JPH11145292A - 階層レイアウト設計手法 - Google Patents

階層レイアウト設計手法

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JPH11145292A
JPH11145292A JP30537497A JP30537497A JPH11145292A JP H11145292 A JPH11145292 A JP H11145292A JP 30537497 A JP30537497 A JP 30537497A JP 30537497 A JP30537497 A JP 30537497A JP H11145292 A JPH11145292 A JP H11145292A
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Kazuyuki Irie
和幸 入江
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 階層レイアウト手法により配線遅延なまりを
防止する階層レイアウト手法を提供する。 【解決手段】 階層レイアウト設計手法において、マク
ロブロックA3内に最上位階層接続用バッファA4およ
び最上位階層配線用領域A1,A2を設ける。この階層
レイアウトを行う際に発生する可能性のあるマクロブロ
ック上通過配線においては、配線長が長くなる可能性が
非常に高く、帯周波数動作の障害となってしまう。よっ
て、この配線遅延なまりを確実に防ぐ手法が必要とな
る。マクロブロックA3内に、あらかじめ用意した最上
位階層用配線領域A1,A2および最上位階層配線接続
用バッファブロックA4を最上位階層における配置配線
に使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、階層レイアウト設
計手法に関し、特に、最上位階層配線接続用バッファお
よび最上位階層配線用領域敷設による短配線長化を図っ
た階層レイアウト設計手法に関する。
【0002】
【従来の技術】図6は、従来例のマクロブロックを示す
概略図である。従来は、マクロブロック上を通過する最
上位階層での冗長配線D2に対して、配線長短縮化手修
正するか、または、マクロブロック周辺にバッファブロ
ックD3を配置し、追加接続して配線長を短くするか、
もしくは、階層マクロブロック内における配置配線隙間
を最上位階層用の配置領域として利用して、バッファブ
ロックD3の追加配置を行い、配線長を短くするように
していた。(J)に示す当初の冗長配線D2に対して、
マクロブロック周辺にバッファブロックD3を追加して
(矢印H)、(K)のように、配線長を短くするか、
(J)の冗長配線D2に対して、マクロブロックないの
配置配線隙間領域にバッファブロックを追加して(矢印
I)、(L)のように、バッファブロックD3を追加す
る。なお、D4は、マクロブロック内ですでに配置済み
のブロックで、D5は、マクロブロック内ですでに配線
済みの配線を示す。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来例では、
複数の大規模マクロブロックが存在した場合、又は使用
ブロック密度が高い場合、前後段のブロックを移動させ
る十分な領域確保が出来ないため配線長短縮化が困難に
なる。又、配線密度が高い場合には、迂回している冗長
配線を短縮化修正するとしても十分な配線領域が確保出
来ないため、配線長短縮化が困難になる。従って、マク
ロブロック上を通過する冗長配線を手修正にて短縮化す
るのが困難となる可能性があるという問題を有する。
【0004】また、マクロブロック周辺にバッファブロ
ックを追加配置してマクロブロック上通過配線に接続し
たとしても、結局マクロブロック幅以下には短縮化でき
ない。従って、マクロブロック周辺にバッファブロック
を追加配置し、マクロブロック上通過配線に接続して配
線長を短くしようとしても、短くできる長さに限界があ
るという問題を有する。
【0005】さらに、最上位階層にてマクロブロック内
