JPH11145314A - 電子機器へのマーキング方法 - Google Patents
電子機器へのマーキング方法Info
- Publication number
- JPH11145314A JPH11145314A JP30758697A JP30758697A JPH11145314A JP H11145314 A JPH11145314 A JP H11145314A JP 30758697 A JP30758697 A JP 30758697A JP 30758697 A JP30758697 A JP 30758697A JP H11145314 A JPH11145314 A JP H11145314A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- irradiation
- resin
- laser
- mold resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は、電子機器へのマーキング方法に
関する。 【解決手段】 この発明は、電子機器のモールド樹脂表
面に、油分を除去するための特殊光線を照射し、同表面
の濡れ性を向上し、次いで検印をマーキングし、検印イ
ンクの密着性を高めることを特徴とする電子機器へのマ
ーキング方法を提供せんとするものである。
関する。 【解決手段】 この発明は、電子機器のモールド樹脂表
面に、油分を除去するための特殊光線を照射し、同表面
の濡れ性を向上し、次いで検印をマーキングし、検印イ
ンクの密着性を高めることを特徴とする電子機器へのマ
ーキング方法を提供せんとするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子機器へのマ
ーキング方法に関する。
ーキング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製品等の電子機器は、パッ
ケージのために樹脂を用いて表面をモールドしており、
このモールド樹脂表面には、液状のインクで検印がマー
キングされる。
ケージのために樹脂を用いて表面をモールドしており、
このモールド樹脂表面には、液状のインクで検印がマー
キングされる。
【０００３】かかるモールド樹脂は油分を多く含んでい
るため、マーキングに際してインクがはじき、球状に収
縮して検印が不明瞭となる。
るため、マーキングに際してインクがはじき、球状に収
縮して検印が不明瞭となる。
【０００４】従って、モールド樹脂面を水素ガスにて約
3,000 ℃の温度で焼いて油分を除去し、マーキングする
方法が考えられている。
3,000 ℃の温度で焼いて油分を除去し、マーキングする
方法が考えられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、モールド樹脂
面を水素ガスで焼いて油分を除去する方法は、水素ガス
の管理が厳しく、管理作業が煩雑となり、更には水素ガ
スを電子機器のマーキング現場にまで引くための配管工
事が大変であり、安全面でも不安があるという欠点があ
った。
面を水素ガスで焼いて油分を除去する方法は、水素ガス
の管理が厳しく、管理作業が煩雑となり、更には水素ガ
スを電子機器のマーキング現場にまで引くための配管工
事が大変であり、安全面でも不安があるという欠点があ
った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、電子機器の
モールド樹脂表面に、油分を除去するための特殊光線を
照射し、同表面の濡れ性を向上し、次いで検印をマーキ
ングし、検印インクの密着性を高めることを特徴とする
電子機器へのマーキング方法を提供せんとするものであ
る。
モールド樹脂表面に、油分を除去するための特殊光線を
照射し、同表面の濡れ性を向上し、次いで検印をマーキ
ングし、検印インクの密着性を高めることを特徴とする
電子機器へのマーキング方法を提供せんとするものであ
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】この発明では、電子機器のモール
ド樹脂表面に検印をマーキングする前に、モールド樹脂
表面にレーザー光線や紫外線等の特殊光線を集光機を介
して照射する。
ド樹脂表面に検印をマーキングする前に、モールド樹脂
表面にレーザー光線や紫外線等の特殊光線を集光機を介
して照射する。
【０００８】モールド樹脂表面は油分が除去されて、濡
れ性が向上しており、この状態で液状のインクを用いて
検印をマーキングすると、表面の濡れ性があるためにイ
ンクが表面を浸透し密着性を増し、明瞭な検印をマーキ
ングすることができる効果がある。
れ性が向上しており、この状態で液状のインクを用いて
検印をマーキングすると、表面の濡れ性があるためにイ
ンクが表面を浸透し密着性を増し、明瞭な検印をマーキ
ングすることができる効果がある。
【０００９】
【実施例】この発明の実施例を図面にもとづき詳説すれ
ば、図１、図２に示すのは、電子機器のマーキングを行
うに際し、その前工程として、電子機器のモールド樹脂
表面に油分を除去するための特殊光源を照射し、モール
ド樹脂表面の濡れ性を向上している状態の斜視説明図で
ある。
ば、図１、図２に示すのは、電子機器のマーキングを行
うに際し、その前工程として、電子機器のモールド樹脂
表面に油分を除去するための特殊光源を照射し、モール
ド樹脂表面の濡れ性を向上している状態の斜視説明図で
ある。
【００１０】すなわち、電子機器Ａは、例えば半導体、
