4に記載の濃度測定装置において、 前記測定部内に形成された前記光透過部の設置箇所を除
    いた箇所に、複数の球状体を設けたことを特徴とする濃
    度測定装置。
  6. 【請求項6】処理液が流される処理液供給管に設けられ
    た測定部内に形成された光透過部に光を照射する投光手
    段と、前記光透過部を透過した光を受光する受光手段と
    を備え、前記受光手段によって受光された光の強度に基
    づいて処理液の濃度を測定する濃度測定装置において、 前記測定部内に突出され、かつ処理液を前記測定部内へ
    導入する導入管をさらに備え、 前記光透過部は、前記導入管の外周側に形成されている
    ことを特徴とする濃度測定装置。
  7. 【請求項7】請求項6に記載の濃度測定装置であって、 前記測定部内の前記導入管の開口よりも下流側に複数の
    球状体を設け、 前記測定部内の前記導入管の開口よりも上流側に前記球
    状体が移動することを防止する囲い部材を備えたことを
    特徴とする濃度測定装置。
  8. 【請求項8】処理液が流される処理液供給管に設けられ
    た測定部内に形成された光透過部に光を照射する投光手
    段と、前記光透過部を透過した光を受光する受光手段と
    を備え、前記受光手段によって受光された光の強度に基
    づいて処理液の濃度を測定する濃度測定装置において、 前記光透過部は、前記測定部内に間隔を狭くして気泡の
    侵入を抑制する間隙部であることを特徴とする濃度測定
    装置。
  9. 【請求項9】処理液が流される処理液供給管に設けられ
    た測定部内に形成された光透過部に光を照射する投光手
    段と、前記光透過部を透過した光を受光する受光手段と
    を備え、前記受光手段によって受光された光の強度に基
    づいて処理液の濃度を測定する濃度測定装置において、 前記測定部内に導入される処理液に旋回流を生じさせる
    旋回流付与部材を備え、 前記光透過部は、前記測定部内の旋回流が生じている領
    域以外の場所に形成されていることを特徴とする濃度測
    定装置。
  10. 【請求項10】処理液供給管に流れる処理液の濃度を測
    定する濃度測定装置において、 前記処理液供給管内に処理液の流れに抵抗を与える抵抗
    部材と、 前記処理液供給管の前記抵抗部材よりも上流側の位置と
    前記処理液供給管の前記抵抗部材よりも下流側の位置と
    の間で、前記処理液供給管とは別に処理液を流すバイパ
    ス管と、を備え、 処理液に光を照射し、処理液を透過した光の強度に基づ
    いて処理液の濃度を測定するための光透過部が前記バイ
    パス管内に形成されていることを特徴とする濃度測定装
    置。
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