配置配線隙間を利用するためには、使用している全ての
マクロブロック内の全ての配置配線情報といった、膨大
なデータ量の認識が必要である。従って、マクロブロッ
ク内における配置配線隙間を最上位階層用配置配線領域
として使用するとした場合、大規模回路には対応困難で
あるという問題を有する。
【0006】またさらに、マクロブロック内の配置配線
密度が高ければ、最上位階層用に使用できる領域確保が
出来ないばかりか、配置配線密度が低い場合でもマクロ
ブロック上通過配線の配線長短縮化に最適な配置配線隙
間領域が存在しない場合がある。従って、マクロブロッ
ク内における配置配線隙間を最上位階層用配置配線領域
として使用したとしても、確実に配線長の短縮化を図る
ことができないという問題を有する。
【0007】そこで、本発明の目的は、上記問題点を解
消すべく、配線遅延なまりを防止した階層レイアウト手
法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の階層レイアウト設計手法は、マクロブロッ
ク内の階層レイアウト設計手法において、マクロブロッ
ク内に設けられた最上位階層配線接続用バッファと、最
上位階層配線接続用バッファとが設けられた領域である
最上位階層配線接続用領域とを設定したことを特徴とす
る。
【0009】また、マクロブロック内に、あらかじめ、
最上位階層配線接続用バッファを配置した後、マクロブ
ロック内の配置配線を行うのが好ましい。
【0010】さらに、マクロブロック内の配置配線を完
了した後、マクロブロック内のブロックを移動して、最
上位階層配線接続用バッファを任意に配置しておくのが
好ましい。
【0011】またさらに、マクロブロック内の配置配線
前に、あらかじめ、最上位階層配線接続用バッファを、
座標軸上のX方向およびY方向、または、そのいづれか
の方向に設定しておくのが好ましい。
【0012】また、最上位階層配線接続用バッファを任
意に配置した後、X方向およびY方向、または、そのい
づれかの方向に存在するマクロブロック内配線を移動し
て、最上位階層配線用領域を設定しておくのが好まし
い。
【0013】さらに、最上位階層配線用領域のマクロブ
ロック内配線は、X方向に第1の配線層を、Y方向に第
2の配線層を用いるのが好ましい。
【0014】また、本発明の階層レイアウト手法は、マ
クロブロック内にXY座標を設定し、マクロブロック内
の配置配線終了後に、最上位階層において、マクロブロ
ック間の配線接続状況をマクロブロック配置場所および
配線密度より判断する第1のステップと、マクロブロッ
クの内、対象となるマクロブロックのX方向領域に配置
されるブロック間および外部端子間において接続される
配線が存在するのかを判定する第2のステップと、対象
となるマクロブロック上をX方向に配線が直進通過した
場合に配線遅延なまりが生じるかを判定する第3のステ
ップと、対象となるマクロブロック上をX方向に通過す
ると予測される配線本数分を、最上位階層用の第1の配
線領域として任意に設定する第4のステップと、対象と
なるマクロブロックのY方向領域に配置されるブロック
間および外部端子間において接続される配線が存在する
かを判定する第5のステップと、対象となるマクロブロ
ックをY方向に配線が直進通過した場合に配線遅延なま
りが生じるかを判定する第6のステップと、対象となる
マクロブロック上をY方向に通過すると予測される配線
本数分を、最上位階層用の第2の配線領域として任意に
設定する第7のステップと、設定された最上位階層用の
第1の配線領域と第2の配線領域とに重なっているマク
ロブロック用の配線およびブロックを上下左右方向にず
らす第8のステップと、予測したマクロブロック上通過
配線に接続可能なバッファブロックを配線本数分任意に
マクロブロック内の最上位階層用の第1の配線領域内と
第2の配線領域内とに配置する第9のステップと、最上
位階層にマクロブロックを任意に配置し、最上位階層で
のレイアウトを行う第10のステップとを含むことを特
徴とする。
【0015】さらに、本発明の階層レイアウト設計手法
は、マクロブロック内にXY座標を設定し、最上位階層