抵抗装置等のように、ガラスエポキシ樹脂の基板ａ上に
チップを載設し、インナーフレームとの間でワイヤーボ
ンディングをして、基板上をモールド樹脂でモールドし
たり（図１参照）、基板上に抵抗体印刷をし、レザート
リミングをし、その上面をモールド樹脂でモールドした
りしており、かかるモールド樹脂は通常樹脂の特性とし
て油分を含有している。
抵抗装置等のように、ガラスエポキシ樹脂の基板ａ上に
チップを載設し、インナーフレームとの間でワイヤーボ
ンディングをして、基板上をモールド樹脂でモールドし
たり（図１参照）、基板上に抵抗体印刷をし、レザート
リミングをし、その上面をモールド樹脂でモールドした
りしており、かかるモールド樹脂は通常樹脂の特性とし
て油分を含有している。
【００１１】従って、製品の最終工程で行われるマーキ
ング工程では、インクによるマーキングを行う際に、モ
ールド樹脂表面でインクがはじき、球状に収縮して明瞭
なマーキングが行えない。
ング工程では、インクによるマーキングを行う際に、モ
ールド樹脂表面でインクがはじき、球状に収縮して明瞭
なマーキングが行えない。
【００１２】そこで、従来図３に示すように、モールド
樹脂面100 にトーチ101 を用いて水素ガスを噴射燃焼さ
せて水素炎102 でモールド樹脂面を焼き、表面の油分を
除去する方法が採用されている。
樹脂面100 にトーチ101 を用いて水素ガスを噴射燃焼さ
せて水素炎102 でモールド樹脂面を焼き、表面の油分を
除去する方法が採用されている。
【００１３】しかし、かかる水素ガス燃焼による方法
は、水素ガス管理が安全確保のため厳しく規制され、か
つ水素ガス導入の付帯設備が大がかりとなる欠点を有す
る。
は、水素ガス管理が安全確保のため厳しく規制され、か
つ水素ガス導入の付帯設備が大がかりとなる欠点を有す
る。
【００１４】本発明の実施例では、電子機器Ａのモール
ド樹脂表面１に検印をマーキングする前に、マーキング
工程の前工程としてレーザー光線や紫外光線等の特殊光
線を集光機を介して照射することにより、モールド樹脂
表面の油分を除去するものである。
ド樹脂表面１に検印をマーキングする前に、マーキング
工程の前工程としてレーザー光線や紫外光線等の特殊光
線を集光機を介して照射することにより、モールド樹脂
表面の油分を除去するものである。
【００１５】すなわち、図１は、レーザー光線Ｘを照射
するためのレーザー照射装置Ｍを示すものであり、レー
ザー発振器２よりレーザー照射口３を通してレーザー光
線Ｘを照射すると共に、その中途にマスク４を介在して
レーザー光線Ｘを一定の量及び必要な照射面形状に調節
すると共に、その照射先方に集光機としてのレンズ５を
移動自在に介在して照射面の形状を相似形に増減変更調
節することができるようにしている。
するためのレーザー照射装置Ｍを示すものであり、レー
ザー発振器２よりレーザー照射口３を通してレーザー光
線Ｘを照射すると共に、その中途にマスク４を介在して
レーザー光線Ｘを一定の量及び必要な照射面形状に調節
すると共に、その照射先方に集光機としてのレンズ５を
移動自在に介在して照射面の形状を相似形に増減変更調
節することができるようにしている。
【００１６】レンズ５の照射先方には、角度調節可能な
反射ミラー６が配設されており、反射ミラー６の角度調
節によって、レーザー光線Ｘの照射方向を変転させて反
射ミラー６下方の電子機器Ａのモールド樹脂表面１上に
レーザー光線Ｘを照射する。
反射ミラー６が配設されており、反射ミラー６の角度調
節によって、レーザー光線Ｘの照射方向を変転させて反
射ミラー６下方の電子機器Ａのモールド樹脂表面１上に
レーザー光線Ｘを照射する。
【００１７】レーザー光線Ｘは、コヒーレンスが非常に
よく、ピーク電力が大きくとれるので、高密度のエネル
ギー集中が行え、モールド樹脂面の油分を瞬間的に燃焼
して除去し、樹脂面の濡れ性を向上する。
よく、ピーク電力が大きくとれるので、高密度のエネル
ギー集中が行え、モールド樹脂面の油分を瞬間的に燃焼
して除去し、樹脂面の濡れ性を向上する。
【００１８】本実施例では、レーザー発振器２は、ＣＯ
2 レーザーの気体レーザーを使用し、Ｈe −Ｎ2 −ＣＯ
2 の混合気体を用いて光源を発生するようにしており、
出力が大きく１０μｍ付近の赤外領域で発振する。
2 レーザーの気体レーザーを使用し、Ｈe −Ｎ2 −ＣＯ
2 の混合気体を用いて光源を発生するようにしており、
出力が大きく１０μｍ付近の赤外領域で発振する。
【００１９】また、図２に示すのは、紫外光線Ｙを照射
するための紫外光線照射装置Ｎを示すものであり、紫外
光線発生器７より光通信用の光フィバー８を介してその
先端の集光機としてのレンズ９を通し、一定面積の範囲
に紫外光線Ｙを照射するものである。
するための紫外光線照射装置Ｎを示すものであり、紫外
光線発生器７より光通信用の光フィバー８を介してその
先端の集光機としてのレンズ９を通し、一定面積の範囲
に紫外光線Ｙを照射するものである。
【００２０】かかる紫外光線Ｙは、電子機器Ａのモール
ド樹脂表面１上に照射されて、モールド樹脂面の油分を
変性させて樹脂面のぬれ性を向上する。
ド樹脂表面１上に照射されて、モールド樹脂面の油分を
変性させて樹脂面のぬれ性を向上する。
【００２１】以上のように、本発明の実施例では、検印
をマーキングする前工程でレーザー光線Ｘや、紫外光線
Ｙ等の特殊光線を集光機を介して電子機器Ａのモールド
樹脂表面に照射するようにしたので、樹脂中の油分が消
去されて濡れ性が向上し、マーキングのインクが浸透
