JPH11141797A - オゾンガスの充填貯蔵方法 - Google Patents

オゾンガスの充填貯蔵方法

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JPH11141797A
JPH11141797A JP30509097A JP30509097A JPH11141797A JP H11141797 A JPH11141797 A JP H11141797A JP 30509097 A JP30509097 A JP 30509097A JP 30509097 A JP30509097 A JP 30509097A JP H11141797 A JPH11141797 A JP H11141797A
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Kunihiko Koike
国彦 小池
Goichi Inoue
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 各種濃度のオゾンガスを加圧状態で貯蔵容器
に充填貯蔵する方法を提供する。 【解決手段】 内表面を不動態化処理したオゾンガスの
貯蔵容器に所定濃度のオゾンガスを加圧充填する。この
加圧したオゾンガスが収容されている貯蔵容器に加圧し
た所定温度以下の希釈ガスを、貯蔵容器内の圧力が所定
圧力になるまで充填する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する分野】本発明は、運搬貯蔵容器内に所定
濃度のオゾンガスを加圧状態で貯蔵する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に運搬貯蔵容器への高圧ガスの充填
は、圧縮機で圧縮された高圧ガスを貯蔵運搬容器内に注
入して充填されるのであるが、圧縮機での圧縮は断熱圧
縮に近いため、T2/T1=(P2/P1) -1/γ )の関
係式が成立する。このため、例えば酸素を20℃・1気
圧から50気圧に一段で圧縮すると、その到達温度は約
620℃となる。自然放熱したり、圧縮ガスを冷却水で
強制冷却したりすることを考慮しても、200℃に近い
温度になることは免れない。
【0003】一方、オゾンのような自己分解性のガスは
温度が高くなるほど自己分解が著しくなることから、こ
のような自己分解性ガスを圧縮する場合に圧縮機を用い
ることは不向きである。このため、従来、オゾンを加圧
状態で貯蔵したものはなく、オゾンを使用する際には使
用個所の近傍でオゾナイザーで生成したものを使用して
いた。
【0004】本発明は、このような点に着目して、各種
濃度のオゾンガスを加圧状態で貯蔵容器に充填貯蔵する
方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、内表面を不動態化処理したオゾンガス
の運搬貯蔵容器に所定濃度のオゾンガスを加圧充填し、
オゾンガスが収容されている貯蔵容器に加圧した所定温
度以下の希釈ガスを、貯蔵容器内の圧力が所定圧力にな
るまで充填するようにしたことを特徴としている。
【0006】
【作用】本発明では、所定濃度のオゾンガスを内表面に
不動態化処理を施した貯蔵容器内に加圧充填し、オゾン
ガスが収容されている貯蔵容器に所定温度以下の加圧し
た希釈ガスを、貯蔵容器内の圧力が所定圧力になるまで
充填するようにしていることから、例えば、オゾナイザ
ーで発生した5 VOL%のオゾンガスをダイヤフラムポン
プ等で9Kg/cm2(絶対圧)まで昇圧して、内面に不動態化
処理を施した貯蔵容器に充填し、その後、貯蔵容器に1
50Kg/cm2(ゲージ圧)で酸素を貯蔵している酸素ボンベ
から酸素を注入して容器内圧が50Kg/cm2(絶対圧)にな
るまで昇圧すると対酸素比0.9 VOL%のオゾンを貯蔵
することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】図1はオゾンガス充填装置の概略
図を示し、図中符号(1)はオゾン原料として使用する液
化酸素貯蔵容器、(2)は液化酸素供給路(3)に配置した
蒸発器、(4)はオゾナイザー、(5)はダイヤフラムコン
プレッサー、(6)はオゾン貯蔵容器であり、このオゾン
貯蔵容器(6)の内面は不動態化処理を施してある。そし
て、このオゾン充填は屋内で行われ、充填後のオゾン貯
蔵容器(6)は低温室に保存するようにしてある。
【0008】本発明では、まず、オゾナイザー(4)で生
成された5 VOL%のオゾンガスをダイヤフラムポンプ
(5)を用いて9Kg/cm2(絶対圧)まで昇圧し、この昇圧し
たオゾンガスを内面を不動態化処理した貯蔵容器(6)に
9Kg/cm2(絶対圧)となるまで注入する。このとき、貯蔵
容器(6)は洗浄処理したのち乾燥させ、しかる後真空引
きした状態で保管してあることから、貯蔵容器(6)内は
供給されたオゾンガス濃度を維持することができる。
【0009】内部に9Kg/cm2(絶対圧)の5 VOL%オゾン
ガスを封入している貯蔵容器(6)に、150Kg/cm2(ゲ
ージ圧)の圧力で充填されている高圧酸素ガス容器(図示
略)を接続し、貯蔵容器(6)内の内圧が50Kg/cm2(絶対
圧)になるまで高圧酸素ガス容器から酸素ガスを徐々に