において各マクロブロック間の配線接続状況をマクロブ
ロック配置場所および配置配線密度より判断する第1の
ステップと、マクロブロックの内で、対象となるマクロ
ブロックのX方向領域に配置されるブロック間および外
部端子間において接続される配線が存在するかを判定す
る第2のステップと、対象となるマクロブロック上をX
方向に配線が直進通過した場合に配線遅延なまりが生じ
るかを判定する第3のステップと、対象となるマクロブ
ロック上をX方向に通過すると予測される配線本数分を
最上位階層用の第1の配線領域として任意に設定し、そ
の際、マクロブロック用配線は第1配線層のみ使用可能
とする第4のステップと、対象となるマクロブロックの
Y方向領域に配置されるブロック間および外部端子間に
おいて接続される配線が存在するかを判定する第5のス
テップと、対象となるマクロブロック上をY方向に配線
が直進通過した場合に、配線遅延なまりが生じるかを判
定する第6のステップと、対象となるマクロブロック上
をY方向に通過すると予測される配線本数分を最上位階
層用の第2の配線領域として任意に設定し、その際、マ
クロブロック用配線は第2配線層のみ使用可能とする第
7のステップと、予測したマクロブロック上通過配線に
接続可能なバッファブロックを配線本数分任意にマクロ
ブロック内の最上位階層用の第1の配線領域と第2の配
線領域内に配置する第8のステップと、マクロブロック
内に最上位階層用の配線領域および最上位階層配線接続
用バッファブロックを配置したままの状態でマクロブロ
ック内のレイアウトを行う第9のステップと、最上位階
層にマクロブロックを任意に配置し最上位階層でのレイ
アウトを行う第10のステップとを含むことを特徴とす
る。
【0016】本発明の階層レイアウト手法は、特に、マ
クロブロック内に最上位階層配線接続用バッファおよび
最上位階層配線用領域を有する手段である。より具体的
には、マクロブロック内においてX方向,Y方向のいず
れか、又は両方向に最上位階層用配線の領域を用意して
おく手段を有し、さらに、マクロブロック内にあらかじ
め最上位階層配線接続用バッファブロックを用意してお
く手段を有する。
【0017】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例について、
図面を参照して説明する。
【0018】図1は、本発明の階層レイアウト設計手法
の第1の実施例の構成を示すブロック図である。この手
法は、マクロブロックA3内において、Y方向に設けら
れた最上位階層用配線領域A1と、X方向に設けられた
最上位階層用配線領域A2と、最上位階層用配線A1,
A2との間のマクロブロック用配線領域A3とを備え、
さらに、最上位階層用配線領域A1と最上位階層用配線
領域A2とが交差する付近の領域に配置された最上位階
層配線接続用バッファブロックA4を備えた構成であ
る。マクロブロック用配線領域は、又、X方向の最上位
階層用配線領域A2内では2アルミ配線層A7のみマク
ロブロック用配線が使用可能で、Y方向の最上位階層用
配線領域A1内では1アルミ配線層A6のみマクロブロ
ック用配線が使用可能として実施する。
【0019】次に、図2は、本発明の第1の実施例の手
順を示すフローチャートである。以下、図2を参照し
て、本発明の階層レイアウト設計手法の手順について詳
細に説明する。まず、マクロブロックA3内において、
配置配線を完了させる(ステップ2−1)。次に、最上
位階層での配線時にマクロブロックA3上を直進通過す
る最上位階層配線の本数および通過向き(配線接続状
況)を、最上位階層でのマクロブロックA3の配置位
置,外部端子接続状況および配置密度(配置配線密度)
により予測する(ステップ2−2)。次に、対象となる
マクロブロックの左右領域に配置されるブロック間およ
び外部端子間において接続される配線が存在するか否か
を判断し(ステップ2−3)、対象となるマクロブロッ
クA3上をX方向に直進通過する最上位階層配線が存在
した場合、配線遅延なまりを引き起こす程の配線長にな
ってしまうか否かをマクロブロックA3の形状および規