し、密着性も向上して明確な検印の現出が可能となるも
のである。
をマーキングする前工程でレーザー光線Ｘや、紫外光線
Ｙ等の特殊光線を集光機を介して電子機器Ａのモールド
樹脂表面に照射するようにしたので、樹脂中の油分が消
去されて濡れ性が向上し、マーキングのインクが浸透
し、密着性も向上して明確な検印の現出が可能となるも
のである。
【００２２】
【発明の効果】この発明によれば、電子機器のモールド
樹脂表面に特殊光線を照射したので、モールド樹脂表面
の油分が除去され、濡れ性が向上し、液状のインクによ
る検印が明瞭にマーキングすることができる効果があ
る。
樹脂表面に特殊光線を照射したので、モールド樹脂表面
の油分が除去され、濡れ性が向上し、液状のインクによ
る検印が明瞭にマーキングすることができる効果があ
る。
【図１】本発明方法におけるレーザ光線照射状態を示す
説明図。
説明図。
【図２】本発明方法における紫外線照射状態を示す説明
図。
図。
【図３】従来の水素ガスで電子機器表面を焼いている状
態を示す説明図。
態を示す説明図。
Ｍ レーザー照射装置 Ｎ 紫外光線照射装置 Ｘ レーザー光線 Ｙ 紫外光線 １ モールド樹脂表面 ２ レーザー発生機 ３ レーザー照射口 ４ マスク ５ レンズ ６ 反射ミラー ７ 紫外光線発生器
Claims (1)
- 【請求項１】 電子機器のモールド樹脂表面に、油分を
除去するための特殊光線を照射し、同表面の濡れ性を向
上し、次いで検印をマーキングし、検印インクの密着性
を高めることを特徴とする電子機器へのマーキング方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30758697A JPH11145314A (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | 電子機器へのマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30758697A JPH11145314A (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | 電子機器へのマーキング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11145314A true JPH11145314A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=17970857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30758697A Pending JPH11145314A (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | 電子機器へのマーキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11145314A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008118340A2 (en) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method to form a pattern of functional material on a substrate including the treatment of a surface of a stamp |
| US8783849B2 (en) | 2011-03-28 | 2014-07-22 | Seiko Epson Corporation | Printing method and printing device |
-
1997
- 1997-11-10 JP JP30758697A patent/JPH11145314A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008118340A2 (en) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method to form a pattern of functional material on a substrate including the treatment of a surface of a stamp |
| WO2008118340A3 (en) * | 2007-03-22 | 2009-03-19 | Du Pont | Method to form a pattern of functional material on a substrate including the treatment of a surface of a stamp |
| US8783849B2 (en) | 2011-03-28 | 2014-07-22 | Seiko Epson Corporation | Printing method and printing device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040224 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040316 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040817 |