注入する。このため、貯蔵容器内には、 (9×0.05)/50=0.009 すなわち、対酸素比0.9 VOL%のオゾンガスが50Kg/
cm2(絶対圧)で貯蔵されることになる。このとき、酸素
ガスを徐々に注入して加圧することにより、運搬貯蔵容
器内では断熱圧縮にならず、温度上昇することがあって
もガスの温度を20〜40℃の範囲に抑えることがで
き、オゾンの自己分解を極力抑制することができる。な
お、このとき注入する希釈用の酸素ガスは冷却したもの
を使用することが望ましい。このように冷却した希釈用
ガスを使用すると温度上昇を抑制することができる。
【0010】なお、供給するオゾンガスの濃度や供給圧
力、あるいは、希釈用の酸素ガスの充填圧力を変えるこ
とにより、任意の濃度のオゾンガスを貯蔵することがで
きる。
【0011】また上記の実施態様では、希釈用のガスと
して酸素を使用しているが、この希釈用のガスは窒素な
どの酸素以外のガスであってもよい。
【0012】図2は、オゾナイザーから発生させた大気
圧下5 VOL%(残り酸素)のオゾンガスを、ダイヤフラム
ポンプで9Kg/cm2(絶対圧)まで昇圧して、あらかじめ内
面を不動態化処理したSUS304製シリンダ(貯蔵容
器)に充填し、このシリンダを25℃(室温)で保存した
場合と、3℃(冷蔵庫内)で保存した場合での、保存日数
に対するオゾン濃度の変化を示す。
【0013】図2によれば、5 VOL%のオゾンガスを予
め内面を不動態化処理した貯蔵容器に絶対圧で9Kg/cm2
に充填した場合には、内面を不動態化処理していない
ものにくらべると、はるかに長期間オゾンの自己分解を
抑制することができることがわかる。また、同じように
内面を不動態化処理した貯蔵容器を使用しても、保存温
度が低い方がオゾンの自己分解を抑制して長期間高濃度
を維持できることがわかる。
【0014】図3は、5 VOL%、9Kg/cm2(絶対圧)で貯
蔵容器に充填した後、酸素ガスで50Kg/cm2(絶対圧)に
なるまで希釈したガスを室温保存した場合での保存日数
に対するオゾン濃度の変化を示す。
【0015】図3によれば、0.9VOL%という低い初期
濃度であるが、オゾン濃度に大きな変化はなく、1カ月
経過後でも0.6VOL%のオゾン濃度を維持していること
がわかる。
【0016】
【発明の効果】本発明では、内表面に不動態化処理を施
した貯蔵容器内に所定濃度のオゾンガスを加圧充填し、
オゾンガスが収容されている貯蔵容器に加圧した所定温
度以下の希釈ガスを、貯蔵容器内の圧力が所定圧力にな
るまで充填していることから、貯蔵容器に充填したオゾ
ンガスの濃度と、その容器内に追加充填する所定温度以
下の希釈ガス量とで任意の濃度の加圧オゾンガスを貯蔵
容器内に充填し、保存しておくことができる。これによ
り、従来不可能とされていた低濃度オゾンガスの貯蔵保
存を一定期間であるが可能にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】オゾンガス充填装置の概略図である。
【図2】容器に貯蔵したオゾンガスの保存温度によるオ
ゾン濃度変化を示すグラフである。
【図3】高圧保存したオゾンガスの濃度変化を示すグラ
フである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内表面に不動態化処理を施したオゾンガ
    スの貯蔵容器に所定濃度のオゾンガスを加圧充填し、オ
    ゾンガスが収容されている貯蔵容器に所定温度以下の加
    圧した希釈ガスを、運搬貯蔵容器内の圧力が所定圧力に
    なるまで充填するようにしたオゾンガスの充填貯蔵方
    法。
JP30509097A 1997-11-07 1997-11-07 オゾンガスの充填貯蔵方法 Expired - Lifetime JP3615645B2 (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001173895A (ja) * 1999-12-20 2001-06-29 Nippon Sanso Corp ガス充填設備
JP2007516396A (ja) * 2003-12-19 2007-06-21 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード 圧縮ガス容器にガスを充填するための方法
JP2008524111A (ja) * 2004-12-21 2008-07-10 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード 液体に加圧されたオゾンを供給する方法
KR20190115392A (ko) * 2018-04-02 2019-10-11 삼성전자주식회사 박막 증착 방법 및 박막 증착 장치
US11840760B2 (en) 2018-04-02 2023-12-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Layer deposition method and layer deposition apparatus

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