模より判断する(ステップ2−4)。ここで、マクロブ
ロックA3上を通過する最上位階層配線が、遅延なまり
を引き起こすと判断した場合、予測した配線本数分通過
可能な幅を通過予測した方向に最上位階層用配線領域A
2として、マクロブロックA3内に設定する(ステップ
2−5)。X方向についてこのステップ2−3〜ステッ
プ2−5を行った後、同様にしてY方向に対しても繰り
返す(ステップ2−6〜2−8)。すなわち、対象とな
るマクロブロックの上下領域に配置されるブロック間お
よび外部端子間において接続される配線が存在するか否
かを判断し(ステップ2−6)、対象となるマクロブロ
ックA3上をY方向に直進通過する最上位階層配線が存
在した場合、配線遅延なまりを引き起こす程の配線長に
なってしまうか否かをマクロブロックA3の形状および
規模より判断する(ステップ2−7)。ここで、マクロ
ブロックA3上を通過する最上位階層配線が、遅延なま
りを引き起こすと判断した場合、予測した配線本数分通
過可能な幅を通過予測した方向に最上位階層用配線領域
A1として、マクロブロックA3内に設定する(ステッ
プ2−8)。次に、設定した最上位階層用配線領域A
1,A2と重なっているマクロブロックA3内配線およ
びブロックを最寄りの上下左右領域にずらす(ステップ
2−9)。その際、マクロブロックA3内におけるY方
向の最上位階層用配線領域A1を通過するマクロブロッ
ク内配線A6は、1アルミ配線層のみ、X方向の最上位
階層用配線領域A2を通過するマクロブロック内配線A
7は、2アルミ配線層のみとする。続いて、マクロブロ
ックA3上を通過すると予測した最上位階層用配線本数
分のバッファブロックA4を予測した方向に最上位階層
配線接続用として、最上位階層用配線領域A1またはA
2内に任意に配置する(ステップ2−10)。その際、
バッファブロックA4にマクロブロックA3上を通過す
る最上位階層配線が接続されることにより、配線遅延な
まりが生じない配線長になるように配置する。このよう
にして、最上位階層でのレイアウトを行う(ステップ2
−11)。この最上位階層におけるマクロブロックA3
内配置配線情報は、最上位階層用配線領域A1,A2内
に存在する配線情報および追加バッファブロック情報の
みとする。すなわち、バッファブロックの数,座標およ
びマクロブロックの端子情報,形状のみを持たせる。
【0020】次に、図3は、図2の手順に従った状態の
変化を示す概略図である。まず、B1は、マクロブロッ
ク内配置配線が完了した図であり、上述したステップ2
−1の終了後の状態を示している。次に、B2は、マク
ロブロック内に最上位階層配線領域を設定した図であ
り、上述のステップ2−5およびステップ2−8の後の
状態を示している。また、B3は、最上位階層用配線領
域に重なっている配線およびブロックを上下左右にずら
した図であり、上述のステップ2−9の後の状態を示し
ている。さらに、B4は、最上位階層用配線領域内に、
最上位階層配線接続用バッファブロックを任意に配置し
た図であり、上述したステップ2−11の後の状態を示
している。
【0021】次に、本発明の第1の実施例の効果につい
て説明する。本発明の第1の実施例では、あらかじめ配
置配線が完了したマクロブロックA3に対して行うもの
である。その上、マクロブロックA3内の配置配線結果
のずらし幅は、配線格子数本〜数十本程度と予想される
ため、マクロブロックA3内におけるタイミング特性を
大きく崩すことなく階層レイアウト用マクロブロックと
してそのまま流用できる。また、あらかじめ配置配線が
完了したマクロブロックに対して実施する実施例である
ため、様々な最上位階層の配線接続状況に応じて最上位
階層用領域を設定できる。さらに、あらかじめY方向の
最上位階層用配線領域A1内は、1アルミ配線層しか存
在しないため、Y方向の最上位階層用配線は2アルミ配
線層を自由に使用することができ、障害なく配線が可能
となる。X方向の最上位階層配線用領域A2についても
同様に、2アルミ配線層しか存在しないため、X方向の
最上位階層用配線は1アルミ配線層を自由に使用するこ
とができ、障害なく配線が可能となる。マクロブロック
A3内における最上位階層用配線領域A1,A2では、
X方向1アルミ層、Y方向2アルミ層配線が自由に使用
可能となり、低層配線での階層レイアウト設計において
でも難なくマクロブロックA3上通過配線の配線長短縮
が可能となる。
【0022】図4は、本発明の第2の実施例を示すフロ
ーチャートである。本実施例では、まず、最上位階層に
配置する各マクロブロックの位置を決める。次に、最上
位階層での配線時にマクロブロックA3上を直進通過す
る最上位階層配線の本数および通過向きを最上位階層で
のマクロブロックA3の配置位置,配置密度および外部
端子接続状況より予測する(ステップ4−1)。次に、
対象となるマクロブロックの左右領域に配置されるブロ
ック間および外部端子間において、接続される配線が存
在するか判断し(ステップ4−2)、マクロブロックA
3上を直進通過する最上位階層配線が存在すると予測し
た場合、配線遅延なまりを引き起こす程の配線長になっ
てしまうか否かをマクロブロックA3の形状および規模
より判断する(ステップ4−3)。マクロブロックA3
上を通過する最上位階層配線が、遅延なまりを引き起こ
すと判断した場合、予測した配線本数分通過可能な幅を
通過予測した方向に最上位階層用配線領域A2として、
マクロブロックA3内に設定する。その際、マクロブロ
ック内配線は、2アルミ配線のみ可とする(ステップ4
−4)。次に、Y方向についても同様に、まず、対象と
なるマクロブロック内の上下領域に配置されるブロック
間おyび外部端子間において、接続される配線が存在す
るか判断し(ステップ4−5)、対象となるマクロブロ
ック上をY方向に配線が直進通過した場合、配線遅延な
まりを引き起こすか判断し(ステップ4−6)、配線遅
延なまりを生じると判断した場合、予測した配線本数文
通過可能な波bを通過予測した方向に最上位階層用配線
領域A1としてマクロブロック内に設定する。その際、
マクロブロック内配線は、1アルミ配線のみ可とする
(ステップ4−7)。次に、予測したマクロブロック上
通過配線に接続可能なバッファブロックを、配線本数分
任意にマクロブロック内の最上位階層用配線領域A1,
A2内に配置する(ステップ4−8)。次に、マクロブ
ロック内に、最上位階層用配線領域および最上位階層接
続用バッファブロックを配置したままの状態で、マクロ
ブロック内レイアウトを行う(ステップ4−9)。最後
に、最上位階層にマクロブロックを任意に配置し、最上
位階層でのレイアウトを行う(ステップ4−10)。ス
テップ4−4,ステップ4−7において、マクロブロッ
クA3内におけるY方向の最上位階層用配線領域A1を
通過するマクロブロック内配線A6は、1アルミ配線層
のみ、X方向の最上位階層用配線領域A2を通過するマ
クロブロック内配線A7は、2アルミ配線層のみとす
る。続いて、マクロブロックA3上を通過すると予測し
た最上位階層用配線本数分のバッファブロックA4を予
測した方向に最上位階層配線接線用として、最上位階層
用配線領域A1又はA2内に任意に配置する。その際、
バッファブロックA4にマクロブロックA3上を通過す
る最上位階層配線が接続されることにより、配線遅延な
まりが生じない配線長になるように配置する。続いて、
マクロブロック内に、最上位階層用配線領域および最上
位階層接続用バッファブロックを配置したままの状態
で、マクロブロック内レイアウトを行う。最上位階層に
おけるマクロブロックA3内配置配線情報は、最上位階
層用配線領域A1,A2内に存在する配線情報および追
加バッファブロック情報のみとする。
【0023】図5は、図4の手順に従った状態を示す図
である。まず、C1は、マクロブロック内の形状のみ確
定した図であり、C2は、マクロブロック内に最上位階
層配線領域を設定した図であり、C3は、最上位階層用
配線領域内に、最上位階層配線接続用バッファブロック
を任意に配置した図であり、C4は、マクロブロック内
配置配線が完了した図である。
【0024】次に、本発明の第2の実施例の効果につい
て説明する。本発明の第2の実施例では、あらかじめ最
上位階層用配線領域A1,A2の設定および最上位階層
配線接続用バッファブロックA4を配置した状態でマク
ロブロックA3内の配置配線を行うものである。よっ
て、最上位階層配線用配線領域A1,A2および、最上
位階層配線接続用バッファブロックを含んだ状態でのマ
クロブロックA3内タイミング検証が可能となる為、マ
クロブロックを一度作成すれば二度とタイミング検証確
認をする必要性がない。
【0025】次に、本発明の第3の実施例について詳細
に述べる。第1および第2の実施例およびフローは全く
同じであるが、唯一異なるのが、マクロブロックA3内
の最上位階層配線領域A1,A2に最上位階層配線接続
用バッファブロックをあらかじめ配置しないという点で
ある。
【0026】次に、本発明の第3の実施例の効果につい
て説明する。本発明の第2の実施例では、あらかじめ最
上位階層用配線領域A1,A2を用意しておくのみであ
るため、最上位階層配線がマクロブロック内を行き来で
きる上に、最上位階層用配線領域内に最上位階層用ブロ
ックも任意に配置可能であるということである。つま
り、様々な配線接続状況においても最上位階層の回路接
続情報にバッファブロックを任意に追加するだけで、マ
クロブロック上通過配線に接続するバッファブロックが
用意でき、マクロブロック上通過配線を短縮化すること
が可能となる。
【0027】
【発明の効果】上述したように、本発明の階層レイアウ
ト設計手法では、複数のマクロブロックが存在した場合
でも、最上位階層を使用せず、あらかじめマクロブロッ
ク内に用意してある最上位階層用配線領域および最上位
階層配線接続用バッファブロックを使用する。従って、
最上階層上に複数のマクロブロックが存在し、最上位階
層での配置密度が高い場合でも、マクロブロック上通過
配線を短縮化することが可能となり、配線遅延なまりを
確実に防止可能とする。
【0028】また、マクロブロック形状および規模に拘
わらず、あらかじめマクロブロック内に最上位階層用バ
ッファブロックを追加配置しているため、マクロブロッ
ク上を通過しようとする最上位階層配線は、マクロブロ
ック内のバッファブロックと接続され、マクロブロック
上通過配線長を短縮化できる。従って、マクロブロック
の規模および形状に拘わらず、マクロブロック上通過配
線を短縮化することが可能となり、配線遅延なまりを確
実に防止することができる。
【0029】さらに、マクロブロック内における配置配
線情報を全て最上位階層に持たせず、マクロブロック内
における、最上位階層用配線領域の情報および追加配置
したバッファブロック情報のみといった、少ないデータ
量で対応できる。従って、大規模回路でも対応可能であ
る。
【0030】またさらに、マクロブロック内における、
X方向の最上位階層用配線領域は、2アルミ配線層の
み、Y方向の最上位階層用配線領域は、1アルミ配線層
のみの使用であるため、最上位階層におけるX方向は、
1アルミ配線層が自由に使用可能となり、Y方向におい
ては2アルミ配線層が自由に使用可能となる。従って、
最上位階層の配線層が3階層であっても、階層レイアウ
トが容易に可能になるということである。
【0031】本発明の階層レイアウト手法は、最上位階
層配線が行き来可能で、かつ、マクロブロック内に予め
配置してある最上位配線接続用バッファブロックに最上
位階層の配線が接続されることにより、配線遅延なまり
も発生しなくなる。
【0032】従って、効率良くマクロブロック内を最上
位階層配線が行き来可能となり、かつマクロブロック内
にあらかじめ配置してある最上位配線接続用バッファブ
ロックに最上位階層の配線が接続されることにより、配
線遅延なまりも発生しなくなるからである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例のマクロブロックの概略
図である。
【図2】本発明の第1の実施例を示すフローチャートで
ある。
【図3】図2に示した第1の実施例の手順による状態を
示す概略図である。
【図4】本発明の第2の実施例を示すフローチャートで
ある。
【図5】図4に示した第2の実施例の手順による状態を
示す概略図である。
【図6】従来例のマクロブロックの概略図である。
【符号の説明】
A1 Y方向の最上位階層用配線可能領域(2アルミ配
線層が自由に使用可) A2 X方向の最上位階層用配線可能領域(1アルミ配
線層が自由に使用可) A3 マクロブロック A4 あらかじめ、最上位階層配線接続用として任意に
配置したバッファブロック A5 マクロブロック内で、すでに配置済みのブロック A6 Y方向の最上位階層用配線可能領域に、すでに配
線済みのマクロブロック内配線(X方向の1アルミ配線
層のみ可と定義) A7 X方向の最上位階層用配線可能領域に、すでに配
線済みのマクロブロック内配線(Y方向の2アルミ配線
層のみ可と定義) A8 マクロブロック用配置配線領域 B1 マクロブロック内配置配線が完了した図 B2 マクロブロック内に最上位階層配線領域を設定し
た図 B3 最上位階層用配線領域に重なっている配線および
ブロックを上下左右にずらした図 B4 最上位階層用配線領域内に、最上位階層配線接続
用バッファブロックを任意に配置した図 C1 マクロブロック内の形状のみ確定した図 C2 マクロブロック内に最上位階層配線領域を設定し
た図 C3 最上位階層用配線領域内に、最上位階層配線接続
用バッファブロックを任意に配置した図 C4 マクロブロック内配置配線が完了した図 D1 マクロブロック D2 最上位階層での配線 D3 追加バッファブロック D4 マクロブロック内ですでに配置済みのブロック D5 マクロブロック内ですでに配線済みの配線

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マクロブロック内の階層レイアウト設計手
    法において、 前記マクロブロック内に設けられた最上位階層配線接続
    用バッファと、 前記最上位階層配線接続用バッファとが設けられた領域
    である最上位階層配線接続用領域とを設定したことを特
    徴とする階層レイアウト設計手法。
  2. 【請求項2】前記マクロブロック内に、あらかじめ、前
    記最上位階層配線接続用バッファを配置した後、前記マ
    クロブロック内の配置配線を行うことを特徴とする、請
    求項1に記載の階層レイアウト設計手法。
  3. 【請求項3】前記マクロブロック内の配置配線を完了し
    た後、前記マクロブロック内のブロックを移動して、前
    記最上位階層配線接続用バッファを任意に配置しておく
    ことを特徴とする、請求項1または2に記載の階層レイ
    アウト設計手法。
  4. 【請求項4】前記マクロブロック内の配置配線前に、あ
    らかじめ、前記最上位階層配線接続用バッファを、座標
    軸上のX方向およびY方向、または、そのいづれかの方
    向に設定しておくことを特徴とする、請求項1〜3のい
    ずれかに記載の階層レイアウト設計手法。
  5. 【請求項5】前記最上位階層配線接続用バッファを任意
    に配置した後、前記X方向およびY方向、または、その
    いづれかの方向に存在するマクロブロック内配線を移動
    して、前記最上位階層配線用領域を設定しておくことを
    特徴とする、請求項4に記載の階層レイアウト設計手
    法。
  6. 【請求項6】前記最上位階層配線用領域のマクロブロッ
    ク内配線は、前記X方向に第1の配線層を、前記Y方向
    に第2の配線層を用いたことを特徴とする、請求項5に
    記載の階層レイアウト設計手法。
  7. 【請求項7】マクロブロック内にXY座標を設定し、 前記マクロブロック内の配置配線終了後に、最上位階層
    において、前記マクロブロック間の配線接続状況をマク
    ロブロック配置場所および前記配線密度より判断する第
    1のステップと、 前記マクロブロックの内、対象となるマクロブロックの
    X方向領域に配置されるブロック間および外部端子間に
    おいて接続される配線が存在するのかを判定する第2の
    ステップと、 前記対象となるマクロブロック上をX方向に配線が直進
    通過した場合に配線遅延なまりが生じるかを判定する第
    3のステップと、 前記対象となるマクロブロック上をX方向に通過すると
    予測される配線本数分を、最上位階層用の第1の配線領
    域として任意に設定する第4のステップと、 前記対象となるマクロブロックのY方向領域に配置され
    るブロック間および外部端子間において接続される配線
    が存在するかを判定する第5のステップと、 前記対象となるマクロブロックをY方向に配線が直進通
    過した場合に配線遅延なまりが生じるかを判定する第6
    のステップと、 前記対象となるマクロブロック上をY方向に通過すると
    予測される配線本数分を、最上位階層用の第2の配線領
    域として任意に設定する第7のステップと、 設定された最上位階層用の前記第1の配線領域と前記第
    2の配線領域とに重なっているマクロブロック用の配線
    およびブロックを上下左右方向にずらす第8のステップ
    と、 予測したマクロブロック上通過配線に接続可能なバッフ
    ァブロックを配線本数分任意にマクロブロック内の最上
    位階層用の前記第1の配線領域内と前記第2の配線領域
    内とに配置する第9のステップと、 最上位階層にマクロブロックを任意に配置し、前記最上
    位階層でのレイアウトを行う第10のステップと、 を含むことを特徴とする階層レイアウト設計手法。
  8. 【請求項8】マクロブロック内にXY座標を設定し、 最上位階層において各マクロブロック間の配線接続状況
    をマクロブロック配置場所および配置配線密度より判断
    する第1のステップと、 前記マクロブロックの内で、対象となるマクロブロック
    のX方向領域に配置されるブロック間および外部端子間
    において接続される配線が存在するかを判定する第2の
    ステップと、 前記対象となるマクロブロック上をX方向に配線が直進
    通過した場合に配線遅延なまりが生じるかを判定する第
    3のステップと、 前記対象となるマクロブロック上をX方向に通過すると
    予測される配線本数分を最上位階層用の第1の配線領域
    として任意に設定し、その際、マクロブロック用配線は
    第1配線層のみ使用可能とする第4のステップと、 前記対象となるマクロブロックのY方向領域に配置され
    るブロック間および外部端子間において接続される配線
    が存在するかを判定する第5のステップと、 前記対象となるマクロブロック上をY方向に配線が直進
    通過した場合に、配線遅延なまりが生じるかを判定する
    第6のステップと、 前記対象となるマクロブロック上をY方向に通過すると
    予測される配線本数分を最上位階層用の第2の配線領域
    として任意に設定し、その際、マクロブロック用配線は
    第2配線層のみ使用可能とする第7のステップと、 予測したマクロブロック上通過配線に接続可能なバッフ
    ァブロックを配線本数分任意にマクロブロック内の最上
    位階層用の前記第1の配線領域と前記第2の配線領域内
    に配置する第8のステップと、 マクロブロック内に最上位階層用の配線領域および最上
    位階層配線接続用バッファブロックを配置したままの状
    態でマクロブロック内のレイアウトを行う第9のステッ
    プと、 最上位階層にマクロブロックを任意に配置し最上位階層
    でのレイアウトを行う第10のステップと、 を含むことを特徴とする階層レイアウト設計手法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8026537B2 (en) 2003-01-20 2011-09-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit having an oblique global signal wiring and semiconductor integrated circuit wiring method

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